JPH0378105A - マルチトラツク磁気ヘッド - Google Patents

マルチトラツク磁気ヘッド

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Publication number
JPH0378105A
JPH0378105A JP21408089A JP21408089A JPH0378105A JP H0378105 A JPH0378105 A JP H0378105A JP 21408089 A JP21408089 A JP 21408089A JP 21408089 A JP21408089 A JP 21408089A JP H0378105 A JPH0378105 A JP H0378105A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic head
magnetic
grooves
laser beam
spacers
Prior art date
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Pending
Application number
JP21408089A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Tottori
猛志 鳥取
Kazunari Nakagawa
和成 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0378105A publication Critical patent/JPH0378105A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、磁気記録媒体の複数のトラックに同時に記録
/再生を行うことが可能なマルチトラック磁気ヘッドに
関する。
[従来の技術] 近時の磁気記録装置の大容量化に伴ない、高速データ転
送が要求されており、これに応えるには。
マルチトラック磁気ヘッドを用いて同時に複数トラック
に情報を記録もしくは再生する方法が有効であり、高精
度のトラックサーボを行うにもマルチトラック磁気ヘッ
ドは好適である。
一方また、磁気記録の高密度化に伴ない、磁気記録媒体
の保磁力が高められ、この記録媒体に記録可能な磁気ヘ
ッドとして、少くとも作動ギャップで対向する部分を、
高飽和磁束密度、高透磁率を有する磁性材料で構成した
磁気ヘッドが開発されつつあり、該種磁気ヘッドをマル
チヘッド化したものの実用化が望まれている。
そこで、磁性材もしくは非磁性材よりなるコア基体と、
該コア基体の接合面側に形成された高飽和磁束密度、高
透磁率の磁性層とをもつ、一対のコア半休同士を接合用
ガラスで接合・固着してQi位磁気ヘッドチップを作製
し、該単位磁気ヘッドチップの複数個を、隣接単位磁気
ヘッドチップ間に非磁性のスペーサを介して一体化して
マルチトラック磁気ヘッドを製造することが試みられつ
つある。この単位磁気ヘッドチップにおける作動ギャッ
プのトラック幅は、狭トラツク幅化が可能で、隣接作動
ギャップ間の配設ピッチを小さくすることによって、マ
ルチトラック磁気ヘッドの小型・軽量化と狭トラツクピ
ッチ対応とが可能である。
ところでこの場合、複数の作動ギャップが、均等に適正
接触圧で磁気記録媒体と慴接することが望ましく、この
ため、前記各スペーサの媒体摺動面に磁気記録媒体の走
行方向に沿った溝を形成することにより、媒体摺動面の
接触面積を減少させると共に負圧効果を期待して、所謂
ヘッドタッチの向上を図ったマルチトラック磁気ヘッド
が本願発明者らによって検討されている。
[発明が解決しようとする課題] 上記した溝は、単位磁気へラドチップとスペーサとを一
体化した後、磁気記録媒体の摺動力向に沿って穿設され
るが、スペーサの厚みが薄いために溝幅は100μm程
度の細いものにすることを゛予儀なくされる。このよう
な、細溝をダイサー等による機械加工で精度良く形成す
るのは和尚に困難で、製造歩留りを低下させる。このた
め、レーザービーム加工によって溝を形成することを本
願発明者らは検討したが、レーザービームによる熱の影
