JPH0697494B2 - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH0697494B2 JPH0697494B2 JP62159591A JP15959187A JPH0697494B2 JP H0697494 B2 JPH0697494 B2 JP H0697494B2 JP 62159591 A JP62159591 A JP 62159591A JP 15959187 A JP15959187 A JP 15959187A JP H0697494 B2 JPH0697494 B2 JP H0697494B2
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気テープ装置等に使用される複数の変換素子
を備えた多素子薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に係
り、特に変換ギャップの均等化かつ高信頼性化に好適な
手段に関する。
を備えた多素子薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に係
り、特に変換ギャップの均等化かつ高信頼性化に好適な
手段に関する。
多素子形薄膜磁気ヘッドは、第１のフェライトブロック
に複数の変換素子をスパッタ，蒸着，フォトエッチング
等の薄膜プロセス技術を用いて形成し、素子に対向する
側の面が極めて滑らかに仕上げられた第２のフェライト
ブロックを第１のフェライトブロックに接着することに
よって変換ギャップを形成した構造となっている。
に複数の変換素子をスパッタ，蒸着，フォトエッチング
等の薄膜プロセス技術を用いて形成し、素子に対向する
側の面が極めて滑らかに仕上げられた第２のフェライト
ブロックを第１のフェライトブロックに接着することに
よって変換ギャップを形成した構造となっている。
このようなプロセスを経て作られる薄膜磁気ヘッドにお
いては、一つの磁気ヘッドに複数のトラックが存在する
が各々の変換ギャップを１ヶ々単独にギャップ形成する
のではなく第１のフェライトブロックと第２のフェライ
トブロックを貼り合わすだけで複数のトラックの変換ギ
ャップを同時に形成する手段を用いるため、どうしても
トラックごとの変換ギャップ長は接着後にバラツキを生
じる。この変換ギャップ長のバラツキは薄膜磁気ヘッド
のみでなく、すべての磁気ヘッドにおいて磁気ヘッドの
性能を大きく左右する重要なパラメータであるというこ
とは言うまでもない。以上のことから多素子形薄膜磁気
ヘッドにおいては、この変換ギャップ長をいかにして全
トラック均等にバラツキなく形成するかが重要である。
いては、一つの磁気ヘッドに複数のトラックが存在する
が各々の変換ギャップを１ヶ々単独にギャップ形成する
のではなく第１のフェライトブロックと第２のフェライ
トブロックを貼り合わすだけで複数のトラックの変換ギ
ャップを同時に形成する手段を用いるため、どうしても
トラックごとの変換ギャップ長は接着後にバラツキを生
じる。この変換ギャップ長のバラツキは薄膜磁気ヘッド
のみでなく、すべての磁気ヘッドにおいて磁気ヘッドの
性能を大きく左右する重要なパラメータであるというこ
とは言うまでもない。以上のことから多素子形薄膜磁気
ヘッドにおいては、この変換ギャップ長をいかにして全
トラック均等にバラツキなく形成するかが重要である。
従来、変換ギャップ長を均等に形成する手段として、米
国特許第4044392号に開示された方法がある。従来技術
の磁気ヘッド構造及び製造方法を第7,8図により説明す
る。記録用磁気ヘッドは、第１フェライトブロック３の
中央部に巻線コイルとしての変換素子１を、再生用磁気
ヘッドは、第１フェライトブロック４の中央部に磁気抵
抗効果素子（以下MR素子と略す）及びMR素子と一体化さ
れたバイアス磁界をMR素子に印加するためのバイアス膜
を含む変換素子２を各々複数個整列して形成されてい
る。又、第１フェライトブロック3,4の左右の端部にア
ルミナ膜で形成した変換ギャップ膜９が変換素子1,2の
厚さよりも厚くなるように形成されている。この素子形
成された第１フェライトブロック3,4の間に、ノイズ除
去用シールド板17を第２フェライトブロック5,6で挟ん
だ積層体が配置される。又、第２フェライトブロック５
には、ガラスをつめたトラック間溝16が形成されてい
る。これら３つのブロックをボルト18で締め付け接着剤
13を毛細管現象を利用し接着面10に充てんし、変換ギャ
ップを形成する構造及び製造方法となっている。
国特許第4044392号に開示された方法がある。従来技術
の磁気ヘッド構造及び製造方法を第7,8図により説明す
る。記録用磁気ヘッドは、第１フェライトブロック３の
中央部に巻線コイルとしての変換素子１を、再生用磁気
ヘッドは、第１フェライトブロック４の中央部に磁気抵
抗効果素子（以下MR素子と略す）及びMR素子と一体化さ
れたバイアス磁界をMR素子に印加するためのバイアス膜
を含む変換素子２を各々複数個整列して形成されてい
る。又、第１フェライトブロック3,4の左右の端部にア
ルミナ膜で形成した変換ギャップ膜９が変換素子1,2の
厚さよりも厚くなるように形成されている。この素子形
成された第１フェライトブロック3,4の間に、ノイズ除
去用シールド板17を第２フェライトブロック5,6で挟ん
だ積層体が配置される。又、第２フェライトブロック５
には、ガラスをつめたトラック間溝16が形成されてい
る。これら３つのブロックをボルト18で締め付け接着剤
