JPH06215311A - 浮上型磁気ヘッド - Google Patents
浮上型磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH06215311A JPH06215311A JP21744592A JP21744592A JPH06215311A JP H06215311 A JPH06215311 A JP H06215311A JP 21744592 A JP21744592 A JP 21744592A JP 21744592 A JP21744592 A JP 21744592A JP H06215311 A JPH06215311 A JP H06215311A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- thin film
- substrate
- soft magnetic
- ferromagnetic oxide
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】磁気記録の高密度化、高速化に対応でき、しか
も量産性のよい構造の浮上型磁気ヘッドを提供する。 【構成】非磁性基板７と強磁性酸化物９とからなるスラ
イダ３を形成する複合基板上に、ギャップ部１８に対し
て傾斜して金属軟磁性薄膜６又は金属軟磁性薄膜と非磁
性層との積層膜で磁路を形成する。非磁性基板７と強磁
性酸化物９との接合部１４を、巻線巻回部１１ａの略半
分以上の高さとなる位置に設定した。
も量産性のよい構造の浮上型磁気ヘッドを提供する。 【構成】非磁性基板７と強磁性酸化物９とからなるスラ
イダ３を形成する複合基板上に、ギャップ部１８に対し
て傾斜して金属軟磁性薄膜６又は金属軟磁性薄膜と非磁
性層との積層膜で磁路を形成する。非磁性基板７と強磁
性酸化物９との接合部１４を、巻線巻回部１１ａの略半
分以上の高さとなる位置に設定した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主としてコンピュ−タ
のハ−ドディスクドライブに用いられる磁気ヘッド、す
なわち、磁気ヘッドとディスクとの間に微小エアギャプ
を形成して非接触で記録再生を行う浮上型磁気ヘッドに
関する。
のハ−ドディスクドライブに用いられる磁気ヘッド、す
なわち、磁気ヘッドとディスクとの間に微小エアギャプ
を形成して非接触で記録再生を行う浮上型磁気ヘッドに
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の浮上型磁気ヘッドは、フェライト
材を機械加工してコアピ−スを形成し、これを非磁性ス
ライダに組み付け、巻線を施すことにより構成していた
が、機械加工上、１０μｍ以下のトラック幅を実現する
ことが困難であり、高密度化に対応できず、またインダ
クタンスが約８μＨ程度と大きくなるので、高速化が困
難である。そこで図５に示すように、金属軟磁性薄膜６
を用いた浮上型磁気ヘッドが開発されている。
材を機械加工してコアピ−スを形成し、これを非磁性ス
ライダに組み付け、巻線を施すことにより構成していた
が、機械加工上、１０μｍ以下のトラック幅を実現する
ことが困難であり、高密度化に対応できず、またインダ
クタンスが約８μＨ程度と大きくなるので、高速化が困
難である。そこで図５に示すように、金属軟磁性薄膜６
を用いた浮上型磁気ヘッドが開発されている。
【０００３】この磁気ヘッドは、セラミック等の非磁性
材でなるスライダ３０の本体部３０ａの側面に金属軟磁
性薄膜６を形成して、その薄膜６上に非磁性材でなる部
材３１を重ねて接着し、一方、巻線１０を巻回するコア
部３２も、片側の非磁性材３３に金属軟磁性薄膜６を形
成したものに他方の非磁性材３４を重ねて接着してな
る。この構造のコア部３２を前記スライダ本体部３０ａ
に金属軟磁性薄膜６どうしが合致するようにギャップ部
１８を介して突き合わせ、ガラス４により接合する。そ
