JPH02142753A - アキラルフツ素含有液晶 - Google Patents

アキラルフツ素含有液晶

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JPH02142753A
JPH02142753A JP1245409A JP24540989A JPH02142753A JP H02142753 A JPH02142753 A JP H02142753A JP 1245409 A JP1245409 A JP 1245409A JP 24540989 A JP24540989 A JP 24540989A JP H02142753 A JPH02142753 A JP H02142753A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １里豊皇Ｉ この発明はアキラルスメクチック液晶とそれらの製造方
法に関する。これらのアキラル液晶とそれらを含む混合
物は電気光学的表示の広い分野に有用である。
発明の背景 液晶を採用する装置は電気光学的応用分野、特に時計や
計算器の表示のようなコンパクトでエネルギ消費が少い
、電圧調整光バルブを要求される分野即ちポータプル］
ンピ１−夕や〕ンバクトテレどで見られるような平面板
表示のような分野に広い用途が発見されている。
液晶表示は低電圧及び低電力消費を含む多くの特異な特
性をもち、現に流通している非発光電気光学的表示の候
補の中で最も将来性がある。しかし遅い応答と不充分な
非直線性は多くの潜在的な応用に制限を与える可能性が
ある。速痘の要求は装置に組込まれなければならないエ
レメントの数に比例して特に重要になってくるであろう
１．これは液晶のいくつかのタイプの潜る的用途をシリ
限りる。
ねじれネマチック（ＴＮ）、スーパーねじれ複屈折効果
（Ｓｕｐｅｒ　ｔｗｉｓｔｅｄ　ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅ
ｎｃｅ　ｃｆｆｅｃＬ）（ＳＢ［）、及び動力学的散乱
（ｄｙｎａｌｌｌｉｃｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）　　（Ｄ
　Ｓ　）　、ネマチック又はキラルネマチック（コレス
テリック）液晶を採用する乃べては、現在最も広く採用
される液晶表示のモードである。これらの装置は、電場
を印加したネマチック及び／又はキラルネマチック液晶
叉はネマチック又はキラルネマヂツク液晶の混合物の誘
電配列効果（フリーブリックス効果）を基礎とする。
液晶材料の平均の分子の長袖は印加された電場の中で好
ましい方向をとり、その方向は材料又は混合物の誘電異
方性の極性に依り、又この方向は印加した電場を取去る
ことによってゆるむ。この再方向づ番プ及び緩解は赴く
、数ミリ秒のオーダーである。
ネマチック及びキラルネマヂツク液晶は最も広く使われ
ているが、高次のスメクチック液晶を採用している液晶
装置がある。
スメクチックＡ中間相をもった月利を採用している装置
は、Ｃｒ０３Ｓｌａｎｄらによって米国特許第４゜／ｌ
　１１．４９４、第４，４１９，６６４、及び第４．５
２８．５６２に、叉ｌ−，Ｊ、　Ｋａｈｎ　（＾ｐｐＰ
ｈｓｙ、　　１ｅｔ１．、　　Ｖｏｌ、２２．　　Ｐｌ
ｌｌ　　　（１９７３）　　）　　に　Ｊこって記され
ているように応用装置に有用である。。
これらの装置は液晶の誘電角方向づ【プを閃礎とし、応
答時間はミリ秒のオーダーである。
４：シルスメクチックＡ中間相を示す混合物は、Ｌａｇ
ｃｒｗａ　ｌ　ｌ　らによって第１目強誘’＋ｕ　（Ｆ
ｃｒｒ。
ｅｌｅｃｔｒｉｃ）液晶に関する国際シンポジウム、Ｂ
ｏｒｄｅａｕｘ−Ａｒｃａｃｈｏｎ、Ｆｒａｎｃｅ、　
　１９８７、で述べられているように装置に有用である
。これらの混合物はソフトモード強誘電効果と呼ばれる
電気光学的効果を表わし、７４９１１秒以下のスイッチ
ングが達成可能である。
スメクチックＣ中間相をもつ月利を採用している装置は
、Ｐｃ１ｚｌ　らにＪ、って記載されているように（に
ｒｉｓｔａｌｌ　Ｔｅｃｈｎｉｋ、、　ｖｏｌ、　１４
、ｐ、８１７（１９７９）　　：　Ｈｏ１．Ｃｒｙｓｔ
、１−ｉｑ、Ｇｒｙｓｔ、　、　　ｖｏｌ、　５３、ｐ
、１６７　　（１９７９）　　：Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙ
ｓｔａｌｓ、　　ｖ。
２、ｐ、２１　（１９８７）：及びＬｉｑｕｉｄ　Ｃｒ
ｙｓｔａｌｓｖｏｌ、　２、ｐ、１３１　　（１９８７
））、応用装置に有用である。これらの装置は液晶の誘
電角方向づ（Ｊを基礎とし応答時間は芹い、。
液晶技術におりるＲ３Ｊｉの進歩は強誘電液晶とも称さ
れる４−ラルスメクチック液晶の利用であった。
これは装置においてＷ１記のどの応用装置でも不可能で
あったマイクロ秒のスイッチングと双安定性の操作を与
えた。強誘電液晶はＲ，Ｂ、　Ｍｅｙｅｒらによって発
見された。（Ｊ、Ｐｈｙｓｉｑｕｃ、ｖｏｌ、　３６、
ｐｐｌ−６９（１９７５））。強誘電液晶に対する高速
光学的スイッチング現象はＮ、　Ａ、　Ｃ１ａｒｋらに
よって発見された。（Ａｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、Ｌｅｔｔ、
、　ｖｏｌ、　３６、ｐ、８９９　（１９８０）及び米
国特許第４，３６７゜９２４）。
強誘電液晶の高速スイッチングは、光バルブ、表示装置