13を毛細管現象を利用し接着面10に充てんし、変換ギャ
ップを形成する構造及び製造方法となっている。
ここで変換ギャップ膜９は、変換ギャップ長11を決定す
るための役割を持ち、第２フェライトブロック5,6は変
換ギャップ膜９によって規制された間隔を保って押し付
けられるため、押し付け力により変換ギャップ長11を均
等にバラツキなく形成することが可能である。
るための役割を持ち、第２フェライトブロック5,6は変
換ギャップ膜９によって規制された間隔を保って押し付
けられるため、押し付け力により変換ギャップ長11を均
等にバラツキなく形成することが可能である。
この構造の特徴としては、接着時の押し付け力を大きく
すれば変換ギャップ長11の均等化が増すが、それに反し
て第８図のように変換ギャップ膜９と第２フェライトブ
ロック５との間のすき間が無くなり、接着剤13を毛細管
現象を利用し充てんしても変換ギャップ膜９に接着剤13
が回り込まず、接着面10の外側に接着剤13がはみ出した
状態となる。したがって、変換ギャップ膜９のみで形成
された接着面10の接着強度が非常に低下し、接着面10の
内側にはみ出した接着剤13の熱膨張・収縮や、膨潤によ
る外部応力によって媒体走行面側に持ち上げようとする
力14が働き第１フェライトブロック3,4又は第２フェラ
イトブロック5,6は変形を起こし、部分的にサブミクロ
ンオーダーの段差15を生じることになる。さらに、その
発生した段差15は経時的な環境条件の変化によって変換
素子１に進行し該ヘッドに重大な障害を起こすことにつ
ながる。又、他の接着剤充填方法として、あらかじめ第
１フェライトブロック3,4又は第２フェライトブロック
5,6に接着剤13を塗布後、各ブロックを貼り合わせ接着
固定する方法が考えられる。この方法によれば、各ブロ
ックを小さい加圧力によって貼り合せれば接着面10の変
換ギャップ膜９に接着剤13はある程度充填される。しか
し、この状態では、接着剤13の厚みが変換ギャップ長11
に含まれ、変換ギャップ膜９の膜厚で変換ギャップ長11
を決定することは困難となり、しいては、トラックごと
に変換ギャップ長11がバラツクことになる。又、変換ギ
ャップ長11を変換ギャップ膜９で決定させるために貼り
合せ後の押し付け力を大きくした場合、変換ギャップ膜
９と第２フェライトブロック5,6との間の接着剤13は外
部へはじき出され、毛細管現象を利用した充填方法と同
様に、変換ギャップ膜９の部分に接着剤13は回り込まな
くなり、接着強度が極めて弱い部分が出来るという問題
が発生する。
すれば変換ギャップ長11の均等化が増すが、それに反し
て第８図のように変換ギャップ膜９と第２フェライトブ
ロック５との間のすき間が無くなり、接着剤13を毛細管
現象を利用し充てんしても変換ギャップ膜９に接着剤13
が回り込まず、接着面10の外側に接着剤13がはみ出した
状態となる。したがって、変換ギャップ膜９のみで形成
された接着面10の接着強度が非常に低下し、接着面10の
内側にはみ出した接着剤13の熱膨張・収縮や、膨潤によ
る外部応力によって媒体走行面側に持ち上げようとする
力14が働き第１フェライトブロック3,4又は第２フェラ
イトブロック5,6は変形を起こし、部分的にサブミクロ
ンオーダーの段差15を生じることになる。さらに、その
発生した段差15は経時的な環境条件の変化によって変換
素子１に進行し該ヘッドに重大な障害を起こすことにつ
ながる。又、他の接着剤充填方法として、あらかじめ第
１フェライトブロック3,4又は第２フェライトブロック
5,6に接着剤13を塗布後、各ブロックを貼り合わせ接着
固定する方法が考えられる。この方法によれば、各ブロ
ックを小さい加圧力によって貼り合せれば接着面10の変
換ギャップ膜９に接着剤13はある程度充填される。しか
し、この状態では、接着剤13の厚みが変換ギャップ長11
に含まれ、変換ギャップ膜９の膜厚で変換ギャップ長11
を決定することは困難となり、しいては、トラックごと
に変換ギャップ長11がバラツクことになる。又、変換ギ
ャップ長11を変換ギャップ膜９で決定させるために貼り
合せ後の押し付け力を大きくした場合、変換ギャップ膜
９と第２フェライトブロック5,6との間の接着剤13は外
部へはじき出され、毛細管現象を利用した充填方法と同
様に、変換ギャップ膜９の部分に接着剤13は回り込まな
くなり、接着強度が極めて弱い部分が出来るという問題
が発生する。
上記従来技術は、変換ギャップを各トラック均等にバラ
ツキなく形成するために、第１フェライトブロック3,4
と第２フェライトブロック5,6間のすき間を押し付け力
により無くし、変換ギャップ膜９の膜厚により変換ギャ
ップ長11を決定するような構造を取っているが、アルミ
ナ膜だけで形成された記録再生を行うための複数の変換
素子1,2以外の接着面つまり変換ギャップ膜９には接着
剤13が回り込まず内側にはみ出した状態となる。この状
態では、その部分の接着面10の接着強度が低下している
ため、はみ出した接着剤13の外部応力により媒体走行面
側へ持ち上げようとする力14が働き第１フェライトブロ
ック3,4と、第２フェライトブロック5,6に段差15が生
じ、経時的に進行し、複数個整列された変換素子1,2ま
でに及ぶ可能性が充分にある。この段差15は、磁気ヘッ
ド動作時の記録・再生の際、重大な障害となってくる。
例えば変換素子1,2を形成している第１フェライトブロ
ック3,4に対し、第２フェライトブロック5,6が凸に段差
15を生じた場合、媒体と変換ギャップ間の浮上スペーシ