してコア部３２に巻線１０を巻く。
材でなるスライダ３０の本体部３０ａの側面に金属軟磁
性薄膜６を形成して、その薄膜６上に非磁性材でなる部
材３１を重ねて接着し、一方、巻線１０を巻回するコア
部３２も、片側の非磁性材３３に金属軟磁性薄膜６を形
成したものに他方の非磁性材３４を重ねて接着してな
る。この構造のコア部３２を前記スライダ本体部３０ａ
に金属軟磁性薄膜６どうしが合致するようにギャップ部
１８を介して突き合わせ、ガラス４により接合する。そ
してコア部３２に巻線１０を巻く。
【０００４】上記のような積層型の磁気ヘッドにおいて
は、金属軟磁性薄膜６の厚さがトラック幅となるため１
０μｍ以下の狭幅トラックを実現することができる。
は、金属軟磁性薄膜６の厚さがトラック幅となるため１
０μｍ以下の狭幅トラックを実現することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のよう
に、高密度記録対応を図るため、金属軟磁性薄膜６のみ
で磁路を形成し、トラック幅を狭小化すると、コアの飽
和が生じ易くなり、効率が悪くなり、１０ＭＨｚ以上の
高周波域で十分なＳ／Ｎ比が得られなくなり、また標準
的な巻線を施した場合、インダクタンスが０．５〜１．
５μＨと低くなり過ぎて十分な再生出力が得がたい。
に、高密度記録対応を図るため、金属軟磁性薄膜６のみ
で磁路を形成し、トラック幅を狭小化すると、コアの飽
和が生じ易くなり、効率が悪くなり、１０ＭＨｚ以上の
高周波域で十分なＳ／Ｎ比が得られなくなり、また標準
的な巻線を施した場合、インダクタンスが０．５〜１．
５μＨと低くなり過ぎて十分な再生出力が得がたい。
【０００６】一方、図５のものを量産するため、本体部
３０ａとコア部３２とをそれぞれ複数個分を切り出すた
めの素材ブロックとして作製しておき、これらの素材ブ
ロックを組合わせて接着する場合、積層誤差が集積して
ブロック突き合わせの際に金属軟磁性薄膜６の部分を揃
えて突き合わせることが困難であり、そのため積層数が
少数に限られるため、量産性が劣るという問題点があっ
た。即ち、金属軟磁性薄膜の突き合わせ精度が積層膜形
成精度に依存しているため、量産性が得難いという問題
点があった。
３０ａとコア部３２とをそれぞれ複数個分を切り出すた
めの素材ブロックとして作製しておき、これらの素材ブ
ロックを組合わせて接着する場合、積層誤差が集積して
ブロック突き合わせの際に金属軟磁性薄膜６の部分を揃
えて突き合わせることが困難であり、そのため積層数が
少数に限られるため、量産性が劣るという問題点があっ
た。即ち、金属軟磁性薄膜の突き合わせ精度が積層膜形
成精度に依存しているため、量産性が得難いという問題
点があった。
【０００７】本発明は、上記した実情に鑑み、磁気記録
の高密度化、高速化に対応でき、しかも量産性のよい構
造の浮上型磁気ヘッドを提供することを目的とする。
の高密度化、高速化に対応でき、しかも量産性のよい構
造の浮上型磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、非磁性基板と強磁性酸化物とからなるスラ
イダを形成する複合基板上に、ギャップ部に対して傾斜
して金属軟磁性薄膜又は金属軟磁性薄膜と非磁性層との
積層膜で磁路を形成し、前記非磁性基板と強磁性酸化物
との接合部を、巻線巻回部の略半分以上の高さとなる位
置に設定したことを特徴とする。
成するため、非磁性基板と強磁性酸化物とからなるスラ
イダを形成する複合基板上に、ギャップ部に対して傾斜
して金属軟磁性薄膜又は金属軟磁性薄膜と非磁性層との
積層膜で磁路を形成し、前記非磁性基板と強磁性酸化物
との接合部を、巻線巻回部の略半分以上の高さとなる位
置に設定したことを特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明は、上述のように、非磁性基板と強磁性
酸化物とを接合させた複合基板のスライダのギャップ部
に金属軟磁性薄膜を形成したので、金属軟磁性薄膜と複
