JPH05282703A - 光ディスク用保護コート剤及び光ディスク - Google Patents
光ディスク用保護コート剤及び光ディスクInfo
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- JPH05282703A JPH05282703A JP4108712A JP10871292A JPH05282703A JP H05282703 A JPH05282703 A JP H05282703A JP 4108712 A JP4108712 A JP 4108712A JP 10871292 A JP10871292 A JP 10871292A JP H05282703 A JPH05282703 A JP H05282703A
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- polycarbonate resin
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 温度変化のある場合にも長期間に渡って安定
で再生使用に好適な光ディスク用保護コート剤を提供
し、光ディスクの生産性や品質の向上を図る。 【構成】 本発明の保護コート剤は、それ（溶媒）に対
するポリカーボネート樹脂（溶質）の溶解度が８０℃に
おいて溶媒１００ｇ当り溶質２００ｍｇ以下となるよう
に、より好ましくは溶媒１００ｇ当り溶質１００ｍｇ以
下となるように、配合が行われている。このため、光デ
ィスク基板の材料であるポリカーボネート樹脂の溶出に
よる保護コート剤溶液の組成変化が低減されるととも
に、保護コート剤溶液の温度変化に伴うポリカーボネー
ト樹脂の析出も低減されて不溶性異物除去用フィルタの
特性低下が防止される。
で再生使用に好適な光ディスク用保護コート剤を提供
し、光ディスクの生産性や品質の向上を図る。 【構成】 本発明の保護コート剤は、それ（溶媒）に対
するポリカーボネート樹脂（溶質）の溶解度が８０℃に
おいて溶媒１００ｇ当り溶質２００ｍｇ以下となるよう
に、より好ましくは溶媒１００ｇ当り溶質１００ｍｇ以
下となるように、配合が行われている。このため、光デ
ィスク基板の材料であるポリカーボネート樹脂の溶出に
よる保護コート剤溶液の組成変化が低減されるととも
に、保護コート剤溶液の温度変化に伴うポリカーボネー
ト樹脂の析出も低減されて不溶性異物除去用フィルタの
特性低下が防止される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＣＤやＬＤなどにおい
て光ディスクの保護に用いられている光ディスク用保護
コート剤に関するものであり、更に具体的には光硬化性
樹脂を主成分とする光ディスク用保護コート剤及びそれ
を利用した光ディスクに関する。
て光ディスクの保護に用いられている光ディスク用保護
コート剤に関するものであり、更に具体的には光硬化性
樹脂を主成分とする光ディスク用保護コート剤及びそれ
を利用した光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクは、よく知られているように
例えば図２に示すような構成となっている。同図におい
て、光ディスク基板１０の主面にはピット列１２が形成
されており、その上には反射膜１４が形成されている。
そして、反射膜１４上には保護膜１６が形成されてお
り、その上にはレーベル１８が印刷されている。
例えば図２に示すような構成となっている。同図におい
て、光ディスク基板１０の主面にはピット列１２が形成
されており、その上には反射膜１４が形成されている。
そして、反射膜１４上には保護膜１６が形成されてお
り、その上にはレーベル１８が印刷されている。
【０００３】このような光ディスクの製造工程について
概略説明すると、まず、ガラス原盤に対するフォトレジ
ストのコーティング，そのカッティング，及びニッケル
メッキなどによってメタルマスタが作成される。次に、
このメタルマスタに対してニッケルメッキなどを行って
メタルマザーが作成され、更にこのメタルマザーに対し
てニッケルメッキなどを行ってスタンパが作成される。
概略説明すると、まず、ガラス原盤に対するフォトレジ
ストのコーティング，そのカッティング，及びニッケル
