JPH0277411A - ランダム共重合体の製造方法 - Google Patents
ランダム共重合体の製造方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
合体の製造方法に関する。
特願昭63−120798)に、立体規則重合体の製造
方法が提示されている。更に特定するに、(i)マグネ
シウム、チタン、ハロゲンおよび内部電子供与体すなわ
ち、隣接炭素原子に結合せる同一平面エステル基2個を
含有するポリカルボン酸エステルを含む固体触媒先駆物
質、(i i)ヒドロカルビルアルミニウム助触媒並び
に (iii)外部電子供与体又は選択性制御剤すなわ
ちけい素−酸素−炭素結合を含有するけい素化合物を含
みしかもアルミニウム対けい素原子比が約0.5:l〜
100:1範囲であり、アルミニウム対チタン原子比が
約5=1〜300:1範囲である触媒系を用いた低圧気
相流動層プロセスにおいてα−オレフィンを50℃を越
える温度で重合させることにより、アイソタクチック指
数少なくとも96%の重合体を高い収率および高い生産
速度で製造しうることが分かった。
無作為に編入されているエチレン/プロピレン共重合体
の製造に用いることができる。
共重合体は、良好な透明性およびヒートシール特性を有
する点でポリプロピレン単独重合体に勝った利点を有す
る。また、ランダム共重合体の剛性は単独重合体より低
い。斯かるランダム共重合体の主な市場はフィルム用途
および吹込成形にある。近年、成る射出成形品がランダ
ム共重合体を以て製造されている。
るために、共重合体のエチレン基剤部分を多くすること
が知られている。あいにく、この触媒系および付加的エ
チレンに在来のプロセス条件を用いるなら、外観が「ポ
ツプコーン」様若しくは「フレーク」様の、破裂した不
規則形凝集共重合体の大粒子がもたらされる。斯かる粒
子はかなり硬質で、形成後は破断し難い、不規則形およ
び凝集は樹脂の低かさ密度の原因をなす、低かさ密度お
よび大粒度は換言するに劣悪な流動特性ということであ
る。これは反応器内に流動化問題を惹起し、而して製品
排出系および他の下流装置を、連続操作が本質上不可能
となる程度まで詰まらせる。
良好な流動性をも示す増量エチレンを用いたプロピレン
/エチレンランダム共重合体の製造方法を提供すること
である。
臭素若しくはよう素又はこれらの混合物であるハロゲン
および、隣接炭素原子に結合せる同一平面エステル基2
個を含有するポリカルボン酸エステルを含む固体触媒先
駆物質、(ii)ヒドロカルビルアルミニウム助触媒並
びに (iii)けい素−酸素−炭素結合少なくとも1
個を含有するけい素化合物を含みしかもアルミニウム対
チタン原子比が5〜300範囲である触媒系にプロピレ
ンおよびエチレンコモノマー少なくとも2種を反応帯域
少なくとも一つで重合条件下気相において接触させ、 但し反応帯域の温度を約50〜150℃範囲とし、アル
ミニウム対けい素化合物モル比を約0.5〜100範囲
とし、プロピレン分圧を約50〜600ps i範囲と
し、エチレン分圧を約0.25〜25psi範囲とする
、コモノマー少なくとも2種の共重合方法が発見された
。
子に結合せる同一平面エステル基2個を含有するポリカ
ルボン酸エステルの存在で式MgRR’ (ここでR
はアルコキシド又はアリールオキシド基であり、R゛は
アルコキシド若しくはアリールオキシド基又はハロゲン
である)のマグネシウム化合物を、ハロゲン原子少なく
とも2個を含有するハロゲン化四価チタン化合物でハロ
ゲン化させることにより製造される。アルコキシド基は
炭素原子1〜8個を含有し得、アリールオキシド基は炭
素原子6〜10個を含有しつる。ハロゲンは塩素、臭素
又はよう素でありうる。
、マグネシウムジイソプロポキシド、マグネシウムジ−
n−ブトキシド、マグネシウムジフェノキシド、マグネ
シウムジェトキシド、エトキシマグネシウムイソブトキ
シド、エトキシマグネシウムフェノキシド、ナフトキシ
マグネシウムイソアミルオキシド、エトキシマグネシウ
ムプロミド、イソブトキシマグネシウムクロリド、フエ
ノキシマグネシウムイオダイド、クミルオキシマグネシ
ウムプロミドおよびナフトキシマグネシウムクロリドで
ある。
も2個含有し、アルコキシおよび(又は)アリールオキ
シ基を2個まで有しつる。例はTiCε4.TiBrn
、ジエトキシチタンジブロミド、イソブロポキシチタン
トリョージド、ジヘキソキシチタンジクロリドおよびフ
ェノキシチタントリクロリドである。
脂環式であってもよい、適当なハロ炭化水素はクロロベ
ンゼン、ブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロ
ジブロモベンゼン、り四ロトルエン、ジクロロトルエン
、クロロナフタレン、ジブロモメタン、トリクロロメタ
ン、1.2−ジクロロエタン、トリクロロエタン、ジク
ロロフルオロエタン、ヘキサクロロエタン、トリクロロ
プロパン、クロロブタン、ジクロロブタン、クロロペン
タン、トリクロロフルオロオクタン、テトラクロロイン
オクタン、ジブロモジフルオロデカン、ジブロモシクロ
ブタンおよびトリクロロシクロヘキサンである。
しくは12個以下の炭素原子を含有する。
分子の隣接炭素原子に結合し且つ単一平面上にある分子
上硬質構造を流動層とする。斯かるエステルには、(a
)単環若しくは多環式芳香族環のオルト炭素原子に結合
せるエステル基2個を含有し該エステル基の各々が更に
分岐ないし未分岐鎖炭化水素基に結合しているポリカル
ボン酸工ステル、(b)非芳香族単環若しくは多環式環
のビシナル炭素原子に結合し且つ互いに関してsyn配
置にあるエステル基2個を含有し該エステル基の各々が
更に分岐ないし未分岐鎖炭化水素基に結合しているポリ
カルボン酸エステル、或は(C)不飽和脂肪族化合物の
ビシナル二重結合炭素原子に結合し且つ互いに関してs
yn配置にあるエステル基2個を含有し該エステル基
の各々が更に分岐ないし未分岐鎖炭化水素基に結合して
いるポリカルボン酸エステルが含まれる。
酸と、分岐ないし未分岐の線状炭化水素部分を有する1
価アルコールとから誘導される。ポリカルボン酸エステ
ルの例として、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、
フタル酸ジ−n−プロピル、フタル酸ジイソプロピル、
フタル酸ジ−n−ブチル、フタル酸ジイソブチル、フタ
ル酸ジ−t−ブチル、フタル酸ジイソアミル、フタル酸
ジ−t−アミル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジー
2−エチルヘキシル、フタル酸ジー2−エチルデシル、
ジエチル−1,2−フルオレンジカルボキシレート、ジ
イソプロピル−1,2−フェロセンジカルボキシレート
、シス−ジイソブチルシクロブタン−1,2−ジカルボ
キシレート、エンド−ジイソブチル−5−ノルボルネン
−2,3−ジカルボキシレート、エンド−ジイソブチル
ビシクロ[2,2,2]オクタ−5−エン−2,3−ジ
カルボキシレート、マレイン酸ジイソブチルおよびジイ
ソアミルシトラコネートを挙げることができる。
、マグネシウム化合物1モル当り約2〜100モルのチ
タン化合物を用いて遂行される。ハロ炭化水素は、チタ
ン化合物およびエステルを溶解させしかも固体不溶性マ
グネシウム化合物を適宜分散させるのに十分な量で用い
られる。
05〜2.0モル量で用いることができ、エステルはチ
タン化合物1モル当り約0. OOO5〜2.0モル量
で用いることができる。マグネシウム化合物のハロゲン
化は約60〜150℃の温度範囲で約0.1〜6時間に
わたり実施しつる。ハロゲン化物は、2月通ないしデカ
ンテーションで液体反応媒質から分離することのできる
固体物質である。分離後、同じモル比でチタン化合物に
より1回ないし2回以上処理して残留物を除去し且つ触
媒活性を最大限にする。この処理の際、チタン化合物を
溶解し且つハロゲン化物を分散させるのに通常ハロ炭化
水素が用いられる。該処理は好ましくは2度実施され、
二度目の処理は、隣接炭素原子に結合せる同一平面上の
酸基2個を含有するポリカルボン酸ハロゲン化物の存在
でなされる。−般に、酸ハロゲン化物はマグネシウム1
g原子当り約5〜200ミリモルで用いられる。適当な
酸ハロゲン化物にフタロイルジクロリド、2.3−ナフ
タレンジカルボン酸ジクロリド、エンド−5−ノルボル
ネン−2,3−ジカルボン酸ジクロリド、マレイン酸ジ
クロリドおよびシトラコン酸ジクロリドが含まれる。
1回ないし2回以上処理した後、液体反応媒質から分離
し、不活性炭化水素で洗浄して未反応チタン化合物を除
去し、乾燥する。最終洗浄物はふされしくは約0.5重
量%〜6,0重量%のチタン含量を有する。最終生成物
のチタン対マグネシウム原子比は約0.01:1〜0.
2:1範囲である。ポリカルボン酸エステルは約0.0
05:1〜10:lのエステル対マグネシウムモル比で
存在する。
により表わすことができる。ここで、Rはアルキル、シ
クロアルキル、アリール又−はヒドリド基であり、少な
くとも1個のRはヒドロカルビル基であり、2個ないし
3個のR基は複素環式構造を形成する環式基で結合し得
、各Rは同じか又は別異であり、そしてヒドロカルビル
基である各Rは炭素原子1〜20個好ましくは1〜10
個を有する。更に、各アルキル基は直鎖ないし分岐鎖で
あり得、斯かるヒドロカルビル基は混成基でありうる。
クロアルキル基を含有しつる。
ル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ネオ
ペンチル、ヘキシル、2−メチルペンチル、ヘプチル、
オクチル、インオクチル、2−エチルヘキシル、5.5
−ジメチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ウ
ンデシル、ドデシル、フェニル、フェネチル、メト・キ
シフェニル、ベンジル、トリル、キシリル、ナフチル、
ナフタル、メチルナフチル、シクロヘキシル、シクロへ
ブチルおよびシクロオクチルである。
イソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、
ジイソブチルアルミニムヒドリド、ジヘキシルアルミニ
ウムヒドリド、イソブチルアルミニウムジヒドリド、ヘ
キシルアルミニウムジヒドリド、ジイソブチルヘキシル
アルミニウム、インブチルジヘキシルアルミニウム、ト
リメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ
プロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム
、[・ソーn−ブチルアルミニウム、トリオクチルアル
ミニウム、トリデシルアルミニウム、トリドデシルアル
ミニウム、トリベンジルアルミニウム、トリフェニルア
ルミニウム、トリナフチルアルミニウムおよびトリトリ
ルアルミニウムの如きものである。好ましいヒドロカル
ビルアルミニウムはトリエチルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、ジイ
ソブチルアルミニウムヒドリドおよびジヘキシルアルミ
ニウムヒドリドである。
が含まれるにこで、Rは炭素原子1〜20個の炭化水素
基であり、Yは−OR又は−0CORであり、Xは水素
、塩素、臭素又はよう素であり、各RおよびYは同じか
又は別異であり、aは0〜3の整数であり、bは1−4
の整数であり、CはO又はlであり、a+b+c=4で
ある。Rは置換又は未置換でありうる。また、5i−0
−C基少なくとも1個が存在する限り、5t−0−3i
を含有するけい素化合物を用いることもできる。有用な
けい素化合物の例はジフェニルジメトキシシラン、n−
プロピルトリメトキシシラン、ジ−t−ブチルジメトキ
シシラン、ジフェニルジイソブトキシシラン、ジイソブ
チルジメトキシシランおよびジメチルジェトキシシラン
である。
載の如き流動層反応器1基若しくは2基以上で或は別種
の、例えばポリプロピレン若しくはプロピレン共重合体
の気相製造用慣用反応器でプロピレンおよびエチレンの
コモノマー少なくとも2 ffflを接触系に連続接触
させることにより気相で製造される。
ませることができる0本明細書中、用語「共重合体」は
、コモノマー2種以上を基剤とする重合体を意味するも
のとする。付加的コモノマーは炭素原子4〜12個のα
−オレフィン又は炭素原子5〜25個の共役ないし非共
役ジエンでありうる。有用なα−オレフィンは好ましく
は、二重結合から除去される2個の炭素原子よりも近い
炭素原子上にいかなる分岐も含まないゆ適当なα−オレ
フィンの例に1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチルペ
ンテン−1,1−ヘプテンおよび1−オクテンが含まれ
る。ジエンの例はl、4−ペンタジェン、l、4−へキ
サジエン、1.5−へキサジエン、ジシクロペンタジェ
ン、シクロへキサジエン、l−ビニル−1−シクロベン
クン並びにフルキルビシクロノナジェン、インデンおよ
びノルボルネンである。後者の例はエチリデンノルボル
ネンである。非共役ジエンが好ましい。
重量を基準にして約80〜995重世%好ましくは約9
0〜99.5重量%範囲であり、エチレンに帰せられる
部分は約05〜20重量%好ましくは約0.5〜10重
量%範囲であり、そして存在しつる他のコモノマーに帰
せられる部分は約0.5〜20重量%範囲である。すべ
ての%はランダム共重合体の重量を基準とする。
基剤とする共重合体部分)は、共重合体の結晶融点を決
定することにより達せられる。
ロピレン単独重合体の融点は結晶化度によって161〜
165℃範囲で変動し、C3/C2ランダム共重合体の
融点は、編入エチレン量が増加するにつれ抑制される。
1重量%に相当する。DSC又は結晶融点はエチレン対
プロピレン気相モル比の一次関数であることが見出され
る。それ故、エチレン編入の重量%も亦エチレン対プロ
ピレン気相モル比に直線的に比例する。
は約60〜90℃範囲の温度で作動される0作業圧力は
約200〜650ps i gないしそれ以上好ましく
は約250〜550ps i g範囲である。プロピレ
ン分圧は約50〜600psi範囲好ましくは約160
〜500ps iである。エチレン分圧は約0.25〜
25psi範囲好ましくは約1〜l 5ps iである
。他コモノマーの分圧和は約0.5〜75ps iであ
りうる。エチレン対プロピレンモル比は約0.005〜
0.065好ましくは約0.○l〜0.045である。
速度は一般に約0.1〜5ft/sec好ましくは約0
.5〜3 f t / s e c範囲で保持される。
徐な変化を伴って用いられる。換言するに、気相中のエ
チレン濃度は、生成物に関して所望されるレベルへと緩
徐に高められる。
好ましくは約2〜6時間範囲である。
れ以上好ましくは約0.5〜2.0ft/sec範囲で
ある0本プロセスに水素又は別の連鎖移動剤を用いるこ
とができる。流動層反応器内で用いられる水素対α−オ
レフィンモル比は約0.0005:1〜0.2:1好ま
しくは約0.01:1〜0、l:l範囲である。このこ
とから、水素分圧は約0.1〜200psi好ましくは
約0.5〜50psi範囲であるといえる6反応器で用
いられる作業圧力の残部は、プロピレン、エチレン並び
に用いられる他コモノマーの分圧および水素分圧を考慮
した後窒素の如き不活性ガスの使用により補給すること
ができる。
ましい場合、流動層反応器1基が用いられる。耐衝撃性
銘柄共重合体の場合、もう1基の流動層反応器が必要と
される。
ウム対選択性制御剤中のけい素原子比が約0.5〜10
0好ましくは約1〜25、助触媒中のアルミニウム対固
体触媒成分中のチタン原子比が約5〜300好ましくは
約10〜200である如き■に保持される。
は次の如くである: 溶融流量は約0.01〜1000好ましくは約0.05
〜500範囲であル、コれハA S T M D−1
238、条件り下、230℃で荷重2160gを以て測
定するとき求められ、g/10m1nの単位で記録され
る。
01〜0.08in範囲でありうる。平均粒度は、一連
のASTM標準篩に粉末を通し、各篩上の保留粒子を秤
量しそして数平均粒度を算定する如くして求められる。
15〜25βb/ft’範囲である。沈降かさ密度は、
一定容量の樹脂試料を収集し、秤量し且つ重量を容量で
除して算定する如くして求められる。
共重合体好ましくは1時間当りt oo。
時生産される樹脂の秤量により求められる。
50重量%に保持され、好ましくは約30重量%以下の
レベルで保持される。キシレン可溶分は、共重合体試料
を熱キシレンに溶かし、得られた溶液を23℃に冷却後
なお溶液状態に留っている重量%として定義される。「
プレートアウト」と呼称される、加工特低分子種が樹脂
表面に移行する現象を排除するのに低いキシレン可溶分
が望ましい、この現象は、キシレン可溶分値が過剰にな
るとき生じつる。
て約20重量%以下好ましくは約5.5重量%以下のレ
ベルで保持される。厚さ3〜4ミルの共重合体フィルム
試料(チルロール式押出により製造)は、n−ヘキサン
中50℃で2時間抽出したあと濾過する。炉液を蒸発さ
せ、全残留物をn−ヘキサン抽出分率の尺度として秤量
する。
と、更に安定な連続作業で、受容される形態すなわち小
粒度、規則的粒子形および高い沈降かさ密度、高い触媒
生産性、受容されるキシレン可溶レベル、高いエチレン
含量、広い生成物組成範囲、妥当な生産速度並びに低い
臭気レベルである。
り四ロベンゼン3.712溶液に、フタル酸ジイソブチ
ル180ml(187g、0.67モル)、マグネシウ
ムジェトキシド590g(5,2モル)および四塩化チ
タン4.712(8100g、43モル)のクロロベン
ゼン1.2J2溶液を連続して加える。これらを加える
量温度を20〜25℃に保持する0次いで、得られた混
合物を攪拌しながら110℃に加熱し、この温度に1時
間保持する。
する。
00g、43モル)のり四ロベンゼンL2J2溶液中で
スラリー化する。スラリーに室温で二塩化フタロイル4
5g(0,22モル)のり四ロベンゼン3.7β溶液を
加え、次いで得られたスラリーを攪拌しながら110℃
に加熱し、この温度を30分間保持する。該時間経過後
、混合物を熱時枦遇する。固体物質を収集する。
ル)のクロロベンゼン1.2℃溶液中室温で再スラリー
化する。このスラリーにり四ロベンゼン37℃を室温で
更に加え、得られたスラリーを攪拌下110℃に加熱し
、該温度に30分間保持する。この時間後、混合物を熱
時枦遇する。固体物質を収集する。
、43モル)のクロロベンゼン1.24溶液中室温で再
スラリー化する0次いで、このスラリーにクロロベンゼ
ンを室温で更に3.212加え、得られたスラリーを攪
拌下110℃に加熱し、該温度に30分間保持する。こ
の時間後、混合物を熱時ン戸遇する。残留物を25℃の
ヘキサン500m1tずつで6回洗浄し、次いで窒素パ
ージ下乾燥する。生成物の量は約500gである。
体として流動層反応器に連続供給する0反応器にはまた
、イソペンタン中2.5重量%溶液としてのトリエチル
アルミニウム助触媒と、インペンタ291.0重量%溶
液としてのジフェニルジメトキシシラン(選択性制御剤
)とを同時に且つ連続的に加える。
およびトリエチルアルミニウム(TEAL)対チタンモ
ル比を保持するのに十分な固体触媒成分、助触媒および
選択性制御剤を反応器に導入する。
よび窒素を加えるが、但し例2では水素を加えない、水
素/プロピレンモル比並びにプロピレンおよびエチレン
の全圧ないし分圧を表1に掲載する。全圧の残部は窒素
で補給する。ガス供給物はシリンジ連続供給装置の使用
により遂行される0例7以外は、樹脂生成物を流動層か
らパージビンに移し、そこで樹脂を重力により下方に流
し、また含まれる水分が樹脂中の触媒成分を客活して臭
気を減するよう加湿窒素流れを上方に流す。例6はクラ
ッキングに付す、すなわち、メルトフローが増加するよ
う或は重合体の分子量が低下するよう樹脂にペルオキシ
ド化合物を加える。
模モデルである。それを凝縮態様で操作する。凝縮態様
の操作については米国特許第4゜543.399号およ
び同第4.588.790号に記載されており、そこで
は循環ガス流れを、気体/液体2相混合物の液相が少な
くとも入口箇所から流動Mに送り込まれるまで連行され
るままである如き条件下循環ガス流れの露点ないしそれ
以下の温度に息図的に冷却して上記混合物を生成する。
の各βb当りの滞留時間を時間(hr)で示す。
(ppm)で示す。チタンppmは分光光度計法により
求められる。
量計内で一定速度で加熱し、一定速度で冷却しそして一
定速度で再加熱することにより求められる。
重合体試料の溶融熱を差動走査熱量計により求める。次
いで、この値を39.4力ロリー/gで除してDSC結
晶化度%を得る。
分、重量%、それはDSC融点から見積もられる。
性の尺度、割線曲げ弾性率である。それは1%歪におけ
る応力−歪線の勾配として定義される。単位はkpsi
(kpsi=1000I2b/in”)である、1%
SFMはASTM D−790に従い求められる。
められる。
れる。それはフィルムの光学的性質に有害であり、破断
バブルおよびスプリットウェブの故に加工時生産損失の
原因をなす。それは観察によって調べられる。
法により求められる。RT=室温(25℃)。
される共重合体から求められる。
2bを密閉ガラス製ジャーに導入し、循環空気下90℃
に加熱する。十分に振盪した後、共重合体を三者臭気パ
ネルにかいでもらいO〜1oの等縁付けを行なわせる。
上は高い臭気レベルと認められる。
部分。
重ff1)当りの部数ppmとして示す、ppmは誘導
結合プラズマ分光分析法により求められる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(i)マグネシウム、チタン、塩素、臭素若しくは
よう素又はこれらの混合物であるハロゲンおよび、隣接
炭素原子に結合せる同一平面エステル基2個を含有する
ポリカルボン酸エステルを含む固体触媒先駆物質、 (ii)ヒドロカルビルアルミニウム助触媒並びに (iii)けい素−酸素−炭素基少なくとも1個を含有
するけい素化合物を含みしかもアルミニウム対チタン原
子比が約5〜300範囲である触媒系にプロピレンおよ
びエチレンそして随意α−オレフィン単量体1種ないし
2種以上を反応帯域中重合条件下気相で接触させ、但し
反応帯域の温度を約50〜150℃範囲とし、アルミニ
ウム対けい素化合物モル比を約0.5〜100範囲とし
、プロピレン分圧を約50〜600psi範囲とし、エ
チレン分圧を約0.25〜25psi範囲とする、ラン
ダム共重合体の製造方法。 2、アルミニウム対けい素化合物モル比を約1〜25範
囲とする、特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、反応帯域の温度を約60〜90℃範囲とする、特許
請求の範囲第1項記載の方法。 4、プロピレン分圧を約150〜500psi範囲とす
る、特許請求の範囲第1項記載の方法。 5、エチレン分圧を約1〜15psi範囲とする、特許
請求の範囲第1項記載の方法。 6、連続態様で実施し、反応帯域を流動層とする特許請
求の範囲第1項記載の方法。 7、固体触媒先駆物質が、ハロ炭化水素および、隣接炭
素原子に結合せる同一平面エステル基2個を含有するポ
リカルボン酸エステルの存在で式MgRR’(ここでR
はアルコキシド又はアリールオキシド基であり、R’は
R又はハロゲンである)を有するマグネシウム化合物を
、ハロゲン原子少なくとも2個を含有するハロゲン化四
価チタン化合物でハロゲン化させることにより得られる
、特許請求の範囲第1項記載の方法。 8、ヒドロカルビルアルミニウム助触媒がトリアルキル
アルミニウムである、特許請求の範囲第1項記載の方法
。 9、けい素化合物が式 R_aSiY_bX_c (ここでRは炭素原子1〜20個を有する炭化水素基で
あり、Yは−OR又は−OCORであり、Xは水素、塩
素、臭素又はよう素であり、RおよびYの各々は同じか
又は別異であり、aは0〜3の整数であり、bは1〜4
の整数であり、cは0又は1であり、a+b+c=4で
ある)を有する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 10、マグネシウム化合物がマグネシウムジエトキシド
であり、ハロゲン化四価チタン化合物が四塩化チタンで
あり、ハロ炭化水素がクロロベンゼンであり、ポリカル
ボン酸エステルがフタル酸ジイソブチルである、特許請
求の範囲第7項記載の方法。 11、けい素化合物がジフェニルジメトキシシランであ
る、特許請求の範囲第1項記載の方法。 12、けい素化合物がn−プロピルトリメトキシシラン
である、特許請求の範囲第1項記載の方法。 13、けい素化合物がジ−t−ブチルジメトキシシラン
である、特許請求の範囲第1項記載の方法。
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