、プリンターヘッド等多くの応用分野で使うことがぐき
る。マイクロ秒以下のスイッチ速度に加えて、いくつか
の強誘雷装置幾伺学は、双安定性（ｂｉｓｔａｂｌｅ）
　、感しきい値スイッチング（ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　５
ｅｎｓｉｔｉｖｅ　ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ　）を示し、光
学プロセス応用だけでなく、グラフィック及び画像受像
製画に対する多数のエレメントを含むマトリックスアド
レス装置の候補になる。
この発明の要約 この発明はフルオロカーボン末端部分及び炭化水素又は
もうひと′つのフルオロカーボン末端部分を含むアキラ
ルフッ累含有液晶であって、末端部分が中心核によって
スメクチック中間相をもつ化合物又は潜在的スメクチッ
ク中間相をもつ化合物をもつ化合物に結合重るものを提
供する。潜在的スメクチック中間相をもつ化合物は、イ
れ自体ではスメクチック中間相を丞ざないが、化合物が
スメクチック中間相を有する前述の化合物との又は前述
の潜在的スメクチック中間相を右する他の前述の化合物
との混合物の中にあるとき、適当な条件下でスメクチッ
ク中間相を承り。ノルＡ口力一ボン末端部分は式−ＤＣ
ｑＦ２．＋１て示ずことができる。ここにｑは１−２０
で、 Ｄは、 Ｃ，−０−１０ト１２　　）　。
Ｏ−（ＣＩ−１，、）　　、　　　−−（ＣＨ２）ｏｓ
ｏ２−　−５ｏ２ Ｓ　Ｏ２（Ｃト１２　　）　。
０　（Ｃ１１２）、−０（ＣＨ２）、、ＣｐＨ２ｐ・１ Ｃｐ　ト’２ｐ＋１ ここにｒとｒ′は独立に１から２０で、ｐはＯから４−
（・ある。
一般的に、この発明の化合物は少くども２つの芳香族、
複素環式芳香族、脂環式、又は置換された芳香族、複素
環式芳香族、又は脂環式、環を含む中心核をもつ。芳香
族又は複素環式芳香族環は、融けた芳香族、複素環式芳
香族、又は融けてない芳香族又Ｇ、Ｌ複木環式芳香族環
から選ばれ、又環はひとつが伯のひとつと、−ＣＯＯ−
−〜Ｃ０８−ＦＩ　Ｃ＝　Ｎ　−−−ＣＯＳ　ｅ−から
選ばれた官能基の方法で結合される。複索環式芳香族環
中のへテロ原子は、Ｎ、Ｏ，又はＳから選ばれた少くと
もひとつの原子を含む。
アキラルフッ素含有液晶は、水、弱酸及び弱塩基に対す
る良好な化学安定性のような多くの望ましい性質をもっ
ている。それらは液晶表示装置の中で通常の使用条件で
は劣化を起さない。それらは光化学的に安定で、即ちそ
れらは容易に光化学反応を起さない。これらの化合物は
新規のフルオロカーボン末端部分のために、それらのフ
ッ素を含有しない類似体より、大ぎく高められたスメク
チック性、低い複屈折性、及び低い粘性係数をもつ。
これらのアキラルフッ素化液晶及びそれらを含む混合物
は、電気光学的表示の広い分野に有用である。特にこれ
らフッ素化液晶Ｉ料はスメクチツり中間相を示し、とり
わけスメクチックＡ及びＣはスメクチックＡ　（ＳｍＡ
）　、スメクチックＣ（ＳｍＣ）　、キラルスメクチッ
クＡ　（ＳｍＡ”　）及びキラルスメクヂツクＣ（Ｓｍ
Ｃ＊）ａｔ合物の製剤に有用である。
更にこの発明のアキラルフッ素含有液晶化合物の製造に
対する、次の（１）又は（２）のステップを含むプロレ
スを提供する。
（１）　　少くとも次式で示すひとつの化合物と［ ここにＭｌ Ｎ１及びＰはそれぞれ独立に Ｘ、　　　　　　　　ＹＩ 少くとも次式で示すひとつの化合物とを混合する。
７゜ 少くとも次式で示すひとつの化合物と で、ａ、ｂ、及びＣはそれぞれ独立にゼロ又は１から３
の整数で（但しａ＋ｂ十ｃは最低２）、ＡおよびＢはそ
れぞれ独立に、無し、 少くとも次式で示すひとつの化合物とを混合する。
Ｃ−１又は−〇− ＣＨ＝ＣＨ−１又は ＣＨ２ＣＨ２ ＣミＣ−； Ａ′、Ａ″、Ｂ′、及びＢ　ＬＬはそれぞれ独立に０）
１．−ＣＯＣｌ、−ＣＩ−１（ＣＩ−１０１−１）　２
、Ｓ　　Ｈ、−Ｓ　　ｅ　　ｌ−ｌ、−Ｔ　　ｅ　　Ｈ
、−Ｎ　　ｌ−１２、ＣＯＣｌ、−ＣＨｏ、又は、−ｃ
ｚ２ＣＯＯＨｒ（但しＡ′はＡ　ｎとの付加又は縮合反
応に入ることが可能で、Ｂ′はＢ　ｎとの付加又は縮合
反応に入ることができる）、 Ｘ、、Ｙｌ及びＺはそれぞれ独立に−（−ｌ、−ＣＩ、
Ｆ、　　　−ＱＣト１　３　　、　−０　１ｌ、−ＣＩ
−１３、−Ｎｏ　　２　　、Ｂｒ、−１，又は−ＣＮ　
；で、 ｊ！、ｍ、及びｎはそれぞれ独立にゼ１−１又は１から
４の整数で、 Ｒは、−ＱＣ，Ｈ２ｑ ＣｑＨ２ｑ−Ｏ−Ｃ６ ＣｑＨ２ｑ−Ｒ′ ０　ＣＣ、ト１２ｑ−Ｒ′ ＯＣｑ、ｌ−１２，、，１， １−１２０＋１・ ０−Ｃ，＋１２．−Ｒ’ 、又は ＣＯＣ，Ｆ２．−Ｒ’　、で ここにＲ′は−Ｈ，−ＣＩ、−Ｆ、 ＣＦ３、 ＮＯ２、−ＣＮ。
ｑ及びｑ′は独立に１から２０で、 Ｄは ＩＩ Ｃ−０−（ＣＩ−１２）　、、 ０−　（ＣＨ）　　−−（ＣＨ２＞、、ｒ ｏｓｏ　　−、−５ｏ２ −Ｓｏ　　（ＣＩ−１２）、、 ０　　　（Ｃ１−１２）　　　、−０（Ｃト１２　　）
　　。
Ｃ、ト’　　２ｐ＋１ Ｃ、ト’　　２ｐ＋　１ ここにｒ及び「′　は独Ｓ’７に１から２０、ｐｌよＱ
　７ＪＸら４で、 Ｒは−Ｃ１Ｆ２ｑ＋１で、ここにｑ及びｑ’　ｃま独立
［ に１から２０で、 そして前述のＡ′とＡ　ＩＩ又はＢ′とＢ　ＬＬは適し
た結合剤の存在下で結合可能である。
尚更にこの発明のアキラルフッ素含有液晶化合物を含む
液晶装置を提供する。
この発明の詳細な説 この発明は、スメクチック液晶表示装置等に用途が発見