メッキなどによってメタルマスタが作成される。次に、
このメタルマスタに対してニッケルメッキなどを行って
メタルマザーが作成され、更にこのメタルマザーに対し
てニッケルメッキなどを行ってスタンパが作成される。
【０００４】次に、図３に示すように、このスタンパ２
０を用いて射出成型などのプレス加工により光ディスク
基板１０が得られる（同図（Ａ）参照）。なお、光ディ
スク基板１０としてはポリカーボネート樹脂などが用い
られ、ピット列１２はこのプレス工程で光ディスク基板
１０の主面に形成される。この光ディスク基板１０の主
面上には、アルミニウムなどの蒸着によって反射膜１４
が形成される（同図（Ｂ）参照）。次に、この反射膜１
４上に、保護コート剤によって保護膜１６が形成される
（同図（Ｃ）参照）。そして、この保護膜１６上に、内
容を示すレーベルの印刷が行われる（同図（Ｄ）参
照）。
０を用いて射出成型などのプレス加工により光ディスク
基板１０が得られる（同図（Ａ）参照）。なお、光ディ
スク基板１０としてはポリカーボネート樹脂などが用い
られ、ピット列１２はこのプレス工程で光ディスク基板
１０の主面に形成される。この光ディスク基板１０の主
面上には、アルミニウムなどの蒸着によって反射膜１４
が形成される（同図（Ｂ）参照）。次に、この反射膜１
４上に、保護コート剤によって保護膜１６が形成される
（同図（Ｃ）参照）。そして、この保護膜１６上に、内
容を示すレーベルの印刷が行われる（同図（Ｄ）参
照）。
【０００５】前記製造工程のうち、保護膜１６は、光硬
化性樹脂などによる保護コート剤を矢印ＦＡで示すよう
に光ディスク基板１０の主面上に滴下して、スピンコー
ト法により形成される。光ディスク基板１０上にコーテ
ィングされた保護コート剤には図示しない手段によって
紫外線が照射され、その硬化が行われる。このような保
護コート剤の特性としては、硬度，耐擦傷性，接着性，
ガスバリア性などが要求され、更に硬化前の特性として
粘度を代表とする塗布性が重要とされている。
化性樹脂などによる保護コート剤を矢印ＦＡで示すよう
に光ディスク基板１０の主面上に滴下して、スピンコー
ト法により形成される。光ディスク基板１０上にコーテ
ィングされた保護コート剤には図示しない手段によって
紫外線が照射され、その硬化が行われる。このような保
護コート剤の特性としては、硬度，耐擦傷性，接着性，
ガスバリア性などが要求され、更に硬化前の特性として
粘度を代表とする塗布性が重要とされている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、以上のよう
な光ディスクの生産工程における保護膜形成工程では、
材料を無駄なく使用するためにスピンコータで振り切ら
れた保護コート剤（同図（Ｃ）矢印ＦＢ参照）を回収し
ており、その再利用が図られている。この場合に、再生
回数が多くなると保護コート剤の中に溶解，混入する不
純物の量が多くなる。これらの不純物のうち、砂やホコ
リなどの不溶性異物については、高性能フィルタで除去
することで保護コート剤の純度に与える影響を防ぐこと
ができる。
な光ディスクの生産工程における保護膜形成工程では、
材料を無駄なく使用するためにスピンコータで振り切ら
れた保護コート剤（同図（Ｃ）矢印ＦＢ参照）を回収し
ており、その再利用が図られている。この場合に、再生
回数が多くなると保護コート剤の中に溶解，混入する不
純物の量が多くなる。これらの不純物のうち、砂やホコ
リなどの不溶性異物については、高性能フィルタで除去
することで保護コート剤の純度に与える影響を防ぐこと
ができる。
【０００７】しかし、保護コート剤と相溶性をもつもの
は再生回数の増加に比例して保護コート剤の組成を変化
させ、結果的に保護コート剤としての特性に悪影響を与
えることになる。特に、光ディスク基板１０の温度が高
く、４０℃を超えるような場合にはその影響がより大き
くなる。
は再生回数の増加に比例して保護コート剤の組成を変化
させ、結果的に保護コート剤としての特性に悪影響を与
えることになる。特に、光ディスク基板１０の温度が高
く、４０℃を超えるような場合にはその影響がより大き
くなる。
【０００８】本発明は、これらの点に着目したもので、
再生使用してもその配合組成に大きな変化が生じないと
いうスピンコート法に適した特性を有し、温度変化のあ
る場合にも長期間に渡って安定で再生使用に好適な光デ
ィスク用保護コート剤及び光ディスクを提供すること
を、その目的とする。
再生使用してもその配合組成に大きな変化が生じないと
いうスピンコート法に適した特性を有し、温度変化のあ
る場合にも長期間に渡って安定で再生使用に好適な光デ
ィスク用保護コート剤及び光ディスクを提供すること
を、その目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段と作用】前記目的を達成す
るため、本発明による光ディスク用保護コート剤は、光
硬化性樹脂を主成分とし、硬化前の８０℃の液体状態に
おける保護コート剤１００ｇに対する基板のポリカーボ
ネート樹脂の溶解度を２００ｍｇ以下としたことを特徴
とする。また、本発明による光ディスクは、前記保護コ
ート剤を用いて、ポリカーボネート樹脂基板上に保護膜
が形成されたことを特徴とする。
るため、本発明による光ディスク用保護コート剤は、光
硬化性樹脂を主成分とし、硬化前の８０℃の液体状態に
おける保護コート剤１００ｇに対する基板のポリカーボ
ネート樹脂の溶解度を２００ｍｇ以下としたことを特徴
とする。また、本発明による光ディスクは、前記保護コ
ート剤を用いて、ポリカーボネート樹脂基板上に保護膜
が形成されたことを特徴とする。
【００１０】一般に、光ディスクの保護コート剤は、ア
クリル酸エステルを主成分として配合が組み立てられて
いる。このような保護コート剤について詳細に検討した
結果、保護コート剤の配合成分中には、光ディスク基板
１０の材料であるポリカーボネート樹脂と相溶性を持っ
たものが多いことが判明した。このような保護コート剤
を用いると、光ディスク基板１０を形成するポリカーボ
ネート樹脂が溶出して保護コート剤溶液の組成が変化
し、特性が悪化する。また、保護コート剤溶液の温度変
化に伴って溶け出したポリカーボネート樹脂が析出する
ようになり、これがホコリなどの不溶性異物除去用のフ
ィルタに付着してそのフィルタリング特性を大きく悪化
させることも判明した。
クリル酸エステルを主成分として配合が組み立てられて
いる。このような保護コート剤について詳細に検討した
結果、保護コート剤の配合成分中には、光ディスク基板
１０の材料であるポリカーボネート樹脂と相溶性を持っ
たものが多いことが判明した。このような保護コート剤
を用いると、光ディスク基板１０を形成するポリカーボ
ネート樹脂が溶出して保護コート剤溶液の組成が変化
し、特性が悪化する。また、保護コート剤溶液の温度変
化に伴って溶け出したポリカーボネート樹脂が析出する
ようになり、これがホコリなどの不溶性異物除去用のフ
ィルタに付着してそのフィルタリング特性を大きく悪化
させることも判明した。
【００１１】詳述すると、ポリカーボネート樹脂の溶出
は、保護コート剤をスピンコーティングする際に、光デ
ィスク基板１０と保護コート剤とが接触することによっ
て生ずる。このときのポリカーボネート樹脂の溶出量
は、光ディスク基板１０や保護コート剤の温度が高いほ
ど多量になる。また、スピンコーティング時に振り切ら
れた保護コート剤が回収系内で冷却などの温度変化を受
けると、保護コート剤中に溶解していたポリカーボネー
ト樹脂が析出するようになり、結晶又はゲル状の異物が
液中に発生する。
は、保護コート剤をスピンコーティングする際に、光デ
ィスク基板１０と保護コート剤とが接触することによっ
て生ずる。このときのポリカーボネート樹脂の溶出量
は、光ディスク基板１０や保護コート剤の温度が高いほ
ど多量になる。また、スピンコーティング時に振り切ら
れた保護コート剤が回収系内で冷却などの温度変化を受
けると、保護コート剤中に溶解していたポリカーボネー
ト樹脂が析出するようになり、結晶又はゲル状の異物が
液中に発生する。
【００１２】これらの異物は不溶性異物除去用フィルタ
に詰まってその負荷を大きくし、フィルタからの保護コ
ート剤の吐出量を不安定化させる原因となり、光ディス
クの生産性や品質を悪化させる。このような理由によ
り、光ディスクの保護膜形成工程では、保護コート剤に
対するポリカーボネート樹脂の溶解性の程度が重要なフ
ァクタとなる。
に詰まってその負荷を大きくし、フィルタからの保護コ
ート剤の吐出量を不安定化させる原因となり、光ディス
クの生産性や品質を悪化させる。このような理由によ
り、光ディスクの保護膜形成工程では、保護コート剤に
対するポリカーボネート樹脂の溶解性の程度が重要なフ
ァクタとなる。
【００１３】本発明は、このような知見に基づいてなさ
れたもので、ポリカーボネート樹脂の溶解性を考慮しつ
つ保護コート剤中のモノマやオリゴマの配合設計を行っ
た。すなわち、保護コート剤の配合組成中のアクリル酸
エステルのモノマやオリゴマに対するポリカーボネート
樹脂の溶解性について検討を加え、モノマ及びオリゴマ
のいずれもポリカーボネート樹脂に対して低い相溶性を
有するものを主成分として配合が行われている。
れたもので、ポリカーボネート樹脂の溶解性を考慮しつ
つ保護コート剤中のモノマやオリゴマの配合設計を行っ
た。すなわち、保護コート剤の配合組成中のアクリル酸
エステルのモノマやオリゴマに対するポリカーボネート
樹脂の溶解性について検討を加え、モノマ及びオリゴマ
のいずれもポリカーボネート樹脂に対して低い相溶性を
有するものを主成分として配合が行われている。
【００１４】具体的には、コーティングシステムや光デ
ィスクの性能，あるいはその品質の安定性を得るため
に、保護コート剤（溶媒）に対するポリカーボネート樹
脂（溶質）の溶解度を、８０℃において溶媒１００ｇ当
り溶質２００ｍｇ以下となるように、より好ましくは溶
媒１００ｇ当り溶質１００ｍｇ以下となるように組成の
配合が行われている。
ィスクの性能，あるいはその品質の安定性を得るため
に、保護コート剤（溶媒）に対するポリカーボネート樹
脂（溶質）の溶解度を、８０℃において溶媒１００ｇ当
り溶質２００ｍｇ以下となるように、より好ましくは溶
媒１００ｇ当り溶質１００ｍｇ以下となるように組成の
配合が行われている。
【００１５】組成について説明すると、本発明の保護コ
ート剤は、官能性モノマ又はオリゴマと光重合開始剤な
どを組成として含むものである。官能性モノマ又はオリ
ゴマとしては、ビニル重合型モノマ又はオリゴマ、ある
いはエン／チオール付加型モノマ又はオリゴマが挙げら
れる。なお、エン／チオール付加型とは、多官能性の不
飽和化合物（ポリエン）と多官能性チオール（ポリチオ
ール）との付加反応（光マイケル付加反応）を生ずるタ
イプのもので、酸素の阻害が少なく表面硬化性に優れた
特長を有している。また、光重合開始剤としては、α開
裂型の芳香族カルボニル化合物，水素引き抜き型芳香族
カルボニル化合物，あるいはそれらの誘導体などが挙げ
られ、これらとアミン系化合物との組合せも有効であ
る。
ート剤は、官能性モノマ又はオリゴマと光重合開始剤な
どを組成として含むものである。官能性モノマ又はオリ
ゴマとしては、ビニル重合型モノマ又はオリゴマ、ある
いはエン／チオール付加型モノマ又はオリゴマが挙げら
れる。なお、エン／チオール付加型とは、多官能性の不
飽和化合物（ポリエン）と多官能性チオール（ポリチオ
ール）との付加反応（光マイケル付加反応）を生ずるタ
イプのもので、酸素の阻害が少なく表面硬化性に優れた
特長を有している。また、光重合開始剤としては、α開
裂型の芳香族カルボニル化合物，水素引き抜き型芳香族
カルボニル化合物，あるいはそれらの誘導体などが挙げ
られ、これらとアミン系化合物との組合せも有効であ
る。
【００１６】
【実施例】次に、本発明による光ディスク用保護コート
剤及び光ディスクの実施例について詳細に説明する。本
実施例では、以下に示す配合例Ａ〜Ｃについて、図１に
示す手順でポリカーボネート樹脂の溶解度を測定してい
る。まず、配合例Ａ〜Ｃにおける主要成分の配合組成
は、次の表１に示す通りである。
剤及び光ディスクの実施例について詳細に説明する。本
実施例では、以下に示す配合例Ａ〜Ｃについて、図１に
示す手順でポリカーボネート樹脂の溶解度を測定してい
る。まず、配合例Ａ〜Ｃにおける主要成分の配合組成
は、次の表１に示す通りである。
【００１７】
【表１】
【００１８】配合例Ａは、ポリカーボネート樹脂の溶解
度が低いヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコール
ジアクリレートを光硬化性樹脂の主成分として含んでい
る。配合例Ｂは、ポリカーボネート樹脂の溶解性が多少
大きいトリメチロールプロパントリアクリレート及びネ
オペンチルグリコールジアクリレートを光硬化性樹脂の
主成分として含んでいる。なお、エポキシアクリレート
は硬化後の保護特性における硬度及びディスクとの接着
性を付与するために配合されている光硬化性樹脂であ
り、２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノンは光
反応開始剤として配合されているものである。また、配
合例Ｃは、市販されている従来のＣＤ用保護コート剤の
例である。
度が低いヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコール
ジアクリレートを光硬化性樹脂の主成分として含んでい
る。配合例Ｂは、ポリカーボネート樹脂の溶解性が多少
大きいトリメチロールプロパントリアクリレート及びネ
オペンチルグリコールジアクリレートを光硬化性樹脂の
主成分として含んでいる。なお、エポキシアクリレート
は硬化後の保護特性における硬度及びディスクとの接着
性を付与するために配合されている光硬化性樹脂であ
り、２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノンは光
反応開始剤として配合されているものである。また、配
合例Ｃは、市販されている従来のＣＤ用保護コート剤の
例である。
【００１９】このような配合例Ａ〜Ｃについて、図１に
示すような方法でポリカーボネート樹脂の溶解度の測定
を行った。まず、１０ｇのポリカーボネート樹脂ペレッ
ト（同図ＳＡ）に各配合例の保護コート剤１９０ｇ（同
図ＳＢ）をとり、８０℃で３ｈｒｓ（３時間）振とうを
行った（同図ＳＣ）。次に、これによって得たポリカー
ボネート溶解保護コート剤１００ｇ（同図ＳＤ）にメチ
ルアルコール２５０ｍｌを混合し（同図ＳＥ）、２４ｈ
ｒｓ，室温で放置した（同図ＳＦ）。その後、＃５Ｃろ
紙を用いて析出したポリカーボネート樹脂を採取し秤量
した（同図ＳＧ）。その結果、各配合例におけるポリカ
ーボネート樹脂の溶解度は次の表２に示すようになっ
た。
示すような方法でポリカーボネート樹脂の溶解度の測定
を行った。まず、１０ｇのポリカーボネート樹脂ペレッ
ト（同図ＳＡ）に各配合例の保護コート剤１９０ｇ（同
図ＳＢ）をとり、８０℃で３ｈｒｓ（３時間）振とうを
行った（同図ＳＣ）。次に、これによって得たポリカー
ボネート溶解保護コート剤１００ｇ（同図ＳＤ）にメチ
ルアルコール２５０ｍｌを混合し（同図ＳＥ）、２４ｈ
ｒｓ，室温で放置した（同図ＳＦ）。その後、＃５Ｃろ
紙を用いて析出したポリカーボネート樹脂を採取し秤量
した（同図ＳＧ）。その結果、各配合例におけるポリカ
ーボネート樹脂の溶解度は次の表２に示すようになっ
た。
【００２０】
【表２】
【００２１】この表２の結果から明らかなように、本発
明にかかる配合例Ａにおける溶解度が７０ｍｇと最も少
なく、配合例Ｂでは１２０ｍｇとなっている。これに対
し、従来例である配合例Ｃでは４５０ｍｇと非常に多く
なっている。次に、これらの各配合例による保護コート
剤を使用して実際に光ディスクを生産し、種々の特性に
ついて比較を行った結果、次の表３に示すようになっ
た。
明にかかる配合例Ａにおける溶解度が７０ｍｇと最も少
なく、配合例Ｂでは１２０ｍｇとなっている。これに対
し、従来例である配合例Ｃでは４５０ｍｇと非常に多く
なっている。次に、これらの各配合例による保護コート
剤を使用して実際に光ディスクを生産し、種々の特性に
ついて比較を行った結果、次の表３に示すようになっ
た。
【００２２】
【表３】
【００２３】この表３の結果によれば、ＣＤ１０万枚処
理時の回収タンク内におけるポリカーボネート樹脂濃度
は、配合例Ａが４０ｐｐｍと最も低く配合例Ｃではその
１０倍も高い濃度となっている。また、保護コート剤の
状況としては、配合例Ａが透明であるのに対し、配合例
Ｂではわずかに濁りがあり、配合例Ｃでは濁りの他にゲ
ル状の沈澱物も存在した。更に、フィルタ負荷について
は、配合例Ａで０．５Ｋｇ以下と全く問題のない状態で
あるのに対し、配合例Ｂではそのほぼ４倍の２Ｋｇの負
荷上昇となり、配合例Ｃではフィルタが詰まって全く吐
出しない状態となった。
理時の回収タンク内におけるポリカーボネート樹脂濃度
は、配合例Ａが４０ｐｐｍと最も低く配合例Ｃではその
１０倍も高い濃度となっている。また、保護コート剤の
状況としては、配合例Ａが透明であるのに対し、配合例
Ｂではわずかに濁りがあり、配合例Ｃでは濁りの他にゲ
ル状の沈澱物も存在した。更に、フィルタ負荷について
は、配合例Ａで０．５Ｋｇ以下と全く問題のない状態で
あるのに対し、配合例Ｂではそのほぼ４倍の２Ｋｇの負
荷上昇となり、配合例Ｃではフィルタが詰まって全く吐
出しない状態となった。
【００２４】また、光ディスク品質については、配合例
Ａでは全く問題がなく、配合例Ｂでは一部分に塗り不良
が発生したのみである。これに対し、配合例Ｃでは完全
にコートできず、外観不良となった。
Ａでは全く問題がなく、配合例Ｂでは一部分に塗り不良
が発生したのみである。これに対し、配合例Ｃでは完全
にコートできず、外観不良となった。
【００２５】以上のような結果を総合すると、光ディス
クの保護コート剤としては、光ディスク基板であるポリ
カーボネート樹脂の溶解度を小さくすることが重要であ
り、保護コート剤１００ｇに対するポリカーボネート樹
脂の溶解度を、８０℃で２００ｍｇ以下、好ましくは１
００ｍｇ以下とするとよい。
クの保護コート剤としては、光ディスク基板であるポリ
カーボネート樹脂の溶解度を小さくすることが重要であ
り、保護コート剤１００ｇに対するポリカーボネート樹
脂の溶解度を、８０℃で２００ｍｇ以下、好ましくは１
００ｍｇ以下とするとよい。
【００２６】これによって、 （１）スピンコートにより振切られた保護コート剤の回
収・再生使用の効率を大幅に向上できる，（２）不溶性
異物除去用フィルタにおける負荷を低減できるため、吐
出の不安定化が防止され、均一な保護コート膜を形成す
ることができる，（３）光ディスクの生産工程において
安定した生産性が得られる，などの効果が得られる。
収・再生使用の効率を大幅に向上できる，（２）不溶性
異物除去用フィルタにおける負荷を低減できるため、吐
出の不安定化が防止され、均一な保護コート膜を形成す
ることができる，（３）光ディスクの生産工程において
安定した生産性が得られる，などの効果が得られる。
【００２７】なお、本発明は何ら上記実施例に限定され
るものではなく、例えば次のようなものも含まれる。 （１）保護コート剤に配合される光硬化性樹脂として
は、前記表１に示した材料の他、ポリカーボネート樹脂
の溶解度が低い種々のビニル重合型モノマ及びオリゴ
マ、あるいはエン／チオール付加型モノマ及びオリゴマ
がいずれも使用可能である。
るものではなく、例えば次のようなものも含まれる。 （１）保護コート剤に配合される光硬化性樹脂として
は、前記表１に示した材料の他、ポリカーボネート樹脂
の溶解度が低い種々のビニル重合型モノマ及びオリゴ
マ、あるいはエン／チオール付加型モノマ及びオリゴマ
がいずれも使用可能である。
【００２８】例えば、ビニル重合型のものとしては、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、プロピレン
オキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどが挙げ
られる。また、エン／チオール付加型のものとしては、
ジアリリデンペンタエリスリトール，トリアリルイソシ
アヌレート，ジアリルフタレート，ジアリルイソフタレ
ートなどのアリル化合物と、トリメチロールプロパント
リチオグリコレート，ペンタエリスリトールテトラチオ
グリコレート，ジペンタエリスリトールヘキサチオグリ
コレート，トリスメルカプトプロピルイソシアヌレート
などのチオール化合物との組み合わせが挙げられる。
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、プロピレン
オキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどが挙げ
られる。また、エン／チオール付加型のものとしては、
ジアリリデンペンタエリスリトール，トリアリルイソシ
アヌレート，ジアリルフタレート，ジアリルイソフタレ
ートなどのアリル化合物と、トリメチロールプロパント
リチオグリコレート，ペンタエリスリトールテトラチオ
グリコレート，ジペンタエリスリトールヘキサチオグリ
コレート，トリスメルカプトプロピルイソシアヌレート
などのチオール化合物との組み合わせが挙げられる。
【００２９】（２）更に、光ディスク基板１０の主面
（図２の例では反射膜１４）との濡れ特性や塗布性，あ
るいは密着性を向上させるために、微量の界面活性剤や
密着性向上剤を保護コート剤に添加させるようにしても
よい。 （３）本発明による保護コート剤は、ＣＤの他、ＭＤや
ＬＤ，あるいは光書込み型のものなど種々のものについ
て適用可能である。また、ポリカーボネート樹脂の溶け
込みによる影響が大きくなる４０℃を越える場合に、本
発明は特に有効である。
（図２の例では反射膜１４）との濡れ特性や塗布性，あ
るいは密着性を向上させるために、微量の界面活性剤や
密着性向上剤を保護コート剤に添加させるようにしても
よい。 （３）本発明による保護コート剤は、ＣＤの他、ＭＤや
ＬＤ，あるいは光書込み型のものなど種々のものについ
て適用可能である。また、ポリカーボネート樹脂の溶け
込みによる影響が大きくなる４０℃を越える場合に、本
発明は特に有効である。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による光デ
ィスク用保護コート剤及び光ディスクによれば、保護コ
ート剤に対するポリカーボネート樹脂の溶解度が一定以
下となるようにしたので、次のような効果がある。 （１）再生使用してもその配合組成が大きく変化せず、
温度変化がある場合にも長期間に渡って安定で良好に繰
り返し使用することができる。 （２）また、生産性に優れ、良好な品質を得ることがで
きる。
ィスク用保護コート剤及び光ディスクによれば、保護コ
ート剤に対するポリカーボネート樹脂の溶解度が一定以
下となるようにしたので、次のような効果がある。 （１）再生使用してもその配合組成が大きく変化せず、
温度変化がある場合にも長期間に渡って安定で良好に繰
り返し使用することができる。 （２）また、生産性に優れ、良好な品質を得ることがで
きる。
【図１】本発明による光ディスク用保護コート剤の実施
例におけるポリカーボネート樹脂の溶解度の測定方法を
示す説明図である。
例におけるポリカーボネート樹脂の溶解度の測定方法を
示す説明図である。
【図２】光ディスクの構成例を示す一部破断した斜視図
である。
である。
【図３】光ディスクの生産工程の概略を示す説明図であ
る。
る。
１０…光ディスク基板、１２…ピット列、１４…反射
膜、１６…保護膜、１８…レーベル、２０…スタンパ、
ＦＡ，ＦＢ…矢印。
膜、１６…保護膜、１８…レーベル、２０…スタンパ、
ＦＡ，ＦＢ…矢印。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小堺 隆 神奈川県横浜市神奈川区守屋町３丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 (72)発明者 荒井 義彦 神奈川県横浜市神奈川区守屋町３丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 (72)発明者 並川 一平 神奈川県横浜市神奈川区守屋町３丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 (72)発明者 北山 慎一郎 茨城県つくば市北原６番 住友化学工業株 式会社内 (72)発明者 芳賀 茂雄 茨城県つくば市北原６番 住友化学工業株 式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 光硬化性樹脂を主成分とし、ポリカーボ
ネート樹脂を利用した光ディスク基板上にコーティング
される光ディスク用保護コート剤において、硬化前の８
０℃の液体状態における保護コート剤１００ｇに対する
ポリカーボネート樹脂の溶解度を２００ｍｇ以下とした
ことを特徴とする光ディスク用保護コート剤。 - 【請求項２】 請求項１記載の保護コート剤を用いて、
ポリカーボネート樹脂基板上に保護膜が形成されたこと
を特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4108712A JP2782486B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 光ディスク用保護コート剤及び光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4108712A JP2782486B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 光ディスク用保護コート剤及び光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05282703A true JPH05282703A (ja) | 1993-10-29 |
| JP2782486B2 JP2782486B2 (ja) | 1998-07-30 |
Family
ID=14491686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4108712A Expired - Fee Related JP2782486B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 光ディスク用保護コート剤及び光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2782486B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015108145A (ja) * | 2009-12-01 | 2015-06-11 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウＦｒａｕｎｈｏｆｅｒ−Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｚｕｒ Ｆｏｅｒｄｅｒｕｎｇ ｄｅｒ ａｎｇｅｗａｎｄｔｅｎ Ｆｏｒｓｃｈｕｎｇ ｅ．Ｖ． | 放射線硬化コーティング剤において使用するための組成物 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101435139B1 (ko) * | 2010-11-18 | 2014-09-02 | 주식회사 미뉴타텍 | 도광판 무늬형용 활성에너지선경화형 수지 조성물 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03131605A (ja) * | 1989-10-17 | 1991-06-05 | Dainippon Ink & Chem Inc | コンパクトディスクの金属膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物及びコンパクトディスク |
| JPH03210369A (ja) * | 1990-01-12 | 1991-09-13 | Toyobo Co Ltd | 光ディスク用保護コート剤 |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP4108712A patent/JP2782486B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03131605A (ja) * | 1989-10-17 | 1991-06-05 | Dainippon Ink & Chem Inc | コンパクトディスクの金属膜保護用紫外線硬化型樹脂組成物及びコンパクトディスク |
| JPH03210369A (ja) * | 1990-01-12 | 1991-09-13 | Toyobo Co Ltd | 光ディスク用保護コート剤 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015108145A (ja) * | 2009-12-01 | 2015-06-11 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウＦｒａｕｎｈｏｆｅｒ−Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｚｕｒ Ｆｏｅｒｄｅｒｕｎｇ ｄｅｒ ａｎｇｅｗａｎｄｔｅｎ Ｆｏｒｓｃｈｕｎｇ ｅ．Ｖ． | 放射線硬化コーティング剤において使用するための組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2782486B2 (ja) | 1998-07-30 |
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