ングにダイレクトに影響し、電磁変換特性を著しく低下
させる。又、第１フェライトブロック3,4に対し、第２
フェライトブロック5,6が凹に段差を生じた場合は、変
換素子1,2が浮上部にむき出しとなり、媒体走行により
変換素子1,2は摩耗し、本来の素子特性が得られず、信
頼性に欠けるという問題がある。
ツキなく形成するために、第１フェライトブロック3,4
と第２フェライトブロック5,6間のすき間を押し付け力
により無くし、変換ギャップ膜９の膜厚により変換ギャ
ップ長11を決定するような構造を取っているが、アルミ
ナ膜だけで形成された記録再生を行うための複数の変換
素子1,2以外の接着面つまり変換ギャップ膜９には接着
剤13が回り込まず内側にはみ出した状態となる。この状
態では、その部分の接着面10の接着強度が低下している
ため、はみ出した接着剤13の外部応力により媒体走行面
側へ持ち上げようとする力14が働き第１フェライトブロ
ック3,4と、第２フェライトブロック5,6に段差15が生
じ、経時的に進行し、複数個整列された変換素子1,2ま
でに及ぶ可能性が充分にある。この段差15は、磁気ヘッ
ド動作時の記録・再生の際、重大な障害となってくる。
例えば変換素子1,2を形成している第１フェライトブロ
ック3,4に対し、第２フェライトブロック5,6が凸に段差
15を生じた場合、媒体と変換ギャップ間の浮上スペーシ
ングにダイレクトに影響し、電磁変換特性を著しく低下
させる。又、第１フェライトブロック3,4に対し、第２
フェライトブロック5,6が凹に段差を生じた場合は、変
換素子1,2が浮上部にむき出しとなり、媒体走行により
変換素子1,2は摩耗し、本来の素子特性が得られず、信
頼性に欠けるという問題がある。
本発明の目的は、上記従来の問題点を解決し、変換ギャ
ップ部を含む接着面全域に接着剤を均等に回り込ませ、
外部及び内部応力に打ち勝つだけの充分な接着強度を維
持せることにより、第１フェライトブロックと第２フェ
ライトブロックとの段差を防止し、かつ、複数個整列さ
れた変換素子の変換ギャップ長が均等でバラツキのない
磁気ヘッド及びその製造方法を提供することにある。
ップ部を含む接着面全域に接着剤を均等に回り込ませ、
外部及び内部応力に打ち勝つだけの充分な接着強度を維
持せることにより、第１フェライトブロックと第２フェ
ライトブロックとの段差を防止し、かつ、複数個整列さ
れた変換素子の変換ギャップ長が均等でバラツキのない
磁気ヘッド及びその製造方法を提供することにある。
上記目的は構造としては、第１の磁性体ブロックと第２
の磁性体ブロックの接合部全域に適当な間隔で接着剤流
入部を設け、この接着剤流入部に接着剤を流入して両者
を接合することで達成される。
の磁性体ブロックの接合部全域に適当な間隔で接着剤流
入部を設け、この接着剤流入部に接着剤を流入して両者
を接合することで達成される。
製造方法としては、第１の磁性体ブロックの全域に、磁
気ギャップ膜より薄い厚さの複数の磁気変換素子膜を形
成し、第２の磁性体ブロックを貼り合せたときに磁気変
換素子膜と第２の磁性体ブロックの間にできる間隙に接
着剤を流入することで目的とする磁気ヘッドが得られ
る。
気ギャップ膜より薄い厚さの複数の磁気変換素子膜を形
成し、第２の磁性体ブロックを貼り合せたときに磁気変
換素子膜と第２の磁性体ブロックの間にできる間隙に接
着剤を流入することで目的とする磁気ヘッドが得られ
る。
フェライトブロックの接着面全域に凹凸を形成すること
により、接着剤は、形成された凹部に浸透し変換ギャッ
プ部を含む接着面全体に均等な間隔で充てんされる。よ
ってこのような接着された磁気ヘッドは、接着面全体が
均等に充分な接着強度を維持でき、接着部に与える外部
及び内部応力に打ち勝ち、第１フェライトブロックと第
２フェライトブロック間において浮上面側への段差が発
生することは無くなる。又、接着時に充分な押し付け力
によって、変換ギャップ長を規制するための凸部つまり
変換ギャップ膜と第２フェライトブロック面にすき間は
無くなり、バラツキのない変換ギャップ長を形成するこ
とが可能となる。
により、接着剤は、形成された凹部に浸透し変換ギャッ
プ部を含む接着面全体に均等な間隔で充てんされる。よ
ってこのような接着された磁気ヘッドは、接着面全体が
均等に充分な接着強度を維持でき、接着部に与える外部
及び内部応力に打ち勝ち、第１フェライトブロックと第
２フェライトブロック間において浮上面側への段差が発
生することは無くなる。又、接着時に充分な押し付け力
によって、変換ギャップ長を規制するための凸部つまり
変換ギャップ膜と第２フェライトブロック面にすき間は
無くなり、バラツキのない変換ギャップ長を形成するこ
とが可能となる。
以下、本発明の一実施例を第１図〜第４図により説明す
る。まず、第１図により磁気ヘッドアセンブリの概略構
造を説明する。記録用磁気ヘッドは、Au,Cu,Al等からな
る導体を巻線した形状の変換素子１を薄膜プロセス成形
によって、極めて滑らかになっている第１フェライトブ
ロック３の中央面に複数個整列して形成したものと、ガ
ラスを充填したトラック間溝16を設け、変換素子１に対
向する側の面が極めて滑らかになっている第２フェライ
トブロック５とを接着剤にて貼り合せ、変換ギャップ長
を形成した磁気回路構造となっている。又、再生用磁気
ヘッドは、変換素子２を記録磁気ヘッドと同様に薄膜プ
ロセス成形によって第１フェライトブロック４の中央面
に複数個整列して形成したものと第２フェライトブロッ
ク６とを接着剤にて貼り合せ、変換ギャップ長を形成し
た磁気回路構造となっている。又、記録用磁気ヘッド及
び再生用磁気ヘッドは、記録媒体との接触状態を良好な
らしめる最適な磁気回路となる様なギャップ深さを得る
ため、媒体対向面側を成形加工した後、各変換素子群に
リード線又は可撓性プリント基板からなる信号線19を配
線し、装置回路との接続を行っている。このように構成
された各サブアセンブリの各々の第２フェライトブロッ
ク5,6間にノイズ除去用シールド板17をはさみAl等から
なるホールダ（図示せず）にバネ又はネジ等により位置
決め固定し、磁気ヘッドアセンブリを構成している。
る。まず、第１図により磁気ヘッドアセンブリの概略構
造を説明する。記録用磁気ヘッドは、Au,Cu,Al等からな
る導体を巻線した形状の変換素子１を薄膜プロセス成形
によって、極めて滑らかになっている第１フェライトブ
ロック３の中央面に複数個整列して形成したものと、ガ
ラスを充填したトラック間溝16を設け、変換素子１に対
向する側の面が極めて滑らかになっている第２フェライ
トブロック５とを接着剤にて貼り合せ、変換ギャップ長
を形成した磁気回路構造となっている。又、再生用磁気
ヘッドは、変換素子２を記録磁気ヘッドと同様に薄膜プ
ロセス成形によって第１フェライトブロック４の中央面
に複数個整列して形成したものと第２フェライトブロッ
ク６とを接着剤にて貼り合せ、変換ギャップ長を形成し
た磁気回路構造となっている。又、記録用磁気ヘッド及
び再生用磁気ヘッドは、記録媒体との接触状態を良好な
らしめる最適な磁気回路となる様なギャップ深さを得る
ため、媒体対向面側を成形加工した後、各変換素子群に
リード線又は可撓性プリント基板からなる信号線19を配
線し、装置回路との接続を行っている。このように構成
された各サブアセンブリの各々の第２フェライトブロッ
ク5,6間にノイズ除去用シールド板17をはさみAl等から
なるホールダ（図示せず）にバネ又はネジ等により位置
決め固定し、磁気ヘッドアセンブリを構成している。
磁気ヘッドの動作は、第９図および第10図に示すように
記録用磁気ヘッドの変換素子１に電流を流入し、それに
よって発生する変換ギャップからもれる磁束20によって
媒体21を磁化する。その磁化された媒体21からの磁束20
を再生用磁気ヘッドの変換素子２で拾って再生出力とし
て検出するように動作する。このような動作を変換素子
群すべてがほぼ同等にかつ正確に機能するようになって
いる。
記録用磁気ヘッドの変換素子１に電流を流入し、それに
よって発生する変換ギャップからもれる磁束20によって
媒体21を磁化する。その磁化された媒体21からの磁束20
を再生用磁気ヘッドの変換素子２で拾って再生出力とし
て検出するように動作する。このような動作を変換素子
群すべてがほぼ同等にかつ正確に機能するようになって
いる。
次に前記の機能を安定化させるための構造及びその製造
方法について説明する。記録用磁気ヘッドの第１フェラ
イトブロック３の素子形成面は、第２図のように、変換
ギャップ長を規制するためのAl2O3やSiO2等からなる変
換ギャップ膜９をスパッタリング等の技術を用い形成し
たのち、イオンミーリング等の技術を用い凹12′を形成
する。次に、Au,Cu,Al等からなる導体膜を変換ギャップ
膜９よりも0.05〜5.0μｍ程度薄くスパッタリング形成
し、変換ギャップ膜９部分の導体膜のみをイオンミーリ
ング等で取り除ぞき巻線形状とした変換素子１を第１フ
ェライトブロック３の中央部に複数個整列して形成す
る。又、前記した変換素子１以外に、第１フェライトブ
ロック３の両端部に、変換ギャップ膜９及び変換素子１
と同じ厚さのダミー素子７を、変換素子１を形成する工
程と同一の工程で同時に複数個形成する。これにより、
変換ギャップ膜９の厚さに対し、変換素子１及びダミー
素子７が約0.05〜5.0μｍ薄いことにより凹部12ができ
る。また、再生用磁気ヘッドの素子形成面も、第３図の
ように記録用磁気ヘッドと同様に薄膜形成技術により、
変換素子２群とダミー素子８に凹部12が形成されてい
る。
方法について説明する。記録用磁気ヘッドの第１フェラ
イトブロック３の素子形成面は、第２図のように、変換
ギャップ長を規制するためのAl2O3やSiO2等からなる変
換ギャップ膜９をスパッタリング等の技術を用い形成し
たのち、イオンミーリング等の技術を用い凹12′を形成
する。次に、Au,Cu,Al等からなる導体膜を変換ギャップ
膜９よりも0.05〜5.0μｍ程度薄くスパッタリング形成
し、変換ギャップ膜９部分の導体膜のみをイオンミーリ
ング等で取り除ぞき巻線形状とした変換素子１を第１フ
ェライトブロック３の中央部に複数個整列して形成す
る。又、前記した変換素子１以外に、第１フェライトブ
ロック３の両端部に、変換ギャップ膜９及び変換素子１
と同じ厚さのダミー素子７を、変換素子１を形成する工
程と同一の工程で同時に複数個形成する。これにより、
変換ギャップ膜９の厚さに対し、変換素子１及びダミー
素子７が約0.05〜5.0μｍ薄いことにより凹部12ができ
る。また、再生用磁気ヘッドの素子形成面も、第３図の
ように記録用磁気ヘッドと同様に薄膜形成技術により、
変換素子２群とダミー素子８に凹部12が形成されてい
る。
このように、第１フェライトブロック３の素子形成面に
形成した複数個の変換素子１と複数個のダミー素子７
は、ある均等な間隔を保ち凹凸が全域に形成された状態
となる。この凹凸が形成された面に、第４図に示すよう
に、磁気回路を形成するための第２フェライトブロック
５を、変換ギャップ膜９との間にすき間が発生しなよう