されるアキラルフッ素含有液晶化合物及びそれから誘導
される混合物に関する。この発明の液晶は一般式１で表
わされる。
ここにＭ、Ｎ、及びＰはそれぞれ独立にで、ａＳｂ、及
びＣはそれぞれ独立にゼロ又は１から３の整数で、（但
しａ＋ｂ＋Ｃは最低２）ＡおよびＢはそれぞれ無方向性
に且つ独立に、無し、 ＯＯＯ ＩＩ　　　　　　　　ＩＩ　　　　　　　　ＩＩｃ−ｏ
−−ｃ−ｓ−−−−ｃ−ｓｅ Ｃ−Ｔ　　ｅ　　−−Ｃｌ−Ｉ　　　　ＣＨ２Ｃト１＝
ＣＨ−−Ｃ三　Ｃ−−Ｃト１＝ＮＣ１−１２−０ ＩＩ Ｃ−１又は−〇−； で、 Ｘ、Ｙ、及び／はそれぞれ独立に一用ｌ、−Ｃｊ！、Ｆ
　、　　　　　Ｂ　　ｒ　　、　　　　　　Ｉ　　、　
　　　　ＯＨ、ＯＣＨ３、ＣＨ３、−ＣＮ１又は−ＮＯ
２、で、 ｌ、ｍｌ及びｎはそれぞれ独立にピロ又は１から４の整
数で、 Ｄは Ｇ−０，−１ｃ　　ト１２　　）　ｌ、　−．０−（Ｃ
Ｈ２）、−−（ＣＨ２）。
ｏｓｏ２−　−５ｏ２ ＳＯ２−（ＣＩ−１２）。
０　（ＣＩ−１２）、−Ｃ）−（ＣＨ２）。
（ＣＩ−１２）、−Ｎ−８０２−１又はＣ、ト’２ｐ＋
１ ＣｐＨ２ｐ・１ で、ここにｒ及びｒ′は独立に１から２０．　ｐは０か
ら４で、 Ｒは、 ０−Ｃ，＋２ｑ−０−Ｃ，，１−１２，、＋１　、Ｃ、
ト１２ｑ　−０−Ｃ，、＋２．・＋１　、−Ｃ，＋２．
−Ｒ’　　−０−ＣｑＨ２ｑ−Ｒ’Ｃ−０−Ｃ，Ｈ，、
、−Ｒ’　、又は Ｏ−Ｃ−Ｃ，Ｈ２，−Ｒ’ ここに：ＲＭｆ−Ｃｉ’、−Ｆ、−ＣＦ３、−Ｎｏ２、
ＣＮ、−Ｈ。
Ｏ−Ｃ−Ｃ，）ｌ　　、　　、又は Ｑ２（＋＋１ −Ｃ−０−Ｃ６，ｌ−１２ｑ４１ で、ｑ及びｑ′は独立に１から２０で、Ｒは直鎖又は分
枝鎖であり得、 Ｒ「はＣＯＦ２．＋１で、ここにｑ及びｑ′は独立に１
から２０である。
この発明の材料の複屈折はフッ素のとり込みにより劇的
に減少している。この発明の材料は存在す゛る環系及び
環の数によって一般的に０．０５０．１８の範囲の複屈
折をもち、一方フッ素を含まない対応する材料はデータ
が得られる材料に対し０．１０−０．２６の範囲の複屈
折をもつ。
驚異的に、この発明のスメクチック液晶は抑制されたネ
マチック中間相をもつ。即ちこの発明の材料は、新規の
フルオロカーボン末端部分のどり込みのため、フッ素化
されないそれらに対応する液晶類似物と較べ、ないか又
は極めて小さいネマヂツク中間相温度範囲を示す。この
発明の液晶はフッ素を含まないそれらの液晶類似物と較
べ高いスメクチック中間相をもつ。このようにこの発明
のフッ素含有材料は、フッ素を含まない対応覆る類似物
と較べるとき、無いか又は極めて小さいネマチック液晶
の挙動と、＾いスメクチック液晶の挙動を示ず。ひとつ
又は両方の炭化水素末端部分に対するこの発明の部分的
ノツ化末端部分の置換による高められたスメクチック挙
動の現象はこの発明の材料に対し一般的である。
鎖のフッ素化は、フッ素を含まない類似物に較べ分子中
に高い秩序を誘発し、このようにしてネマチック中間相
は失われるか狭くなり、スメクチック中間相が導入され
るか高められる。材料の、親フッ素部分即ちフッ素含有
末端部分と、反フッ素部分即ち炭化水素核及び末端部分
との背反性はより高い秩序づけに導くと信じられている
。この確信は、水素原子の高度のフッ化したヂエンの末
端炭素部分への導入が、スメクチック層境界における好
ましくない双極子−双極子相互反応のために、−殻内に
狭いスメクチック相温度範囲をもｌＪらす事実によって
支えられる。
これらの性質はこれらの材料を、スメクチック液晶装置
への応用において、フッ糸を含まない材料に較べより好
適にする。それらは広いスメクチック液晶渇瓜範囲をも
つ。低い複屈折は既知のスメクチック液晶より少い制限
の設計パラメータをもたらす。低い粘度はこの発明のス
メクチック液晶材料を使うすべでの応用装置に、より速
い応答時間をもたらす。
更に、この発明の化合物と、この発明の他の材料又はこ
の発明のものでない他の材料又はそれらの混合物との混
合物を、好ましい転移湿度及び広い中間相温度範囲を提
供するために製剤することができる。
スメクチックＡの挙動を示づこの発明の個々の化合物は
、それ自体で又はこの発明の又はそうでない他の材料と
の混合物で、スメクチックＡの応用装置に使うことがで
きる。
（Ｃｒｏｓｓｌａｎｄらのここに引用された米国特許第
４゜４１１．４９４、第４，４１９，６６４及び第４゜
５２８．５６２、及びＵ、Ｊ、Ｎａｈｎ　（Ａｐｐｌ、
ＰｈｙｓＬｅｔｔ、、　ｖｏｌ、　２２、ｐ、１１１．
１９７３）を参照）。それらの低い粘度は、フッ素を含
有しないそれらの類似物に較べより速い再方向づ番ノ効
宋をもたらす。
スメクチックＣの挙動を示Ｊこの発明の個々の化合物は
、それ自体で又はこの発明の又はそうでない他の材料と
の混合物でＰＣ！＋２１らにＪ：って記載のスメクチッ
クＣ７リーデリック応用装冒に使うことができる。（Ｋ
ｒｉｓｔａｌｌ　Ｔｅｃｈｎｉｋ　　ｖｏｌ、１４ｐ、
ｓ　１７　（１９７９）　：　Ｈｏ１．Ｃｒｙｓｔ、Ｌ
ｔｑ、ＣｒｙｓｔＶＯｌ、５３、Ｉ）、１６７　（１９
７９）　：ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌｓ、　Ｖｏｌ、
２、ｐ、２１（１９８７）及びＬｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓ
ｔａｌｓ、　ｖｏｌ、　　２．　ｐ、１３１　（１９８
７）参照）　Ｐｅ１ｚｌ　らの研究の中で指摘されてい
るようにスメクチックＣ相における減９０．１間（ｄｅ
ｃａｙｔｉｍｅ）は同じ材料のネマチック相にお１ノる
のより短かく、又ある場合には十４時間（ｒｉｓｅ　ｔ
ｉｍｅ　）が短かく、ある応用に対し古い形式のフリー
デリック装置モードにお【ノるネマチックの利用に、こ
のタイプの装置の応用が優先権する。Ｐｅ１ｚｌらによ
って試験された材料に対４る上背及び減衰時間は、測定
光強度の５０％の変化に対し２−１００ミリ秒のΔ〜ダ
ーー（゛あった。この発明の材料に対しては光強曵の８
０％の変化に対し、上貸及び減衰時間が１ミリ秒以下で
あることが観察された。
光強瓜の８０％の変化に灼し数ミリ秒の十Ｖｔ及び減衰
時間が室温の混合物において観察された。この発明の材
料を利用する装置は、フリーデリックタイプの装置にお
けるネマチック材料の場所にスメクチックＣ材料の使用
を実用化し、有意に短い上昇及び減衰時間を達成す゛る
。
この発明の化合物はそれらがアキラルであるのでそれ自
体ではキラルスメクチツク（強誘電）液晶挙動を示さな
い。しかしこの発明の好ましい実施態様は、この発明の
材料と少くともひとつの：Ｘ：ラル（光学活性）成分と
を含む混合物を含む。この発明の多くの材料の広いスメ
クチックＣ中間相の範囲はそれらを広いスメクチックＣ
共品体の製剤における成分として有用に又望ましくし、
ぞの製剤はキラル添加剤の添加によって強誘電体又はキ
ラルスメクヂツクＣになる。
キラルスメクヂツク混合物の製剤においてこの発明の材
料を使用Ｊる他の利点は、低い複層ＪＪｉ性と粘度が得
られること【゛ある。これらの材料の低い粘度は、与え
られバルク偏光顧に対し、強誘電性スイッチングの速い
応答時間をもたらす。これら材料の低い複屈折性は人込
な装置スペースをもつ装置の製作を可能に１−る。２個
の偏光ｆをもつ表面安定強誘電体装置（ここに引用され
た米国特許第４，３６７．９２４に記載）を通る光の透
過は次式で表わされる。
１　＝　Ｉ　　（ｓｉｎ２（４θ））（ｓｉｎ２（πΔ
ｎ　ｄ／λ））ここに Ｉ　−平行偏光イを通る透過 θ＝材料の傾角 へ〇一液晶複屈折 ｄ−装置の間隔 λ−・使われる光の波長 である。
透過を最大にするためには、ｓｉｎ　２（４θ）及びｓ
ｉｎ　２（πΔｎ　ｄ／λ）の両者を大ぎくしなければ
ならない。これはそれぞれの項が１のときである。
第１項は傾角が２２．５のときに最大である。これは液
晶の関数で、与えられた温度にお１プる与えられた材料
に対しては定数である。第２項はπΔｎｄ−λ／２の時
最大である。
これはこの発明の材料の低複Ｆ１（折の［１を示す。
低複屈折は与えられた光の波長に対し、より大きな装ｊ
行の厚さ、ｄを可能にする。こうして、透過を最大にし
ながら、−層大きな装置の配列が可能になり、装置の組
立てを容易にする。
フッ素含有ブレカーザ化合物はこの発明のアキラルフッ
素含有液晶化合物の合成に使われる化合物である。簡単
に言えば、市販されている材料は、当業者周知の又実施
例に詳細記載の反応径路によって化学的に変換された。
その化学的変換は、フッ素含有及びフッ素を含まない化
学品を用いるアシル化、エステル化、ニーデル化、アル
キル化及びそれらの組合Ｉでブレカーサ化合物をつくり
、次には相互に反応させてこの発明のアキラルフッ素含
有液晶化合物をつくる反応が含まれた。
この発明の目的と利貞は以下の実施例によって詳細に説
明されるが、これらの実施例に記載される特定の材料及
びそれらの量は他の条併や詳細と共に、この発明を不当
に制限するように解釈すべきでない。
以下の実施例において、別に示さな【ノれば１べての温
度は摂氏度ですべでのけ及びパーセントは重量で示１゜
この発明のさまざまな実施例で調製される化合物はそれ
らの融点又は沸点によって特性を示し、構造は少くとも
次の分析法のひとつを用いて確認した。
元素分析、　ト１−．　　Ｆ−ＮＭＲ，ＩＲ，及びＭＳ
分光分析。
実施例１−５０はこの発明の液晶化合物の調製に有用な
中間体の調製方法を記載する。実施例５１−１４５はこ
の発明の液晶化合物のｖＡ製を記載する。実施例１４６
−１５２は液晶装置にお＋ノる個々の化合物及びこの発
明の化合物が組込まれた混合物を記載する。
これらの実施例で用いられた三フッ化アルキルスルホン
酸エステルは、ここに引用された米国特許用３．１４９
．５９５で開示されている方法を用い、三フッ化メタン
スルボニルフッ化物の場所に市販の三フッ化メタンスル
小ン酸無水物を用いて調製した。
これらの実施例で使われた４−ヘキシルベンゼンチオー
ルは、フォーゲルの゛実用有機化学教科書″第４販、６
４５−５．６５６頁（１９７８）に記載の方法を用い、
ヘキシルベンゼンとクロロスルホン酸のクロロスルホン
化とそれにつづく４ヘキシルベンゼン塩化スルホニルの Ｚ’ｎ／ＨＳＯ２による還元から調製した。
これらの実施例で用いられる２−ブブルー１゜３−プロ
パンジオールは、ＤｅｍｕｓらのＪ、　ｆｏｒＰｒａｋ
ｔ、Ｃｈｅｉｎ、　、　３２３．９０２−９１３　（１
９８１）に記載の方法を用いて、２−ブブルジエチルマ
ロ工−ト、ＬｉＡｊ！Ｈ４による還元によって調製した
。
これらの実施例に用いられた４−７セトキシ安息香酸は
、Ｐａ’ｖｉａ、　Ｌａｉ＋ｐＩＩｌａｎ及びＫｒ１ｚ
による゛有機実験技術の入門（Ｉｎｔｒｏｃｌｕｃｔｉ
ｏｎ　ｔｏ　ＯｒｇａｎｉｃＬａｂｏｒａｔｏｒｙ　Ｔ
ｅｃｈｎｉｑｕｅｓ　）　″に記載のように、４−ヒド
ロキシ安息香酸を無水酢酸と硫酸触媒で処理して調製し
ｌｃｏ これらの実施例で用いられたトランス−４（トランス−
４−へブチルシクロヘキシル）シクロヘキサン−１−カ
ルボン酸はＨｅｒｃｋ　Ｚ　Ｌ　Ｉ　−１１８６［ｔ−
ランス−１−シアノ−４−（１−ランス４′−へブチル
シクロヘキシル）シクロヘキサン］　（Ｈｅｒｃｋ　＆
　Ｃｏ、、　Ｒａｈｗａｙ、　ＮＪ　）いで）−ＩＣＩ
の水溶液で酸処理して調製した。
これらの実施例で用いられた４−（１−ランス４−ペン
チルシクロヘキシル）安息香酸はＨｅｒｃｋＺＬＩ−１
１１４［１−シアノ−４−（トランス４−ペンチルシク
ロヘキシル）ベンゼン］いでＬＩ　ＣＩ水溶液で酸性処
理して調製しに０これらの実施例で用いられた４〜デシ
ル−４′ごフェニルカルボン酸はＢＤＨＫ２Ｏ［４シア
ノ−４′−デシルビフェニル］　　（ＢｒｉｔｉｓｈＤ
ｒｕｇ　１ｌｏｕｓｅ、　Ｐｏｏｌｅ、　Ｇｒｅａｔ　
Ｂｒ１ｔａｉｎ）をで１１ＣＩ水溶液で酸性処理して調
製した。
これらの実施例で用いられた４−デシルオキシ４′−と
７■ニルカルボン酸はＢ　Ｄ　ＨＭ　３０［４−シアノ
−４′−デシルＡ４ニジビフェニル］を塩基加水分解し
ついでＨＣ１水溶液で酸性処理して調製した。
これらの実施例で用いられた１〜ランス−５−ブチル−
２−、（４−ノエニルカルボン１Ｉ）１，３ジオキサン
はここに引用した米国特許用４，３１３．８７８におけ
るト１ｓｕの方法で調製した。
これらの実施例で用いられた３−クロｏ−４ヒドロキシ
安息香酸メヂル、３−メｉ・キシ−４ヒト［ｌキシ安息
香酸メヂル及び２−クロロ−４とドロキシ安息香酸メヂ
ルは過剰のメタノール及び硫酸触媒と共に適当な安息香
酸を還流して合成された。
これらの実施例で用いられたｌ、１−ジヒドロパーフル
オロブチル　２〜クロロ−４−ヒト［１−１ジベンゾエ
ートは２−クロロ−４−ヒト［」キシ安息香酸を過剰の
１．１−ジヒドロパーフル７　ｍ＋ブタノール及び硫酸
触媒と共に運流して合成された。
この実施例で用いられｌこすべての酸性塩化物は適当な
カルボン酸を過剰の塩化ヂオニルと運流し乍ら反応し、
ついて・過剰の塩化ヂオニルを除き得られた酸性塩化物
を蒸留又は再結晶して調製した。
丈五Ｍ」 ナトリウム（０，５８ｇ、２５〜原了）が２５−の無水
メタノールと２５℃ですべてのツートリウムが反応し了
るまで反応された。プトリウムメブラートの形成完結後
、４〜ヒドロキシ安息香酸メチル（３，８ｇ、２５ミＪ
ノモル）が加えられた。
過剰のメタノールが減圧下で除かれ杓２５ｄのトルエン
が加えられ減圧下で残りのメタノールがすべて除かれた
。固体残留物は約１００−の２：１トルエン−Ｎ、Ｎ−
ジメヂルボルムアミド（ＤＭＦ）中に溶かされ、１，１
−ジヒドロキシバーノルＡロブチルトリフルオロメブル
スルホネート（８，３ｇ、２５ミリモル）がｍＴ法で加
えられた。混合物は１日間遠流され、冷却され１００威
の水で３回洗浄された。分離された有機物層は脱水され
（無水ＭｑＳ０４）、濾過され、そして減圧下で濃縮さ
れた。
得られた粗４−＜１．１−ジヒドロパーフルオロブト−
Ｖシ）安息香酸メチルは１００ｄの１０％水酸化ナトリ
ウム水溶液中で２時間速流された。
反応生成物は冷ＩＪＩされ注意深く濃塩酸ぐ酸性にされ
た。沈殿固体は濾別され、数回冷水で洗われ、エタノー
ル−水からの再結晶で精製され６，４２ｇ（８０％収率
）の生成物、４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブト
キシ）安息香酸を得た。
実施例２−１４ 実施例２、−１４の化合物は実施例１に記載の方法と同
じ方法で調製された。但し実施例２においては １．１−ジヒドロパーフルＡロブデルトリフルロ Ａロメヂルスルホネートにだいし１，１−ジヒドロパー
フルＡロエヂルトリフルＡロメチルスルホネーｈ（５，
８０９，２５ミリｔル）で首き換え、実Ｍ　＃Ｊ　３に
おいては、 １．１−ジヒドロパーフルＡ【］］ブプル１〜リフルＡ
ロメチルスルホネーにたいし１，１−ジヒド【１バーフ
ルオ［１プ【］ピル１〜リフルア１−１１メブルスルホ
ネ−１−（７，０５ｇ、２５ミリモル）で置き換え、実
施例４においては、 １．１−ジヒドロパーフルＡ−ロブチルトリフルＡロメ
チルスルホネートにたいし１，１−ジヒド［１パ一フル
Ａ口へ二１−シル１ヘリフルＡロメチルスルホネ−１〜
（１０，８０ｇ、２５ミリモル）で直さ換え、 実施例５においては、 １．１−ジヒドロパーフルオロブチルトリフルオロメチ
ルスルホネートにたいし１，１−ジヒド［１パーフルオ
ロＡ°クヂル１ヘリノルΔロメチルスルホネ−１〜（１
３，３０９，２５ミリｔル）で賀き換え、 実施例６においでは、 １．１−ジヒドロパーフルオロブチル１〜リフルオロメ
チルスルホネートにだいし１．１−ジヒドロパーフルオ
［］へ］４−シルトリフルオロメチルスルホネ１〜＜６
．４８９．１５ミリモル）で胃ぎ換え、そして４−ヒド
ロキシ安息香酸メチルに対し３−クロロ−４−ヒドロキ
シ安息香酸メチル（２，７９ｇ、１５ミリモル）で回き
換え、実施例７においては、 １．１−ジヒドロパーフルオロブチルトリフルオロメチ
ルスルホネートに対し１．１−ジヒドロパーフルオロブ
チルトリフルオロメチルスルホネート（５，３２ｇ、１
０ミリモル）で置き換え、そして４−ヒドロキシ安息香
酸メチルに対し２クロロ−４−ヒドロキシ安息香酸メチ
ル（１，８７ｇ、１０ミリモル）で置き換え、実施例８
においては、 １．１−ジヒドロパーフルオロブチル１〜リフルオロメ
チルスルホネートに対し１．１−ジヒドロパーフルオロ
オクチルトリフルオロメチルスルホネート（５，３２ｇ
、１０ミリモル）でｆｆＱ換え、そして ４−ヒドロキシ安息香酸メチルに対し３−クロロ−４−
ヒドロキシ安息香酸メチル（１，８７ｇ、１０ミリモル
〉で置き換え、 実施例９においては、 １．１−ジビト〔１パーフルＡロブチルトリフルオロメ
チルスルボネートに対し１．１−ジヒドロパーフルＡ［
１ヘキシルトリフルオロメヂルスル小ネート（１０，８
０ｇ、２５ミリモル）で置き換え、そして ４−ヒドロキシ安息香酸メチルに対し２−クロロ−４−
ヒドロキシ安息香酸メブール（４，６６ｇ、２５ミリモ
ル）で置き換え、 実施例１０においては、 １．１−ジヒドロパーフルオロブチルトリフルオロメチ
ルスルホネートに対し１．１−ジヒドロパーフルオロヘ
キシルＩ〜リフルオロメヂルスル小ネート（１２，６ｇ
、３０ミリモル）で置き換え、そして ４−ヒドロヤシ安息香酸メチルに対し３−メトキシ−４
−ヒドロキシ安息香酸メチル（５，４６９，３０ミリモ
ル）で置き換え、 実施例１１においては、 ４−ヒドロキシ安息香酸メチルに対し２−クロロ−４−
ヒドロキシ安息香酸メチル（７，００ｇ、３７．５ミリ
モル）で置き換え、そして１．１−ジヒドロパーフルオ
［１ブヂルトリフルＡロメチルスルホネートを用い（１
２，４５９゜３７．５ミリモル）、 実施例１２においては、 １．１−ジヒドロパーフルＡロブデルトリフルオロメチ
ルスルホネート ン（１９．３ｇ．１００ミリモル）で置き換え、そして
４−ヒドロキシ安息香酸メチルに対し３メトキシ−４−
ヒドロキシ安息香酸メチル（１８．２ｇ、１００ミリモ
ル）で置き換え、実施例１３においては、 ｌ、１−ジヒドロパーフルオロブチルトリフルオ［１メ
チルスルホネートに対し１−ブＯモＡクタン（１９．３
ｇ．１００ミリ１ル）で置き換え、そして４−ヒドロ４
−シ安息香酸メチルに対し３クロロ−４−ヒドロキシ安
息香酸メチル（１８．７ｇ、１００ミリモル）′Ｃ″置
き換え、実施例１４においては、 ｌ、１−ジヒドロパーフルオロブチル１〜リフルオロメ
チルスルホネートに対し塩化ベンジルで置き換えた。
このようにして精製された化合物は、 ４−（１．１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）安息香
酸（実施例２）、 ４−（１．１−ジヒドロパーフルオロプロボー１−シ）
安息香酸（実施例３）、 ４−＜１．１−−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ
）安息香酸〈実施例４）、 ４−（１．１−−ジヒドロパーフルオロＡり１ルＡキシ
）安息香１１１（実施例５）、 ３−クロロ−４−（１．１−ジヒドロパーフル１口へキ
シルオキシ）安息香酸（実施例６）、２−クロロ−４−
　（１．１・−ジヒドロパーフルＡ０オクヂルオキシ）
安息香酸（実施例７）、３−クロロ−４−（１．１−ジ
ヒドロパーフルオロオクチルオキシ）安息香酸〈実施例
８）、２−クロロ−４−（１．１−ジヒドロパーフルオ
ロへキシルオキシ）安息香酸（実施例９）、３−メト４
ニジ−４−（１．１−ジヒドロパーフル１口へキシルオ
キシ）安息香？Ｓｌ！（実施例１０）、２−クロロ−４
−（１．１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）安息香ｉ
！ｌ！ｌＩ（実施例１１）、３−メトキシ−４−オクチ
ルオキシ安息ｓｙａ＜実施例１２）、 ３−クロ０−４−オクヂルオキシ安息香Ｉ！Ｉ（実施例
１３）、 及び４−ベンジルオキシ安息香酸（実施例１４）であっ
た。
実施例１５ 水素化ナトリウム（２．４ｇ．０．１モル）が１５０−
のドライグリムに懸濁された。モノベンジルヒドロキノ
ン（２０．０ｇ、０．１モル）が２５０ｄの無水グリム
に溶解され水素化ナトリウムの懸濁物に室温で攪拌し乍
ら窒素の存在下で・滴下法で加えられた。１−１１丁１
モへキリン（１６，５９，０，１ｔル）が滴下法で加え
られ反応混合物は１日間還流された。反応４［酸物は冷
却されグリムは減圧下で除かれた３、残留物は３０〆の
１＝１エタノール−酢酸１プルに溶解され２りの１０％
炭素担持パラジウムを用いて水木圧５Ｑ　Ｑ　ｋＰａ室
温で４時間接触還元された。触媒は濾別され溶剤は濾液
から減圧下で除かれた。粗生成残留物はエタノール水溶
液から再晶析され１５ｇの４−ヘキシル第１シフＴノー
ルを１９た。
実施例１６−１９ 実施例１５のとは異るアルコキシグループを含む実施例
１６−１９における化合物が実施例１５に記載の方法と
同じ方法で調製された。但し実施例１６においては １−ブロモヘキサンに対し１−ブロモオクタン（１９，
３ｇ、ｉｏｏミリモル）Ｔ：置換えられ、実施例１７に
おいては １−ブロモへ１＝４ノーンに対し１−ブ日モγカン（２
２，１ｇ、１００ミリモル）′ｃ置換えられ、実施例１
８においては １−ブロモヘキサンに対し１−ブロモドデカン（２４，
９ｇ、１００ミリｔル）で置換えられ、そして実施例１
９においては １−ブロモへキリンに対し１−プロＥ−１１（パーノル
ＡＤＪクチル）ウンデカン（２，３７グ、５ミリモル）
で置換えられ、そして５ミリモルの水素化すトリウム及
びモノベンジルヒドロキノンが用いられた。
このようにして生成された化合物はそれぞれ、４−オク
チルメギシフエノール（実施例１６）、４−デシルオキ
シフェノール（実施例１７）、４−ドデシルオキシフェ
ノール（実施例１８）、及びｔ−（１１−パーフルオロ
オクチルウンデシルオキシ）フェノール（実施例１９）
であった。
実施例２０ 水素化すトリウム（５，０！Ｊ、０．２１’Ｅル）が１
５０−のドライ１，２−ジメトキシエタン（グリム）に
懸濁された。モノベンジルヒト［１キノン（４０ｇ、０
．２０モル）が５００ｍ！のドシイグリムに溶解され、
水素化ナトリウムに窒素の存在下で攪拌し乍ら滴下法で
加えられた。添加完ｒ後混合物は室温で１時間かき淀ぜ
られその後７８℃に冷却された。１，１−ジヒド［−」
パーフルオロブチルトリフルオロメチルスルホネート（
７０，０ｇ、０．２１モル〉がその後滴下法で加えられ
た。添加完ｒ後反応は室温まで徐々に温まった。グリム
は減圧下で除かれた。残留物は８００ｄの水と７００ａ
ｉ！の１チルエーテルで希釈され強くかき混ぜられた。
分離されたエーテル層は約５００蛇の５％水酸化ナトリ
ウムで２回、約５００ｄの水で２回洗浄され、無水Ｍｑ
Ｓ０４で乾燥され、濾過され、濃縮されて６５９の淡黄
褐色の中間生成物を得た。この中間１：酸物は無水１タ
ノールに溶かされ、１０％Ｐｄ／Ｃ触媒の触媒量を用い
、室温で５００　ｋＰａの水素で２時間接触還元した。
触媒は濾別されエタノールは減圧下で除かれた。粗フエ
ノールは高性能液体クロマトグラノィ−（ＨＰ　Ｌ　Ｃ
、シリカゲル、塩化メヂレン）で精製され、そして得ら
れた固形物は石油エーテルから再晶析され純粋生成物４
−１１．１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）フェノー
ルを得た。
（５９，３％収率）。
実施例２１−２５ 実施例２０におけるのと異なるフッ素含有アルコキシグ
ループを含む実施例２１−２５における化合物が、実施
例２０に記載の方法と同じ方法で調製された。但し実施
例２１においては、１，１ジヒドロパーフルオロブチル
　トリフルＡ［１メチルスルホネートにだいし、１．１
−ジヒドロパーフルオロへキシル　トリフルオロメチル
スル小ネート（４５ｇ、１０５ミリモル）で置き換え、
そしてモノベンジルヒドロキノン（２０，０ｇ、１００
ミリモル）を用い、実施例２２においては、１．１−ジ
ヒド［１パーフルオ［１ブチル　トリフルオロメチルス
ルホネ−１〜にたいし、１，１−ジヒドロパーフルオロ
オクチルトリフルメロメチルスル小ネ−１へ（５８，５
ｇ、１１０ミリ［ル）で置き換え、そして七ノベンジル
ヒドロキノン（２０，０ｇ、１００ミリモル）を用い、
実施例２３においては、１．ｌ−ジヒドロパーフルＡロ
ブチル１〜リフルオ日メチルスルホネートにだいし、１
．１，２．２−テトラヒドロパーフルオロへキシルトリ
フルオロメチルスルホネート（１９，８り、５０ミリモ
ル）で置き換え、そしてモノベンジルヒドロキノン（１
０ｇ、５０ミリｔル）を用い、実施例２４においては、
１．１−ジヒドロパーフルＡロブヂルトリフルオ［Ｉメ
ブルスル小ネトにだいし、１．１−ジヒドロパーフルオ
ロブチル　トリフルオ〔ｌメチルスルホネート（１１，
６り、５０ミリモル）で置き換え、そしてモノベンジル
ヒト０キノン（１０ｇ、５０ミリモル）を用い、実施例
２５においては、１．１−ジヒドロパーフルオロブチル
　Ｉ−リフルオロメチルスルホネートにたいし、１．１
−ジヒドロパーフルオロプロピル　トリフルオロメチル
スルボネート（１４，１ｇ、５０ミリモル）で置き換え
、ぞしてモノベンジルヒドロキノン（１０ｇ、５０ミリ
七ル）を用いた。
このようにして生成された化合物は ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ）
フェノール（実施例２１）、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロプロピルオキシ）
フェノール（実施例２２）、 ４−　（１，１，２，２−テトラヒドロパーフルオロへ
キシルオキシ）フェノール（実施例２３）、４−（１，
１−ジヒドロパーフルオ［１エトキシ）フェノール（実
施例２４）、 ４−（１，１−−ジヒドロパーフルオロプロポキシ）フ
ェノール（実施例２５）であった。
実施例２６ ４−ブロモフェノール（３４，６ｇ、０．２モル）が２
５ｙｄのドライグリムに溶解され、２５ｍのドライグリ
ム中の水素化ナトリウム（４，８ｇ、０．２モル）の懸
濁物に滴下法で加えられた。添加が完了した後、混合物
は室温で３０分間かき混ぜられ２５ａｅのドライＤ　Ｍ
　Ｆが加えられた。臭化ヘキシル（３６，３ｇ、０．２
２モル）がその後加えられ混合物は１日間遠流された。
反応間合物は濾過されグリムは減圧下′ｃＷｉＡかれた
。塩化メチレン（５０ａｉ’）が残留物に加えられこの
溶液は約５０ｄの水、約５０５１１＋の５％水酸化す１
−リウム、約５０ｍ！の水で次々と洗浄され、無水Ｍｇ
ＳＯ４で乾燥され、濾過され、減圧■で濃縮された。蒸
留で４０．５ｇの生成物、１−プローＥ−−、４−へキ
シルオキシベンゼン、沸点１４２−３℃１５１Ｍｌ１ｇ
（５トル）を得た。（収率７９％）。
実施例２７ マグネシウム（２，３ｇ、０．１Ｊ原了）が２５０１ｄ
フラスコに置かれ溶剤なしで１５分間乾燥窒素の存在下
でかき混ぜられた。その後ドライのデトラヒド［１７７
’／’　（１−トＩＦ）（１００ＩＩｅ）がそのフラス
コに加えられた。５０ＩＩＩｅのドライＴ　Ｉ−Ｉ　Ｆ
中の１−ブロモ−４−ヘキシルオー１−シベンゼン（２