合基板の強磁性酸化物部分とが磁路として作用する。前
記金属軟磁性薄膜の傾斜は、多数個取りの複合基板の素
材ブロックに機械加工により高精度に形成された溝に成
膜することにより実現され、これらのブロックを突き合
わせることによって、金属軟磁性薄膜の突き合わせ精度
が高精度に設定される。
酸化物とを接合させた複合基板のスライダのギャップ部
に金属軟磁性薄膜を形成したので、金属軟磁性薄膜と複
合基板の強磁性酸化物部分とが磁路として作用する。前
記金属軟磁性薄膜の傾斜は、多数個取りの複合基板の素
材ブロックに機械加工により高精度に形成された溝に成
膜することにより実現され、これらのブロックを突き合
わせることによって、金属軟磁性薄膜の突き合わせ精度
が高精度に設定される。
【００１０】
【実施例】図１（Ａ）は本発明による浮上型磁気ヘッド
の一実施例の斜視図、（Ｂ）はその要部を示す平面図で
ある。図１に示すように、本例の磁気ヘッドは、チタン
酸カルシウム等のセラミック又はアルチックもしくは非
磁性フェライト等の非磁性基板７と磁性フェライト等の
強磁性酸化物９とを接合させた複合基板でスライダ３を
形成し、コア部１１に巻線（図示せず）を手巻きにより
巻付けるものである。
の一実施例の斜視図、（Ｂ）はその要部を示す平面図で
ある。図１に示すように、本例の磁気ヘッドは、チタン
酸カルシウム等のセラミック又はアルチックもしくは非
磁性フェライト等の非磁性基板７と磁性フェライト等の
強磁性酸化物９とを接合させた複合基板でスライダ３を
形成し、コア部１１に巻線（図示せず）を手巻きにより
巻付けるものである。
【００１１】前記スライダ３は左右少なくもどちらか一
方にセンダストあるいはその他の飽和磁束密度の高い鉄
系、Ｆｅ−Ｚｒ−Ｎ等の金属軟磁性薄膜６をギャップ部
１５に対して傾斜させて、スパッタリング等の薄膜形成
技術で成膜する。同様にスライダ本体３ａに接着するコ
ア部１１も、非磁性基板７と強磁性酸化物９との複合基
板５に金属軟磁性薄膜６をギャップ部１８に対して傾斜
させて成膜し、これをスライダ本体３ａ側の金属軟磁性
薄膜６とコア１１部の金属軟磁性薄膜６とが合致するよ
うに、低融点ガラス４により接着する。
方にセンダストあるいはその他の飽和磁束密度の高い鉄
系、Ｆｅ−Ｚｒ−Ｎ等の金属軟磁性薄膜６をギャップ部
１５に対して傾斜させて、スパッタリング等の薄膜形成
技術で成膜する。同様にスライダ本体３ａに接着するコ
ア部１１も、非磁性基板７と強磁性酸化物９との複合基
板５に金属軟磁性薄膜６をギャップ部１８に対して傾斜
させて成膜し、これをスライダ本体３ａ側の金属軟磁性
薄膜６とコア１１部の金属軟磁性薄膜６とが合致するよ
うに、低融点ガラス４により接着する。
【００１２】前記非磁性基板７と強磁性酸化物９との接
合部１４は、コア部１１の巻線を施す柱部１１ａの少な
くとも略半分以上の高さになるように設定し（スライダ
本体部３ａにおける接合部の高さも同様とする）、必要
なヘッド効率及びインダクタンスが得られるようにす
る。
合部１４は、コア部１１の巻線を施す柱部１１ａの少な
くとも略半分以上の高さになるように設定し（スライダ
本体部３ａにおける接合部の高さも同様とする）、必要
なヘッド効率及びインダクタンスが得られるようにす
る。
【００１３】前記スライダ本体３ａ及びコア部１１の非
磁性基板７の材質を非磁性フェライトとし、強磁性酸化
物９を磁性フェライトとすることにより、ガラス溶着時
における熱膨張、収縮に伴う相互の剥離や反り等を生じ
るおそれがない。
磁性基板７の材質を非磁性フェライトとし、強磁性酸化
物９を磁性フェライトとすることにより、ガラス溶着時
における熱膨張、収縮に伴う相互の剥離や反り等を生じ
るおそれがない。
【００１４】また、金属軟磁性薄膜６を単層とするので
はなく、センダスト等の金属軟磁性薄膜とＳｉＯ2等の
非磁性層とを交互に積層した複層の積層膜とし、これに
より渦電流損失の低減を図ることもある。
