JP3139086B2 - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JP3139086B2 JP3139086B2 JP03294119A JP29411991A JP3139086B2 JP 3139086 B2 JP3139086 B2 JP 3139086B2 JP 03294119 A JP03294119 A JP 03294119A JP 29411991 A JP29411991 A JP 29411991A JP 3139086 B2 JP3139086 B2 JP 3139086B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気テープ装置や磁気
ディスク装置などの高密度記憶装置に用いられる高密度
記録用磁気ヘッドに関する。
ディスク装置などの高密度記憶装置に用いられる高密度
記録用磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子計算機のメモリーなどに用い
られる磁気ディスク装置は、小型化、大容量化を目指し
た技術開発が積極的に行われている。とくに、高保磁力
（Ｈｃ）を有する記録媒体に飽和記録するために、高い
飽和磁束密度を有するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金やアモル
ファス合金などの金属磁性材料を用いて磁気ギャップを
形成する、いわゆるメタル−イン−ギャップ型磁気ヘッ
ドが開発実用化されている。また、トラック幅方向の記
録密度を大きくするために狭トラック幅記録も検討さ
れ、磁気ヘッドのギャップ部に対する要求が厳しくなっ
てきている。
られる磁気ディスク装置は、小型化、大容量化を目指し
た技術開発が積極的に行われている。とくに、高保磁力
（Ｈｃ）を有する記録媒体に飽和記録するために、高い
飽和磁束密度を有するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金やアモル
ファス合金などの金属磁性材料を用いて磁気ギャップを
形成する、いわゆるメタル−イン−ギャップ型磁気ヘッ
ドが開発実用化されている。また、トラック幅方向の記
録密度を大きくするために狭トラック幅記録も検討さ
れ、磁気ヘッドのギャップ部に対する要求が厳しくなっ
てきている。
【０００３】以下に、従来のメタル−イン−ギャップ型
磁気ヘッドを図面を参照しながら説明する。図６に従来
のメタル−イン−ギャップ型磁気ヘッドの構成を示す。
図に示すように、磁気ヘッドはフェライトなどの酸化物
磁性材料で構成されたＩ型コア１と、同じくフェライト
製のＣ型コアによりコアが構成されている。コア１のギ
ャップ面には金属磁性膜３がスパッタもしくは蒸着など
の薄膜形成手段により形成されている。金属磁性膜３の
構成材料としては低保磁力、高透磁力でしかも高飽和磁
束密度を有する磁性材料が用いられる。コア１とコア２
は磁気ギャップを形成する非磁性材料であるＳｉＯ2１
２と低融点ガラス５とを介して金属磁性膜３がコア１と
対抗するように当接され、接合ガラス６により互いに接
合されている。
磁気ヘッドを図面を参照しながら説明する。図６に従来
のメタル−イン−ギャップ型磁気ヘッドの構成を示す。
図に示すように、磁気ヘッドはフェライトなどの酸化物
磁性材料で構成されたＩ型コア１と、同じくフェライト
製のＣ型コアによりコアが構成されている。コア１のギ
ャップ面には金属磁性膜３がスパッタもしくは蒸着など
の薄膜形成手段により形成されている。金属磁性膜３の
構成材料としては低保磁力、高透磁力でしかも高飽和磁
束密度を有する磁性材料が用いられる。コア１とコア２
は磁気ギャップを形成する非磁性材料であるＳｉＯ2１
２と低融点ガラス５とを介して金属磁性膜３がコア１と
対抗するように当接され、接合ガラス６により互いに接
合されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の構成では、磁気ギャップを形成する非磁性材料にＳ
ｉＯ2１２および低融点ガラス５を用いているため、コ
ア１とコア２を接合するときに高温で熱処理を行うと、
ＳｉＯ2１２と低融点ガラス５と接合ガラス６が反応
し、ギャップ部の接合強度が弱くなる。そのため、磁気
ヘッドの信頼性が低下し歩留まりがわるくなるという問
題があった。
来の構成では、磁気ギャップを形成する非磁性材料にＳ
ｉＯ2１２および低融点ガラス５を用いているため、コ
ア１とコア２を接合するときに高温で熱処理を行うと、
ＳｉＯ2１２と低融点ガラス５と接合ガラス６が反応
し、ギャップ部の接合強度が弱くなる。そのため、磁気
ヘッドの信頼性が低下し歩留まりがわるくなるという問
題があった。
【０００５】このような問題を解決するため、従来は磁
気ギャップを作成するときに接合温度を低く設定して、
ＳｉＯ2と低融点ガラスと接合ガラスとが拡散しないよ
うにして疑似出力の発生を抑制していた。
気ギャップを作成するときに接合温度を低く設定して、
ＳｉＯ2と低融点ガラスと接合ガラスとが拡散しないよ
うにして疑似出力の発生を抑制していた。
【０００６】しかし、コアＣとコアＩの接合温度を低く
した場合、接合ガラス自体の強度が低くなり、その後の
加工工程で接合ガラスが損傷を受けるという課題があっ
た。
した場合、接合ガラス自体の強度が低くなり、その後の
加工工程で接合ガラスが損傷を受けるという課題があっ
た。
【０００７】本発明はこのような課題を解決するもの
で、コア接合時に非磁性材料と接合ガラスが熱により反
応せず、接合ガラスの強度が強く、加工時に損傷しな
い、量産性に優れたメタル−イン−ギャップ型磁気ヘッ
ドを提供することを目的とするものである。
で、コア接合時に非磁性材料と接合ガラスが熱により反
応せず、接合ガラスの強度が強く、加工時に損傷しな
い、量産性に優れたメタル−イン−ギャップ型磁気ヘッ
ドを提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は、一対のコアと、一対のコアの間に設けられ
金属磁性材料で構成された磁性薄膜と、磁性薄膜の上に
設けられたＳｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜と、Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−
Ｎ膜の上に設けられたガラス膜とを備え、Ｓｉ−Ａｌ−
Ｏ−Ｎ膜とコアの間に磁性薄膜を配置した。
に本発明は、一対のコアと、一対のコアの間に設けられ
金属磁性材料で構成された磁性薄膜と、磁性薄膜の上に
設けられたＳｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜と、Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−
Ｎ膜の上に設けられたガラス膜とを備え、Ｓｉ−Ａｌ−
Ｏ−Ｎ膜とコアの間に磁性薄膜を配置した。
【０００９】
【作用】この構成によれば、Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜は熱
的に安定であるから、磁気ヘッドのギャップ形成に用い
る非磁性材料と接合ガラスの拡散反応を抑制するので、
ＣコアとＩコアの接合温度を低下せずに接合することが
できる。また、接合ガラス自体の強度も強いのでコア同
士の密着性も強化されることとなる。
的に安定であるから、磁気ヘッドのギャップ形成に用い
る非磁性材料と接合ガラスの拡散反応を抑制するので、
ＣコアとＩコアの接合温度を低下せずに接合することが
できる。また、接合ガラス自体の強度も強いのでコア同
士の密着性も強化されることとなる。
【００１０】
【実施例】以下に本発明の一実施例の磁気ヘッドを図面
を参照しながら説明する。図１に本実施例の磁気ヘッド
の構成を示す。
を参照しながら説明する。図１に本実施例の磁気ヘッド
の構成を示す。
【００１１】図に示すように、フェライト製のＩコア１
上に軟磁性薄膜としてセンダスト膜３をスパッタリング
法で作成し、磁気ギャップ形成材料としてＳｉ−Ａｌ−
Ｏ−Ｎ膜４を同様にスパッタリング法で約３０００Åの
厚みに、低融点ガラス膜５を約２０００Åの厚みにそれ
ぞれ作製した。ＩコアとＣコアとの接合は、フェライト
ＩコアとフェライトＣコアを対向させ、接合ガラス６を
両コアの間に挿入し５５０℃で熱処理して行った。
上に軟磁性薄膜としてセンダスト膜３をスパッタリング
法で作成し、磁気ギャップ形成材料としてＳｉ−Ａｌ−
Ｏ−Ｎ膜４を同様にスパッタリング法で約３０００Åの
厚みに、低融点ガラス膜５を約２０００Åの厚みにそれ
ぞれ作製した。ＩコアとＣコアとの接合は、フェライト
ＩコアとフェライトＣコアを対向させ、接合ガラス６を
両コアの間に挿入し５５０℃で熱処理して行った。
【００１２】磁気ギャップ作製時の製膜条件は、Ｓｉ−
Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜についてはＳｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎターゲッ
トを用い、スパッタガスには純Ａｒガスを用いガス圧４
０mTorrで行った。低融点ガラス膜の作製は、Ｐｂ系ガ
ラスターゲットを用い、スパッタガスとしてはＡｒとＯ
2の混合ガスを用い、ガス圧４０mTorrで行った。
Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜についてはＳｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎターゲッ
トを用い、スパッタガスには純Ａｒガスを用いガス圧４
０mTorrで行った。低融点ガラス膜の作製は、Ｐｂ系ガ
ラスターゲットを用い、スパッタガスとしてはＡｒとＯ
2の混合ガスを用い、ガス圧４０mTorrで行った。
【００１３】図１の構成で作製した磁気ヘッドを、コア
間の密着強度を測定するためコア同士を強制的に剥離し
た後のフェライトＩコア側の構成を示す。図に示すよう
に、フェライトＩコア１上にセンダスト膜３と磁気ギャ
ップ材７が付着している。図３は図２に示したＩコアの
断面方向の組成をＥＳＣＡ分析した結果を示すもので、
剥離したコアの接合部の深さ方向の組成がわかる。ＥＳ
ＣＡ分析はＡｌ ２ｐ，Ｏ １ｓ，Ｓｉ ２ｐ，Ｆｅ
２ｐ3/2，Ｐｂ ４ｄ5/2，Ｎ １ｓの光量子のエネルギ
ーをそれぞれ測定し、図３に示すようにプロットした。
図３からわかるように、低融点ガラス中に含まれるＳ
ｉ，Ｏ，Ｐｂと、Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜中に含まれるＡ
ｌ，Ｓｉ，Ｏ，Ｎの拡散は認められず、Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ
−Ｎ膜は５５０℃での高温熱処理でも拡散が起こらず安
定であることがわかる。
間の密着強度を測定するためコア同士を強制的に剥離し
た後のフェライトＩコア側の構成を示す。図に示すよう
に、フェライトＩコア１上にセンダスト膜３と磁気ギャ
ップ材７が付着している。図３は図２に示したＩコアの
断面方向の組成をＥＳＣＡ分析した結果を示すもので、
剥離したコアの接合部の深さ方向の組成がわかる。ＥＳ
ＣＡ分析はＡｌ ２ｐ，Ｏ １ｓ，Ｓｉ ２ｐ，Ｆｅ
２ｐ3/2，Ｐｂ ４ｄ5/2，Ｎ １ｓの光量子のエネルギ
ーをそれぞれ測定し、図３に示すようにプロットした。
図３からわかるように、低融点ガラス中に含まれるＳ
ｉ，Ｏ，Ｐｂと、Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜中に含まれるＡ
ｌ，Ｓｉ，Ｏ，Ｎの拡散は認められず、Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ
−Ｎ膜は５５０℃での高温熱処理でも拡散が起こらず安
定であることがわかる。
【００１４】つぎに、両フェライトコア間の密着強度を
図４に示す方法で評価した。図４に示すように、磁気ヘ
ッド固定装置８でウィンチェスター型磁気ヘッド９を固
定し、ひも１０を磁気ヘッド９の先端部に結びつけ、ひ
も９をバネ秤１１に連結し、磁気ヘッドに対して直角に
引っ張り、ギャップが剥離したときの荷重を密着強度と
した。測定試料数１００個について測定した結果を図５
に示す。図５からわかるように密着強度の平均は９２．
５ｇ、標準偏差は１５．４ｇであった。この測定方法で
密着強度が５０ｇ以下になると、磁気ヘッドの製造工程
中にコアが剥離し易くなるので、図１の構成で作製した
磁気ヘッドの剥離による不良率は約３％と推定される。
図４に示す方法で評価した。図４に示すように、磁気ヘ
ッド固定装置８でウィンチェスター型磁気ヘッド９を固
定し、ひも１０を磁気ヘッド９の先端部に結びつけ、ひ
も９をバネ秤１１に連結し、磁気ヘッドに対して直角に
引っ張り、ギャップが剥離したときの荷重を密着強度と
した。測定試料数１００個について測定した結果を図５
に示す。図５からわかるように密着強度の平均は９２．
５ｇ、標準偏差は１５．４ｇであった。この測定方法で
密着強度が５０ｇ以下になると、磁気ヘッドの製造工程
中にコアが剥離し易くなるので、図１の構成で作製した
磁気ヘッドの剥離による不良率は約３％と推定される。
【００１５】つぎに、比較例について説明する。図６に
比較例の磁気ヘッドの構成を示す。比較例の磁気ヘッド
については、実施例の磁気ヘッドと同じ構成部品には同
じ番号を付して説明を省略する。図に示すように、フェ
ライトＩコア１上に軟磁性材料膜としてセンダスト膜３
をスパッタリング法で作製し、その上に、磁気ギャップ
材としてＳｉＯ2膜１２をスパッタリング法で厚さ約３
０００Åに、低融点ガラス膜５を厚さ約２０００Åに作
製した。このＩコア１をフェライトＣコア２と接合する
ため、Ｉコア１とＣコア２を対向させ、接合ガラス６を
両コア間に挿入し、５００℃に加熱処理して接合した。
磁気ギャップ層形成材の作製条件は、ＳｉＯ2膜はＳｉ
Ｏ2ターゲットを用いスパッタガスとして純Ａｒを用
い、ガス圧４０mTorrで行った。低融点ガラス膜はＰｂ
系ガラスターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒと
Ｏ2の混合ガスを用い、ガス圧４０mTorrで行った。図７
に、図６の構成の比較例の磁気ヘッドが、製造工程中に
剥離したコアの状態を示す。図に示すように、フェライ
トＩコア１上にセンダスト膜２と磁気ギャップ形成材７
が付いている。
比較例の磁気ヘッドの構成を示す。比較例の磁気ヘッド
については、実施例の磁気ヘッドと同じ構成部品には同
じ番号を付して説明を省略する。図に示すように、フェ
ライトＩコア１上に軟磁性材料膜としてセンダスト膜３
をスパッタリング法で作製し、その上に、磁気ギャップ
材としてＳｉＯ2膜１２をスパッタリング法で厚さ約３
０００Åに、低融点ガラス膜５を厚さ約２０００Åに作
製した。このＩコア１をフェライトＣコア２と接合する
ため、Ｉコア１とＣコア２を対向させ、接合ガラス６を
両コア間に挿入し、５００℃に加熱処理して接合した。
磁気ギャップ層形成材の作製条件は、ＳｉＯ2膜はＳｉ
Ｏ2ターゲットを用いスパッタガスとして純Ａｒを用
い、ガス圧４０mTorrで行った。低融点ガラス膜はＰｂ
系ガラスターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒと
Ｏ2の混合ガスを用い、ガス圧４０mTorrで行った。図７
に、図６の構成の比較例の磁気ヘッドが、製造工程中に
剥離したコアの状態を示す。図に示すように、フェライ
トＩコア１上にセンダスト膜２と磁気ギャップ形成材７
が付いている。
【００１６】図８に、図７の比較例のヘッドを表面から
深さ方向にＥＳＣＡ分析した結果で、剥離面および磁気
ギャップ形成層の深さ方向の組成分布を示す。ＥＳＣＡ
分析条件は実施例と同じ条件で行った。図８からわかる
ように、深さ方向にＳｉ，Ｏ，Ｐｂが一様に分布してい
ることから、剥離はガラス層で起こり、低融点ガラスと
ＳｉＯ2または接合ガラスまでも相互に拡散しあってガ
ラスの強度が弱くなり、その結果、製造工程中の加工工
程で破損し、剥離したものと推定される。
深さ方向にＥＳＣＡ分析した結果で、剥離面および磁気
ギャップ形成層の深さ方向の組成分布を示す。ＥＳＣＡ
分析条件は実施例と同じ条件で行った。図８からわかる
ように、深さ方向にＳｉ，Ｏ，Ｐｂが一様に分布してい
ることから、剥離はガラス層で起こり、低融点ガラスと
ＳｉＯ2または接合ガラスまでも相互に拡散しあってガ
ラスの強度が弱くなり、その結果、製造工程中の加工工
程で破損し、剥離したものと推定される。
【００１７】また、両フェライトコア間の密着強度を評
価するため、実施例と同様に図４に示す方法で測定し
た。測定結果を図９に示す。測定試料数は１００個で、
密着強度の平均は６０．８ｇ、標準偏差は２５．４ｇで
あった。また、図９から比較例の磁気ヘッドの工程中の
剥離による不良率は約３４％と推定される。
価するため、実施例と同様に図４に示す方法で測定し
た。測定結果を図９に示す。測定試料数は１００個で、
密着強度の平均は６０．８ｇ、標準偏差は２５．４ｇで
あった。また、図９から比較例の磁気ヘッドの工程中の
剥離による不良率は約３４％と推定される。
【００１８】以上のように、本実施例の磁気ヘッドは磁
気ギャップ層を形成するＳｉＯ2の代わりにＳｉ−Ａｌ
−Ｏ−Ｎ膜を用いることにより、磁気ギャップ形成層の
ガラス層内での構成元素の相互拡散が起こらず、その結
果、磁気ギャップを構成する低融点ガラスおよび接合ガ
ラスは、加熱処理してギャップ形成後も安定で強い接着
強度を維持していて、信頼性の高い磁気ヘッドを歩留ま
りよく生産することができる。
気ギャップ層を形成するＳｉＯ2の代わりにＳｉ−Ａｌ
−Ｏ−Ｎ膜を用いることにより、磁気ギャップ形成層の
ガラス層内での構成元素の相互拡散が起こらず、その結
果、磁気ギャップを構成する低融点ガラスおよび接合ガ
ラスは、加熱処理してギャップ形成後も安定で強い接着
強度を維持していて、信頼性の高い磁気ヘッドを歩留ま
りよく生産することができる。
【００１９】
【発明の効果】以上の実施例の説明から明らかなように
本発明によれば、磁気ギャップ層を構成する非磁性材料
としてＳｉＯ2の代わりにＳｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜を用い
ることにより、磁気ギャップ層を形成する低融点ガラス
や接合ガラスとの相互拡散が起こらない。そのため磁気