響で、単位磁気ヘッドチップとスペーサとを接着した層
がダメージを受け、接着面が剥離して、この場合も大幅
に製造歩留りが低下した。
本発明は上記の点に鑑みなされたもので、その目的とす
るところは、スペーサに溝をレーザー加工で形成するに
際し、単位磁気へラドチップとスペーサの接着部が剥離
するという事態を可及的に低減でき、以って、スペーサ
に磁気記録媒体の走行方向に沿った溝を形成したヘッド
タッチの良好なマルチトラック磁気ヘッドを歩留り良く
提供することを目的とする。
[1111を解決するための手段] 本発明は上記した目的を達成するため、単位磁気へラド
チップの複数個を、隣接単位磁気ヘッドチップ間に非磁
性のスペーサを介して一体化したマルチトラック磁気ヘ
ッドにおいて、前記各スペーサの媒体摺動面に磁気記録
媒体の走行方向に沿った溝を、それぞれ複数回のレーザ
ービーム加工によって形成するようにされる。
[作 用] スペーサの媒体摺動面に、まず、最終的に形成すべき溝
幅よりも幅狭の狭小幅溝を第1回目のレーザービーム加
工によって穿設する6次に、上記狭小幅溝を広げるごと
くして、狭小幅溝よりも幅の広い溝を第2@目のレーザ
ービーム加工によって形成し、所期の溝幅をもつ溝を完
成させる。これによって、従来レーザービームのパワー
を太きくして一度に(−禿で)溝を形成する場合に比し
て、小さなレーザーパワーで溝を形成するので。
レーザービームの熱影響が大幅に軽減でき、単位磁気ヘ
ッドチップとスペーサが181することが可及的に回避
できる。
[実施例] 以下、本発明を第1図〜第9図に示した1実施例よって
説明する。第1図はマルチトラック磁気ヘッドを示す斜
視図である。
第1図において、符号1で総括的に示すマルチトラック
磁気ヘッドは、図示の例では、4個の単位磁気へラドチ
ップ2を具備しており、各単位磁気ヘッドチップ2は非
磁性材よりなるスペーサ3を隣接ヘッドチップ2間に介
して、適宜接着手段によって一体化されている。
上記各単位磁気ヘッドチップ2は、それぞれ対となった
第1コア半体4Aと第2コア半休4Bとを有し、各第1
.第2コア半体4A、4Bは、それぞれコア基体5と磁
性層6で構成されている。
上記コア基体5は、例えばM n −Z nフェライト
N i −Z nフェライト等の磁性材が用いられてい
るが、他の磁性材料、或いはセラミックス、結晶化ガラ
ス等の非磁性材料であってもよい。また、対となった各
コア基体5,5の突き合わせ面側には、それぞれ略三角
形の突部5a、5aが切削形成され、第1コア半体4A
のコア基体5には、突部5aがフロント側からリア側ま
で連続して形成され、第2コア半休4Bのコア基体5に
は、中間部が途切れた形でフロント側とリア側に突部5
aがそれぞれ形成されている。
前記磁性層6は、各コア基体5の突部5a形成面側に全
面被着され、突部5aの稜線上の磁性層6がトラック幅
Tw相当分の幅をもつように研磨されている。この磁性
層6は、例えばGo−Nb−Zr磁性合金、F e −
A I −S i基磁性合金などの高飽和磁束密度、高
透磁率の磁性材料を、スパッタリング、蒸着等の適宜薄
膜形成技術で成膜することにより、形成されている。
そして、前記両コア半体4A、4Bは、突部5aの稜線
上の磁性薄膜6同士を突き合わせてして。
フロント側とリア側でそれぞれ接合され、フロント側で
は図示せぬギャップ規制薄膜を介して作動ギャップ7を
形成していると共に、両コア半体4A、4Bは接合用ガ
ラス8によって一体化されている。なお、9は、図示せ
ぬコイルが巻回される巻LA窓である。
前記スペーサ3は、耐摩耗特性の良好な非磁性材料で形
成され、該実施例においてはチタン酸バリウムよりなっ
ているが、チタン酸カルシウムなどの他のセラミックス
、或いは結晶化ガラス等を用いることもできる。そして
、前記単位磁気ヘッドチップ2は、スペーサ3を隣接へ
ラドチップ2間に介して、両者2,3が媒体摺動面側S
において面一になるように位置合せして、樹脂系接着剤
、或いは接合用ガラスなどによって接着されて(該実施
例では樹脂系接着剤が用いられている)、マルチトラッ
ク磁気ヘッド1として一体化されている。
10は、各スペーサ3の媒体摺動面に磁気記録媒体の走
行方向に沿って形成された溝で、各単位磁気へラドチッ