はなく、センダスト等の金属軟磁性薄膜とＳｉＯ2等の
非磁性層とを交互に積層した複層の積層膜とし、これに
より渦電流損失の低減を図ることもある。
【００１５】このように、複合基板に磁路となる金属軟
磁性薄膜６を成膜したので、この金属軟磁性薄膜６の厚
みがトラック幅となり、必要な場合には幅が１０μｍ以
下の狭幅トラックが実現できる。また、強磁性酸化物９
の部分も磁路の一部として作用するので、磁気飽和がな
くなり、かつ複合基板５の非磁性基板７と強磁性酸化物
９との接合部が巻線の範囲にあるので、適度なインダク
タンス（２〜３μＨ）となり、高周波域でも十分なＳ／
Ｎ比が得られ、再生感度が向上する。この構造のもの
は、金属軟磁性薄膜のギャップ部１８に対する傾斜形成
がダイヤモンドカッタ等によるＶ溝切削加工、成膜、突
き合わせ接着、切断により、突き合わせ精度を高精度に
確保して作製される。
磁性薄膜６を成膜したので、この金属軟磁性薄膜６の厚
みがトラック幅となり、必要な場合には幅が１０μｍ以
下の狭幅トラックが実現できる。また、強磁性酸化物９
の部分も磁路の一部として作用するので、磁気飽和がな
くなり、かつ複合基板５の非磁性基板７と強磁性酸化物
９との接合部が巻線の範囲にあるので、適度なインダク
タンス（２〜３μＨ）となり、高周波域でも十分なＳ／
Ｎ比が得られ、再生感度が向上する。この構造のもの
は、金属軟磁性薄膜のギャップ部１８に対する傾斜形成
がダイヤモンドカッタ等によるＶ溝切削加工、成膜、突
き合わせ接着、切断により、突き合わせ精度を高精度に
確保して作製される。
【００１６】以下この製造工程について、図２、図３に
より説明する。図２、図３は前記スライダを多数個取り
で製造する場合の工程を示す図である。この工程につい
て説明すると、図２において、まず非磁性基板７および
強磁性酸化物９の外形出し、面出しを行い（Ａ）、融点
が７００℃程度の高融点ガラス４ｃ等の接合材を前記非
磁性基板７および強磁性酸化物９のそれぞれ両面にスパ
ッタリング等で形成し（Ｂ）、これを交互に積層して焼
成し、積層体８を形成する（Ｃ）。次に前記積層体８を
積層面に直交する面２０で切断し、積層体８ｅを形成す
る（Ｄ）。
より説明する。図２、図３は前記スライダを多数個取り
で製造する場合の工程を示す図である。この工程につい
て説明すると、図２において、まず非磁性基板７および
強磁性酸化物９の外形出し、面出しを行い（Ａ）、融点
が７００℃程度の高融点ガラス４ｃ等の接合材を前記非
磁性基板７および強磁性酸化物９のそれぞれ両面にスパ
ッタリング等で形成し（Ｂ）、これを交互に積層して焼
成し、積層体８を形成する（Ｃ）。次に前記積層体８を
積層面に直交する面２０で切断し、積層体８ｅを形成す
る（Ｄ）。
【００１７】次に図３において、前記積層体８ｅの外面
を整形し、外形出しを行い（Ａ）、積層体８ｅの上面に
積層方向に直交する方向に、ダイヤモンドカッタ等で複
数のＶ溝２ｅを形成し（Ｂ）、Ｖ溝２ｅ形成面に金属軟
磁性薄膜６を成膜する（Ｃ）。
を整形し、外形出しを行い（Ａ）、積層体８ｅの上面に
積層方向に直交する方向に、ダイヤモンドカッタ等で複
数のＶ溝２ｅを形成し（Ｂ）、Ｖ溝２ｅ形成面に金属軟
磁性薄膜６を成膜する（Ｃ）。
【００１８】続いて、前記Ｖ溝２ｅに低融点ガラス４を
充填し（Ｄ）、ガラス４上面を前記金属軟磁性薄膜６が
線状に露出するように研磨し、積層体８ｆを形成する
（Ｅ）。
充填し（Ｄ）、ガラス４上面を前記金属軟磁性薄膜６が
線状に露出するように研磨し、積層体８ｆを形成する
（Ｅ）。
【００１９】続いて、前記積層体８ｆに前記Ｖ溝２ｅと
直角方向に巻線窓となる台形溝２ｆを複数本形成し
（Ｆ）、非磁性基板７と強磁性酸化物９との積層面にそ
って切断し積層体８ｇを形成する（Ｇ）。
直角方向に巻線窓となる台形溝２ｆを複数本形成し
（Ｆ）、非磁性基板７と強磁性酸化物９との積層面にそ
って切断し積層体８ｇを形成する（Ｇ）。
【００２０】続いて、前記積層体８ｇの突き合わせであ
るギャップ部面を研磨し、そのギャップ部面にＳｉＯ2