に、充分な加圧力（約10kg）によって貼り合せ、接着剤
13を充填し接着固定を行い、変換ギャップ長11を形成す
る。この際、凹部12の量は、前述したように0.05〜5.0
μｍ程度となっているため、接着剤13を毛細管現象等に
より凹部12に充填するには適当な値である。このよう
に、第１フェライトブロック３と第２フェライトブロッ
ク５を貼り合わせ、接着剤13を浸透させた状態において
は、凹部12のみに接着剤13が充填され、接着面全域に空
間は無くなり、広範囲に接着面に接着剤13が充填してい
ない部分は無くなる。又、接着剤13を充填する方法とし
ては、第１フェライトブロック３と第２フェライトブロ
ック５を貼り合わせたのち、接着剤13を毛細管現象を利
用して凹部12に浸透させる方法と、第１フェライトブロ
ック３又は第２フェライトブロック５の接着面に、あら
かじめ接着剤13を塗布しておき、各々のブロックを貼り
合わせ、変換ギャップ９上に残っている接着剤を凹部12
にはじき出し充填するような方法もある。後者の方法の
方が接着後の接着剤13のはみ出し量が少なく、その量を
制御できるため、はみ出した接着剤13による外部応力を
低減する上で望ましと言える。又、この方法においては
接着剤13の加熱温度を接着剤13が固まらない程度でかつ
接着剤13の粘性を下げた温度で一定時間加熱しておき凹
部に充分に接着剤13が行き渡るようにしておき、その
後、硬化する温度にて加熱するような２段階の温度を持
つような接着剤硬化条件とすれば、前記した効果はより
安定に得られる。
形成した複数個の変換素子１と複数個のダミー素子７
は、ある均等な間隔を保ち凹凸が全域に形成された状態
となる。この凹凸が形成された面に、第４図に示すよう
に、磁気回路を形成するための第２フェライトブロック
５を、変換ギャップ膜９との間にすき間が発生しなよう
に、充分な加圧力（約10kg）によって貼り合せ、接着剤
13を充填し接着固定を行い、変換ギャップ長11を形成す
る。この際、凹部12の量は、前述したように0.05〜5.0
μｍ程度となっているため、接着剤13を毛細管現象等に
より凹部12に充填するには適当な値である。このよう
に、第１フェライトブロック３と第２フェライトブロッ
ク５を貼り合わせ、接着剤13を浸透させた状態において
は、凹部12のみに接着剤13が充填され、接着面全域に空
間は無くなり、広範囲に接着面に接着剤13が充填してい
ない部分は無くなる。又、接着剤13を充填する方法とし
ては、第１フェライトブロック３と第２フェライトブロ
ック５を貼り合わせたのち、接着剤13を毛細管現象を利
用して凹部12に浸透させる方法と、第１フェライトブロ
ック３又は第２フェライトブロック５の接着面に、あら
かじめ接着剤13を塗布しておき、各々のブロックを貼り
合わせ、変換ギャップ９上に残っている接着剤を凹部12
にはじき出し充填するような方法もある。後者の方法の
方が接着後の接着剤13のはみ出し量が少なく、その量を
制御できるため、はみ出した接着剤13による外部応力を
低減する上で望ましと言える。又、この方法においては
接着剤13の加熱温度を接着剤13が固まらない程度でかつ
接着剤13の粘性を下げた温度で一定時間加熱しておき凹
部に充分に接着剤13が行き渡るようにしておき、その
後、硬化する温度にて加熱するような２段階の温度を持
つような接着剤硬化条件とすれば、前記した効果はより
安定に得られる。
このような構造及び製造方法によって構成された記録用
磁気ヘッド及び再生用磁気ヘッドにおいて、第１フェラ
イトブロック３と第２フェライトブロック５を接着固定
し変換ギャップ長11を形成する場合、充分な加圧力によ
って貼り合わせているため、変換ギャップ膜９と第２フ
ェライトブロック５の接着すき間は0mmとなり、この部
分に接着剤13は回り込まず、変換ギャップ膜９の厚さが
変換ギャップ長11の寸法となる。又、接着剤13は接着面
10全域に均等な間隔で整列された変換素子１及びダミー
素子７の凹部12に充填される。
磁気ヘッド及び再生用磁気ヘッドにおいて、第１フェラ
イトブロック３と第２フェライトブロック５を接着固定
し変換ギャップ長11を形成する場合、充分な加圧力によ
って貼り合わせているため、変換ギャップ膜９と第２フ
ェライトブロック５の接着すき間は0mmとなり、この部
分に接着剤13は回り込まず、変換ギャップ膜９の厚さが
変換ギャップ長11の寸法となる。又、接着剤13は接着面
10全域に均等な間隔で整列された変換素子１及びダミー
素子７の凹部12に充填される。
本実施例によれば、変換ギャップ膜９と、変換素子１、
ダミー素子７の膜厚差によって生じる凹部12に接着剤13
が毛細管現象等で浸透できるだけの隙間部分を有してい
ることになるため、接着時に充分な加圧力を与えるだけ
で接着剤13は凹部12のみに充填され、かつ、変換ギャッ
プ膜９で変換ギャップ長11を決定でき、バラツキも少な
く形成できる。又、接着面10全域に変換素子１の凹部12
と、ダミー素子７の凹部12が整列して敷き詰めてあるた
め、接着面10において広範囲に接着剤13が充填されない
部分は発生せず、接着面全域に均等に、充分な接着強度
が得られるという効果がある。又、変換素子１とダミー
素子７を同工程内で形成できるため、工程数を増加する
ことなく安価にかつ安定した凹凸部を形成することがで
きるという効果がある。又、第５図のように第１フェラ
イトブロック３の左右端に変換素子１と形状の違うダミ
ー素子７を形成したり、第６図のように、ダミー素子７
をフェライトブロックが加圧力によって変形しない程度
の間隔をもって単純な形状で形成しても、凹部に接着剤
13が充填されるような構造であれば、前記実施例と同様
の効果が得られる。さらにダミー素子７部の凹凸形成を
変換素子形成時と同時に形成せず別に凹凸となる部材を
設けても、凹部に接着剤が浸透出来る構造であれば同様
の効果は得られる。
ダミー素子７の膜厚差によって生じる凹部12に接着剤13
が毛細管現象等で浸透できるだけの隙間部分を有してい
ることになるため、接着時に充分な加圧力を与えるだけ
で接着剤13は凹部12のみに充填され、かつ、変換ギャッ
プ膜９で変換ギャップ長11を決定でき、バラツキも少な
く形成できる。又、接着面10全域に変換素子１の凹部12
と、ダミー素子７の凹部12が整列して敷き詰めてあるた
め、接着面10において広範囲に接着剤13が充填されない
部分は発生せず、接着面全域に均等に、充分な接着強度
が得られるという効果がある。又、変換素子１とダミー
素子７を同工程内で形成できるため、工程数を増加する
ことなく安価にかつ安定した凹凸部を形成することがで
きるという効果がある。又、第５図のように第１フェラ
イトブロック３の左右端に変換素子１と形状の違うダミ
ー素子７を形成したり、第６図のように、ダミー素子７
をフェライトブロックが加圧力によって変形しない程度
の間隔をもって単純な形状で形成しても、凹部に接着剤
13が充填されるような構造であれば、前記実施例と同様
の効果が得られる。さらにダミー素子７部の凹凸形成を
変換素子形成時と同時に形成せず別に凹凸となる部材を
設けても、凹部に接着剤が浸透出来る構造であれば同様
の効果は得られる。
本発明によれば、第１フェライトブロックと第２フェラ
イトブロックを接着剤にて接着固定し変換ギャップ長を
形成した際、変換ギャップ部を含む媒体走行面側の接着
部全域の接着強度は、均等にある間隔で接着剤が充てん
されているため均一に維持され、２の状態により接着面
の内側にはみ出した接着剤の熱膨張・収縮や膨潤、及び
接着する各々のブロックの熱膨張保数の違い、加工時の
残存応力等、さまざまな内部及び外部応力によって発生
する各々のブロックを動かそうとする力に、接着面全域
が耐え浮上面側への段差を生じさせることが無くなる。
このことにより、つねに安定した電磁変換特性が得ら
れ、信頼性の高い製品を供給できるという効果がある。
イトブロックを接着剤にて接着固定し変換ギャップ長を
形成した際、変換ギャップ部を含む媒体走行面側の接着
部全域の接着強度は、均等にある間隔で接着剤が充てん
されているため均一に維持され、２の状態により接着面
の内側にはみ出した接着剤の熱膨張・収縮や膨潤、及び
接着する各々のブロックの熱膨張保数の違い、加工時の
残存応力等、さまざまな内部及び外部応力によって発生
する各々のブロックを動かそうとする力に、接着面全域
が耐え浮上面側への段差を生じさせることが無くなる。
このことにより、つねに安定した電磁変換特性が得ら
れ、信頼性の高い製品を供給できるという効果がある。
又、変換ギャップ長を決定するための凸部である変換ギ
ャップ膜に第２フェライトブロックを充分な加圧力で接
着するため、両者の接触面に接着剤は回り込まず凹部の
みに充填されるためバラツキの無い均等な変換ギャップ
の形成が可能となる効果がある。
ャップ膜に第２フェライトブロックを充分な加圧力で接
着するため、両者の接触面に接着剤は回り込まず凹部の
みに充填されるためバラツキの無い均等な変換ギャップ
の形成が可能となる効果がある。
第１図は本発明の一実施例による磁気ヘッドの斜視図、
第２図および第３図は素子形成部断面図、第４図は磁気
ヘッドの部分断面図、第５図および第６図は他の実施例
の素子成形部断面図、第７図は従来技術の磁気ヘッドの
斜視図、第８図は従来技術の磁気ヘッドの部分断面図、
第９図および第10図は磁気ヘッドの動作を説明するため
の図である。 1,2……変換素子,3,4……第１フェライトブロック,5,6
……第２フェライトブロック,7……ダミー素子,9……変
換ギャップ膜,10……接着面,11……変換ギャップ長,12
……凹部,13……接着剤,15……段差。
第２図および第３図は素子形成部断面図、第４図は磁気
ヘッドの部分断面図、第５図および第６図は他の実施例
の素子成形部断面図、第７図は従来技術の磁気ヘッドの
斜視図、第８図は従来技術の磁気ヘッドの部分断面図、
第９図および第10図は磁気ヘッドの動作を説明するため
の図である。 1,2……変換素子,3,4……第１フェライトブロック,5,6
……第２フェライトブロック,7……ダミー素子,9……変
換ギャップ膜,10……接着面,11……変換ギャップ長,12
……凹部,13……接着剤,15……段差。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 萩原 芳樹 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原工場内 (72)発明者 安達 和芳 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原工場内 (56)参考文献 特開 昭60−1611（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−133622（ＪＰ，Ａ)
Claims (6)
- 【請求項１】複数の磁気変換素子が形成された第１の磁
性体ブロックの磁気変換素子形成面に第２の磁性体ブロ
ックを接着剤にて接合してなる磁気ヘッドであって、 前記第１もしくは第２の磁性体ブロックの接合面に磁気
ギャップ膜が形成されていて、 前記第１および第２の磁性体ブロックは、磁気ギャップ
膜を介して直接接合し、接着剤は磁気ギャップ膜に形成
された接着剤流入部に充填されていることを特徴とする
磁気ヘッド。 - 【請求項２】前記接着剤流入部は前記第１および第２の
磁性体ブロックの少なくとも一方の接合面全域に形成さ
れた凹凸であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】前記接着剤流入部は、前記磁気変換素子の
上部に設けられた前記磁気ギャップ膜以外の前記磁気ギ
ャップ膜に形成されたことを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】複数の磁気変換素子を有する磁気ヘッドの
製造方法において、 第１の磁性体ブロックの１つの面に磁気ギャップ膜を形
成し、 該磁気ギャップ膜をエッチングして第１の磁性体ブロッ
クの全域に亘って磁気変換素子を形成するための溝を形
成し、 該溝に前記磁気ギャップ膜の厚さよりも薄い厚さの磁気
変換素子膜を形成し、 前記第１の磁性体ブロックの磁気変換素子を形成した面
に第２の磁性体ブロックを貼り合せ、前記磁気変換素子
と第２の磁性体ブロックとの間にできた隙間に接着剤を
流入してなることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項５】前記第１の磁性体ブロックの磁気変換素子
が整列する方向の両端部の磁気変換素子は、ダミーの磁
気変換素子であることを特徴とする特許請求の範囲第４
項記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】前記ダミーの磁気変換素子は、任意の形状
であることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の磁
気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62159591A JPH0697494B2 (ja) | 1987-06-29 | 1987-06-29 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US07/210,670 US4967299A (en) | 1987-06-29 | 1988-06-23 | Thin-film magnetic head with a plurality of transducers |
| KR1019880007827A KR910007862B1 (ko) | 1987-06-29 | 1988-06-28 | 박막자기헤드의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 박막자기헤드 |
| DE3821957A DE3821957A1 (de) | 1987-06-29 | 1988-06-29 | Verfahren zur herstellung eines duennfilm-magnetkopfes und so hergestellter duennfilm-magnetkopf |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62159591A JPH0697494B2 (ja) | 1987-06-29 | 1987-06-29 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS644912A JPS644912A (en) | 1989-01-10 |
| JPH0697494B2 true JPH0697494B2 (ja) | 1994-11-30 |
Family
ID=15697052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62159591A Expired - Lifetime JPH0697494B2 (ja) | 1987-06-29 | 1987-06-29 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4967299A (ja) |
| JP (1) | JPH0697494B2 (ja) |
| KR (1) | KR910007862B1 (ja) |
| DE (1) | DE3821957A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5099488A (en) * | 1991-03-27 | 1992-03-24 | Spectra Diode Laboratories, Inc. | Ribbed submounts for two dimensional stacked laser array |
| JP2954760B2 (ja) * | 1991-09-30 | 1999-09-27 | ローム株式会社 | イメージセンサ |
| JP2937716B2 (ja) * | 1993-11-18 | 1999-08-23 | 日本電気株式会社 | タンタル固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
| KR950021817A (ko) * | 1993-12-15 | 1995-07-26 | 이헌조 | 다층 전계발광소자 |
| JP3383455B2 (ja) * | 1995-02-10 | 2003-03-04 | 正顯 松井 | 支持ビームに対する磁気ヘッド素子の接合方法 |
| US5943196A (en) * | 1997-05-01 | 1999-08-24 | Storage Technology Corporation | Apparatus for securing a thin film magnetic tape head closure using a C-core to interconnect gluing vias |
| US6611398B1 (en) * | 1999-08-09 | 2003-08-26 | Quantum Corporation | Tape head with support bars |
| WO2018027055A1 (en) | 2016-08-03 | 2018-02-08 | H.B. Fuller Company | An elastic attachment hot melt adhesive composition and a disposable absorbent article made with the same |
| US11133029B2 (en) * | 2018-12-19 | 2021-09-28 | International Business Machines Corporation | Tape head with element-to-element spacing and adjustment and mechanism to control the spacing |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4044392A (en) * | 1975-08-14 | 1977-08-23 | International Business Machines Corporation | Process for making a read-while-write tape head and the product made thereby |
| NL7908611A (nl) * | 1979-11-28 | 1981-07-01 | Philips Nv | Geintegreerde magneetkopconstructie. |
| US4370802A (en) * | 1980-08-25 | 1983-02-01 | Applied Magnetics Corporation | Method of making a thin film magnetic head assembly with multiconductive connecting elements |
| US4370801A (en) * | 1980-08-25 | 1983-02-01 | Applied Magnetics Corporation | Method of making a thin film magnetic head assembly with multiconductive connecting elements |
| JPS58133622A (ja) * | 1982-02-03 | 1983-08-09 | Toshiba Corp | 垂直磁化型磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS601611A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-07 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
| US4571651A (en) * | 1983-10-14 | 1986-02-18 | Applied Magnetics Corporation | Method of manufacturing a magnetic head assembly and product |
-
1987
- 1987-06-29 JP JP62159591A patent/JPH0697494B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-06-23 US US07/210,670 patent/US4967299A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-28 KR KR1019880007827A patent/KR910007862B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-06-29 DE DE3821957A patent/DE3821957A1/de active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3821957C2 (ja) | 1992-06-11 |
| DE3821957A1 (de) | 1989-01-12 |
| KR910007862B1 (ko) | 1991-10-02 |
| JPS644912A (en) | 1989-01-10 |
| KR890001027A (ko) | 1989-03-17 |
| US4967299A (en) | 1990-10-30 |
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