プ2の作動ギャップ7部分を、磁気記録媒体と良好なヘ
ッドタッチをもって摺接させる目的で穿設され、後述す
る如き手法で形成される。
次に、第2図〜第9図によって第1図示のマルチトラッ
ク磁気ヘッド1の製造方法を説明する。
先ず、第2図に示すように、例えばM n −Z nフ
ェライトなどよりなる平板状のブロック11の片面に、
略V字形(略三角形)の溝12を所定間隔で平行に多数
本切削形成し、これによって前記コア基体5の突部5a
を形づくる。また、前記巻線窓9形成用の溝13を、上
記溝12と直交して切削形成する。
次に第3図示のように、ブロックll上に、例えばCo
 −N b −Z r磁性合金などの高飽和磁束密度、
高透磁率の磁性合金材料よりなる前記磁性層6を、蒸着
、スパッタリングなどの薄膜形成技術によって所定厚み
に成膜する。
続いて第4図示のように、前記接合用のガラス8を、ブ
ロックll上の全面に比較的厚めに充填・被着し、然る
後、ガラス8を同図のA−A線まで研磨し、前記突部5
aの稜線上の磁性層6がトラック幅Twをもって露呈す
るようにされる。なお、この工程で前記巻線窓9形成用
の溝13内のガラス8も除去される。また図示していな
いが、この後、例えばS i O2等よりなるギャップ
規制薄膜が作動ギャップ形成予定部位に薄膜形成技術で
遭択的に被着・成膜される。
次に、コア用の母材たるブロック11は、第5図のB−
B線で2等分されて、前記した第1コア半体4A用の第
1コア母材11Aと、第2コア半休4B用の第2コア母
材11Bとに分離される。
この後、第6図に示すように、上記第1コア母材11A
と第2コア母材11Bは、前記突部5aの稜線上で露呈
した磁性層6同士を突き合わせして位置決めされ、この
状態で圧着加熱することにより、前記ガラス8で、第1
.第2コア母材11A、IIBは一体化される。なおこ
の際、少くともフロント側の突き合わせ面の磁性層6同
士は、図示せぬギャップ規制膜(例えば5in2)を介
して接合されて前記作動ギャップ7を形成している。
然る後、第6図の1点鎖線に沿ってスライスすることに
よって、前記第1図に示した単位磁気ヘッドチップ2が
複数個得られる。
続いて、別工程で所定形状に作製された例えばチタン酸
バリウムよりなる前記複数1個のスペーサ3と、各j)
1.位磁気ヘッドチップ2とを交互に積層して位置合せ
して、各磁気ヘッドチップ2の作動ギャップを一直線上
に揃え、各単位磁気へラドチップ2とスペーサ3とを両
者2.3の接合面に塗布した樹脂系接着剤で接着し、第
7図に示したように各単位磁気ヘッドチップ2とスペー
サ3を一体化する6なお、該実施例においては、接着剤
としてエポキシ系樹脂を用いて、90℃、3時間の条件
で接着・一体化した。
この後、第8図に示したように、各スペーサ3の媒体摺
動面S側に、第1回目のレーザー加工によって磁気記録
媒体の走行方向に沿った狭小幅溝10aを形成する。該
実施例においては、スペーサ3の幅Tsは130μmに
設定されており、狭小幅溝10aの溝幅TIは70μm
、溝深さは70μmとされ、この時のレーザーパワー条
件は2mW、送り速度条件は0.5mm/m i nと
した。
なお、第8図において、I4は樹脂接着層を示している
然る後第9図に示すように、前記狭小幅溝10aに沿っ
て第2回目のレーザー加工により、狭小幅溝10aの両
側辺を拡大し、溝幅T2をもつ浅溝10bを形成し、所
期の溝幅をもち且つ断面が2種の曲率半径をもつ前記し
た溝10が完成される。該実施例においては、上記溝M
(最終的な溝幅)T2は110μmとされ、この第2回
目のレーザー加工におけるレーザーパワー条件は1mW
送り速度条件は0.5mm/minとした。
以上の如き工程によって、第1図に示したマルチトラッ
ク磁気ヘッドlが完成される。そして。
上述したように2回に分けたレーザービーム加工によっ
て前記溝10を形成することによって、レーザーパワー
を小さくでき、レーザー加工時の熱の影響で、単位磁気
ヘッドチップ2とスペーサ3とが剥離するという事態が
可及的に低減でき、製造歩留りが格段に向上することが
確認された。
次に示す第1表は、前記した本発明の実施例と、溝加工
を一度のレーザー加工(レーザーパワー4mW、送り速
度1mm/m1n)で行い、溝幅110μm、溝深さ1
10μmの溝を一発で形成した比較例(従来例)との対
比結果を示している。
同表は、本発明の実施例と上記比較例によるマルチトラ
ック磁気ヘッド各々100サンプル中の。
単位磁気ヘッドチップ2とスペーサ3とに0.1μm以
上の段差が生じた個数と、剥離が生じた個数とを示して
いる。
同表から明らかなように、レーザービーム加工時の熱の
影響による樹脂接着層14の接着強度が低下して、単位
磁気ヘッドチップ2とスペーサ3に生じる0、1μm以
上の段差(不良個数)は、実施例では100個中の5個
であるのに対し、比較例(従来例)では65個もあり、
また、剥離という最悪のケースは、実施例では100個
中の2個であるのに対し、比較例では25個もあり、本
発明による歩留り向上効果は顕著である。(これ°に対
し、従来は精密な加工技術によって組立てたマルチヘッ
ドが、加工の最終段階で著しい歩留りの低下を招いてい
た。) 以上本発明を図示した実施例によって説明したが、当業
者には本発明の精神を逸脱しない範囲で種々の変形が可
能で、例えば、溝の形成を3回以上のレーザービーム加
工に分けて行ってもよく、また、溝の断面形状も第9v
!Iに図示した以外の例えば略階段状を呈するものであ
ってもよく、さらには、図示した構成以外のマルチトラ
ック磁気ヘッドにも本発明は適用可能である。
[発明の効果] 叙上のように本発明によれば、各単位゛磁気ヘラド間の
スペーサの媒体摺動面側に、磁気記録媒体の走行方向に
沿った溝を形成したヘッドタッチの良好なマルチトラッ
ク磁気ヘッドを歩留りよく提供できる。
【図面の簡単な説明】
図面は何れも本発明の実施例に係り、第1図はマルチト
ラック磁気ヘッドの斜視図、第2図〜第9図は第1図示
のマルチトラック磁気ヘッドの製造工程をそれぞれ示す
工程説明図である。 1・・・・・・マルチトラック磁気ヘッド、2・・・・
・・単位磁気ヘッドチップ、3・・・・・・スペーサ、
4A・・・・・・第1コア半休、4B・・・・・・第2
コア半休、5・・・・・・コア基体、6・・・・・・磁
性層、7・・・・・・作動ギャップ、8・・・・・・接
合用ガラス、9・・・・・・巻線窓、10・・・・・・
溝、14・・・・・・樹脂接着層。 第2 因 第3 図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)単位磁気ヘッドチップの複数個を、隣接単位磁気
    ヘッドチップ間に非磁性のスペーサを介して一体化した
    マルチトラック磁気ヘッドにおいて、前記各スペーサの
    媒体摺動面に磁気記録媒体の走行方向に沿つた溝を、そ
    れぞれ複数回のレーザービーム加工によつて形成したこ
    とを特徴とするマルチトラック磁気ヘッド。
  2. (2)請求項1記載において、前記レーザービーム加工
    により形成された溝の断面形状は、2種以上の曲率半径
    をもつもの、あるいは略階段状のものであることを特徴
    とするマルチトラック磁気ヘッド。
  3. (3)請求項1記載において、前記単位磁気ヘッドチッ
    プは、磁性材もしくは非磁性材よりなるコア基体と、該
    コア基体の接合面側に形成された高飽和磁束密度、高透
    磁率の磁性層とをもつ、一対のコア半体同士を接合用ガ
    ラスで接合・固着したものであることを特徴とするマル
    チトラック磁気ヘッド。
JP21408089A 1989-08-22 1989-08-22 マルチトラツク磁気ヘッド Pending JPH0378105A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6507454B1 (en) * 1997-10-03 2003-01-14 Seagate Technology Llc Curved trim profile for ABS trimmed inductive heads

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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