DE3338828C2

DE3338828C2 - Verfahren zur Erzeugung von Halbtonpunkten auf einem lichtempfindlichen Material

Info

Publication number: DE3338828C2
Application number: DE3338828A
Authority: DE
Inventors: Takashi Sakamoto
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1982-10-28
Filing date: 1983-10-26
Publication date: 1994-07-21
Anticipated expiration: 2003-10-27
Also published as: DE3338828A1; FR2535477A1; JPH0249592B2; GB2132847A; FR2535477B1; GB8328578D0; US4543613A; JPS5978353A; GB2132847B

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Erzeugen von Halbtonpunkten auf einem lichtempfindlichen Material durch eine Bestrahlung mit einer zeilenweise über das Material geführten Vielzahl von Lichtstrahlen, um eine Vielzahl von gitterartig angeordneten kleinsten Punkten innerhalb der Fläche eines jeden Halbtonpunktes zu belichten, wobei die Lichtstrahlen in Abhängigkeit von einem durch zeilenweises Abtasten eines Originalbildes erhaltenen Bildsignal und einem Rastersignal gesteuert werden, das aus einem Speicher ausgelesen wird, in dem eine Vielzahl von Rastersignalen gespeichert ist, wobei die Belichtungsintensität für die kleinsten Punkte vom Zentrum des Halbtonpunktes nach außen hin abnimmt und durch den Vergleich des Rastersignalwertes mit dem Bildsignal an einer Mehrzahl von Referenzpunkten gesteuert wird.

Dieses Verfahren, angewendet bei dem sogenannten Punktätzen der Halbtonpunkte, ist durch die DE-OS 32 01 373 bekannt geworden.

Bei der elektronischen Bildverarbeitung, insbesondere zum Herstellen von Drucken, bereitet vor allem die korrekte Wiedergabe von Grauwerten bzw. bei Farbbildern die korrekte Wiedergabe abgestufter Farbtöne Probleme. Für eine zufriedenstellende Wiedergabe von Grautönen muß das Bild bzw. Original gerastert werden, d. h. es wird in eine Vielzahl kleiner Flächenelemente, der sogenannten Rasterpunkte, aufgeteilt. Jeder dieser Rasterpunkte selbst enthält eine Vielzahl sogenannter "kleinster Punkte", in der Drucktechnik im allgemeinen als Pixel bezeichnet, die sich In einer gitterartigen Anordnung befinden, und von denen die belichteten Pixel den Halbtonpunkt Innerhalb des Rasterpunktes bilden.

Um insbesondere beim Vierfarbendruck das Auftreten von gegenseitig störenden Moir´- Interferenzbildern der vier Farbplatten cyan, magenta, gelb, schwarz im Randbereich der Halbtonplatten zu vermeiden, ist es bekannt (JP-52-49361), das Raster winklig anzulegen, mit unterschiedlichen Tangensverhältnissen.

In den Fig. 1a bis 1d ist eine derartige Rasterwinkelung dargestellt, wobei die schraffierten Flächen jeweils einen Halbtonpunkt darstellen und der (nicht dargestellte) Rasterpunkt eine durch die vier Ecken der quadratischen Fläche aufspannt. Die Rasterwinkelung ist dabei auf die Vertikale als Bezugslinie bezogen.

In Fig. 1a ist der tangens R = 0, entsprechend einer Rasterwinkelung von 0°. In Fig. 1b ist der tangens R = 1/3, was einer Rasterwinkelung von 15° entspricht. In Fig. 1c beträgt der tangens R = 1/1, was einer Rasterwinkelung von 45° entspricht. In Fig. 1d schließlich ist der tangens R = 3/1 entsprechend einer Rasterwinkelung von 75°.

Es hat sich gezeigt, daß bei Rasterwinkelungen nach den Fig. 1a bis 1d Moir´-Inter ferenzbilder in den Randbereichen nicht auftreten.

Bei dem Verfahren zur Erzeugung von Halbtonpunkten kommt es nun darauf an, die Belichtungs intensität für die kleinsten Punkte des Halbtonpunkten abgeleitet von dem Bildsignal, in geeigneter Weise zu steuern in Korrelation mit dem Rastersignal, das die Position des zu belichtenden Halbtonpunktes angibt. Die Rastersignale werden dabei elektronisch gespeichert, wobei die Position der Halbtonpunkte durch entsprechende fortlaufende Adressen im Speicher bestimmt wird.

Bei dem vorstehenden Verfahren werden Halbtonpunkte auf der ganzen Abbildung mit Bezugsadressen versehen, die in der Hauptabtastrichtung aufeinander folgen, und durch einen Speicher verhältnismäßig kleiner Kapazität ausgegeben werden. Das heißt,jede Richtung entlang der Längs- und Querseite des quadratischen oder rechteckigen Bildes, in welchem das Rastermuster geschrieben ist, stimmt mit der Richtung in einem entsprechend organisierten Speicher überein, auf welche die Adressen im Speicher bezogen sind. Die Organisation des Speichers ist dabei so getroffen, daß jede Speicheradresse eindeutig nur einer Koordinatenposi tion zugeordnet ist.

Um einen Halbtonpunkt mit einer Rasterwinkelung von 15° zu erzeugen, ist bei diesem Verfahren ein Speicher mit einer Kapazität notwendig, die eine relativ weite Fläche mit mehr als einigen Halbtonpunkten darin abdeckt (die in den Fig. 1b und 1d gezeigten Beispiele sind Fälle von 10 Halbtonpunkten) und in den ein diagonales Rastermuster einschreibbar ist.

Wie man leicht aus den Fig. 1a bis 1d versteht, kann jedes dieser in der Speichervorrichtung eingeschriebenen Rastermuster kontinuierlich an den gegenüberliegenden Seiten angesetzt bzw. fortgesetzt werden.

In der Praxis ist es jedoch nicht möglich, Rastermuster für das Vierfarbdrucken bzw. mehrere Muster mit Rasterwinkelungen von exakt 0°, 15°, 45° und 75° vorzugeben, und zwar z. B. wegen einer gewissen Beschränkung beim Druck, wegen des Inhaltes einer Bildvorlage. Dadurch kann ein durch Moir´-Interferenzbilder gestörter Rand erzeugt werden.

Um einen solchen Überlagerungsrand von Moir´-Bildern zu beseitigen, muß die Anzahl der Rasterlinien verändert werden, d. h. entweder muß die Anzahl der Pixel in einem Halbtonpunkt bei Verwendung eines unterschiedlichen Rastermusters verändert werden oder es muß der Durchmesser des Pixels oder der Abstand zwischen den Pixeln verändert werden, bei Verwendung desselben Rastermusters.

Bei dem herkömmlichen Verfahren, bei welchem das Rastermuster variiert wird, ist die Schaffung einer Gruppe von vier Farbrastermustern entsprechend der Vielzahl der Rasteranzahl sehr schwierig.