等のギャップ部膜を形成し、図４（Ａ）に示すように、
一方の積層体８ｈは積層体８ｇからさらに幅狭に研磨
し、前記台形溝２ｆどうしと前記線状に露出した金属軟
磁性薄膜６どうしをギャップ部材を介して合わせ、焼成
し、２個の積層体８ｇ、８ｈを低融点ガラスにより接合
し、その後切断代２２で切断し、図４（Ｂ）に示す個々
の磁気ヘッドを作製する。その後、図４（Ｃ）に示すよ
うに肩落し加工によりコア部１１を形成する。
るギャップ部面を研磨し、そのギャップ部面にＳｉＯ2
等のギャップ部膜を形成し、図４（Ａ）に示すように、
一方の積層体８ｈは積層体８ｇからさらに幅狭に研磨
し、前記台形溝２ｆどうしと前記線状に露出した金属軟
磁性薄膜６どうしをギャップ部材を介して合わせ、焼成
し、２個の積層体８ｇ、８ｈを低融点ガラスにより接合
し、その後切断代２２で切断し、図４（Ｂ）に示す個々
の磁気ヘッドを作製する。その後、図４（Ｃ）に示すよ
うに肩落し加工によりコア部１１を形成する。
【００２１】上記の工程図では、Ｖ溝２ｅと台形溝２ｆ
が各４本の場合を示したが、より多数であっても同様に
加工可能である。
が各４本の場合を示したが、より多数であっても同様に
加工可能である。
【００２２】このように、機械加工により形成したＶ溝
２ｅに金属軟磁性薄膜６を成膜するので、上記工程図３
（Ｇ）に示すように、線状に露出した金属軟磁性薄膜６
を一定のピッチで形成した積層体８ｇが作製できる。従
って、２個の積層体８ｇを金属軟磁性薄膜６が露出した
面を合わせた時の金属軟磁性薄膜６のずれを防止できる
ので、多数個取りで作製した場合、ギャップ部で磁路が
ずれることによる不良がなくなり、量産性が向上する。
２ｅに金属軟磁性薄膜６を成膜するので、上記工程図３
（Ｇ）に示すように、線状に露出した金属軟磁性薄膜６
を一定のピッチで形成した積層体８ｇが作製できる。従
って、２個の積層体８ｇを金属軟磁性薄膜６が露出した
面を合わせた時の金属軟磁性薄膜６のずれを防止できる
ので、多数個取りで作製した場合、ギャップ部で磁路が
ずれることによる不良がなくなり、量産性が向上する。
【００２３】
【発明の効果】請求項１、２によれば、非磁性基板と強
磁性酸化物との複合基板で形成したスライダおよびコア
部に金属軟磁性薄膜を成膜し、この金属軟磁性薄膜を磁
路とするので、トラック幅が狭小化でき、磁気記録を高
密度化できる。また、前記強磁性酸化物が磁路の一部と
して作用するので、磁気飽和がなくなり、かつ非磁性基
板と強磁性酸化物との接合部をコア部の巻線巻回部の半
分以上の高さに設定したので、インダクタンスが適正に
なり、高周波域でも十分なＳ／Ｎ比が得られ、再生感度
が向上する。
磁性酸化物との複合基板で形成したスライダおよびコア
部に金属軟磁性薄膜を成膜し、この金属軟磁性薄膜を磁
路とするので、トラック幅が狭小化でき、磁気記録を高
密度化できる。また、前記強磁性酸化物が磁路の一部と
して作用するので、磁気飽和がなくなり、かつ非磁性基
板と強磁性酸化物との接合部をコア部の巻線巻回部の半
分以上の高さに設定したので、インダクタンスが適正に
なり、高周波域でも十分なＳ／Ｎ比が得られ、再生感度
が向上する。
【００２４】また、磁路となる金属軟磁性薄膜をギャッ
プ部に対して斜めに形成するので、スライダを多数個取
りで作製する場合、機械加工で形成したＶ溝に金属軟磁
性薄膜を一定のピッチで形成した多数個取り用の積層体
を作製し、この積層体どうしを接合するので、磁路を形
成する金属軟磁性薄膜のずれを防止でき、ギャップ部で
の磁路ずれによる不良がなくなり、素材の積層数を増や
すことができるので、量産性が向上する。
プ部に対して斜めに形成するので、スライダを多数個取
りで作製する場合、機械加工で形成したＶ溝に金属軟磁
性薄膜を一定のピッチで形成した多数個取り用の積層体
を作製し、この積層体どうしを接合するので、磁路を形
成する金属軟磁性薄膜のずれを防止でき、ギャップ部で
の磁路ずれによる不良がなくなり、素材の積層数を増や
すことができるので、量産性が向上する。
【００２５】請求項３によれば、複合基板を形成する非
磁性基板と強磁性酸化物との熱膨張率がほぼ等しいの
で、ガラスによる接着がより確実に行え、製造工程中の
ずれ、剥離等の不良がなくなり、生産性が向上する。
磁性基板と強磁性酸化物との熱膨張率がほぼ等しいの
で、ガラスによる接着がより確実に行え、製造工程中の
ずれ、剥離等の不良がなくなり、生産性が向上する。
【図１】（Ａ）は本発明による浮上型磁気ヘッドの一実
施例の斜視図、（Ｂ）はその要部を示す平面図である。
施例の斜視図、（Ｂ）はその要部を示す平面図である。
【図２】本実施例を多数個取りで製造する場合の製造工
程の一部を示す図である。
程の一部を示す図である。
【図３】本実施例を多数個取りで製造する場合の製造工
程の残部を示す図である。
程の残部を示す図である。
【図４】本実施例を多数個取りで製造する場合の製造工
程の残部を示す図である。
程の残部を示す図である。
【図５】従来の浮上型磁気ヘッドの斜視図である。
２ｅ〜２ｇ 溝 ３ スライダ ４、４ｃ ガラス ６ 金属軟磁性薄膜 ７ 非磁性基板 ８、８ｅ〜８ｈ 積層体 ９ 強磁性酸化物 １１ コア部 １８ ギャップ部
Claims (3)
- 【請求項１】非磁性基板と強磁性酸化物とからなるスラ
イダを形成する複合基板上に、ギャップ部に対して傾斜
して金属軟磁性薄膜又は金属軟磁性薄膜と非磁性層との
積層膜で磁路を形成し、前記非磁性基板と強磁性酸化物
との接合部を、巻線巻回部の略半分以上の高さとなる位
置に設定したことを特徴とする浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項２】請求項１において、前記非磁性基板がセラ
ミック材であり、強磁性酸化物がフェライトであること
を特徴とする浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項３】請求項１において、前記非磁性基板が非磁
性フェライトであり、強磁性酸化物が磁性フェライトで
あることを特徴とする浮上型磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21744592A JPH06215311A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 浮上型磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21744592A JPH06215311A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 浮上型磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06215311A true JPH06215311A (ja) | 1994-08-05 |
Family
ID=16704353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21744592A Withdrawn JPH06215311A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 浮上型磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06215311A (ja) |
-
1992
- 1992-07-24 JP JP21744592A patent/JPH06215311A/ja not_active Withdrawn
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| Date | Code | Title | Description |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |