JPH0249592B2

JPH0249592B2 -

Info

Publication number: JPH0249592B2
Application number: JP57188144A
Authority: JP
Inventors: Taku Sakamoto
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1982-10-28
Filing date: 1982-10-28
Publication date: 1990-10-30
Also published as: US4543613A; GB2132847B; GB8328578D0; FR2535477A1; DE3338828C2; FR2535477B1; JPS5978353A; GB2132847A; DE3338828A1

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、連続調原画から、印刷物を作るため
に必要な網目版画像を作成するための方法に関
し、特に微小点の集合で個々の網目を形成するド
ツトジエネレーターに関係するものである。

このような方法に関しては、特公昭52−33523
号公報、及び特公昭52−49361号公報に開示され
ているものが知られている。

特に後者には、多色印刷を行なう場合に通常使
用されるそれぞれがスクリーン角度を異えたシア
ン、マゼイン、イエロー、スミの各版４色相互の
モアレを避けるために、スクリーン角度として有
理正接をとる角度を採用する方法が述べられてい
る。

その１例として、特に15゜相当のスクリーン角
度がtanθ＝１／３の場合と、これとモアレを生ぜ
しめない他の角度tanθ＝０、tanθ＝１／１、tanθ
＝３／１を組みあわせたものを、第１図に示す。

第１−ａ図は0゜相当、第１−ｂ図は15゜相当、
第１−ｃ図は45゜相当、第１−ｄ図は75゜相当のス
クリーンパターンであり、これらの縦横一辺の長
さはいずれも等しい。

この方式では、比較的小さいメモリ容量で、主
走査方向にアドレスを順次インクリメントしなが
ら参照することにより、画面全体に網点を出力す
ることができる。

すなわち、スクリーンパターンが書きこまれて
いる正方形もしくは長方形イメージのメモリ一構
成の縦横いずれか一辺の方向と、メモリーを順次
参照していく方向とは、一致しており、しかも、
通常とびこえて参照したり、同じ座標位置のデー
タを、２度以上続けて使用することはない。

また、この方式で、例えば15゜といつた角度の
網点を発生させるためには、その中に、数個以上
（第１−ｂ図及び第１−ｄ図の例では10個）の網
点を含む比較的広い領域をカバーするメモリーを
準備し、その中に、斜め方向のスクリーンパター
ンを書き込んでおく。

このメモリーに書き込まれるスクリーンパター
ンは、第１−ａ図〜第１−ｄ図を見てもわかるよ
うに、いずれも、メモリーの天地あるいは左右の
端辺がつながるようになつている。

しかし、この方法においては、スクリーン角度
が有理正接をとらねばならないという制約があ
り、しかも、通常使用される0゜、15゜、45゜、75゜相
当の網目を刷り重ねても、目につくモアレを生ぜ
しめないためには、それら４つのスクリーンパタ
ーンには、一定の関係が必要である。

従つて、印刷上の制約や、絵柄の内容等のた
め、単位長さあたりの網点数（以下スクリーン線
数と言う）を変化させる必要が生じた場合には、
スクリーンパターンをかえて、１つの網目内に含
まれる微小点の個数を変化させて対応するか、あ
るいは、同一スクリーンパターンを使用し、微小
点の径や、微小点の間隔を変化させて、対応しな
ければならない。

一方、スクリーンパターンを変える前者の方法
では、さまざまなスクリーン線数ごとに、４色１
組のスクリーンパターンを準備することになり、
大変な負坦となるので、この場合、同一パターン
を使用する後者の方法が便利である。

後者の方法では、副走査ピツチや主走査クロツ
ク（微小点点滅間隔）を変えると同時に、微小点
の径や、マルチ・ビーム方式の場合には、ビーム
の間隔を変えるために、ズームレンズや交換レン
ズが使用されている。

特に、副走査ピツチが、スクリーン線数の変化
に応じて、さまざまに変わることは、副走査送り
機構が複雑になるとともに、ビームの間隔、ビー
ム径、ビーム光強度の調整等が必要となるといつ
た欠点をもたらす。

さらに、後者の場合、このようなドツトジエネ
レータをレイアウトスキヤナの出力機に適用した
場合、文字やケイ線等を量子化した場合の座標系
と、絵柄出し（網目）のための座標系（副走査ピ
ツチ）の関係を、一定に保つことができず、絵柄
と文字、ケイ線等を混在させて、同時に記録する
ことが困難になる。

しかも、磁気デイスク等にたくわえられた同一
の画像情報（固定の座標系）をもとに、同じサイ
ズでスクリーン線数が、異なるいく組もの網点版
画像を記録することはできない。

これを解決する方法を示唆する一つの資料とし
て「プログレスオブテクニカルアソーシエ
イシヨンオブザグラフイツクアーツ
（Progress of Techuical Association of the
Graphic Arts）」1981年版第251頁所載の「ニユ
ーデベロツプメントインスキヤナテクノロ
ジー（New Development in Scanner
Technology）」がある。

ここでは、網目の基本周期を一辺とする正方形
のスクリーンパターンメモリーを、必らずしもメ
モリー一辺の方向と一致しない斜め方向に参照す
る方法が述べられている。

次に、それについて簡単に説明する。

第２図は、上記網目の基本周期を一辺とする正
方形のスクリーンパターンを示す。

第３図は、上記スクリーンパターンが書きこま
れた正方メモリーを、斜め方向に逐次参照する場
合の座標変換について説明する図である。

Ｘ，Ｙ軸は、上記メモリーの軸方向で、網目の
基本周期方向と一致する。ｕ及びｖは、それぞ
れ、主走査及び副走査方向を示す。

第３図のごとく、主走査方向とＸ軸の角度がθ
である場合には、次の座標変換式が成り立つ。

Ｘ＝ｕ cosθ−ｖ sinθ Ｙ＝ｕ sinθ＋ｖ cosθ …(1) ここで、網点を形成するための微小スポツト間
隔をｐとし、ｕ＝mp、ｖ＝npとすれば、上式は
次のようになる。

Ｘ＝mp cosθ−np sinθ Ｙ＝mp sinθ＋np cosθ …(2) 一主走査の間については、副走査の座標は一定
であるとすれば、上式はさらに次のようになる。

Ｘ＝mp cosθ＋C₁ Ｙ＝mp sinθ＋C₂ …(3) ここで C₁＝−np sinθ C₂＝−np cosθ …（3′）この式（3′）は、一主走査の間については変化
しない。

従つて、各主走査開始点ごとに、C₁、C₂をあ
らかじめ計算しておいて、Ｘ＝C₁ Ｙ＝C₂とし、
そこから網点を形成するための微小点の間隔だけ
主走査がすすむたびに、Ｘ座標は、ｐ cosθ、Ｙ
座標はｐ sinθだけアドレス加算をすると、その
時々のスクリーンパターンを参照するべきアドレ
スを計算できる。

なお、この時、前記スクリーンパターンメモリ
ーのＸ座標アドレス及びＹ座標アドレスを、いず
れも、２のＮ乗にしておけば、前記(3)式のアドレ
ス加算を２進法で計算しているうちに、オーバー
フローが生じて、キヤリーに出ても、そのキヤリ
ーに出た分を捨てることにより、スクリーンパタ
ーンメモリーの天から地、あるいは右から左（あ
るいはそれらの逆）へと、エンドレスに渡ること
ができる。

この時、Ｎを６とし、64×64のアドレスで、
256階調以上のスクリーンパターンを使用すれば、
充分なめらかなスクリーンパターンが得られる。

ただし、Ｘ、Ｙの計算精度が悪いと、例えθ＝
15゜としたくても、ｐ cosθやｐ sinθを計算し
た時、デイジタル計算上の丸め誤差のために、比
較的早く同じ繰り返しが起きてしまう。

そこで、メモリーの一辺は、６ビツド（2²＝
64）であつても、Ｘ、Ｙの計算精度は、はるかに
高いものとしておく。

その目安としては、出力しうる最大寸法の長辺
の寸法に対して必要な網点の個数×64アドレス程
度以上の数を計算する精度であればよい。

例えば、長辺の寸法を30インチ、スクリーン線
数を175本／インチとすると、175×30×64＝
336000＞2¹⁸となる。

従つて、18ビツド以上できりのよい数字とし
て、１バイト（８ビツド）の倍数が都合がよいと
すると、24ビツドあるいは32ビツド程度とすれば
よい。

このようにして得られたＸ、Ｙアドレスに基い
て、スクリーンパターンメモリーを参照すること
により得られるスクリーンレベルと、画像レベル
を比較することによつて、その点を露光すべきか
否かを決定することができる。

このようにして露光された微小点の集まりが、
個々の網点を形成する。

この方法では、θをかえることで、同一のスク
リーンパターンを使用しながら、任意のスクリー
ン角度の網目を出力することができ、さらに、ｐ
をかえることで、任意のスクリーン線数の網目を
出力することができる。すなわち、ｐを小さくす
ることで、スクリーンパターンの基本周期まで、
Ｘ、Ｙ座標が達するのに必要な加算回数が増加す
るので、固定の主走査クロツク、固定の副走査ピ
ツチであつても、大きい網目を出力することがで
きる。

これによつて、送り機構や主走査クロツク発生
回路の簡略化が計れる。また、送りピツチに変化
があつた場合に必要なビーム間隔、ビーム径、ビ
ーム強度等の調整及び変更が、全く不要になる。

しかし、この方法には、次のような大きい欠点
がある。

すなわち、この方法では、任意スクリーン角度
θ、及び任意スクリーン線数に対応したピツチｐ
を使つて座標を求めたスクリーンレベルＤと画像
レベルＥを比較して、露光するか否かを決定して
いるため、スクリーンパターン上の画像レベルＥ
に対応する等高線図形に対する参照座標の整合具
合の良し悪し（整合度）によつて、同一等高線図
形を参照する場合であつても、露光された微小点
の個数にバラツキが発生する。

第４−ａ図並びに第４−ｂ図は、その一例を示
す。第４−ａ図は、整合具合が良い場合で、第４
−ｂ図は、整合具合が悪い場合である。

ここでは、絵柄の明暗に応じた画像レベルＥ
と、スクリーンレベルＤを比較して、スクリーン
レベルＤが高い時に露光する場合を示している。

スクリーンパターンを参照する座標の整合具合
によつて、同一画像レベルであつても、これだけ
露光される微小点の数が違つてくる。このような
微小点の個数のバラツキは、印刷用網目版として
は、致命的なムラの発生につながる。

本発明の目的は、以上に述べたような整合具合
の良い悪しによる微小点の個数のバラツキが、
個々の網点の形状や網点面積の大小に、そのまま
反映される二者択一的な露光強度を与える方法を
改良し、露光ビーム強度を段階変化させること
で、整合具合の良い悪しによる網点面積の大小の
バラツキをやわらげるようにすることにある。

単に露光ビーム強度を段階変化させる方法とし
ては、米国特許第4025189号が知られている。

これは、網点面積の微妙なコントロールを目的
としたものではなく、個々の網点の周縁部にあた
るビームの露光強度を、中間強度とすることで、
結果的に、周縁部の銀量が、中央部よりも少ない
網点（ソフトドツト）を形成することを目的とし
ている。

製版工程では、一たん露光現像された網目フイ
ルムの一部あるいは全体の網点を小さくしたい場
合に、ドツトエツチングが行なわれるが、この
時、ソフトドツトは、エツチングを行なつて網点
を小さくしても、中央部の銀量はまだ相当量残る
ので、はなはだ好都合である。

上記米国特許第4025189号に述べられている方
法は、一つのビームの露光強度計算にあたつて、
スクリーンパターンメモリーの副走査方向になら
んだ１対の値を、同時に呼び出し、同一画像レベ
ルとの差を、それぞれａ、ｂとすると、ａとｂが
共に正の場合には100％の強度で、共に負の場合
には０％強度で、またａとｂが異符号の場合に
は、次式で計算される強度で露光するものであ
る。

ａ＋ｂ／｜ａ−ｂ｜＝露光強度しかし、この方法は、多色刷りの場合、先の特
公昭52−49361号公報に記載されているメモリー
参照方法を前提としている。

従つて、今回問題としているスクリーンパター
ンを参照する座標の整合具合の良し悪しや、微小
点の個数のバラツキについては、何らふれられて
いない。

しかも、露光強度が決定されるまでの計算が、
複雑であるという欠点を有する。

本発明は、露光ビーム強度を段階変化させるこ
とで、微妙な網点面積のコントロールを可能と
し、先の整合具合の良し悪しによつて起こる問題
点の解決をはかるものである。

第５−ａ図〜第５−ｂ図に、露光ビーム強度を
段階変化させた12個の微小点の場合の網点面積の
微妙な変化の様子を一例を示す。

第５−ａ図は、露光強度最大を１として、露光
強度を０、１／４、２／４、３／４、４／４とし
た場合の微小点の強度分布の一例を示す。

この図の微小点の強度分布は、ガウス分布をし
ていて、中心で最も強く、その光強度が中央の1/
２にるところは、隣りの微小点までの距離の1/2の
ところとしている。

このようなビームを用いて、第５−ｂ図の網点
モデルで、Ａ点及びＢ点の露光強度を変化させた
場合、（相当広い範囲にわたつて周辺すべての光
量が4/4の場合の網点中央部の露光量を100％とす
る。）の30％光量の等高線図形、及びＸ−X′位置
での光量分布の断面図を、第５−ｃ図に示す。光
強度変化に応じて、等高線が徐々にふくらんでく
ることがわかる。

さらに、Ｘ−X′位置での光量分布の断面図を
見ると、Ｂ点の光強度を0/4とした時よりも、1/
４、2/4、3/4とした方が、30％光量の等高線を横
切る斜面の勾配がゆるやかになつていることがわ
かる。これは、網点がソフトになることを意味し
ている。

また、Ａ点及びＢ点の露光強度を変化させた場
合の10％、30％、50％光量の等高線図形の面積変
化を、第５−ｄ図に示す。

いずれの場合も、光強度の増加にともなつて次
第に面積が大きくなつている。特に、30％の等高
線図形の場合には、ほぼ直線的に面積が増加して
いる。

これを利用することによつて、整合具合で得を
する（網点が大きくなる）ような場合には、露光
される微小点の総個数は多くても、周縁部の露光
ビーム強度を弱くし、また整合具合で損をする
（網点が小さくなる）ような場合には、微小点の
総個数は少なくても、周縁部の光ビーム強度を、
中央部の場合とほぼ同程度とすることで、網点形
状の変化や、網点面積のバラツキを、小さくする
ことが可能となる。

網点周縁部の露光ビームの強度を、中心部のそ
れに比べて強くする方法として、次に２つ例をあ
げる。

なおこれらの方法は、シングルビーム方式であ
つても、あるいは複数のビームをそれぞれ独立に
制御するマルチビーム方式であつても、適用可能
であることは言うまでもない。

第１の方法は、スクリーンレベルＤと、画像レ
ベルＥとを使つて演算し、その演算結果の大小に
応じて、露光ビームの露光強度を変化させる方法
である。

この方法は、メモリーに書かれたスクリーンパ
ターンが、網点の中心で最大（もしくは最小）と
して、その点から離れるにしたがつて、次第に小
さい（もしくは大きい）値をとるのが普通である
ということを利用している。

この場合には、画像レベルに対応するスクリー
ンパターン上の等高線図形Ｆにぎりぎりに整合す
る第６−ａ図のような場合には、両端でのスクリ
ーンレベルＤと画像レベルＥの差は小さく、ま
た、余裕をもつてはまり込む第６−ｂ図のような
場合には、両端での両者の者はかなり大きくなつ
ている点に着目して、両者の差の大小によつて、
露光強度をコントロールするものである。

もちろん、差が負となる場合には、絶対値の大
小に関係なく、露光強度ゼロ（露光しない）とす
る。

このときの両者の差の大小を、そのまま露光強
度に比例させるのも一方法であるが、必らずし
も、正比例の関係でなく、段階的に変化させた
り、一定の上限をもうけたり、あるいは差の２乗
や平方根に比例させたりして、ソフトになる幅を
選択することができる。

第７図は、この方法により、一定の上限、下限
をもうけた場合の一実施例を示すブロツク図であ
る。

第７図中、１はアドレス発生器、２は、例えば
第２図に示す如きスクリーンレベルが所定のアド
レスに書込まれたスクリーンパターンメモリー、
３は減算器、４，６はコンパレータ、５は、デイ
ジタルスイツチ等により構成される上限値設定回
路、７は下限値設定回路、８はナンドゲート、
９，１０，１１はトリステートゲート、１２はデ
イジタル・アナログ変換器を示す。

第７図において、適宜のサンプリングピツチで
アナログ・デイジタル変換された画像信号ｎが、
参照値として加算器３の負端子に入力される一
方、クロツクパルスｔにより、アドレス発生器１
からテーブルメモリ２に対するアドレス指定信号
が出力され、当該テーブルメモリ２の所定アドレ
スから、前記した如きスクリーンレベルＤ対応の
数値ｍが、正端子に入力する。

減算器３で演算されたｍ−ｎの値は、次にコン
パレータ４および６にそれぞれ入力され、コンパ
レータ４においては、上限値設定回路５に設定さ
れた上限値V_naxと、コンパレータ６においては、
下限値設定回路７に設定された下限値Vminと、
それぞれ比較される。

例えば、減算器３で演算されたｍ−ｎの値が、
上限値V_naxに等しいか、あるいは上限値Vmaxよ
り大きな場合には、コンパレータ４からの出力に
より、ゲート９が開き、フル強度に相当するハイ
パターン信号「Ｈ」が、ゲート９を介して出力さ
れる。ｍ−ｎの値が、下限値V_nioに等しいか、あ
るいはより小さな場合には、コンパレータ６から
の出力信号により、ゲート１１が開き、光ビーム
強度零に相当するロウレベル信号「Ｌ」が、ゲー
ト１１を介して出力される。さらに、ｍ−ｎの値
が上限値V_naxより小さく、かつ下限値V_nioより大
きい場合には、ナントゲート８からの出力信号に
より、ゲート１０が開き、ｍ−ｎの値がゲート１
０を介して出力され、ｍ−ｎの値に応じた光ビー
ム強度になるよう、対応する光ビームを変調す
る。

なお、第７図に示す如き光ビームの変調制御回
路は、実際には、記録に供する光ビームの数だけ
並設される。

第２の方法は、微小点間隔に相当する密度の整
数倍の密度で、アドレツシングならびに参照比較
を行なつて、微小点間隔を一辺とする領域内のス
クリーンレベルＤと画像レベルＥの比較結果（露
光ならば１、露光しない時は０）を加算し、その
加算結果に比例した露光ビーム強度とする方法で
ある。

この方法で、参照間隔を微小点間隔の1/2（密
度２倍、面積では４倍）とした場合の一例を、第
８図に示す。

各微小点は、その周囲の４つの点での参照比較
結果の和に比例した光強度で露光される。

０／４は、周囲の４点とも露光しないという結
果が出た時、 1/4は、周囲の１点のみ露光するという結果が
出た時、 2/4は、周囲の２点のみ露光するという結果が
出た時、 3/4は、周囲の３点のみ露光するという結果が
出た時、 4/4は、周囲の４点とも露光するという結果が
出た時を示している。

この方法では、アドレツシング及び参照比較
を、２倍密度に行なわなければならないという欠
点があるが、それにも増して、次のようにすぐれ
た長所がある。

(1) 論理が簡単であり、スピードの向上と、４ま
でのカウントで対処できる。

(2) 個々の網点の周縁全体がソフトになる。

(3) 等高線図形の形を、より良く反映する。

(4) 最大点最小点も、ある程度しつかりする。

なお、第１の方法では、レベル差が小さいと、
最外縁でなくとも、中間強度で露光される場合が
ある。

第９図はこの方法を実施するための一例を示す
ブロツク図であり、１３，１４は左右のアドレス
発生器、１５はスクリーンパターンメモリ、１
６，１７はそれぞれコンパレータ、１８は加算
器、１９は加算レジスター、２０はデイジタル・
アナログ変換器である。

第９図において、適宜のサンンプリングピツチ
でアナログデイジタル変換された画像信号ｎが、
参照値として、コンパレータ１６，１７に入力さ
れる一方、参照クロツクパルスt₁（これは、後述
の変調クロツクパルスt₂の２倍の周波数で同期し
て入つてくる。）により、アドレス発生器１３及
び１４から、スクリーンパターンメモリー１５に
対する左右１対のアドレス指定信号が出力され
る。

該スクリーンパターンメモリーは、左及び右の
アドレス指定信号に応じたスクリーンレベル信号
m_L、及びm_Rを、それぞれコンパレータ１６及び
１７に入力する。

コンパレータ１６においてはｎとm_L、コンパ
レータ１７においてはｎとm_Rを、それぞれ比較
して、露光すべき時は１を、露光すべきでないと
きは０を加算器１８に入力する。

加算器１８は、左右両方の比較結果を加算し
て、その答を加算レジスターに入力する。

加算レジスター１９は、２回の参照クロツクに
対して、２回合計４回の比較結果のカウントを行
ない、０〜４までのいずれかの値を、変調クロツ
クt₂に同期して、デイジタル・アナログ変換器２
０に渡し、その後クリアーされる。

以上の如く発明によれば、スクリーン線数の変
更に、固定の副走査方式を採用することができ、
送り機構の簡略化がはかれるとともに、送りピツ
チに変化があつた場合に必要なビーム間隔、ビー
ム径及びビーム強度の調整が不要となるという効
果が得られる。

また、レイアウトスキヤナの出力機に適用した
場合には、文字やケイ線等を量子化した場合の座
標系（通常スクリーンピツチよりも細かく、微小
点間隔よりも粗い）と、絵柄の座標系（副走査ピ
ツチ）とが一定の関係になるので、絵柄、文字、
ケイ線の混在や同時出力が容易になる。

しかも磁気デイスク等に蓄わえられた同一の画
像情報をもとに、同じサイズで、スクリーン線数
が異なるいく組もの網目版画像を出力することが
できる。

さらに、従来の方法を有する重大な欠点である
整合具合の良い悪しによる個々の網点形状のバラ
ツキや、微小点個数のバラツキをやわらげること
ができ、ムラの発生を防止することができるのみ
ならず、ドツトがソフトになることにより、ドツ
トエツチングが行なえる等、すぐれた効果が得ら
れる。

【図面の簡単な説明】

第１−ａ図乃至第１−ｄ図は、従来のドツトジ
エネレータにおけるスクリーンパターンを示すも
ので、第１−ａ図は、スクリーン角度0゜相当のも
の、第１−ｂ図は、同じく15゜相当のもの、第１
−ｃ図は、同じく45゜相当のもの、第１−ｄ図は、
同じく75゜相当のもの、第２図は、網点の基本周
期を一辺とするスクリーンパターンの濃度立体
図、第３図は、第２図のスクリーンパターンを辺
に対して斜め方向に逐次参照する場合の座標変換
に係るアドレスと微小点の関係図、第４−ａ図及
び第４−ｂ図は、スクリーンパターン上の画像レ
ベルに対応する等高線図形に対する参照座標の整
合具合を示す図で、第４−ａ図は整合具合の良い
場合、第４−ｂ図は整合具合の悪い場合のもの、
第５−ａ図乃至第５−ｄ図は、露光ビーム強度を
段階変化させた場合の網点面積率の微小な変化の
様子を示す説明図で、第５−ａ図は、露光強度最
大を１として、それぞれ露光強度を０、1/4、2/
４、3/4、4/4とした場合の微小点の強度分布を示
す網点中央断面相当図、第５−ｂ図は、露光強度
１をもつて露光される15個の微小点と、その近傍
における２個の微小点を４段階に露光強度を変化
させる場合の網点モデルの微小点配列図、第５−
ｃ図は、第５−ｂ図の網点モデルにおけるＡ点Ｂ
点の微小点の露光強度を変化させた場合の、網点
面積率に対応する等高線を示す網点の図、第５−
ｄ図は、第５−ｃ図における10％、30％、50％光
量の等高線図形の面積変化と、Ａ点とＢ点の露光
強度の組み合せとによる特性グラフ、第６−ａ図
及び第６−ｂ図は、スクリーンパターンと画像レ
ベルとの整合具合を示す波形図で、第６−ａ図
は、整合具合の良い場合、第６−ｂ図は、整合具
合の悪い場合をそれぞれ示し、第７図は、本発明
方法を実施するための電気回路の一実施例を示す
ブロツク図、第８図は、第７図の実施例とは異る
他の手段によつて本発明方法を実施するための、
各微小点の配列と参照点の配列関係を示す図、第
９図は、第８図に示す参照点をもつて、本発明方
法を実施するための電気回路の一例を示すブロツ
ク図である。１，１３，１４…アドレス発生器、２，１５…
スクリーンパターンメモリ、３…減算器、４，
６，１６，１７…コンパレータ、５…上限値設定
回路、７…下限値設定回路、８…ナンドゲート、
９，１０，１１…トリステートゲート、１２，２
０…デイジタル・アナログ変換器、１８…加算
器、１９…加算レジスタ。

Claims

【特許請求の範囲】１露光用ビームで感光材を走査し、記録すべき
網目版画像の網点領域内のみに、複数個の微小点
を格子状の配列で露光して網点を形成する方法に
おいて、前記微小点を記録する露光用光ビームの
光量分布を、中心から周辺に向けて斬減させると
ともに、微小点もしくはそれの配列パターンと網
点領域との整合度に基いて、該当微小点の露光強
度を制御することを特徴とする網目版画像記録装
置における網点形成方法。２格子状に配列された各微小点の周囲に、それ
ぞれ複数個の参照点を配置し、それらの参照点が
網点領域に含まれるか否かにより、微小点の配列
格子パターンと網点領域との整合度を検出し、そ
の整合度により、微小点の露光強度を制御するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の網
目版画像記録装置における網点形成方法。３４個の参照点を、微小点を中心とする正方形
の角に１組配置し、その１組の参照点が網点領域
に何個含まれているかに応じて、露光強度を、
１、3/4、1/2、1/4、又は０、に制御することを
特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の網目版
画像記録装置における網点形成方法。４格子状に配列された各微小点に対応するとこ
ろで、網点情報のレベルが画像レベルを越えた網
点領域レベルを検出し、その網点領域の周辺部に
おける微小点対応の網点領域レベルの大きさに基
いて、対応微小点の露光強度を制御することを特
徴とする特許請求の範囲第１項に記載の網目版画
像記録装置における網点形成方法。