Daher ist es zweckmäßig, das letztgenannte Verfahren anzuwenden, bei welchem der Durchmesser Pixel oder der Abstand zwischen den Pixeln variiert werden kann, und zwar durch Verwendung eines Objektivs mit veränderlicher Brennweite oder eines Wechselobjektivs, zusätzlich zur Veränderung der Abtastteilung oder der Abtastzeit bei der Verwendung desselben Rastermusters.

Insbesondere die Änderung der Abtastteilung entsprechend der Anzahl der Rasterlinien bringt Nachteile, weil z. B. der Abtastmechanismus kompliziert wird; Einstellungen des Abstandes zwischen den Lichtstrahlen des Durchmessers und der Intensität derselben usw. sind erforderlich. Außerdem besteht ein weiterer Nachteil darin, daß ein Verhältnis zwischen einem Koor dinatensystem, in welchem ein Zeichen, eine gezogene Linie usw. quantisiert ist, und einem Koordinatensystem, in welchem ein Bildmuster quantisiert ist, nicht konstant gehalten werden kann, so daß ein Bild, welches sowohl ein Zeichen und dergleichen als auch Bildmuster enthält, nicht gleichzeitig beim Abtasten aufgezeichnet werden kann. Außerdem ist es unmöglich, eine große Gruppe oder mehrere Gruppen von Halbtonbildplatten in derselben Größe aufzuzeichnen mit unterschiedlicher Anzahl von Abtastlinien, wobei als Basis auf die gleichen Bildinformationen Bezug genommen wird, die in einer Aufzeichnungseinrichtung, wie z. B. einer Magnetplatte usw., gespeichert sind.

In der Abhandlung "New Development in Scanner Technology", beschrieben auf Seite 251 des 1981 veröffentlichten "Progress of Technical Association of the Graphic Arts", wird ein Verfahren zur Vermeidung der vorstehend beschriebenen Nachteile empfohlen.

Diese Abhandlung beschreibt ein Verfahren, bei dem ein Quadratspeichermuster mit einer Seitenlänge entsprechend der Grundperiode eines Halbtonpunktes in schräger Richtung aufgenommen ist, welche nicht mit einer Richtung einer Seite eines Rastermusters überein stimmen muß.

Bezüglich des vorstehend beschriebenen Verfahrens wird nachfolgend eine kurze Beschreibung gegeben.

Fig. 2 zeigt einen quadratischen Rasterpunkt, über dem zusätzlich in vertikaler Richtung das sogenannte Rasterniveau bzw. Rastermuster eingezeichnet ist, welches in digitalisierter Form in einem Speicher vorliegt.

Fig. 3 veranschaulicht eine Koordinatentransformation für den Fall, daß in den Speicher ein winkliges quadratisches Rastermuster eingeschrieben wird.

Die Richtungen der X- und Y-Achsen sind Koordinatenachsen der Adressen des Speichers, die mit einer Richtung der Grundperiode eines Halbtonpunktes übereinstimmen. u und v bezeichnen eine Abtastrichtung bzw. eine Vorschubrichtung.

Nimmt man bei der Betrachtung der Fig. 3 an, daß der Winkel zwischen der Abtastrichtung und der X-Achse des Koordinatensystems R ist, ergibt sich die folgende Gleichung der Koordinaten transformation:

Unter der Annahme, daß das Interval zwischen den den Halbtonpunkt bildenden Pixeln p ist, und wenn man einsetzt, u = mp, v = np, dann ergibt sich:

Unter der Annahme, daß die Koordination in Vorschubrichtung während einer Periode der Hauptabtastung konstant sind, ergibt sich:

wobei

mit p = Abstand zwischen den Pixeln der Haltonpunkte.

Die letzteren Gleichungen (3′) verändern sich nicht während einer Periode der Hauptabtastung.

Bei jedem Anfangspunkt des betreffenden Hauptabtastvorganges werden C₁ und C₂ zuvor so berechnet, daß sie eingestellt werden als X = C₁ und Y = C₂, wovon jedesmal der Hauptabtast vorgang vorschreitet, wobei p cos R zu einer Adresse der X-Koordinate und p sin R zu der Y- Koordinate des Gittermusters addiert wird, auf das zum betreffenden Zeitpunkt Bezug genommen wird.

Wenn in diesem Falle jede der Adressen der X-Koordinate und jede der Y-Koordinate des vorstehend erwähnten Rastermusters zur Nten Potenz von 2 gemacht werden, kann im Verlauf der Adressenberechnung des vorstehend beschriebenen Ausdruckes (3) auf der Grundlage einer binären Rotation, selbst wenn dort ein Überlauf auftritt, der in die Berechnung eingeht, der Rastermusterspeicher endlos von links nach rechts und umgekehrt dadurch geschoben werden, daß die vorderen Binärstellen vernachlässigt werden.

Wenn in diesem Falle N gleich 6 ist und ein Rastermuster von mehr als 256 Stufungen durch 64 × 64 Adressen benutzt wird, kann ein ausreichend gleichmäßiges Rastermuster erhalten werden. Wenn jedoch die Genauigkeit der Berechnung nicht hoch ist, selbst wenn es erwünscht ist, die Rasterwinkelung R = 15° einzustellen, wenn p cos R und p sin R berechnet werden, tritt wegen durch die digitale Berechnung hervorgerufener Rundungsfehler dieselbe Wiederholung in verhältnismäßig kurzer Zeit auf.

Um den vorgenannten Nachteil zu vermeiden, selbst wenn eine Seite des Rastermusterspeichers von quadratischer Gestalt mit 6 Bits (2⁶ = 64) ist, müßte die Genauigkeit der Berechnung der X- und Y-Koordinaten extrem hoch sein. Der Genauigkeitsgrad ist so hoch, daß in ausreichender Weise die Anzahl notwendiger Halbtonpunkte bis zur maximalen Größe berechnet werden kann, die ausgegeben werden kann. Beträgt beispielsweise die Länge der größeren Seite 30 Zoll, die Anzahl der Rasterlinien 175 pro Zoll, dann ist die Anzahl 175 × 30 × 64 = 336 000 < 2¹⁸. Mit einer Potenzzahl größer als 18 Bits und 1 Byte (8 Bits)-Multiplizierer kann eine Adresse auf eine Länge von 24 Bits oder 32 Bits eingestellt werden.

Um zu bestimmen, ob ein Rasterpunkt belichtet werden soll oder nicht, wird das bei einem Originalbild gemessene Bildsignal, welches zu der Fläche (bzw. einem kleinen Flächenbereich) dieses Rasterpunktes gehört, mit dem Rasterniveau verglichen, und zwar auf der Grundlage von X- und Y-Adressen, die nach der vorstehend beschriebenen Weise erhalten werden. Im folgenden werden der Einfachheit halber lediglich Schwarz/Weiß-Bilder mit entsprechenden Grauwert abstufungen diskutiert. Die Übertragung auf Farbbilder ist für die sogenannte "Dichte" der einzelnen Farbauszüge analog zu den Grauwerten von Schwarz/Weiß-Bildern.