コアの接合を高温で行うことが可能となり、接合部の密
着強度が強くなり、磁気ヘッドの製造工程中に切削研磨
加工により起こるコア同士の剥離を大幅に低減すること
ができ、長寿命で信頼性の高い磁気ヘッドを提供するこ
とができる。
本発明によれば、磁気ギャップ層を構成する非磁性材料
としてＳｉＯ2の代わりにＳｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜を用い
ることにより、磁気ギャップ層を形成する低融点ガラス
や接合ガラスとの相互拡散が起こらない。そのため磁気
コアの接合を高温で行うことが可能となり、接合部の密
着強度が強くなり、磁気ヘッドの製造工程中に切削研磨
加工により起こるコア同士の剥離を大幅に低減すること
ができ、長寿命で信頼性の高い磁気ヘッドを提供するこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例の磁気ヘッドの概略構成を示
す斜視図
す斜視図
【図２】同剥離した磁気コアの概略構成を示す斜視図
【図３】同剥離した磁気コアのＥＳＣＡ分析結果を示す
図
図
【図４】同磁気コア密着強度測定装置の概略構成図
【図５】同磁気コアの密着強度の分布図
【図６】比較例の磁気ヘッドの概略構成を示す断面図
【図７】同剥離した磁気コアの概略構成を示す斜視図
【図８】同剥離した磁気コアのＥＳＣＡ分析結果を示す
図
図
【図９】同磁気コアの密着強度の分布図
１ フェライトＩコア ２ フェライトＣコア ３ センダスト膜 ４ Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜 ５ 低融点ガラス膜 ６ 接合ガラス ７ 磁気ギャップ層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/127 - 5/255
Claims (1)
- 【請求項１】 一対のコアと、前記一対のコアの間に設
けられ金属磁性材料で構成された磁性薄膜と、前記磁性
薄膜の上に設けられたＳｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜と、前記Ｓ
ｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜の上に設けられたガラス膜と、前記
一対のコアに渡ってしかも磁気ギャップ近傍に設けられ
た接合ガラスとを備え、前記Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ膜と前
記コアの間に磁性薄膜を配置したことを特徴とする磁気
ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03294119A JP3139086B2 (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03294119A JP3139086B2 (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05135320A JPH05135320A (ja) | 1993-06-01 |
| JP3139086B2 true JP3139086B2 (ja) | 2001-02-26 |
Family
ID=17803541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03294119A Expired - Fee Related JP3139086B2 (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3139086B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3344468B2 (ja) * | 1998-12-21 | 2002-11-11 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
| JP3511371B2 (ja) * | 2000-04-13 | 2004-03-29 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-11-11 JP JP03294119A patent/JP3139086B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05135320A (ja) | 1993-06-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |