JPH03131605A - コンパクトディスクの金属膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物及びコンパクトディスク - Google Patents
コンパクトディスクの金属膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物及びコンパクトディスクInfo
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Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は、コンパクトディスクの金属蒸着膜又は金属ス
パッタリング膜の金属膜保護用紫外ijI硬化型樹脂組
成物に関する。
パッタリング膜の金属膜保護用紫外ijI硬化型樹脂組
成物に関する。
コンパクトディスクは、ポリカーボネート等からなる円
形基板に円周方向に沿って、音の信号や文字等の画像の
信号を凹凸により記録し、その凹凸面に金属を蒸着又は
スバ・ノタリソグして金属薄膜を形成したもので、信号
の読み取りを照射したレーザ光の反射光の強弱により行
う再生専用の記録媒体である。
形基板に円周方向に沿って、音の信号や文字等の画像の
信号を凹凸により記録し、その凹凸面に金属を蒸着又は
スバ・ノタリソグして金属薄膜を形成したもので、信号
の読み取りを照射したレーザ光の反射光の強弱により行
う再生専用の記録媒体である。
上記の金属薄膜は、極めて傷が付き易く、その傷によっ
て読み取りの誤りが発生し、信号に雑音が入る。そのた
め、従来、主にニトロセルロースを溶剤に溶解した樹脂
溶液を塗布して形成した樹脂膜やアクリル酸エステルを
主成分とする紫外線硬化型樹脂膜によって、金属薄膜を
保護することが行われている。
て読み取りの誤りが発生し、信号に雑音が入る。そのた
め、従来、主にニトロセルロースを溶剤に溶解した樹脂
溶液を塗布して形成した樹脂膜やアクリル酸エステルを
主成分とする紫外線硬化型樹脂膜によって、金属薄膜を
保護することが行われている。
しかしながら、ニトロセルローズの樹脂溶液を基板の凹
凸面に塗布するときは、熱風乾燥により乾燥・硬化させ
ているので、生産性に問題がある。
凸面に塗布するときは、熱風乾燥により乾燥・硬化させ
ているので、生産性に問題がある。
また、蒸発した溶剤は溶剤回収装置により回収している
ため、その設備費がかかるという問題もある。
ため、その設備費がかかるという問題もある。
これに対して、紫外線硬化型樹脂を用いる場合には、紫
外線の照射により短時間に硬化し、溶剤回収の設備も必
要ないのでニトロセルローズを主成分とする樹脂を用い
るものに比べ、優れている。
外線の照射により短時間に硬化し、溶剤回収の設備も必
要ないのでニトロセルローズを主成分とする樹脂を用い
るものに比べ、優れている。
紫外線硬化型樹脂を塗布するには、通常スピンコーター
で基板の凹凸の金属薄膜上に行われる。
で基板の凹凸の金属薄膜上に行われる。
すなわち、基板をスピンコーターの回転軸に固定し、基
板を低速で回転させながら、基板の内周部分に紫外線硬
化型樹脂組成物をドーナツ状に供給する。紫外線硬化型
樹脂組成物を供給した後、基板を瞬時に高速回転される
ことにより、ドーナツ状に供給された紫外線硬化型樹脂
組成物が基薄膜上に拡散塗布される。しかしながら、こ
の場合、高粘度の紫外線硬化型樹脂組成物を塗布すると
、ドーナツ状に供給されたものが高速回転により放射状
に流れ出し、金属薄膜全体を覆うことができないという
問題がある。また、たとえ金属薄膜全体を覆うことがで
きたとしても、高粘度の紫外線硬化型樹脂組成物を用い
る場合は、低粘度のものに比べて、より高速回転にした
り、塗布時間を長くしなければならないという問題もあ
る。
板を低速で回転させながら、基板の内周部分に紫外線硬
化型樹脂組成物をドーナツ状に供給する。紫外線硬化型
樹脂組成物を供給した後、基板を瞬時に高速回転される
ことにより、ドーナツ状に供給された紫外線硬化型樹脂
組成物が基薄膜上に拡散塗布される。しかしながら、こ
の場合、高粘度の紫外線硬化型樹脂組成物を塗布すると
、ドーナツ状に供給されたものが高速回転により放射状
に流れ出し、金属薄膜全体を覆うことができないという
問題がある。また、たとえ金属薄膜全体を覆うことがで
きたとしても、高粘度の紫外線硬化型樹脂組成物を用い
る場合は、低粘度のものに比べて、より高速回転にした
り、塗布時間を長くしなければならないという問題もあ
る。
コンパクトディスクの基板はポリカーボネート等の樹脂
材料を射出成形することにより作製されるが、射出成形
の不備により、基板に欠陥がしばしば認められる。また
、金属の蒸着又はスパッタリングの不備により金属薄膜
に欠損を生じることもある。このような欠陥や欠損のあ
る基板に、高い表面張力を持った紫外線硬化型樹脂組成
物をスピンコータにより塗布すると、欠陥又は欠損のあ
る部分から塗布された紫外線硬化型樹脂組成物がはじか
れ、紫外線硬化膜により基板の凹凸全体の金属薄膜を覆
うことができないという問題もある。
材料を射出成形することにより作製されるが、射出成形
の不備により、基板に欠陥がしばしば認められる。また
、金属の蒸着又はスパッタリングの不備により金属薄膜
に欠損を生じることもある。このような欠陥や欠損のあ
る基板に、高い表面張力を持った紫外線硬化型樹脂組成
物をスピンコータにより塗布すると、欠陥又は欠損のあ
る部分から塗布された紫外線硬化型樹脂組成物がはじか
れ、紫外線硬化膜により基板の凹凸全体の金属薄膜を覆
うことができないという問題もある。
コンパクトディスクは、従来良く用いらた塩化ビニル製
のレコードに比べて、軽量、小型であり、取扱時に傷が
付き易い。そのため、金属薄膜を保護している紫外線硬
化型樹脂膜も傷付き易い。この際、硬化樹脂膜が軟らか
いと、傷は金属薄膜にまで及び、信号に雑音を生じると
いう問題を生じる。また、金属蒸着による金属薄膜はス
パッタリングの金属薄膜よりも紫外線硬化樹脂膜の接着
力を要し、この接着力が弱いと容易に剥離し易くなる。
のレコードに比べて、軽量、小型であり、取扱時に傷が
付き易い。そのため、金属薄膜を保護している紫外線硬
化型樹脂膜も傷付き易い。この際、硬化樹脂膜が軟らか
いと、傷は金属薄膜にまで及び、信号に雑音を生じると
いう問題を生じる。また、金属蒸着による金属薄膜はス
パッタリングの金属薄膜よりも紫外線硬化樹脂膜の接着
力を要し、この接着力が弱いと容易に剥離し易くなる。
また、基板の凹凸面に金属を蒸着又はスバ、タリングを
するときに、基板の外周部分をマスクで覆い、この覆っ
た部分には金属NFJを形成しないようにしているもの
では、基板全体に紫外線硬化膜を形成しても、この外周
部分から紫外線硬化膜の剥離が生じ易いので、紫外線硬
化膜の基板に対する接着力も十分なものでなければなら
ない。
するときに、基板の外周部分をマスクで覆い、この覆っ
た部分には金属NFJを形成しないようにしているもの
では、基板全体に紫外線硬化膜を形成しても、この外周
部分から紫外線硬化膜の剥離が生じ易いので、紫外線硬
化膜の基板に対する接着力も十分なものでなければなら
ない。
本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意検討し
た結果、本発明を完成するに至ったものである。すなわ
ち、本発明は、コンパクトディスクの全ff1l!保護
用紫外線硬化型樹脂組成物において、 (A) 25℃における粘度が100センチボイズ以下
、(B) 23℃における表面張力が20〜34 dy
ne/cmの範囲、 (C)硬化した塗膜の鉛筆硬度が2H以上、(D)硬化
した塗膜が金属膜及び基板に対して良好な接着力を有す
る ことを特徴とするコンパクトディスクの金属膜保護用紫
外線硬化型樹脂組成物を提供するものであり、例えば(
a)ビスフェノール型エポキシ樹脂(メタ)アクリレー
ト及び/又はノボラック型エポキシ樹脂(メタ)アクリ
レート20重量部以下、(b)2官能アクリレートモノ
マー及び/又は2官能メタクリレートモノマー10〜4
0重量部、(c)3官能以上のアクリレートモノマー及
び/又は3官能以上のメタクリレートモノマー30〜8
0重1部、(d) 25℃での粘度が10センチボイズ
以下であるアクリレートモノマー及び/又はメタアクリ
レートモノマー3〜15重量部、(e)光重合開始剤0
゜1〜10重量部、(f)下記一般式で示されるモノマ
ー0.01.〜5重量部含有する組成物が挙げられる。
た結果、本発明を完成するに至ったものである。すなわ
ち、本発明は、コンパクトディスクの全ff1l!保護
用紫外線硬化型樹脂組成物において、 (A) 25℃における粘度が100センチボイズ以下
、(B) 23℃における表面張力が20〜34 dy
ne/cmの範囲、 (C)硬化した塗膜の鉛筆硬度が2H以上、(D)硬化
した塗膜が金属膜及び基板に対して良好な接着力を有す
る ことを特徴とするコンパクトディスクの金属膜保護用紫
外線硬化型樹脂組成物を提供するものであり、例えば(
a)ビスフェノール型エポキシ樹脂(メタ)アクリレー
ト及び/又はノボラック型エポキシ樹脂(メタ)アクリ
レート20重量部以下、(b)2官能アクリレートモノ
マー及び/又は2官能メタクリレートモノマー10〜4
0重量部、(c)3官能以上のアクリレートモノマー及
び/又は3官能以上のメタクリレートモノマー30〜8
0重1部、(d) 25℃での粘度が10センチボイズ
以下であるアクリレートモノマー及び/又はメタアクリ
レートモノマー3〜15重量部、(e)光重合開始剤0
゜1〜10重量部、(f)下記一般式で示されるモノマ
ー0.01.〜5重量部含有する組成物が挙げられる。
〔式中、R1は水素原子又はC)13を表わし、Rは(
式中、nは1〜10の整数を表わし、p、qSrは各々
独立に0〜]0の整数を表わす、)で示される2価の基
を表わし、mは1又は2を表わす。〕この際、(a)成
分がOであっても良く、また、(f)成分が0.05〜
5重量部であることも好ましく、さらに、(g) シリ
コーン系又はフッ素系界面活性剤3重量部以下の割合で
含有することも好ましい。
式中、nは1〜10の整数を表わし、p、qSrは各々
独立に0〜]0の整数を表わす、)で示される2価の基
を表わし、mは1又は2を表わす。〕この際、(a)成
分がOであっても良く、また、(f)成分が0.05〜
5重量部であることも好ましく、さらに、(g) シリ
コーン系又はフッ素系界面活性剤3重量部以下の割合で
含有することも好ましい。
また、本発明は上記組成物の硬化塗膜で被覆したコンパ
クトディスクも提供するものである。
クトディスクも提供するものである。
以下に詳細に説明する。
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物は、その25℃におけ
る粘度が100センチボイズ(ブロックフィールドB型
粘度針を使用時)以下であるが、このようにするとスピ
ンコーターで基板に塗布するときに、ドーナツ状に供給
された紫外線硬化型樹脂組成物は高速回転されても放射
状に流れ出すこともなく、金属薄膜全体を覆うことがで
きる。また、所定の塗布膜厚を得るために必要な作業時
間も極めて短くて済む。
る粘度が100センチボイズ(ブロックフィールドB型
粘度針を使用時)以下であるが、このようにするとスピ
ンコーターで基板に塗布するときに、ドーナツ状に供給
された紫外線硬化型樹脂組成物は高速回転されても放射
状に流れ出すこともなく、金属薄膜全体を覆うことがで
きる。また、所定の塗布膜厚を得るために必要な作業時
間も極めて短くて済む。
25℃における粘度が100センチボイズ以下である紫
外線硬化型樹脂組成物を得るには、分子内に重合性二重
結合を1個以上有し、25℃における粘度が100セン
チボイズ以下の化合物を主成分に用いれば良い。この化
合物は1種に限らず、2種以上も用いられるが、併用す
る場合は混合物としての粘度が25℃において100セ
ンチボイズ以下であれば良い。したがって、その1種が
25℃において固体であっても、100センチポイズよ
り大きくても他の併用するものが低粘度のものであり、
その混合物が上記の粘度になれば良い。
外線硬化型樹脂組成物を得るには、分子内に重合性二重
結合を1個以上有し、25℃における粘度が100セン
チボイズ以下の化合物を主成分に用いれば良い。この化
合物は1種に限らず、2種以上も用いられるが、併用す
る場合は混合物としての粘度が25℃において100セ
ンチボイズ以下であれば良い。したがって、その1種が
25℃において固体であっても、100センチポイズよ
り大きくても他の併用するものが低粘度のものであり、
その混合物が上記の粘度になれば良い。
分子内に重合性二重結合を1個以上有し、25℃におけ
る粘度が100センチボイズ以下の化合物としては、(
メタ)アクリロイル基を有する、例えばメチル(メタ)
アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル
(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、
イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)
アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト、ラウリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(
メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、
グリシジル(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイ
ド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコール(
メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ジ(メタ)
アクリレート、イソホ゛ルニル(メタ)アクリレート、
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、エチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、1.3−ブチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(
メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アク
リレート、トリプロレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ネオベンチルグリコールジ(メタ)アクリレート
、1,6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなど
のモノあるいはポリ(メタ)アクリレートなどが挙げら
れる。
る粘度が100センチボイズ以下の化合物としては、(
メタ)アクリロイル基を有する、例えばメチル(メタ)
アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル
(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、
イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)
アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト、ラウリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(
メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、
グリシジル(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイ
ド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコール(
メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ジ(メタ)
アクリレート、イソホ゛ルニル(メタ)アクリレート、
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、エチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、1.3−ブチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(
メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アク
リレート、トリプロレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ネオベンチルグリコールジ(メタ)アクリレート
、1,6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなど
のモノあるいはポリ(メタ)アクリレートなどが挙げら
れる。
また、分子内に重合性二重結合を1個以上有し、25℃
における粘度が100センチポイズ以下である化合物と
して、ビニル基を有する例えば、N−ビニルピロリドン
、N−ビニルイミダゾール、アクリロイルモルホリン、
N、N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N、
N−ジメチルアクリルアミド、N−メチルアクリルアミ
ド、安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、(メタ)アク
リル酸ビニルなどが挙げられる。
における粘度が100センチポイズ以下である化合物と
して、ビニル基を有する例えば、N−ビニルピロリドン
、N−ビニルイミダゾール、アクリロイルモルホリン、
N、N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N、
N−ジメチルアクリルアミド、N−メチルアクリルアミ
ド、安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、(メタ)アク
リル酸ビニルなどが挙げられる。
また、分子内に重合性二重結合を1(i1以上有し、2
5℃において固体あるいは25℃における粘度が100
センチボイズより大きい化合物としは、例えばN−ビニ
ルカブロラクタム、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイ
ルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオ
キシエチルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキ
シエチル−2−ヒドロキシエチルフタレート、2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチルへキサヒドロフタレート
、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルジブトキシア
シッドフォスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキ
シエチルジオクチルアシッドフォスフェート、ビスフェ
ノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド
変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロピ
レンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリ
レート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールS(メ
タ)アクリレート、水添ジシクロペンタジエンジ(メタ
)アクリレート、ジー2−(メタ)アクリロキシエチル
フォスフェート、ペンタエリストールトリアクリレート
、トリス(メタ)アクリロキシエチルイソシアネレート
、トリー2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッ
ドフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ
)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ
)アクリレートなどが挙げられる。なお、上記の各モノ
マーは適宜選択して使用されるが、紫外線硬化型樹脂組
成物の物性を考慮して以下のように用いることも好まし
い。
5℃において固体あるいは25℃における粘度が100
センチボイズより大きい化合物としは、例えばN−ビニ
ルカブロラクタム、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイ
ルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオ
キシエチルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキ
シエチル−2−ヒドロキシエチルフタレート、2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチルへキサヒドロフタレート
、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルジブトキシア
シッドフォスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキ
シエチルジオクチルアシッドフォスフェート、ビスフェ
ノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド
変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロピ
レンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリ
レート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールS(メ
タ)アクリレート、水添ジシクロペンタジエンジ(メタ
)アクリレート、ジー2−(メタ)アクリロキシエチル
フォスフェート、ペンタエリストールトリアクリレート
、トリス(メタ)アクリロキシエチルイソシアネレート
、トリー2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッ
ドフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ
)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ
)アクリレートなどが挙げられる。なお、上記の各モノ
マーは適宜選択して使用されるが、紫外線硬化型樹脂組
成物の物性を考慮して以下のように用いることも好まし
い。
本発明において、表面張力値を限定したが、表面張力は
固体表面へのぬれ性を示す物性として良く知られている
。コンパクトディスクの基板の凹凸の金属薄膜表面を保
護するために用いられる紫外線硬化型樹脂の表面張力は
、23゛Cで測定したときに20〜34dyne/ a
mの範囲に入るように設定するのが良い。表面張力を適
切に設定することで、基板の射出成形や金属薄膜作製時
の微小な欠陥等の有無にかかわらず、これらを含めて基
板全体に紫外線硬化型樹脂組成物を隈無く塗布、その硬
化薄膜で全体を被覆することができる。
固体表面へのぬれ性を示す物性として良く知られている
。コンパクトディスクの基板の凹凸の金属薄膜表面を保
護するために用いられる紫外線硬化型樹脂の表面張力は
、23゛Cで測定したときに20〜34dyne/ a
mの範囲に入るように設定するのが良い。表面張力を適
切に設定することで、基板の射出成形や金属薄膜作製時
の微小な欠陥等の有無にかかわらず、これらを含めて基
板全体に紫外線硬化型樹脂組成物を隈無く塗布、その硬
化薄膜で全体を被覆することができる。
紫外線硬化型樹脂組成物において、材料の選択及び配合
比の選択などでその表面張力が所定の範囲内に納まれば
問題ないが、これらの調整によっても表面張力が高過ぎ
る場合にはシリコーン系界面活性剤及び/又はフッ素系
界面活性剤を使用すれば良いゆこれらの界面活性剤の使
用量としては、添加する界面活性剤の種類にもよるが、
3重量%以下、例えば0.05重量%から3重量%の範
囲が好ましく、特に0.1H量%から1重量%の範囲が
好ましい。
比の選択などでその表面張力が所定の範囲内に納まれば
問題ないが、これらの調整によっても表面張力が高過ぎ
る場合にはシリコーン系界面活性剤及び/又はフッ素系
界面活性剤を使用すれば良いゆこれらの界面活性剤の使
用量としては、添加する界面活性剤の種類にもよるが、
3重量%以下、例えば0.05重量%から3重量%の範
囲が好ましく、特に0.1H量%から1重量%の範囲が
好ましい。
シリコーン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルシ
リコーンオイル、親水基がポリエーテルである界面活性
剤が好ましく、例えば日本ユニカー社製のシリコーン界
面活性剤L−77、L−720、L−722、L−53
10、L−7001、L−7002、L−7500、L
−7600,L−7602、L−7604、L−760
7、信越化学社製のポリエーテル変性シリコーンオイル
KF−351。
リコーンオイル、親水基がポリエーテルである界面活性
剤が好ましく、例えば日本ユニカー社製のシリコーン界
面活性剤L−77、L−720、L−722、L−53
10、L−7001、L−7002、L−7500、L
−7600,L−7602、L−7604、L−760
7、信越化学社製のポリエーテル変性シリコーンオイル
KF−351。
KF−352、KF−353、KF−354、KF−3
55、KF−615、KF−618、KF−945、K
F−907などが挙げられる。
55、KF−615、KF−618、KF−945、K
F−907などが挙げられる。
また、フッ素系非イオン界面活性剤としては、大日本イ
ンキ化学工業社製のメガファックF−1420、F−1
440,、F−150、F−171、F−173、F−
177、F−183などが挙げられる。
ンキ化学工業社製のメガファックF−1420、F−1
440,、F−150、F−171、F−173、F−
177、F−183などが挙げられる。
また、本発明においてはガラス又はポリメチルメタアク
リレート等の基板に塗布し、紫外線硬化させた紫外線硬
化膜が鉛筆硬度で2H以上であれば良い、この条件を満
たせば、通常の使用の範囲内であれば外的因子による傷
等が付き難く、付いたとしても金属薄膜まで及ぶことは
なく、記録にダメージを与えることはない。
リレート等の基板に塗布し、紫外線硬化させた紫外線硬
化膜が鉛筆硬度で2H以上であれば良い、この条件を満
たせば、通常の使用の範囲内であれば外的因子による傷
等が付き難く、付いたとしても金属薄膜まで及ぶことは
なく、記録にダメージを与えることはない。
鉛筆硬度2H以上の紫外線硬化膜を得るには、分子内に
重合性二重結合を2個以上、好ましくは3個以上有する
化合物を紫外線硬化型樹脂組成物として用いることが好
ましい。また、ビスフェノール型エポキシ樹脂アクリレ
ート若しくはビスフェノール型エポキシ樹脂メタクリレ
ート及び/又はることも好ましい。
重合性二重結合を2個以上、好ましくは3個以上有する
化合物を紫外線硬化型樹脂組成物として用いることが好
ましい。また、ビスフェノール型エポキシ樹脂アクリレ
ート若しくはビスフェノール型エポキシ樹脂メタクリレ
ート及び/又はることも好ましい。
重合性二重結合を有する化合物として、例えばエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、1゜3−ブチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ネオベンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ
)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノー
ルAジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変
性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレン
オキサイド変性ビスフェノールSジ(メタ)アクリレー
ト、水添ジシクロペンタジエンジ(メタ)アクリレート
、ジー2−(メタ)アクリロキシエチルフォスフェート
等の2官能(メタ)アクリレートモノマーが挙げられ、
また、重合性二重結合を3個以上有する化合物として1
、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリア
クリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)ア
クリロイルエチルイソシアネレート、トリー2−(メタ
)アクリロキシエチルフォスフェート、ペンタエリスト
ールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリ(/−ト等の3官能以上の(メタ)
アクリレートモノマーが挙げられる。これらの2官能と
3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーの使用量は
it比で10〜40:30〜80が好ましい。
グリコールジ(メタ)アクリレート、1゜3−ブチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ネオベンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ
)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノー
ルAジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変
性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレン
オキサイド変性ビスフェノールSジ(メタ)アクリレー
ト、水添ジシクロペンタジエンジ(メタ)アクリレート
、ジー2−(メタ)アクリロキシエチルフォスフェート
等の2官能(メタ)アクリレートモノマーが挙げられ、
また、重合性二重結合を3個以上有する化合物として1
、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリア
クリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)ア
クリロイルエチルイソシアネレート、トリー2−(メタ
)アクリロキシエチルフォスフェート、ペンタエリスト
ールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリ(/−ト等の3官能以上の(メタ)
アクリレートモノマーが挙げられる。これらの2官能と
3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーの使用量は
it比で10〜40:30〜80が好ましい。
ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレートの例と
しては、下記一般式(II)に示す化合物を用いること
ができる。
しては、下記一般式(II)に示す化合物を用いること
ができる。
(式中、R3は水素原子又はCH3、R4は−CH2−
CH3C2H5 具体的には、大日本インキ化学工業側製デインクライト
[IE8100. UE8200.昭和高分子@製すポ
キシ5P1506.5P1509等が挙げられる。
CH3C2H5 具体的には、大日本インキ化学工業側製デインクライト
[IE8100. UE8200.昭和高分子@製すポ
キシ5P1506.5P1509等が挙げられる。
また、ノボランク型エポキシ樹脂(メタ)アクリレート
の例としては、下記一般式(III)に示す化合物を用
いることができる。
の例としては、下記一般式(III)に示す化合物を用
いることができる。
(式中、R5は水素原子又はCH,、R6は水素原子又
はCH3、n はO〜10を表わす。)具″体的には、
昭和高分子■製のリポキシ5P4010が挙げられる。
はCH3、n はO〜10を表わす。)具″体的には、
昭和高分子■製のリポキシ5P4010が挙げられる。
ビスフェノール型エポキシ樹脂(メタ)アクリレート、
ノボラック型エポキシ樹脂(メタ)アクリレートの含有
量は上記2官能モノマ−lO〜40重量部に対し0〜2
0重量部が好ましい。
ノボラック型エポキシ樹脂(メタ)アクリレートの含有
量は上記2官能モノマ−lO〜40重量部に対し0〜2
0重量部が好ましい。
また、本発明においては紫外線硬化膜の基板に対する接
着性が良好である必要がある。ここでの接着性はポリカ
ーボネート等の基板及び金属薄膜両方共に良い必要があ
る。接着力は紫外線硬化膜の表面に基盤の目状に切り込
みを入れ、セロテープ等の粘着テープを表面に接着させ
、テープを剥離した時にテープ側に付着し、剥離する割
合がどの程度あるかで評価することができるが、剥離す
る割合がOであることが好ましい。
着性が良好である必要がある。ここでの接着性はポリカ
ーボネート等の基板及び金属薄膜両方共に良い必要があ
る。接着力は紫外線硬化膜の表面に基盤の目状に切り込
みを入れ、セロテープ等の粘着テープを表面に接着させ
、テープを剥離した時にテープ側に付着し、剥離する割
合がどの程度あるかで評価することができるが、剥離す
る割合がOであることが好ましい。
金属薄膜への紫外線硬化膜の接着性を向上させるために
、カルボン酸、リン、OH基を構造に持つモノマー、す
なわち極性官能基を有するアクリル酸又はメタアクリル
酸のエステルを用いるのが良い。特に分子中にリンを含
有するモノマーがηましい、具体的には、上記一般式(
1)で示されるリン酸アクリレート系又はリン酸メタア
クリレート系モノマーである。添加量は接着力の点から
最少壁、硬度等の点から最大量が決まってくる。0.0
1重量%から5M量%が好ましい。
、カルボン酸、リン、OH基を構造に持つモノマー、す
なわち極性官能基を有するアクリル酸又はメタアクリル
酸のエステルを用いるのが良い。特に分子中にリンを含
有するモノマーがηましい、具体的には、上記一般式(
1)で示されるリン酸アクリレート系又はリン酸メタア
クリレート系モノマーである。添加量は接着力の点から
最少壁、硬度等の点から最大量が決まってくる。0.0
1重量%から5M量%が好ましい。
リン酸アクリレート系又はリン酸系メタアクリレート系
モノマーの具体的としは、アクリロキシエチルアシッド
フォスフェート、メタアクリロキシエチルアシッドフォ
スフェート、ジアクリロキシエチルアシソドフォスフェ
ート、ジメタアクリロキシエチルアシッドフォスフェー
トなどが挙げられる。このほかに、ユニケミカル■より
市販されているホスマーCL、ホスマー財、ホスマーD
M、ホスマーPE、ホスマーPPなどを用いることもで
きる。
モノマーの具体的としは、アクリロキシエチルアシッド
フォスフェート、メタアクリロキシエチルアシッドフォ
スフェート、ジアクリロキシエチルアシソドフォスフェ
ート、ジメタアクリロキシエチルアシッドフォスフェー
トなどが挙げられる。このほかに、ユニケミカル■より
市販されているホスマーCL、ホスマー財、ホスマーD
M、ホスマーPE、ホスマーPPなどを用いることもで
きる。
また、ポリカーボネート等の基板に対する接着力を付与
する目的には、25℃における粘度が10センチボイズ
以下のアクリル系又はメタアクリル糸玉ツマ−を使用す
るのが良い。例えば、メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレ
ート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ
)゛アクリレート、L−ブチル(メタ)アクリレート、
2.エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキ
シル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレ
ート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェノキシ
エチル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、
N−ビニルイミダゾール、アクロイルモルホリン、N、
N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N、N−
ジメチルアクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、
安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ネオベンチルグリ
コールジ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸ビ
ニル、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレー
ト、エチルカルピトール(メタ)アクリレートなどが挙
げられる。
する目的には、25℃における粘度が10センチボイズ
以下のアクリル系又はメタアクリル糸玉ツマ−を使用す
るのが良い。例えば、メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレ
ート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ
)゛アクリレート、L−ブチル(メタ)アクリレート、
2.エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキ
シル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレ
ート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェノキシ
エチル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、
N−ビニルイミダゾール、アクロイルモルホリン、N、
N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N、N−
ジメチルアクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、
安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ネオベンチルグリ
コールジ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸ビ
ニル、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレー
ト、エチルカルピトール(メタ)アクリレートなどが挙
げられる。
本発明における紫外線硬化型樹脂組成物に用いられる光
重合開始剤としては、一般に紫外線硬化型樹脂に用いら
れている各種の開始剤、増感剤が使用できる。例えば、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2−メ
チルベンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、
ペン・ジル、ベンジルジメチルケタール、2.2−ジェ
トキシアセトフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイ
ル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4゛〜メチルジフ
エニルサルフアイド、3,3゛−ジメチル−4−メトキ
シベンゾフェノン、1−(4−ドデシルフェニル)−2
−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒ
ドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2
−メチル−1−(4−(メチルチオフェニルす−2−ン
、2,4−ジメチルチオキサントン、2.4−ジイソプ
ロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、
2,4.6〜トリメチルベンゾイルジフエニルホスフイ
ンオキシドなど、また、これらとアミン類などの増感助
剤との併用したものなどを挙げることが゛できる.アミ
ン類などの増感助剤としては、例えば2−ジメチルアミ
ノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェノン
、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルア
ミノ安息香酸イソアミルなどを挙げられる.これらは0
.1〜10重量%用いるのが好ましい。
重合開始剤としては、一般に紫外線硬化型樹脂に用いら
れている各種の開始剤、増感剤が使用できる。例えば、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2−メ
チルベンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、
ペン・ジル、ベンジルジメチルケタール、2.2−ジェ
トキシアセトフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイ
ル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4゛〜メチルジフ
エニルサルフアイド、3,3゛−ジメチル−4−メトキ
シベンゾフェノン、1−(4−ドデシルフェニル)−2
−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒ
ドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2
−メチル−1−(4−(メチルチオフェニルす−2−ン
、2,4−ジメチルチオキサントン、2.4−ジイソプ
ロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、
2,4.6〜トリメチルベンゾイルジフエニルホスフイ
ンオキシドなど、また、これらとアミン類などの増感助
剤との併用したものなどを挙げることが゛できる.アミ
ン類などの増感助剤としては、例えば2−ジメチルアミ
ノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェノン
、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルア
ミノ安息香酸イソアミルなどを挙げられる.これらは0
.1〜10重量%用いるのが好ましい。
本発明における紫外線硬化型樹脂組成物には、保存性の
改良などを目的として重合禁止剤及び酸化防止剤なども
使用できる。
改良などを目的として重合禁止剤及び酸化防止剤なども
使用できる。
本発明による紫外線硬化型樹脂組成物を用いたコンパク
トディスクでは、75℃、85%の相対湿度下に保存し
た時に600時間以上の耐久性を示し、また、55℃、
65℃での耐久性の結果を含めて25℃での耐久性を予
測すると、90年以上の優れた耐久性を有するコンパク
トディスクが得られることかわかった。
トディスクでは、75℃、85%の相対湿度下に保存し
た時に600時間以上の耐久性を示し、また、55℃、
65℃での耐久性の結果を含めて25℃での耐久性を予
測すると、90年以上の優れた耐久性を有するコンパク
トディスクが得られることかわかった。
コンパクトディスクでは、金属薄膜上の硬化保護膜の上
にタイトル等をジーベル印刷するが、この時ジーベル印
刷に用いるインキの種類によってはインキの保護膜への
接着性が問題になることがあり、この点は紫外線硬化型
樹脂組成物の表面張力を適切な値に合わせることが大切
となってくる。
にタイトル等をジーベル印刷するが、この時ジーベル印
刷に用いるインキの種類によってはインキの保護膜への
接着性が問題になることがあり、この点は紫外線硬化型
樹脂組成物の表面張力を適切な値に合わせることが大切
となってくる。
紫外線硬化型インキを使用する場合は大きな問題はない
が、タンボインキ等を使用する場合にはこの点に注意し
て表面張力を適切な値にもってい(ことが必要である。
が、タンボインキ等を使用する場合にはこの点に注意し
て表面張力を適切な値にもってい(ことが必要である。
次に本発明の詳細な説明する。なお、「部」とあるは「
重量部」を意味する。
重量部」を意味する。
実施例1
攪拌機を備えた容器にトリメチロールプロパントリアク
リレート50部、ネオベンチルグリコールジアクリレー
)50部、ジー2−メタアクロキジエチルフォスフェー
ト0.5部、「メガファノクF173J(大日本インキ
化学工業■製>0.5部、ベンゾフェノン7部、p−ジ
メチルアミノ安息香酸エチルエステル3部、ターシャリ
−ブチルハイドロキノン0。
リレート50部、ネオベンチルグリコールジアクリレー
)50部、ジー2−メタアクロキジエチルフォスフェー
ト0.5部、「メガファノクF173J(大日本インキ
化学工業■製>0.5部、ベンゾフェノン7部、p−ジ
メチルアミノ安息香酸エチルエステル3部、ターシャリ
−ブチルハイドロキノン0。
1部を仕込み、40〜50℃で90分間攪拌混合し、2
5℃における粘度(ブロックフィールドB型粘度計rp
m)が15センチポイズの紫外線硬化型(ヨ脂組成物を
得た。
5℃における粘度(ブロックフィールドB型粘度計rp
m)が15センチポイズの紫外線硬化型(ヨ脂組成物を
得た。
比較例1(組成物の粘度が高過ぎる例)トリメチロール
プロパントリアクリレートの代わりにジペンタエリスリ
トールへキサアクリレート90部、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート50部の代わりに10部を用いた以
外は実施例1と同様にして25℃における粘度が120
0センチネ′イズの紫外線硬化型樹脂組成物を得た。
プロパントリアクリレートの代わりにジペンタエリスリ
トールへキサアクリレート90部、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート50部の代わりに10部を用いた以
外は実施例1と同様にして25℃における粘度が120
0センチネ′イズの紫外線硬化型樹脂組成物を得た。
比較例2(硬化塗膜の硬度が小さい例)トリメチロール
プロパントリアクリレ−)−の代わりにトリプロブレン
ゲリコールジアクリレート90部、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレートを50部の代わりに10部を用いた
以外は実施例1と同様にして25℃における粘度が10
センチポイズの紫外線硬化型樹脂組成物を得た。
プロパントリアクリレ−)−の代わりにトリプロブレン
ゲリコールジアクリレート90部、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレートを50部の代わりに10部を用いた
以外は実施例1と同様にして25℃における粘度が10
センチポイズの紫外線硬化型樹脂組成物を得た。
比較例3(金属薄膜に対する接着性を有する七ツマ−を
用いない例) ジー2−メタアクリロイルエチルフォスフェートを用い
ないこと以外は実施例】と同トpにして25℃における
粘度が15センチボイズの紫外線硬化型樹脂組成物を得
た。
用いない例) ジー2−メタアクリロイルエチルフォスフェートを用い
ないこと以外は実施例】と同トpにして25℃における
粘度が15センチボイズの紫外線硬化型樹脂組成物を得
た。
比較例4(10センチボイズ以下のモノマーを用いない
例) ネオペンチルグリコールを用いないこと及びトリメチロ
ールプロントリアクリレートを50部の代わりに100
部用いたこと以外は実施例1と同様にして25℃の粘度
が80センチボイズの紫外線硬化型樹脂組成物を得た。
例) ネオペンチルグリコールを用いないこと及びトリメチロ
ールプロントリアクリレートを50部の代わりに100
部用いたこと以外は実施例1と同様にして25℃の粘度
が80センチボイズの紫外線硬化型樹脂組成物を得た。
前記実施例及び比較例の組成物の物性を以下のようにし
て評価した。その結果を表1に示す。
て評価した。その結果を表1に示す。
0表面張力
上記の紫外線硬化型樹脂組成物をシャーレに採リ、温度
23±2℃、50±5%相対湿度の環境下で表面張力計
CBVP=−A3型(界面科学社製)を用いて表面張力
を測定した。
23±2℃、50±5%相対湿度の環境下で表面張力計
CBVP=−A3型(界面科学社製)を用いて表面張力
を測定した。
■ ガラス板上での鉛筆硬度
スピンコータを用いて、紫外線硬化型樹脂組成物をガラ
ス板上に厚さ5μm程度に塗布し、コンベア式紫外線照
射装置で紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂組成物の硬
化膜を得た。紫外線ランプは高圧水銀ランプであり、コ
ンベア速度は5渭/分である。 JIS45400に従
ってガラス板上での硬化膜の鉛筆硬度を測定した。
ス板上に厚さ5μm程度に塗布し、コンベア式紫外線照
射装置で紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂組成物の硬
化膜を得た。紫外線ランプは高圧水銀ランプであり、コ
ンベア速度は5渭/分である。 JIS45400に従
ってガラス板上での硬化膜の鉛筆硬度を測定した。
■ 金属蒸着膜又は金属スパッタリング膜に対する接着
力 PET (ポリエチレンテレフタレート)フィルム上に
アルミニウムを厚さ50人蒸着したフィルム上に上記■
の鉛筆硬度試験の場合と同様にして厚さ5μm程度の紫
外線硬化型樹脂組成物の硬化膜を作製する。カッターナ
イフでアルミニウム蒸着膜に達するように硬化膜に切れ
目を入れる。切れ目に対して直角方向にセロテープを貼
り、切れ目よりセロテープを剥離する。その結果、硬化
膜にアルミニウム蒸着膜が付着した状態で剥離するとき
は接着力を「良」とし、硬化膜とアルミニウム蒸着膜の
間に剥離が生じ、アルミニウム蒸着膜がPETフィルム
上残ったときは接着力を「劣」とする。
力 PET (ポリエチレンテレフタレート)フィルム上に
アルミニウムを厚さ50人蒸着したフィルム上に上記■
の鉛筆硬度試験の場合と同様にして厚さ5μm程度の紫
外線硬化型樹脂組成物の硬化膜を作製する。カッターナ
イフでアルミニウム蒸着膜に達するように硬化膜に切れ
目を入れる。切れ目に対して直角方向にセロテープを貼
り、切れ目よりセロテープを剥離する。その結果、硬化
膜にアルミニウム蒸着膜が付着した状態で剥離するとき
は接着力を「良」とし、硬化膜とアルミニウム蒸着膜の
間に剥離が生じ、アルミニウム蒸着膜がPETフィルム
上残ったときは接着力を「劣」とする。
■ ポリカーボネート板に対する接着力上記■の鉛筆硬
度試験の場合に準じて作製したポリカーボネート板上の
厚さ5μm程度の紫外線硬化型樹脂組成物の硬化膜に、
ポリカーボネート板に達するようにカッターナイフで基
盤目を入れる。基盤目の上にセロテープを貼り、次にセ
ロテープを剥離する。ポリカーボネート板上に残った硬
化膜のマス数(四角数)を、初めに作製したマス数で割
り、その結果を百分率で表す。また、前記実施例及び比
較例で調整した紫外線硬化型樹脂組成物をスピンコータ
ーを用いて、コンパクトディスクの金属蒸着膜又は金属
スパッタリング膜に塗布し、紫外線で硬化したところ次
に示す結果を得た。
度試験の場合に準じて作製したポリカーボネート板上の
厚さ5μm程度の紫外線硬化型樹脂組成物の硬化膜に、
ポリカーボネート板に達するようにカッターナイフで基
盤目を入れる。基盤目の上にセロテープを貼り、次にセ
ロテープを剥離する。ポリカーボネート板上に残った硬
化膜のマス数(四角数)を、初めに作製したマス数で割
り、その結果を百分率で表す。また、前記実施例及び比
較例で調整した紫外線硬化型樹脂組成物をスピンコータ
ーを用いて、コンパクトディスクの金属蒸着膜又は金属
スパッタリング膜に塗布し、紫外線で硬化したところ次
に示す結果を得た。
比較例1で得られた紫外線硬化型樹脂組成物を基板の円
内部にドーナツ状に供給し、回転速度3000rpmで
金属蒸着膜又は金属スパッタリング膜上に塗布しようと
したが、紫外線硬化型樹脂組成物が放射状に流れ出し、
金属蒸着膜又は金属スパッタリング膜全体を被うことが
できなかった。また、5μm程度の紫外線順型樹脂組成
物の塗膜を得るには回転数3000rpmで、回転時間
60秒を必要とした。実施例1の紫外線硬化型樹脂組成
物を同様の条件・で塗布したところ、金属蒸着膜又は金
属スパッタリング膜全体を被うことができた。また、5
μm程度の紫外線硬化型樹脂組成物の塗膜を得るのに、
回転数3000rpmで回転時間3秒を必要とした。
内部にドーナツ状に供給し、回転速度3000rpmで
金属蒸着膜又は金属スパッタリング膜上に塗布しようと
したが、紫外線硬化型樹脂組成物が放射状に流れ出し、
金属蒸着膜又は金属スパッタリング膜全体を被うことが
できなかった。また、5μm程度の紫外線順型樹脂組成
物の塗膜を得るには回転数3000rpmで、回転時間
60秒を必要とした。実施例1の紫外線硬化型樹脂組成
物を同様の条件・で塗布したところ、金属蒸着膜又は金
属スパッタリング膜全体を被うことができた。また、5
μm程度の紫外線硬化型樹脂組成物の塗膜を得るのに、
回転数3000rpmで回転時間3秒を必要とした。
比較例2で得られた紫外線硬化型樹脂組成物では硬度が
低く、ポリカーボネート基板への接着力も不十分であっ
た。
低く、ポリカーボネート基板への接着力も不十分であっ
た。
比較例3で示したように、リン酸系メタクリレートを含
まない場合は、金属膜への接着性が不十分であり、比較
例4で示したように硬度の高い硬化膜を得る目的で良く
知られた3官能のモノマーのみを用いたものでは、 基板への密着性が保てな い。
まない場合は、金属膜への接着性が不十分であり、比較
例4で示したように硬度の高い硬化膜を得る目的で良く
知られた3官能のモノマーのみを用いたものでは、 基板への密着性が保てな い。
(
この頁以下余白)
表
1
実施例 2
実施例1と同様にして次の配合からなる紫外線硬化型樹
脂組成物を製造した。
脂組成物を製造した。
[デイックライトUE8100J (大日本インキ化学
工業■製ビスフェノール型エポキシ樹脂ジアクリレート
10重量部ネオペンチルグ
リコールジアク 39重量部リレート トリメチロールプロパントリア 45重量部クリレ
ート テトラヒドロフルフリルアクリ 5重量部レート ジメタアクリロキシエチルホス 0.5重量部フェー
ト ベンゾフェノン 6重量部p−ジ
メチルアミノ安息香酸エラ 3重量部ルエステル 「メガファフクF−17340,5M量部この紫外線硬
化型樹脂組成物の25℃における粘度は25 cpsで
、23℃での表面張力は28dyn/口であった0回転
速度3000rpa+で3秒塗工して、約5μmの硬化
膜の膜厚で、基板全面を均一に被覆することができた。
工業■製ビスフェノール型エポキシ樹脂ジアクリレート
10重量部ネオペンチルグ
リコールジアク 39重量部リレート トリメチロールプロパントリア 45重量部クリレ
ート テトラヒドロフルフリルアクリ 5重量部レート ジメタアクリロキシエチルホス 0.5重量部フェー
ト ベンゾフェノン 6重量部p−ジ
メチルアミノ安息香酸エラ 3重量部ルエステル 「メガファフクF−17340,5M量部この紫外線硬
化型樹脂組成物の25℃における粘度は25 cpsで
、23℃での表面張力は28dyn/口であった0回転
速度3000rpa+で3秒塗工して、約5μmの硬化
膜の膜厚で、基板全面を均一に被覆することができた。
また、メガファンクF−173を除いたものは表面張力
34 dyn/ csで、これも良好に使えることがわ
かった。
34 dyn/ csで、これも良好に使えることがわ
かった。
実施例2に示した紫外線硬化型樹脂組成物を用いて作製
したコンパクトディスクを市販のコンパクトディスクと
対比してその耐候性を調べた。
したコンパクトディスクを市販のコンパクトディスクと
対比してその耐候性を調べた。
相対湿度85%で75℃の条件下にコンパクトディスク
を放置し、保存時間の経過にともなう記録のエラ・−率
が3×10 を超える時間を寿命と判定した。
を放置し、保存時間の経過にともなう記録のエラ・−率
が3×10 を超える時間を寿命と判定した。
その結果、市販品は約102時間の耐久性しか示さない
のに対して、本実施例のものは約600時間の耐久性を
示した。
のに対して、本実施例のものは約600時間の耐久性を
示した。
また、65℃、55℃での評価も行い、25℃での寿命
を予測したところ、本実施例のものでは約90年と推測
される結果を得た。
を予測したところ、本実施例のものでは約90年と推測
される結果を得た。
このように本実施例に基づく紫外線硬化型組成物は塗工
性、取扱性といった生産性と、長期保存に耐えるととい
う信頼性の両面のバランスがとれた優れたものであるこ
とがわかった。
性、取扱性といった生産性と、長期保存に耐えるととい
う信頼性の両面のバランスがとれた優れたものであるこ
とがわかった。
実施例3
実施例1において重合開始剤として、ベンゾフェノン、
増感剤としてp−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステ
ルを用いる代わりに、1−ヒドロキシシクロへキシルフ
ェニルケトン8部を用いた以外は同様にして紫外線硬化
型樹脂組成物を製造した。
増感剤としてp−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステ
ルを用いる代わりに、1−ヒドロキシシクロへキシルフ
ェニルケトン8部を用いた以外は同様にして紫外線硬化
型樹脂組成物を製造した。
これについても実施例1と同様にし試験した結果、粘度
、表面張力等の物性は実施例1と同様に良く、塗工性も
良好であった。この組成物では塗膜硬化後でも黄変等の
変化が実質上認められなかった。
、表面張力等の物性は実施例1と同様に良く、塗工性も
良好であった。この組成物では塗膜硬化後でも黄変等の
変化が実質上認められなかった。
本発明のコンパクトディスクの金属膜保護用紫外線硬化
型樹脂組成物は、その粘度を100センチボイズ以下に
したので、塗工性に優れており、コンパクトディスクの
生産性が向上する。さらに、保護機能(外的要因による
傷のつき難さ、金属膜、基板に対する接着性、硬化模を
隈なく形成できる機能)も優れており、90年もの長期
保存に耐えられると予測される高信頼性のコンパクトデ
ィスクを提供することができる。
型樹脂組成物は、その粘度を100センチボイズ以下に
したので、塗工性に優れており、コンパクトディスクの
生産性が向上する。さらに、保護機能(外的要因による
傷のつき難さ、金属膜、基板に対する接着性、硬化模を
隈なく形成できる機能)も優れており、90年もの長期
保存に耐えられると予測される高信頼性のコンパクトデ
ィスクを提供することができる。
平成1年10月17日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)コンパクトディスクの金属膜保護用紫外線硬化型
樹脂組成物において、 (A)25℃における粘度が100センチポイズ以下、
(B)23℃における表面張力が20〜34dyne/
cmの範囲、 (C)硬化した塗膜の鉛筆硬度が2H以上、(D)硬化
した塗膜が金属膜及び基板に対して良好な接着力を有す
る ことを特徴とするコンパクトディスクの金属膜保護用紫
外線硬化型樹脂組成物。 (2)(a)ビスフェノール型エポキシ樹脂(メタ)ア
クリレート及び/又はノボラック型エポキシ樹脂(メタ
)アクリレート20重量部以下、(b)2官能アクリレ
ートモノマー及び/又は2官能メタクリレートモノマー
10〜40重量部、(c)3官能以上のアクリレートモ
ノマー及び/又は3官能以上のメタクリレートモノマー
30〜80重量部、(d)25℃での粘度が10センチ
ポイズ以下であるアクリレートモノマー及び/又はメタ
アクリレートモノマー3〜15重量部、(e)光重合開
始剤0.1〜10重量部、(f)下記一般式〔 I 〕で
示されるモノマー0.01〜5重量部の割合でそれぞれ
含有することを特徴とする請求項1記載のコンパクトデ
ィスクの金属膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 〔式中、R^1は水素原子又はCHを表わし、R^2は
▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ (式中、nは1〜10の整数を表わし、p、q、には各
々独立に0〜10の整数を表わす。)で示される2価の
基を表わし、mは1又は2を表わす。〕(3)(a)成
分が0である請求項2記載のコンパクトディスクの金属
膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物。 (4)(f)成分が0.05〜5重量部である請求項2
又は3記載のコンパクトディスクの金属膜保護用紫外線
硬化型樹脂組成物。 (5)(g)シリコーン系又はフッ素系界面活性剤を3
重量部以下の割合で含有することを特徴とする請求項1
ないし4のいずれかに記載のコンパクトディスクの金属
膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物。 (6)請求項1ないし5のいずれかに記載のコンパクト
ディスクの金属膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物の紫外
線硬化塗膜により被覆したコンパクトディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1268178A JP2775905B2 (ja) | 1989-10-17 | 1989-10-17 | コンパクトディスクの金属膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物及びコンパクトディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1268178A JP2775905B2 (ja) | 1989-10-17 | 1989-10-17 | コンパクトディスクの金属膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物及びコンパクトディスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03131605A true JPH03131605A (ja) | 1991-06-05 |
JP2775905B2 JP2775905B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=17455002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1268178A Expired - Lifetime JP2775905B2 (ja) | 1989-10-17 | 1989-10-17 | コンパクトディスクの金属膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物及びコンパクトディスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2775905B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05282703A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク用保護コート剤及び光ディスク |
WO2003071530A1 (fr) * | 2002-02-22 | 2003-08-28 | Nagase Chemtex Corporation | Composition de resine durcissable par ultraviolet pour disques optiques |
US7132460B2 (en) | 2000-11-30 | 2006-11-07 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Active energy ray curable composition for coating optical disk and optical disk |
JP2009277762A (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 曲げ加工可能な光透過型電磁波シールド積層体およびその製造方法 |
US7883757B2 (en) | 2005-06-17 | 2011-02-08 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Resin composition for optical disk and cured product thereof |
US8845611B2 (en) | 2007-07-19 | 2014-09-30 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Multi-chamber bag |
JP2014189609A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Aica Kogyo Co Ltd | 金属蒸着用無溶剤紫外線硬化型塗料 |
WO2018070488A1 (ja) * | 2016-10-14 | 2018-04-19 | デンカ株式会社 | 組成物 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59117561A (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 保護用組成物 |
-
1989
- 1989-10-17 JP JP1268178A patent/JP2775905B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS59117561A (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 保護用組成物 |
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US7344768B2 (en) | 2000-11-30 | 2008-03-18 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Active energy ray curable composition for coating optical disk and optical disk |
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WO2018070488A1 (ja) * | 2016-10-14 | 2018-04-19 | デンカ株式会社 | 組成物 |
CN109689700A (zh) * | 2016-10-14 | 2019-04-26 | 电化株式会社 | 组合物 |
JPWO2018070488A1 (ja) * | 2016-10-14 | 2019-07-25 | デンカ株式会社 | 組成物 |
CN109689700B (zh) * | 2016-10-14 | 2022-04-05 | 电化株式会社 | 组合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2775905B2 (ja) | 1998-07-16 |
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