Im einfachsten Fall wird den Bereichen, in denen das Rasterniveau größer ist als das Bildsignal, der Pixel belichtet bzw. geschwärzt, während in den Bereichen, in welchen das Rasterniveau kleiner ist als das Bildsignal, der Film unbelichtet, also weiß bleibt. Geht man davon aus, daß hohe Bildsignale schwarzen Flächen des Originalbildes entsprechen, so erhält man auf diese Weise ein Negativ bzw. Umkehrbild des Originalbildes, bei der Definition "weiße Fläche" = hohes Bildsignal ergibt sich ein positives Abbild. In Fig. 2 ist die unter dem durch (kreisförmige) Höhenlinien verdeutlichten Rasterniveau dargestellte Ebene eine Schnittebene bei einem Rasterniveau, welches größer als Null ist. Man kann diese Ebene auch als Ebene eines konstanten Bildsignales ansehen. Der Schnitt der glockenförmigen Rasterniveaufläche und der in Fig. 2 dargestellten Ebene ergibt dann einen Kreis, und zwar dem am weitesten unten erkennbaren Umfangskreis am unteren Rand der in Fig. 2 dargestellten Glockenfläche. Alle Pixel innerhalb dieser Fläche werden belichtet, alle Pixel außerhalb dieser Fläche bleiben unbelichtet. Ist das Bildsignal sehr hoch (weiß, und auf der Fläche des Rasterpunktes als konstant angenommen), so schneidet die betreffende Bildsignalebene die Glockenfläche sehr weit oben oder gar nicht, so daß der sich im Schnitt ergebende Kreis sehr klein wird bzw. verschwindet und mithin nur eine kleine Anzahl von Pixeln (oder überhaupt keine) im Zentrum des Rasterpunktes belichtet wird. Ist das Bildsignal sehr niedrig (Originalbildfläche in diesem Bereich schwarz), so schneidet die Bildsignalebene die Glockenfläche sehr weit unten, so daß die sich ergebende belichtete Kreisfläche den Rasterpunkt praktisch vollständig abdeckt.

Es versteht sich, daß bei einem solchen Halbtonpunkt die belichtete Fläche nicht notwendigerwei se einen zentralen Kreis bilden muß, der je nach Bildsignal größer oder kleiner ist, sondern auch eine beliebige Form haben kann, z. B. gemäß Fig. 1a bis 1d eine quadratische, durch Schraffur als belichtet angedeutete Fläche. Dies ist eine übliche Form, in welcher belichtete Pixel in der Drucktechnik auf einem Rasterpunkt angeordnet werden. In der Sprache der vorliegenden Anmeldung bezeichnet dabei der Begriff "Halbtonpunkt" nicht den ganzen Rasterpunkt, sondern nur jeweils dessen belichtete Fläche. Die Schnittlinie, die sich aus dem Bildsignal und dem Rastermustersignal ergibt, muß aber weder ein Kreis noch ein solches Quadrat wie in Fig. 1a sein, sondern kann im Prinzip eine beliebige Form annehmen, wobei im allgemeinen jedoch darauf geachtet wird, daß die einzelnen Rasterpunkte bei zunehmender Schwärzung der Gesamtfläche jeweils vom Zentrum her aufgefüllt werden. Die Umrißform der jeweils belichteten Fläche ergibt sich, wie bereits erwähnt, als Schnittlinie der durch das Rastermustersignal definierten Oberfläche mit dem Bildsignal.

Bei dem vorstehend beschriebenen Verfahren kann ein Halbtonbild irgendeiner beschriebenen Rasterwinkelung ausgegeben werden, wobei dasselbe Rastermuster benutzt wird, nur durch Veränderung der Rasterwinkelung R, und ferner kann durch Veränderung des Wertes von p ein Halbtonpunkt jeder beliebigen gegebenen Rasterlinienanzahl ausgegeben werden. Das heißt, sobald p kleiner ist, werden die Zeiten des Addiervorganges für die X- und Y-Adressen, der notwendig ist, um die Grundperiode des Rastermusters zu erhalten, höher, so daß selbst dann, wenn der Hauptabtastzeitgeber und der Vorschub konstant arbeiten, ein großer Halbtonpunkt ausgegeben werden kann.

Basierend auf der vorstehend beschriebenen Technik können der Vorschubmechanismus, die Schaltung für die Erzeugung des Hauptabtastzeitgebers usw. vereinfacht werden. Selbst wenn es einige Veränderungen in der Vorschubteilung gibt, sind Einstellung und/oder Modifikation bezüglich des Abstandes zwischen Strahlen, die Größe der Strahlen, die Intensität der Strahlen usw., die in dem herkömmlichen Verfahren notwendig gewesen waren, nicht erforderlich.

Bei diesem Verfahren tritt dennoch ein erheblicher Nachteil aufgrund nachstehender Verfahrens weise auf. Bei dem Verfahren wird letztlich ein Rasterniveau D, dessen Koordinaten durch Verwendung der Teilung p im Vorschub erhalten werden, die einer gewünschten Rasterwinkelung R und der gewünschten Rasterlinienzahl entspricht, mit dem Abbildungsniveau verglichen, und entsprechend dem Ergebnis wird bestimmt, ob die Belichtung durchgeführt werden sollte oder nicht. Selbst wenn also eine identische Konturlinienkonfiguration angenommen bzw. als Bezug genommen wird, indem man auf den Grad der Übereinstimmung einer Konturlinienkonfiguration, welche dem Abbildungsniveau E auf dem Rastermuster entspricht, zu den Bezugskoordinaten abstellt bzw. diesen Grad als Basis nimmt, tritt eine Variation in der Anzahl der belichteten Pixel auf.

Die Fig. 4a und 4b zeigen eines der Beispiele der oben beschriebenen Fälle. Fig. 4a zeigt einen Fall, bei welchem der Grad der Übereinstimmung gut ist, und Fig. 4b zeigt einen anderen Fall, in welchem der Grad der Übereinstimmung bzw. Anpassung nicht gut ist. Hier in den Fig. 4a und 4b sind Fälle gezeigt, bei denen die Belichtung der Pixel ausgeführt wird, wenn das Rasterniveau D höher ist als das Abbildungsniveau E, welches der Helligkeit des zu re produzierenden Bildmusters entspricht.

Selbst wenn es mit dem Abbildungsniveau identisch ist, ergibt sich, wie oben beschrieben, je nach dem Grad der Übereinstimmung der Koordinaten, die sich auf das Rastermuster beziehen, ein erheblicher Unterschied in der Anzahl der zu belichtenden Pixel. Diese Streuung in der Anzahl der belichteten Pixel führt zum Auftreten nachteiliger Unschärfen in der Halbton-Druckplatte. Denn, wie man in den Fig. 4a und 4b erkennt, können die von der Konturlinie (= Schnittlinie zwischen Rastermustersignal und Bildsignal) umfaßten Pixel in der Anzahl relativ stark schwanken, selbst wenn die zugehörige Konturlinie jeweils die gleiche Fläche umfaßt. Auch wenn man sich die Konturlinie zunächst mit einer großen Fläche und dann allmählich schrumpfend darstellt (Bildsignal steigt an), so stellt man fest, daß die Zahl der von der Konturlinie umfaßten Pixel sich immer dann sprunghaft ändert, wenn die Konturlinie die Gitterlinien überschreitet, die durch das Gitter der Pixel definiert werden. Dies kann zu einem ungleichmäßigen (marmorierten) Erscheinungsbild von Flächen führen, die an sich im Original gleichförmig erscheinen, insbesondere wenn man einen gleitenden Übergang zwischen grauen Flächen hat.

Ein Verfahren, bei welchem nur die Intensität eines Belichtungsstrahles stufenweise verändert wird, ist in der US-PS 4,025,189 beschrieben. Gegenstand der in dieser Patentschrift be schriebenen Erfindung ist jedoch nicht die Feinregulierung der Fläche eines Halbtonpunktes, sondern er liegt in der konsequenten Bildung eines Halbtonpunktes (weicher Punkt), bei welchem die Menge an Silber im Belichtungsmaterial zum Rand hin kleiner als in seiner Mitte ist. Wenn es bei dem Verfahren der Plattenherstellung erwünscht ist, einen Teil oder alle Halbtonpunkte eines Filmes, der einmal belichtet und entwickelt worden ist, kleiner zu machen, wird die Punktätzung durchgeführt. Es ist bekannt, daß in diesem Fall, selbst wenn der Halbtonpunkt durch das Ätzen kleiner gemacht wird, in einem weichen Punkt eine erhebliche Menge Silber in dem Mittenteil verbleibt.

Das in der vorgenannten US-PS 4,025,189 beschriebene Verfahren besteht darin, daß bei der Berechnung der Intensität eines Belichtungsstrahles die Ergebnisse, wenn zu einem Paar von Werten, die in der Vorschubrichtung eines Rastermusterspeichers ausgerichtet sind, der Zugriff gleichzeitig erfolgt und Unterschiede, welche durch Vergleichen jedes Wertes mit dem Niveau derselben Abbildung erhalten und als a und b eingesetzt werden, folgendermaßen sind: Wenn sowohl a als auch b positive Werte sind, ist die Intensität 100% der Intensität des Lichtstrahles, wenn beide negativ sind, ist die Intensität 0% der des Lichtstrahles, und in dem Fall, wenn a und b unterschiedliche Zeichen sind, wird die Intensität des Belichtungsstrahles nach der folgenden Gleichung berechnet:

Dieses Verfahren beruht jedoch auf der Voraussetzung, daß im Falle von Vielfachdrucken das den Speicher zuordnende Verfahren nach der vorstehend beschriebenen japanischen Patentver öffentlichung Nr. 52-49361 angewendet wird. Deshalb ist in der Beschreibung dieser Ver öffentlichung bezüglich der hohen Qualität im Grad der Konformität bzw. Übereinstimmung der Koordinaten hinsichtlich der bei dem in Rede stehenden Rastermuster Bezug genommen wird, und der Verteilung der Anzahl der Pixel nichts ausgesagt.

Zusätzlich besteht ein weiterer Nachteil darin, daß die Berechnung für die Bestimmung der Intensität des Belichtungsstrahles recht kompliziert ist.

Die Erfindung schließt an die Überlegungen zu den Fig. 4a und Fig. 4b an unter Berücksichtigung der eingangs bezeichneten DE-OS 32 01 373, die den nächstkommenden Stand der Technik bildet. In dieser Schrift wird die Möglichkeit angesprochen, die Belichtung der Pixel im Randbereich in Abhängigkeit von mehreren Referenzwerten zu steuern. Zu beachten ist dabei jedoch, daß diese Schrift sich generell mit der Punkt-Ätzung und den hierfür erforderlichen Maßnahmen befaßt, da nämlich die Ätzverfahren nur in diesen teilbelichteten Randbereichen der Halbtonpunkte Wirkung zeigen. Darüberhinaus ist die Zuhilfenahme von Referenzwerten bzw. Referenzpunkten für die Belichtung der nahe am Rand liegenden Pixel eines Halbtonpunktes nur in einer sehr allgemeinen und nicht näher spezifizierten Form in der genannten Druckschrift offenbart.

Die Halbtonpunkte, welche Randbereiche mit abgestufter Belichtung aufweisen und damit eine gleichmäßigere Grauwertabstufung ermöglichen, werden auch als "weiche" Halbtonpunkte bezeichnet.

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein weiteres Verfahren zur Erzeugung weicher Halbtonpunkte zu schaffen, weiches darüberhinaus mit einer sehr einfachen und schnellen Verarbeitungslogik realisierbar ist und wobei die oben im einzelnen ausführlich beschriebene Konturlinie der Halbtonpunkte durch die belichteten Pixel möglichst gut wie dergegeben wird. Die schnelle Verarbeitungslogik ist deshalb von erheblicher Bedeutung, weil die Dichte der Pixel bei qualitativ hochwertiger Bildwiedergabe bis zu 1333 pro cm bzw. ca. 1,8 Mio. pro cm² betragen kann, was selbst bei sehr schneller Bildverarbeitung mehrere Minuten Bearbeitungszeit pro DIN A4-Seite erfordern kann.

Die vorstehend genannte Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß die Dichte der Referenzpunkte einem ganzzahligen Vielfachen der Dichte der kleinsten Punkte (Pixel) entspricht und daß die Belichtung jedes der kleinsten Punkte abgestuft zwischen minimalen und maximalen Belichtungsintensitäten jeweils dem Anteil der dem jeweiligen kleinsten Punkt aus seiner unmittelbaren Umgebung zugeordneten Referenzpunkte entspricht, an welchen das Bildsignal kleiner ist als das Rastersignal.

Gemäß der vorliegenden Erfindung werden durch ein neuartiges Verfahren die innerhalb der Konturlinie, jedoch nahe an deren Rand liegenden Pixel anders, nämlich schwächer belichtet, als die Pixel im Zentrum der Konturlinie bzw. im Zentrum des Halbtonpunktes. Gemäß einer Ausführungsform sind fünf verschiedene Belichtungsintensitäten für jeden der Pixel beispielhaft vorgesehen.

Für eine Teilbelichtung reicht es nach dem erfindungsgemäßen Verfahren aus, daß das Bildsignal an einem der Referenz- bzw. Bezugspunkte kleiner ist als das Rastersignal. Die belichtete Fläche wird damit größer und der von der Konturlinie eingeschlossenen Fläche ähnlicher. Außerdem ist die Logik, welche die Belichtungswerte der Pixel berechnet, sehr einfach und schnell, es müssen Differenzen nicht hinsichtlich ihrer Größe erfaßt bzw. einem Intervall zugeordnet werden, sondern es finden lediglich Ja-Nein-Entscheidungen aufgrund der Vergleiche zwischen Rastersignal und Bildsignal sowie einfache Additionen mehrerer Werte statt, wobei die Zahl der erforderlichen Additionen davon abhängt, um wieviel höher die Dichte der Bezugspunkte im Vergleich zu den Pixeln ist. Zweckmäßig ist selbstverständlich immer eine Anordnung der Bezugspunkte, bei welcher diese jeweils symmetrisch um einen der kleinsten Punkte herum angeordnet sind.

Während beim Druck die einzelnen Pixel entweder nur schwarz oder weiß sein können und auf diese Weise das Verhältnis der schwarzen zu den weißen Pixeln im Mittel den jeweiligen Grauwert der Fläche ergibt, macht die vorliegende Erfindung Gebrauch davon, daß bei der Belichtung von lichtempfindlichem Material, wie z. B. Filmen, auch die einzelnen Pixel noch unterschiedliche Grauwertabstufungen erhalten können, indem sie mit unterschiedlichen Lichtintensitäten belichtet werden. (Die Filmkörnung ist i. a. kleiner als die "kleinsten Punkte").

Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung sind die Bezugspunkte in einem gitterartigen Muster angeordnet. Dadurch wird quasi ein Übergitter aus Referenz- bzw. Bezugspunkten aufgebaut, wobei die Dichte der Punkte dieses Übergitters ein ganzzahliges Vielfaches, also mindestens das Doppelte der Dichte der kleinsten Punkte beträgt.

Das erfindungsgemäße Verfahren läßt sich in besonders vorteilhafter Weise durchführen, wenn eine Gruppe von vier Bezugspunkten an einer Ecke eines Quadrates angeordnet wird, wobei die Mitte des Quadrates ein kleinster Punkt ist, und wenn entsprechend der Anzahl der Bezugspunkte In der Gruppe, welche die Bedingung Bildsignal kleiner als das Rastersignal erfüllen, die Intensität der Belichtungsstrahlen auf 1, 3/4, 1/2, 1/4 oder 0 eingestellt wird.

Weitere Vorteile, ausgestaltende Merkmale und Anwendungsmöglichkeiten der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der vorliegenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele in Verbindung mit den Zeichnungen. Es zeigt

Fig. 1a bis Fig. 1d Rastermuster eines herkömmlichen Punktgenerators, wobei
Fig. 1a eine Ansicht des Rastermusters mit der Rasterwinkelung R von 0° ist,
Fig. 1b die Ansicht eines Rastermusters mit einer Rasterwinkelung R von 15° ist,
Fig. 1c die Ansicht eines Rastermusters mit der Rasterwinkelung R von 45° ist und
Fig. 1d die Ansicht eines Rastermusters mit der Rasterwinkelung R von 75° ist,

Fig. 2 eine räumliche Dichtedarstellung eines Rastermusters, bezogen auf die Grundperiode eines Halbtonrasters,

Fig. 3 ein Diagramm zur Darstellung des Verhältnisses zwischen Adressen, unterworfen einer Koordinatentransformation, und Pixeln im Falle des in Fig. 2 gezeigten Rastermusters für mehrere, schräg und parallel verlaufende Richtungen,

Fig. 4a und Fig. 4b Ansichten unter Darstellung des Grades der Übereinstimmung der Bezugsko ordinaten mit einer Konturlinienkonfiguration, welche dem Niveau einer Ablichtung auf dem Rastermuster entspricht,
Fig. 4a ist die Ansicht eines Falles, in welchem der Grad der Übereinstimmung gut ist,
Fig. 4b ist die Ansicht eines Falles, in welchem der Grad der Übereinstimmung nicht gut ist,

Fig. 5a bis Fig. 5d Ansichten unter Darstellung des Zustandes des feinstufigen Wechsels eines Halbtonpunktflächenverhältnisses im Falle, daß die Intensität des Belichtungsstrahles stufenweise variiert wird,
Fig. 5a ist die Schnittansicht des Mittelteils eines Halbtonpunktes unter Dar stellung der Verteilung der Intensität der Pixel in dem Falle, wenn die Maximalintensität des Belichtungsstrahles auf 1 eingestellt ist und jede Intensität der Belichtungsstrahlen auf 1/4, 2/4, 3/4 bzw. 4/4 davon definiert ist,
Fig. 5b ist die Anordnung einer Vielzahl von Pixeln eines Modelles eines Halbtonpunktes im Falle von 15 Pixeln, welche belichtet sind durch die maximale Intensität 1 des Belichtungslichtes, und zweier Pixel in der Nachbarschaft dieser, bei denen die Intensität der Belichtung in vier Stufen variiert ist,
Fig. 5c ist eine Ansicht eines Halbtonpunktes unter Darstellung der Konturlinien entsprechend dem Halbtonpunktenflächenverhältnis im Falle der Intensität des Belichtungslichtes bei zwei Pixeln A und B in dem in Fig. 5b gezeigten Halbtonpunktmodell, wenn sie variiert wird,
Fig. 5d ist eine charakteristische graphische Darstellung einer Kombination von Flächenänderungen der Konturlinienkonfiguration bei der Menge an Licht, welches 10%, 30% und 50% ist, wie in Fig. 5c gezeigt ist und der Intensitäten des Belichtungslichtes bei den Punkten A und B,

Fig. 6a und Fig. 6b eine Kurvenform unter Darstellung des Grades der Übereinstimmung eines Rastermusters und eines Abbildungsniveaus,
Fig. 6a zeigt einen Fall des Grades der Übereinstimmung, der gut ist,
Fig. 6b zeigt eine Fall, bei welchem der Grad der Übereinstimmung nicht gut ist,

Fig. 7 ein Blockschaltbild einer Ausführungsform einer elektrischen Schaltung für die Druchfüh rung des Verfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung,

Fig. 8 die Darstellung des Verhältnisses zwischen der Anordnung jedes Pixels und der jedes der Bezugspunkte zwecks Durchführung des Verfahrens nach der vorliegenden Erfindung durch andere Mittel als bei der Ausführungsform gemäß Fig. 7, und

Fig. 9 ein Blockschaltbild eines Beispiels einer elektrischen Schaltung zur Durchführung des Verfahrens gemäß der Erfindung, basierend auf dem in Fig. 8 gezeigten Konzeption.

Es werden nun die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung beschrieben.

Die Fig. 5a bis 5d zeigen Beispiele, welche feinstufige Veränderungen der Halbtonpunktfläche Im Falle von zwölf Pixeln veranschaulichen, bei welchen die Intensität des Belichtungsstrahles stufenweise variiert wird. Fig. 5a zeigt ein Beispiel einer Verteilung der Belichtungsintensitäten der Pixel für den Fall, daß die maximale Intensität des belichtenden Lichtes auf 1 eingestellt ist, sowie für die Fälle, daß die Intensitäten der Belichtungslichtstrahlen auf 0, 1/4, 2/4, 3/4 und 4/4 eingestellt werden.

Die Verteilung der Intensität der in Fig. 5a gezeigten Pixel veranschaulicht die Gauß′sche Verteilung, wobei der Abstand zwischen dem Maximum und der Position, bei welcher die Intensität des Lichtes die Hälfte der des mittleren Teils ist, so bestimmt wird, daß er die Hälfte des Abstandes zu dem benachbarten Pixel ist. Zu beachten ist, daß Fig. 5a die Lichtverteilung über jeweils einem der Pixel zeigt (im Gegensatz zu Fig. 2, die im wesentlichen einen kompletten Rasterpunkt wiedergibt), wobei gestrichelt auch Belichtungen der benachbarten kleinsten Punkte (mit dem maximalen Belichtungswert 4/4) dargestellt sind.

Eine Konturlinie für eine Lichtmenge von 30%, wenn die Intensitäten des Lichtstrahles sowohl am Punkt A als auch am Punkt B des in Fig. 5b gezeigten Halbtonpunktmodells variiert werden, und zwar unter Verwendung solcher Strahlen wie vorstehend erwähnt (wenn über den erheblich weiten Bereich an allen Umfangsteilen die Lichtmenge 4/4 ist, wird die Lichtmenge im Mittelbereich des Halbtonpunktes auf 100% bestimmt), sowie eine Schnittansicht der Verteilung der Lichtmenge an der Stelle X-X′ sind in Fig. 5c gezeigt. Aus Fig. 5c erkennt man, daß entsprechend der Veränderung der Lichtintensität die Konturlinie allmählich aufgebläht wird.

Zusätzlich erkennt man auch, indem man die Schnittansicht an der Stelle X-X′ der Verteilung der Lichtmenge betrachtet, daß die Neigung einer schrägen Oberfläche, welche die Konturlinie der Lichtmenge von 30% durchquert, in dem Falle sanfter ist, wenn die Intensität des Lichtes an den Punkten B auf 1/4, 2/4 und 3/4 definiert wird im Vergleich zu dem Falle, in welchem die Intensität des Lichtes desselben Punktes auf 0/4 definiert wird. Dies bedeutet, daß der Halbtonpunkt weich wird.

Weiterhin ist eine Veränderung der Fläche der Konturlinie für die Lichtmenge von 10%, 30% und 50% im Falle der Intensität des Belichtungslichtes an den Punkten A und B in Fig. 5d gezeigt.

In jedem der Fälle wird die Fläche im allgemeinen entsprechend der Steigerung der Lichtintensität größer. Speziell nimmt im Falle der Konturlinie für 30% die Fläche etwa linear zu.

Selbst wenn man einerseits einen Vorteil erhält durch den Grad der Übereinstimmung (d. h. der Halbtonpunkt wird größer) unter Verwendung des vorstehend beschriebenen Ergebnisses, selbst wenn die Gesamtzahl der zu belichtenden Pixel groß ist, indem die Intensität des Belichtungs lichtes am Umfang geschwächt ist, und wenn man andererseits den Vorteil durch den Grad der Übereinstimmung verliert (der Halbtonpunkt wird kleiner), ist es möglich, die Variation der Gestaltung der Halbtonpunkte und die Schwankung der Flächen der Halbtonpunkte dadurch zu reduzieren, daß man die Intensität des Lichtstrahles an den Umfangsseitenteilen etwa gleich dem Grad der des Mittelteiles macht.

Im folgenden werden beispielsweise zwei Verfahren für die Verstärkung der Intensität des Belichtungsstrahles an den Umfangsseitenteilen des Halbtonpunktes im Vergleich mit der des Mittelpunktes desselben beschrieben. Es versteht sich, daß diese Verfahren sowohl bei einem System mit Einzelstrahl und/oder einem System mit Mehrfachstrahlen, bei welchem jeder der Strahlen unabhängig gesteuert wird, anwendbar sind.

Das erste dieser Verfahren ist ein Verfahren zur Veränderung der Intensität des Belichtungs strahles, bei welchem die Berechnung der Intensität dadurch erfolgt, daß man das Rasterniveau D und das Abbildungsniveau E verwendet, und entsprechend der Größe des Ergebnisses der Berechnung die Intensität des Belichtungsstrahles variiert. Bei diesem Verfahren wird die folgende Technik ausgenutzt, daß es selbst dann, wenn ein in einem Speicher eingeschriebenes Rastermuster als das größte (oder das kleinste) auf den Mittelpunkt des Halbtonpunktes eingestellt werden muß, es üblich ist, einen kleinen (oder großen) Wert zu nehmen, als der, der von diesem Punkt fort ist.

Wenn bei diesem Verfahren die Konturlinie F auf dem Rastermuster entsprechend der Abbildung innerhalb der Grenzen gerade übereinstimmt, wie in Fig. 6a gezeigt ist, ist der Unterschied zwischen dem Rasterniveau D und dem Abbildungsniveau E an den beiden Enden klein, und in dem in Fig. 6b gezeigten Fall ist der Unterschied zwischen dem Rasterniveau D und dem Abbildungsniveau E an den Enden bemerkenswert groß. Beruhend auf der Größe des Unterschiedes zwischen dem Rasterniveau D und dem Abbildungsniveau E wird die Intensität des Belichtungslichtes gesteuert. Wenn der Wert der Differenz negativ wird, ungeachtet der Größe seines absoluten Wertes, wird die Intensität des Belichtungslichtes auf Null definiert (kein Belichtungslicht wird emittiert).

Eines der Verfahren besteht darin, die Größe des Unterschiedes zwischen den Momentanwerten der Rasterniveaus zu der Intensität des belichtenden Lichtes ins richtige Verhältnis zu bringen; es ist jedoch möglich, die Größe so zu bestimmen, um das belichtende Licht "weich" zu machen, nicht notwendigerweise abhängig von dem Proportionalverhältnis, sondern auch durch stufenweises Verändern, durch Einstellen einer Maximal- oder Minimalkonstante oder durch Proportionieren auf den Wert des quadratischen Unterschiedes oder des einer Quadratwurzel.

In Fig. 7 ist ein Blockschaltbild eines Teils einer Anordnung zur Durchführung des Verfahrens gezeigt unter Veranschaulichung einer Ausführungsform, bei welcher konstante Maximal- und Minimalgrenzen vorgesehen sind. Die vollständige Anordnung enthält mehrere, parallel geschaltete Schaltkreise nach Fig. 7.

In Fig. 7 bezeichnet die Bezugszahl 1 einen Adressengenerator, 2 ist ein Rastermusterspeicher, in welchen z. B. das Rasterniveau, wie es in Fig. 2 gezeigt ist, an einer vorbestimmten Adresse eingeschrieben wird, 3 ist eine Subtraktionsschaltung, 4 und 6 sind Vergleichsschaltungen, 5 ist eine Schaltung zum Voreinstellen eines Maximalwertes, die aus einem Digitalschalter usw. besteht, 7 ist eine Schaltung zum Voreinstellen eines Minimalwertes und 8 ist ein NAND-Tor. Die Elemente 9, 10 und 11 sind Dreizustandstore und 12 ist ein Digital/Analogwandler.

In Fig. 7 wird ein analog/digitalgewandeltes Abbildungssignal n durch einen geeigneten Abtastimpuls in einen negativen Anschluß der Subtraktionsschaltung 3 als ein Bezugswert eingegeben; mittels des Zeitgeberimpuls t wird ein Adressenbestimmungssignal zu dem Rastermusterspeicher 2 (Tabellenspeicher) von dem Adressengenerator 1 ausgegeben, und aus der vorbestimmten Adresse des Speichers 2 wird ein numerischer Wert m entsprechend dem vorerwähnten Rasterniveau D an einer positiven Anschlußklemme eingegeben.

Der Wert m - n, der von der Subtraktionsschaltung 3 gebildet ist, wird in die Vergleichsschaltung 4 bzw. 6 eingegeben, und in der Vergleichsschaltung 4 wird der Wert m - n mit dem voreingestellten Maximalwert V_max verglichen, und in der anderen Vergleichsschaltung 6 wird der Wert mit einem voreingestellten Minimalwert V_min verglichen, welcher in der zugeordneten Schaltung 7 voreingestellt worden ist.

Wenn z. B. der von der Subtraktionsschaltung 3 gebildete Wert m - n gleich dem Maximalwert V_max ist oder in dem Fall, wenn der Wert größer als der Maximalwert V_max ist, wird das Tor 9 durch ein Ausgangssignal der Vergleichsschaltung 4 geöffnet, und es wird ein Binärsignal H mit "hohem Niveau" (L) durch das Tor 9 ausgegeben. Durch ein Ausgangssignal aus der Vergleichs schaltung 6 wird das Tor 11 geöffnet, und es wird ein Binärsignal L mit "niedrigem Niveau" (O) entsprechend der Intensität des Lichtstrahles von Null ausgegeben.

Wenn ferner der Wert m - n kleiner ist als der voreingestellte Maximalwert V_max und größer als der voreingestellte Minimalwert V_min , wird das Tor 10 durch ein Ausgangssignal aus dem NAND- Tor 8 geöffnet, und der Wert m - n wird durch das Tor 10 ausgegeben, wobei der Lichtstrahl so moduliert wird, daß die Intensität des Lichtstrahles dem Wert m - n entspricht.

Der Sinn dieses Verfahrens besteht darin, daß das Adressieren und die Bezugnahme in einer Dichte ganzzahliger Vielfache der dem Abstand zwischen den Pixeln entsprechenden Dichte durchgeführt wird, wobei das Ergebnis, welches durch Vergleich des Rasterniveaus D mit dem Abbildungsniveau E in einer Fläche erhalten wird, deren eine Seite dem Abstand zwischen den Pixeln entspricht, (wenn es belichtet ist, ist das Ergebnis 1, und wenn es nicht belichtet ist, ist das Ergebnis 0), aufaddiert wird, und im Verhältnis zu dem aufaddierten Ergebnis wird die Intensität des Belichtungsstrahles ausgegeben.

Mit anderen Worten: Die Dichte der erfindungsgemäß vorgesehenen Bezugspunkte beträgt somit ein ganzzahliges Vielfaches der Dichte der Pixel, wobei eine Vielzahl von Bezugspunkten in der unmittelbaren Umgebung jedes Pixels angeordnet ist. Die Belichtung wird abgestuft zwischen minimalen und maximalen Belichtungsintensitäten entsprechend dem Anteil der Bezugspunkte variiert, an welchen das Bildsignal kleiner ist als das Rastersignal.

Der Vergleich des Rasterniveaus D wird in einer Fläche erhalten bzw. vorgenommen, deren eine Seite dem Abstand zwischen den Pixeln entspricht (quadratische Fläche um den Pixel herum mit einer Seitenlänge, die dem Abstand der Pixel entspricht); diese Fläche ist die von den Bezugspunkten (maximal) erfaßte Meßfläche.

In Fig. 8 ist ein Beispiel gezeigt, bei welchem der Bezugspunktabstand auf die Hälfte des Abstandes zwischen zwei Pixeln eingestellt ist (doppelte Dichte in einer Reihe, vierfach auf die Fläche bezogen). Jeder der Pixel wird mit der Lichtintensität belichtet, welche einer Summe der verglichenen Ergebnisse an der Peripherie von vier Bezugspunkten proportional ist. 0/4 zeigt einen Fall, bei welchem ein Ergebnis fehlender Belichtung an den vier Bezugspunkten erhalten wird, 1/4 zeigt einen Fall, bei welchem ein Ergebnis nur eines belichteten Bezugspunktes erhalten ist, 2/4 zeigt einen Fall, bei welchem ein Ergebnis von zwei belichteten Bezugspunkten erhalten Ist, 3/4 zeigt einen Fall, bei welchem ein Ergebnis, daß drei Bezugspunkte der Peripherie belichtet sind, erhalten wird, und 4/4 zeigt einen Fall, bei welchem ein Ergebnis, daß alle vier Bezugs punkte belichtet sind, erhalten wird.

Dieses Verfahren weist folgende wesentliche Vorteile auf:

1. Die Logik ist einfach, und die Verarbeitungsgeschwindigkeit verbessert.
2. Der Umfang jedes der Halbtonpunkte wird weich.
3. Die Gestalt der Konturlinie kann in guter Näherung wiedergegeben werden.
4. Die Niveaus der Maximal- und der Minimalpunkte werden im größeren Umfang stabilisiert.

Wesentlich für die Belichtung ist somit die Konturlinie; während diese in Fig. 2 (bei konstantem Bildsignal) jeweils einen Kreis und bei Fig. 1 jeweils ein Quadrat ergibt, nimmt diese Konturlinie in den Beispielen der Fig. 4a, b und 8 eine Form an, die einem Quadrat mit abgerundeten Ecken und aufgewölbten Seitenkanten entspricht.

In Fig. 8 erkennt man ein quadratisches Gitter aus (mit den größeren Kreisen und der Angabe eines Belichtungswertes gekennzeichneten) Pixeln, über das zusätzlich noch die Konturlinie in Form des bereits erwähnten abgerundeten Quadrates eingezeichnet ist, die die Schnittlinie zwischen Rastersignal und Bildsignal wiedergibt. Jedem Pixel sind vier Bezugspunkte (durch Pfeil gekennzeichnet) zugeordnet. Gemäß dem bekannten Verfahren wären alle außerhalb der Konturlinie liegenden kleinsten Punkte, und wahrscheinlich auch der Punkt 2/4 am Rand unbelichtet geblieben, da dort das Bildsignal größer ist als das Rastersignal. Die innen in der Nähe des Randes der Konturlinie liegenden Pixel 4/4, 3/4 wären jedoch möglicherweise etwas schwächer belichtet worden, je nach der Differenz zwischen dem Bildsignal und dem Rastermu stersignal an diesem Punkt. In dem in Fig. 8 dargestellten Ausführungsbeispiel ist die (auf die Fläche bezogene) Dichte der Bezugspunkte viermal so groß wie die Dichte der Pixel. Für die Belichtung der kleinsten Punkte trägt also der Vergleich von Bildsignal und Rastersignal an jeweils vier um den Pixel herum angeordneten Bezugspunkten bei, die aber wiederum keinen Beitrag zu der Belichtung benachbarter Pixel liefern. Die Bezugspunkte bzw. die diesen Bezugspunkten zugeordnete Meßfläche liegt also in der unmittelbaren Umgebung jedes der Pixel und überschreitet nicht die Grenze zum Einzugsbereich bzw. zu der Umgebung der Nachbarpixel.

Im speziellen Beispiel der Fig. 8 führt dieses Verfahren dazu, daß zwar auch, wie auch bei dem oben erwähnten Verfahren, die innerhalb der Konturlinie liegenden Pixel belichtet werden, wobei der Punkt 3/4 etwas schwächer belichtet wird, darüberhinaus jedoch auch noch die außerhalb liegenden Pixel mit dem jeweils auf den Pixeln angegebenen Bruchteilen der Maximalbelichtung (1/4-2/4) belichtet werden, und zwar obwohl das Bildsignal am Ort bzw. Zentrum dieser Pixel größer ist als das Rastersignal.

In Fig. 9 ist ein Blockschaltbild gezeigt zur Veranschaulichung eines weiteren Beispieles zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens. Die Bezugszahlen 13 und 14 beziehen sich auf Adressengeneratoren der linken bzw. rechten Seite. 15 ist ein Rastermusterspeicher, 16 und 17 sind Vergleichsschaltungen. 18 ist eine Addierschaltung, 19 ist ein Addierregister und 20 ist ein Digital/Analogwandler.

In Fig. 9 wird ein Signal n, welches von analog auf digital umgewandelt ist, mit einem geeigneten Abtastimpuls als Bezugswert in die Vergleichsschaltungen 16 und 17 eingegeben. Mittels des Bezugszeitgeberimpuls t₁ (dieser Zeitgeberimpuls steht in Synchronisation mit einem Modulations zeitgeberimpuls t₂, z. B. mit der doppelten Frequenz wie nachfolgend beschrieben), werden aus dem Adressengenerator 13 und 14 Paare von rechten und linken Adressenbestimmungssignalen zu dem Rastermusterspeicher 15 ausgegeben.

Der Rastermusterspeicher 15 gibt jedes der Rasterniveausignale m_L und m_R ein, welche dem linken bzw. rechten Adressensignal zu den Vergleichsschaltungen 16 bzw. 17 entsprechen. In der Vergleichsschaltung 16 wird n mit m_L verglichen, und in der Vergleichsschaltung 17 wird n mit m_R verglichen, und eine binäre 1 wird zu der Addiereinrichtung 18 eingegeben, wenn das Ergebnis die Belichtung erfordert, und eine binäre 0 wird eingegeben in dem Falle, wenn keine Belichtung erforderlich ist.

Die Addiereinrichtung 18 addiert beide verglichenen Ergebnisse und gibt das addierte Ergebnis in ein Addierregister 19 ein. Das Addierregister 19 zählt die verglichenen Ergebnisse zweimal für jeden verdoppelten Takt des Bezugszeitgebers, d. h. es zählt die verglichenen Ergebnisse insgesamt viermal, und jede der Werte von 0 bis 4 wird zu dem Digital/Analogwandler 20 synchron zu der Modulationszeit t₂ (Modulationszeitgeber t₂) übertragen; und dann werden sie gelöscht.

Erfindungsgemäß kann nach der vorstehenden Beschreibung ein System mit fester Abtastteilung für die Veränderung der Rasterlinienzahl genommen werden, und der Verschubmechanismus kann vereinfacht werden. Ferner gibt es den Vorteil, daß selbst wenn es eine Veränderung in der Vorschubteilung gibt, die Einstellung des Abstandes zwischen den Strahlen, der Größe der Strahlen und der Intensität des Lichtstrahles, die herkömmlich erforderlich gewesen sind, unnötig sind.

Wenn ferner die Erfindung auf eine Ausgangsvorrichtung (Endstufe) eines Layout-Scanners angewendet wird, wird das Verhältnis zwischen dem Koordinatensystem im Falle von quantisierten Zeichen, gezogenen Linien usw. (gewöhnlich feiner quantisiert als die Rasterteilung und breiter als der Abstand zwischen den Pixeln) und dem Koordinatensystem bezüglich des Bildmusters (Abtastteilung) konstant, so daß die gleichzeitige Existenz von Bildmuster, den Zeichen, den gezogenen Linien usw. und ihre gleichzeitige Ausgabe ermöglicht werden können.

Basierend auf der in einer Magnetplatte oder dergleichen gespeicherten Information identischer Abbildung können verschiedene Gruppen von Halbtonplattenabbildungen mit demselben Maß gegeben werden, wobei jede ihrer Rasterlinienzahlen unterschiedlich ist.

Es ist ferner erfindungsgemäß vorteilhaft, daß die Variation in der Kontur jedes Halbtonpunktes und die Streuung in der Anzahl der Pixel, welche sich aus dem Grad der Übereinstimmung ergeben, verringert werden können, um Unschärfen in Druckexemplaren zu vermindern; da die Pixel weich werden, kann auch das Punktätzen durchgeführt werden. Somit können viele vorteilhafte Wirkungen mit der Erfindung erhalten werden.

Claims

1. Verfahren zum Erzeugen von Halbtonpunkten auf einem lichtempfindlichen Material durch eine Bestrahlung mit einer zeilenweise über das Material geführten Vielzahl von Lichtstrahlen, um eine Vielzahl von gitterartig angeordneten kleinsten Punkten innerhalb der Fläche eines jeden Halbtonpunktes zu belichten, wobei die Lichtstrahlen in Abhängigkeit von einem durch zeilenweises Abtasten eines Originalbildes erhaltenen Bildsignal (E) und einem Rastersignal (D) gesteuert werden, das aus einem Speicher ausgelesen wird, in dem eine Vielzahl von Rastersignalen gespeichert ist, wobei die Belichtungsintensität für die kleinsten Punkte vom Zentrum des Halbtonpunktes nach außen hin abnimmt und durch den Vergleich des Rastersignal wertes (D) mit dem Bildsignal (E) an einer Mehrzahl von Referenzpunkten gesteuert wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Dichte der Bezugspunkte einem ganzzahligen Vielfachen der Dichte der kleinsten Punkte entspricht und daß die Belichtung jedes der kleinsten Punkte abgestuft zwischen minimalen und maximalen Belichtungsintensitäten jeweils dem Anteil der dem kleinsten Punkt aus seiner unmittelbaren Umgebung zugeordneten Bezugspunkte entspricht, an welchen das Bildsignal kleiner ist als das Rastersignal.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bezugspunkte in einem gitterartigen Muster angeordnet sind.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Gruppe von vier Bezugspunkten an einer Ecke eines Quadrates angeordnet wird, wobei die Mitte des Quadrates ein kleinster Punkt ist, und daß entsprechend der Anzahl der Bezugspunkte in der Gruppe, welche die Bedingung Bildsignal (E) kleiner als das Rastersignal (D) erfüllen, die Intensität der Belichtungsstrahlen auf 1, 3/4, 1/2, 1/4 oder 0 eingestellt wird.