JPH02240077A - 光学活性な３―チオラニルスルホネートエステルの製造方法 - Google Patents
光学活性な３―チオラニルスルホネートエステルの製造方法Info
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- C07D333/30—Hetero atoms other than halogen
- C07D333/32—Oxygen atoms
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は下記の式（ＩＩ）の（Ｃ１−Ｃ３）アルキルー
４−クロロー３Ｒ−ヒドロキシブチレートの式：〔式中
、Ｒは（Ｃ１−Ｃ３）アルキル，フエニルまた１１トリ
ルである〕 で示される光学的に活性な６−チオラニルスルホネート
エステルへの転化のための中間体と段階的方法に関する
。
４−クロロー３Ｒ−ヒドロキシブチレートの式：〔式中
、Ｒは（Ｃ１−Ｃ３）アルキル，フエニルまた１１トリ
ルである〕 で示される光学的に活性な６−チオラニルスルホネート
エステルへの転化のための中間体と段階的方法に関する
。
式（Ｉ）の化合物は特に、ある種のベネム（ｐｅｎｅｍ
）抗生物質の製造の貴重な中間体である。２種類の化合
物のジアステレオマー混合物である抗菌性５Ｒ．６Ｓ−
６−（ＩＲ−ヒドロキシエチル）−２−（シスー１−オ
キソー３−チオラニルチオ）−２−ペネムー６−カルボ
ン酸はハマナカ（Ｈａｍａｎａｋａ）の米国特許第４，
６１９，９２４号によって貴重な抗菌性物質として以前
に開示されており、ヴｔルクマンｆｆｏ１ｋｍａｎｎ）
等は米国特許第４．７３９，０４７号にこの物質の代替
合成法を開示｛−ている。さらに最近では、好ましいジ
アステ１／オイソマー（５Ｒ．６８−６−（１Ｂ−ヒド
ロキシエチル）−２−（１旦一オキンー３８−ｆオラニ
ルチオ）−２−ベネムー６−カルボン酸〕とその製造方
法が確立され、本出願人の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ８７
／０１１１４号に開示されている、この出願は特に米国
を指定しており、１９８８年１１月１７日に国際特許出
ａ（ＸＯ）第８８／０８８４５号として公開されている
。このジアステレオマー合成のカギは、初期には次の系
列によって製造された、式（Ｉ）の光学的に活性な中間
体である： 日出！ｉ）において、アーバン（Ｕｒｂａｎ） はＤ
−メチオニンからの式ＣＩ）の化合物の多段階合成を次
のように述べている： さらに最近では、共通に譲渡された同時系属米国特許出
願第０７／１８３．１０２号（ １９８８年４月１９我
々は今回、式（Ｉ）の化合物がキタムラ（Ｋｉｔａｍｕ
ｒａ）等の方法〔二二二二上！ヱ レタ一五（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）２９巻．ｔ５５５〜
１５５６頁１９８８年〕によクて光学活性なルテニクム
触媒上でのエデル４−クロロアセトアセテートの水素化
によって９７％収率で現在容易に入手可能な光学活性化
合物であるエチル４−クロロ〜３旦−ヒドロキシプチレ
ートから３段階方法によって最も便利にかつ容易に製造
されることを発見した。
）抗生物質の製造の貴重な中間体である。２種類の化合
物のジアステレオマー混合物である抗菌性５Ｒ．６Ｓ−
６−（ＩＲ−ヒドロキシエチル）−２−（シスー１−オ
キソー３−チオラニルチオ）−２−ペネムー６−カルボ
ン酸はハマナカ（Ｈａｍａｎａｋａ）の米国特許第４，
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に開示されており、ヴｔルクマンｆｆｏ１ｋｍａｎｎ）
等は米国特許第４．７３９，０４７号にこの物質の代替
合成法を開示｛−ている。さらに最近では、好ましいジ
アステ１／オイソマー（５Ｒ．６８−６−（１Ｂ−ヒド
ロキシエチル）−２−（１旦一オキンー３８−ｆオラニ
ルチオ）−２−ベネムー６−カルボン酸〕とその製造方
法が確立され、本出願人の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ８７
／０１１１４号に開示されている、この出願は特に米国
を指定しており、１９８８年１１月１７日に国際特許出
ａ（ＸＯ）第８８／０８８４５号として公開されている
。このジアステレオマー合成のカギは、初期には次の系
列によって製造された、式（Ｉ）の光学的に活性な中間
体である： 日出！ｉ）において、アーバン（Ｕｒｂａｎ） はＤ
−メチオニンからの式ＣＩ）の化合物の多段階合成を次
のように述べている： さらに最近では、共通に譲渡された同時系属米国特許出
願第０７／１８３．１０２号（ １９８８年４月１９我
々は今回、式（Ｉ）の化合物がキタムラ（Ｋｉｔａｍｕ
ｒａ）等の方法〔二二二二上！ヱ レタ一五（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）２９巻．ｔ５５５〜
１５５６頁１９８８年〕によクて光学活性なルテニクム
触媒上でのエデル４−クロロアセトアセテートの水素化
によって９７％収率で現在容易に入手可能な光学活性化
合物であるエチル４−クロロ〜３旦−ヒドロキシプチレ
ートから３段階方法によって最も便利にかつ容易に製造
されることを発見した。
製造される式（Ｉ）のチオラニルスルホネートエステル
は我々の上記国際特許出願公開第８８／０８８４５号Ｋ
よって一般に利用可能である方法によって、上記のジア
ステレオマーベネム抗生物質の合成に用いられ、この特
許出願はこのペネム抗生物質の有利な利用をも教えてい
る。
は我々の上記国際特許出願公開第８８／０８８４５号Ｋ
よって一般に利用可能である方法によって、上記のジア
ステレオマーベネム抗生物質の合成に用いられ、この特
許出願はこのペネム抗生物質の有利な利用をも教えてい
る。
本発明は式：
〔式中、Ｒは（Ｃ１−Ｃ３）アルキル．フエニルまたは
トリルである〕 で示される光学活性化合物の製造法であって、次〔式中
、Ｒ１は（Ｃ１−Ｃ３）アルキルである〕で示される光
学活性エステルを反応に不活性な溶媒中で、エステルを
アルコールに還元しつる量の水素化物還元剤によって水
素化物還元して、式：ＣＩ で示される光学活性エステルを形成する工程；（ｂ）
同じまたは異なる反応に不活性な溶媒中の前記ジオー
ルを少なくとも２モル当量の第三アミンの存在下で、少
なくとも２モル当量の式ＲＳＯ２０Ｈで示されるスルホ
ン酸の活性化形と反応させて、式： ＣＩ で示される光学活性ジスルホネートを形成する工程；及
び （Ｃ） 前記ジスルホネートを同じまたは異なる溶媒
中で硫化物塩と反応させて、式（Ｉ）の化合物な形成す
る工程 から成る方法に関する。
トリルである〕 で示される光学活性化合物の製造法であって、次〔式中
、Ｒ１は（Ｃ１−Ｃ３）アルキルである〕で示される光
学活性エステルを反応に不活性な溶媒中で、エステルを
アルコールに還元しつる量の水素化物還元剤によって水
素化物還元して、式：ＣＩ で示される光学活性エステルを形成する工程；（ｂ）
同じまたは異なる反応に不活性な溶媒中の前記ジオー
ルを少なくとも２モル当量の第三アミンの存在下で、少
なくとも２モル当量の式ＲＳＯ２０Ｈで示されるスルホ
ン酸の活性化形と反応させて、式： ＣＩ で示される光学活性ジスルホネートを形成する工程；及
び （Ｃ） 前記ジスルホネートを同じまたは異なる溶媒
中で硫化物塩と反応させて、式（Ｉ）の化合物な形成す
る工程 から成る方法に関する。
混合無水物としてのまたは例えばジシクロへキシルカル
ボジイミドまたは１．１′一力ルボニルジイミダゾール
のよ５な試薬による従来の活性化で一般には充分である
が、工程（ｂ）のスルホン酸の好ましい活性化形は塩化
スルホニル， ＲＳＯ２Ｃｌである。凡の好ましい値は
メチル及びｐ−ト！Ｊルである。アルカリ金属の硫化物
特にＮａ２Ｓは工程（ｃ）の好ましい硫化物塩である。
ボジイミドまたは１．１′一力ルボニルジイミダゾール
のよ５な試薬による従来の活性化で一般には充分である
が、工程（ｂ）のスルホン酸の好ましい活性化形は塩化
スルホニル， ＲＳＯ２Ｃｌである。凡の好ましい値は
メチル及びｐ−ト！Ｊルである。アルカリ金属の硫化物
特にＮａ２Ｓは工程（ｃ）の好ましい硫化物塩である。
多様な水素化物還元剤が工程（ａ）に一般に有用である
。しかし、Ｌ ｉ ＢＨ４のような比較的緩和な還元剤
を下記のような量と溶媒と共に用いることが好ましい。
。しかし、Ｌ ｉ ＢＨ４のような比較的緩和な還元剤
を下記のような量と溶媒と共に用いることが好ましい。
本発明はまた、式：
？ｌ
〔式中、Ｙは水素またはＲＳＯ■−であり、Ｒは（Ｃ，
−０３）アルキル，７エニルまたはトリルである〕とし
て結合形で示されるような、式（ＩＩＩ）と（■）の上
記化合物にも関する。ＹがＲｓＯ２−であるときに、Ｒ
の好ましい喧はメチルとｐ−トリルである。
−０３）アルキル，７エニルまたはトリルである〕とし
て結合形で示されるような、式（ＩＩＩ）と（■）の上
記化合物にも関する。ＹがＲｓＯ２−であるときに、Ｒ
の好ましい喧はメチルとｐ−トリルである。
この明細書中の上記その他で用いるかぎり、「反応に不
活性な溶媒」なる表現は目的生成物の収率に不利に影響
するように出発物質，試薬，中間体または生成物と相互
作用しない溶媒を意味する。
活性な溶媒」なる表現は目的生成物の収率に不利に影響
するように出発物質，試薬，中間体または生成物と相互
作用しない溶媒を意味する。
エチル（Ｒ）−４−クロロー３−ヒドロキシブテレー｝
（ｎ）からの式（Ｉ）の光学活性なチオラニルスルホ
ネートエステルの本発明による製造方法は、（ａ）水素
化物還元、（ｂ）とスースルホニル化及び（ｃ）硫化物
置換／還化の連続工程を用いて、中間体（Ｒ）−４−ク
ロロブタン−１，３−ジオール（■）とジスルホネート
エステル（ＩＶ） ′Ｐ！：介して、容易に実施される
。
（ｎ）からの式（Ｉ）の光学活性なチオラニルスルホ
ネートエステルの本発明による製造方法は、（ａ）水素
化物還元、（ｂ）とスースルホニル化及び（ｃ）硫化物
置換／還化の連続工程を用いて、中間体（Ｒ）−４−ク
ロロブタン−１，３−ジオール（■）とジスルホネート
エステル（ＩＶ） ′Ｐ！：介して、容易に実施される
。
水素化物還元工程は一般には、少なくとも２化学当量の
慣習的な水素化物還元剤を用いて実施される。このよう
な還元剤の検討のためには、ハウス（Ｈｏｕｓｅ）
の「モダーン シンセチ，ク リアクシｓ ｙ （Ｍｏ
ｄｅｒｎ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）
Ｊ第２版、ダブリュー．エイ．ペンジャミン社（Ｗ．Ａ
，Ｂｅｎｊａｍｉｎ Ｉｎｃ．）（カリフｔルニア州メ
／ロバーク）４５−１０５頁を参照のこと。
慣習的な水素化物還元剤を用いて実施される。このよう
な還元剤の検討のためには、ハウス（Ｈｏｕｓｅ）
の「モダーン シンセチ，ク リアクシｓ ｙ （Ｍｏ
ｄｅｒｎ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）
Ｊ第２版、ダブリュー．エイ．ペンジャミン社（Ｗ．Ａ
，Ｂｅｎｊａｍｉｎ Ｉｎｃ．）（カリフｔルニア州メ
／ロバーク）４５−１０５頁を参照のこと。
本発明の場合に好ましい還元剤は、一般κ非プロ１・ン
性である反応Ｋ不活性な溶媒（好ましくは例えばテトラ
ヒドロフラン，ジオキサンまたは１．２−ジメトキシエ
タンのような、比較的極性の溶媒）中のＬ ｉ ＢＨ４
である。少なくとも２化学肖量のＬ Ｉ ＢＨ４を用い
る〔すなわち、エステル基質１モルにつきＬｉＢＨ４０
．５モル）。温度は特に重要であるが、約Ｏ〜３０℃の
範囲内の温度が好ましい。
性である反応Ｋ不活性な溶媒（好ましくは例えばテトラ
ヒドロフラン，ジオキサンまたは１．２−ジメトキシエ
タンのような、比較的極性の溶媒）中のＬ ｉ ＢＨ４
である。少なくとも２化学肖量のＬ Ｉ ＢＨ４を用い
る〔すなわち、エステル基質１モルにつきＬｉＢＨ４０
．５モル）。温度は特に重要であるが、約Ｏ〜３０℃の
範囲内の温度が好ましい。
ジオールからビスースルホネートエステルへの転化も、
慣習的な方法で、好ま１−《は少なくとも２モル当量の
第三アミン（例えばトリエチルアミン）の存在下の反応
に不活性な溶媒（例えばａ｛２Ｃｌ２またはテトラヒド
ロフラン）中で実質的に２モル当量の式ＲＳＯ２Ｃｌの
塩化スルホニル（Ｒは上記で定義した通りである）と結
合させることによって実施される。これは一般に発熱反
応であるために、温度は周囲温度未満（例えば、１０°
〜一３０℃）であることが好ましい。発熱と温度は酸塩
化物の添加速度によクて、一部制御することができる。
慣習的な方法で、好ま１−《は少なくとも２モル当量の
第三アミン（例えばトリエチルアミン）の存在下の反応
に不活性な溶媒（例えばａ｛２Ｃｌ２またはテトラヒド
ロフラン）中で実質的に２モル当量の式ＲＳＯ２Ｃｌの
塩化スルホニル（Ｒは上記で定義した通りである）と結
合させることによって実施される。これは一般に発熱反
応であるために、温度は周囲温度未満（例えば、１０°
〜一３０℃）であることが好ましい。発熱と温度は酸塩
化物の添加速度によクて、一部制御することができる。
この方法の変更態様では、過剰なビリジンを第三アミン
と溶媒の両方として用いる。
と溶媒の両方として用いる。
硫化物の反応Ｋよってチオラン環を形成する硫化物置換
／環化工程（１−スルホネートエステル基と４−クロロ
基との置換による）は、特に４一クロロ基または１−ス
ルホネート基のいずれかの最初の２モル置換に関して、
一般に求核置換反応は特徴的な条件下で実施され、速度
は反応物質の濃度増加によって促進され、反応の完成は
反応物質の１つ（この場合には通常硫化物）を過剰に用
いることによって促進される。しかし、第２工程の環化
は零次反応であり、速度は実質的に濃度に関係ないが、
高濃度の上昇は好ましくないダイマーの形成またはボリ
マーの形成さえも促進する。好ましい硫化物塩は例えば
Ｎａ２Ｓのようなアルカリ金属硫化物である。
／環化工程（１−スルホネートエステル基と４−クロロ
基との置換による）は、特に４一クロロ基または１−ス
ルホネート基のいずれかの最初の２モル置換に関して、
一般に求核置換反応は特徴的な条件下で実施され、速度
は反応物質の濃度増加によって促進され、反応の完成は
反応物質の１つ（この場合には通常硫化物）を過剰に用
いることによって促進される。しかし、第２工程の環化
は零次反応であり、速度は実質的に濃度に関係ないが、
高濃度の上昇は好ましくないダイマーの形成またはボリ
マーの形成さえも促進する。好ましい硫化物塩は例えば
Ｎａ２Ｓのようなアルカリ金属硫化物である。
望ましい場合には、例えばテトラプテルアンモニウムヨ
ージドのようなヨウ化物塩を触媒と１−て用いることが
できる。この反応において溶媒は重要ではないが、硫化
物と中間体のメルカプチドを反応性の高い陰イオン形に
維持するために、醗性溶媒の使用は避けるべきである。
ージドのようなヨウ化物塩を触媒と１−て用いることが
できる。この反応において溶媒は重要ではないが、硫化
物と中間体のメルカプチドを反応性の高い陰イオン形に
維持するために、醗性溶媒の使用は避けるべきである。
触媒としてのヨウ化物を必要としない、好ましい溶媒系
はアセトニトリル水溶液である。温度は重要ではないが
、反応が妥当な時間内Ｋ完成するように進行するほどの
高温でなげればならず、また過度の分解を生ずるような
高温であってはならない。約４０〜１００℃の範囲内の
温度がこの場合洗特に良好に適している。
はアセトニトリル水溶液である。温度は重要ではないが
、反応が妥当な時間内Ｋ完成するように進行するほどの
高温でなげればならず、また過度の分解を生ずるような
高温であってはならない。約４０〜１００℃の範囲内の
温度がこの場合洗特に良好に適している。
下記の実施例は説明のために記載するものであり、本発
明の限定として解釈すべきではなく、これらの多くの変
更が本発明の範囲と精神内で可能である。
明の限定として解釈すべきではなく、これらの多くの変
更が本発明の範囲と精神内で可能である。
例 １
（Ｒ）−４−クロロブタン−１．３−ジオール火炎乾燥
したガラス器内の窒素雰囲気下で、（Ｒ）−４−クロロ
ー３−ヒドロキシブチレート（ １，ＯＣＵ ． ６．
５５ミリモル）を乾燥テトラヒドロフラ？６．５ｄに溶
解した。溶液′を０℃に溶解し、乾燥テトラヒドロフラ
ン４．１−に溶かした水素化ホウ素リチウム（１７８ｙ
ｙ＋ｇ．８．１９ミリモル）を注射器によって３０分間
Ｋわたって加え、テトラヒドロ７ラン２ＩＩＩＥをすす
ぎ洗いに用いた。水浴を除去し、溶液を２３℃で６時間
攪拌し、次に０゛℃に冷却し、メタノール４０ＷＬｔＫ
よって急冷し、飽和メタノール性ＨＣ１３ｍ６によって
酸性化した。混合物から溶媒を減圧ストリ，ビングし、
残渣をメタノールで処理し、反応を共沸蒸留（３Ｘ５０
ｉｊ）ｔ，て、ホウ化メチルを除去し、油状物（１．５
５９”）Ｋなるまでストリ，ビングした。油秋物をシリ
カゲルの直径８． ５ ｃｍ ｘ深さ５１バ，ドでフラ
，シ，クロマトグラフイーし、ＣＨ２Ｃ１■，Ｃ五２Ｃ
１■：酢酸エチル（１：１）及び酢醪エチルによ・クて
傾斜溶離して、標題生成物０．６７，ｉ９（８２％）を
油秋物として得た；〔α〕Ｄ＝＋２４．５°（ Ｃ＝
１． ０ １ ， ＣＨ３０Ｈ ’）。
したガラス器内の窒素雰囲気下で、（Ｒ）−４−クロロ
ー３−ヒドロキシブチレート（ １，ＯＣＵ ． ６．
５５ミリモル）を乾燥テトラヒドロフラ？６．５ｄに溶
解した。溶液′を０℃に溶解し、乾燥テトラヒドロフラ
ン４．１−に溶かした水素化ホウ素リチウム（１７８ｙ
ｙ＋ｇ．８．１９ミリモル）を注射器によって３０分間
Ｋわたって加え、テトラヒドロ７ラン２ＩＩＩＥをすす
ぎ洗いに用いた。水浴を除去し、溶液を２３℃で６時間
攪拌し、次に０゛℃に冷却し、メタノール４０ＷＬｔＫ
よって急冷し、飽和メタノール性ＨＣ１３ｍ６によって
酸性化した。混合物から溶媒を減圧ストリ，ビングし、
残渣をメタノールで処理し、反応を共沸蒸留（３Ｘ５０
ｉｊ）ｔ，て、ホウ化メチルを除去し、油状物（１．５
５９”）Ｋなるまでストリ，ビングした。油秋物をシリ
カゲルの直径８． ５ ｃｍ ｘ深さ５１バ，ドでフラ
，シ，クロマトグラフイーし、ＣＨ２Ｃ１■，Ｃ五２Ｃ
１■：酢酸エチル（１：１）及び酢醪エチルによ・クて
傾斜溶離して、標題生成物０．６７，ｉ９（８２％）を
油秋物として得た；〔α〕Ｄ＝＋２４．５°（ Ｃ＝
１． ０ １ ， ＣＨ３０Ｈ ’）。
例 ２
（Ｒ）−４−クロロー３−（メタンスルホニルオキシ）
ブチルメタンスルホ ート ５０（Ｕ／三つ口フラスコ内の窒素雰囲気下で、上記例
の標題生成物（５。ＯＩ．０、０４０モル）をＣ｝｛２
Ｃ！２１５０ａ中に溶解した。溶液を−２０℃に冷却し
た。
ブチルメタンスルホ ート ５０（Ｕ／三つ口フラスコ内の窒素雰囲気下で、上記例
の標題生成物（５。ＯＩ．０、０４０モル）をＣ｝｛２
Ｃ！２１５０ａ中に溶解した。溶液を−２０℃に冷却し
た。
トリエチルアミ７ （８．１２ｇ． １ｔ２＋＋ｔ．０
．０８０モル）とジメチルアミノビリジン（０．４８ｇ
．０．００４モル）を加え、次に塩化メシル（９．１９
，９．６．２１眞Ｚ．０．０８０そル）を加えた。溶液
を−２０〜−１５℃において１時間攪拌してから、粉砕
氷１ｅ上に注入し、１０分間攪拌した。分離した水層を
塩化メチレン（１Ｘ ６００１１ｇ）によって抽出した
。一緒にした有機層をＩＮ−ＨＣＩ（ １Ｘ５ＱＱｍ（
”）、飽和ＮａＨＣＯ３ （ Ｉ Ｘ５００ｆｆｌｊ）
及びブライｙ （ｂｒｉｎｅ） （ Ｉ Ｘ ５０（Ｄ
ｌｆｆ）によクて洗浄し、Ｍｇ Ｓ０ ４上で乾燥し、
減圧下ストリ，ピングして標題生成物９．９６９ＣＢ８
％）を得た。
．０８０モル）とジメチルアミノビリジン（０．４８ｇ
．０．００４モル）を加え、次に塩化メシル（９．１９
，９．６．２１眞Ｚ．０．０８０そル）を加えた。溶液
を−２０〜−１５℃において１時間攪拌してから、粉砕
氷１ｅ上に注入し、１０分間攪拌した。分離した水層を
塩化メチレン（１Ｘ ６００１１ｇ）によって抽出した
。一緒にした有機層をＩＮ−ＨＣＩ（ １Ｘ５ＱＱｍ（
”）、飽和ＮａＨＣＯ３ （ Ｉ Ｘ５００ｆｆｌｊ）
及びブライｙ （ｂｒｉｎｅ） （ Ｉ Ｘ ５０（Ｄ
ｌｆｆ）によクて洗浄し、Ｍｇ Ｓ０ ４上で乾燥し、
減圧下ストリ，ピングして標題生成物９．９６９ＣＢ８
％）を得た。
〔α：ｌＤ＝＋３２．７４（Ｃ＝１．０６．ＣＨＣｌ３
）。
）。
（Ｒ）−４−クロロー３−（ｐ−１ルエンスルホニルオ
キシ）一フチルｐ−トルエンスルホネートヲ製造するに
は、塩化メシルの代りに１モル当量のｐ−トリルクロリ
ドｔ用いる。
キシ）一フチルｐ−トルエンスルホネートヲ製造するに
は、塩化メシルの代りに１モル当量のｐ−トリルクロリ
ドｔ用いる。
？ ３
（Ｒ）−３−チオラニルメタンスルホネート上記例の標
題生成物（ ３．５ｇ， ０．０ １ ２５モル）をＮ
２下テＨ２０：ＣＨ３ＣＮ（１：６）６０Ｍに溶解した
。硫化ナ｝ ＩＪウム無水物（ ３．９０．９ ． ０
．０５０モル）を加えた。５０℃に７６時間加熱した後
に、反し混合物をＣＨ２Ｃｌ２ ２５０Ｉｌ！ｔによっ
て希釈し、Ｈ２０（１ｘ１００ｍ／）で洗浄し、次にブ
ライン（ Ｉ Ｘ １００＋／）によって洗浄し、Δ４
ｇｓｏ４上で乾燥し、減圧ストリ，ピングして、この例
の標題生成物を得、これをシリカゲル上でクロマトグラ
フイーし、溶離剤とし−（ＣＨ２Ｃｌ２，次ニｃＨ２Ｃ
１■：酢酸−１−＋＃（９：１）を用いて溶離して、こ
の例の標題生成物１． ３ ０ ，１９（５７％）を得
た；〔α］Ｄ＝＋１６．８°（Ｃ＝３．０．ＣＨＣ １
３）。
題生成物（ ３．５ｇ， ０．０ １ ２５モル）をＮ
２下テＨ２０：ＣＨ３ＣＮ（１：６）６０Ｍに溶解した
。硫化ナ｝ ＩＪウム無水物（ ３．９０．９ ． ０
．０５０モル）を加えた。５０℃に７６時間加熱した後
に、反し混合物をＣＨ２Ｃｌ２ ２５０Ｉｌ！ｔによっ
て希釈し、Ｈ２０（１ｘ１００ｍ／）で洗浄し、次にブ
ライン（ Ｉ Ｘ １００＋／）によって洗浄し、Δ４
ｇｓｏ４上で乾燥し、減圧ストリ，ピングして、この例
の標題生成物を得、これをシリカゲル上でクロマトグラ
フイーし、溶離剤とし−（ＣＨ２Ｃｌ２，次ニｃＨ２Ｃ
１■：酢酸−１−＋＃（９：１）を用いて溶離して、こ
の例の標題生成物１． ３ ０ ，１９（５７％）を得
た；〔α］Ｄ＝＋１６．８°（Ｃ＝３．０．ＣＨＣ １
３）。
同じ方法によって上記例のビス−ｐ−｝リルエステルヲ
（Ｒ）−３−チオラニルｐ−トルエンスルホネートに転
化する。
（Ｒ）−３−チオラニルｐ−トルエンスルホネートに転
化する。
例 ４
３Ｒ−（メタンスルホニルオキシ）チオラン１Ｒ−オキ
シド国際特許出願公開第８８／０８８４５号の例３の方
法によってアセトン１５ｒＩＬｔ中の上記例の標題生成
物（１．１７＃．６．４２ミリモル）とべルオキシー硫
酸カリウム（オキソン２．２ １ ｇ． ３．６ミリモ
ル）を白色固体としてのこの例の標題生成物０．９６９
Ｃ７５％）に転化した； 〔α） １） ＝ ＋ ２．０ ４°（ Ｃ＝２．９４
． ＣＨＣＩ３）。
シド国際特許出願公開第８８／０８８４５号の例３の方
法によってアセトン１５ｒＩＬｔ中の上記例の標題生成
物（１．１７＃．６．４２ミリモル）とべルオキシー硫
酸カリウム（オキソン２．２ １ ｇ． ３．６ミリモ
ル）を白色固体としてのこの例の標題生成物０．９６９
Ｃ７５％）に転化した； 〔α） １） ＝ ＋ ２．０ ４°（ Ｃ＝２．９４
． ＣＨＣＩ３）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式： ▲数式、化学式、表等があります▼−−−（ I ） 〔式中、Ｒは（Ｃ＿１−Ｃ＿３）アルキル、フエニルま
たはトリルである〕 で示される光学活性化合物の製造方法において、次の工
程： （ａ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼−−−（II） 〔式中、Ｒ＾１は（Ｃ＿１−Ｃ＿３）アルキルである〕
で示される光学活性エステルを、反応不活性溶媒中でエ
ステルをアルコールに還元しうるような量の水素化物還
元剤によって、水素化物還元して式： ▲数式、化学式、表等があります▼−−−（III） で示される光学活性ジオールを形成する工程；（ｂ）同
じまたは異なる、反応不活性溶媒中の前記ジオールを、
少なくとも２当量の第三アミンの存在下で、少なくとも
２モル当量の、式ＲＳＯ＿２ＯＨで示されるスルホン酸
の活性化形と反応させて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼−−−（IV） で示される光学活性なジスルホネートを形成する工程；
及び （ｃ）前記ジスルホネートを同じまたは異なる反応不活
性溶媒中で硫化物塩と反応させて、 式（ I ）の化合物を形成する工程 から成る方法。 ２、ＲがＣＨ＿３またはｐ−トリルである請求項１記載
の方法。 ３、水素化物還元剤がＬｉＢＨ＿４であり、工程（ａ）
の溶媒がテトラヒドロフランである請求項２記載の方法
。 ４、スルホン酸の活性化形が式ＲＳＯ＿２Ｃｌで示され
る酸塩化物である請求項２記載の方法。 ５、工程（ｂ）の溶媒がＣＨ＿２Ｃｌ＿２である請求項
２記載の方法。 ６、硫化物塩がアルカリ金属の硫化物である請求項２記
載の方法。 ７、スルホン酸の活性化形が式ＲＳＯ＿２Ｃｌで示され
る酸塩化物である請求項６記載の方法。 ８、式： ▲数式、化学式、表等があります▼−−−（III） 〔式中、Ｙは水素またはＲＳＯ＿２＾−であり、Ｒは（
Ｃ＿１−Ｃ＿３）アルキル、フェニルまたはトリルであ
る〕で示される光学活性化合物。 ９、Ｙが水素である請求項８記載の化合物。 １０、ＹがＲＳＯ＿２＾−であり、Ｒがメチルまたはｐ
−トリルである請求項８記載の化合物。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US308868 | 1989-02-09 | ||
| US07/308,868 US4864046A (en) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | Process for optically active 3-thiolanyl sulfonate esters |
| US378888 | 1989-07-12 | ||
| US07/378,888 US4921972A (en) | 1989-05-17 | 1989-07-12 | Process for optically active 3-thiolanyl sulfonate esters |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02240077A true JPH02240077A (ja) | 1990-09-25 |
| JPH0643355B2 JPH0643355B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=26976494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2031313A Expired - Lifetime JPH0643355B2 (ja) | 1989-02-09 | 1990-02-09 | 光学活性な３―チオラニルスルホネートエステルの製造方法 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0382418A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0643355B2 (ja) |
| KR (1) | KR920010181B1 (ja) |
| AU (1) | AU609348B2 (ja) |
| CA (1) | CA2009457A1 (ja) |
| DK (1) | DK0382418T3 (ja) |
| FI (1) | FI92583C (ja) |
| HU (1) | HU203545B (ja) |
| IL (1) | IL93262A (ja) |
| MY (1) | MY105176A (ja) |
| NO (1) | NO173443C (ja) |
| NZ (1) | NZ232425A (ja) |
| PT (1) | PT93075A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005314374A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Daiso Co Ltd | ３−ヒドロキシチオランの新規製法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988008845A1 (en) * | 1987-05-11 | 1988-11-17 | Pfizer Inc. | Diastereomeric 5r,6s-6-(1r-hydroxyethyl)-2-(cis-1-oxo-3-thiolanylthio)-2-penem-3-carboxylic acids |
| US4992543A (en) * | 1988-10-19 | 1991-02-12 | Pfizer Inc. | Penem derivatives |
| US4864046A (en) * | 1989-02-09 | 1989-09-05 | Pfizer Inc. | Process for optically active 3-thiolanyl sulfonate esters |
-
1990
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