５，７９，０，１モル、実施例２６）を添加漏斗に入れ
、この溶液の２５％がフラスコに加えられた。この混合
物は注意深く温められそして一度反応が始まると熱はと
り去られ還流は残りの１−プロ’Ｅ−４−へ１シルオキ
シベンゼン溶液を加える速度によってコントロールされ
た。添加が終ったあと反応混合物は２時間速流され、還
流のすぐ下まで冷却されそして硫黄（３，２ｇ、０．１
グラム原子）が小分けにして極めて注意深く加えられた
。硫黄の添加が完了したあと反応混合物は室−で３時間
かき泥ぜられ、濾過され、減圧下で濃縮された。エチル
１−フル（２００ａｅ）が加えられそして１ＭのＨＣｊ
！水溶液が強く攪拌しながら注意深く加えられた。分離
したエーテル層が約１００ｔ＋ｔｆ！ＩＭ　　ＨＣＩと
約１００蛇の水で洗浄され、無水ＭｇＳＯ４で乾燥され
、濾過され、そして減圧濃縮された。粗生成物は蒸留さ
れ、沸点１４５°／１０ｍ、１５．１ｇの生成物、４ヘ
キシルオキシヂオフエノールを得た。（収率７２％）。
実施例２８ 実施例２８の化合物は、１−プロ（−４−へキシルオキ
シベンゼンにだいし１−ブロモアニソールでｄき換えた
ことを除いて実施例２７の方法で調製した。このように
して得られた化合物は４メトキシチオフェノールて゛あ
った。
１倉ｍ ナトリウ、ｌ！Ａ（１，１５ｇ、５０Ｒｇ原子）を５０
−の無水メタノールと反応ざ仕、ナトリウムメヂラート
の生成完了後、４＝ヒドロ４ジベンズアルデヒド（６，
１ｇ、５０ミリ［ル）が加えられた。。
過剰のメタノールは減１］下で除かれそして約５゜〆の
トルエンが加えられそして残りのメタノールと共に減Ｈ
″？−で除かれた。残った固型物は約１００ｄの２：１
トルエン−ＤＭＦに溶かされぞして１．１−ジヒドロパ
ーフルＡ［Ｉヘキシルオキシトリノルオロメチルスルホ
ネート（２１，６ｇ、５０ミリモル）がすべて−度に加
えられ混合物は１日間還流された。反応生成物は冷ＩＪ
Ｊされ１００ｍの水で３回洗浄された。分離した有機物
層は無水ＭｑＳＯ４で乾燥され、濾過されぞして濾液は
濃縮された。濃縮物の蒸留で１３．１ｇ（６５％）の純
品、１−（１，１−ジヒドロパーフル１口へキシルＡ」
−シ）ベンズアルデヒド、沸点９１−２℃１０．２１−
ルを得た。
実」１例バＬΩ 水素化ナトリウム（１２，０ｇ、５０ミリモル）が２５
ａｆ！のジグリムに分散されそして７５ｄのジグリム中
の２．６−シヒドロキシナフタレン（２５ミリ七ル）が
加えられた。混合物は１時間１５０℃に温められ、その
後冷却され、１．１−ジヒドロバーフルオロブヂルトリ
フルオロメチルスルホネート（４，１５ｇ、１２．５ミ
リモル）が加えラレタ。混合物ハ２ｖｆＩ？！］　１５
０℃−ｃ　淘メラレ、そのあと室温に冷却された。反応
は１００ａｅの３ＭＨＣｌで酸性とされ約１００ｄのエ
ーテルで２回抽出された。合わされた有機抽出液は約１
００−の水で４回洗浄され、無水ＭｇＳＯ４で乾燥され
、濾過され、そして濃縮された。粗濃縮物はＨＰＬＣに
よりシリカゲルカラムで塩化メチレンを用い精製され１
．９９　（収率４４％）の生成物、６−（１，１−ジヒ
ドロパーフルオロブトキシ）−２−ナフトールを得た。
実施例３１−３２ 実施例３１−３２において、化合物は実施例３Ｏに記載
の方法と同じ方法で調製された。但し実施例３１におい
ては、２．６−シヒドロキシナフタレンにだいし、１，
４−ジヒド［１４ニジナフタレン（４，ｏｏｇ、２５ミ
リモル）で置き換え、実施例３２においては、２．６−
ジヒドロ１シナフタレンにだいし１．５−ジヒドロ１シ
ナフタレン（４，００！？、２５ミリモル）で、そし−
ｃｌ、１ジヒド［］パーフルオ［１１デルトリフルＡロ
メブルスルホネートに対し１−ブ［］モオクタンで置き
換えた。このようにしてＰノられた化合物は４（１，１
−ジじドロパーフルオロブトキシ）−１ナフトール（実
施例３１）及び５−オクチルオキシ−１−ナフトール（
実施例３２）であった。
実施例３３ ナトリウム（２，３！？、０．１ｇ原了）が１００〆の
デカノールに窒素の存在下室温でかぎ混ぜながら加えら
れた。反応完了後、６−クロロニコチン酸（７，０９ｇ
、０．０４．５七ル）が加えられそしてこの混合物は２
日間還流された。反応混合物ハ３００　ｍｌ　（７）　
０　、５　Ｍ　　ｌ−Ｉ　ＣＩ−Ｑ酸性トシ、生成物は
約５０ａｅの石油ニーデルで３回抽出された。抽出液は
合わされ、無水Ｍにｌ５Ｏ４で乾燥され、濾過され、そ
して濾液は濃縮されて粗材料が残り、これはへブタンか
ら２回置晶析されて５．２！１７（収率４１％）の生成
物、６−ゾシクロ第４−シニ］ヂン酸を得ｌこ。
実施例３４ この実施例では、化合物は実施例３３に記載の方法と同
じ方法で調製されＩｓ。但しデカノールにだいし、ｄ　
Ｊ　−４−メチルヘキリノールで賀き換え、（１−，６
−（４−メチルヘギシルオキシ）ニコチン酸を得た。
実施例３５ 水素化ナトリウム（１，４４Ｓ？、０．０６モル）が５
０−のドライグリムに分散されそして１．１ジヒドロバ
ーフルオｌコブタノール（６，０ｇ、０．０３’Ｅル）
が窒素の存在下室温で・かき混ぜ乍ら滴下法で加えられ
た。添加完了後、１００ｄのジグリムと５０ｄのシクロ
ヘキサンに溶解された６−りＬｌ［１−二］チン！！（
４，７１ｇ、０．０３モル）が加えられ、この混合物に
１日間還流された。反応混合物は１５０ｄの０．５Ｍ　
　１−ＩＣｊ！−（”酸性とし、生成物は５ｏＩｄ、の
エチルエーテルで３回抽出された。分離されたニーデル
抽出液は合わされ、無水ＭＱＳＯ４で乾燥され、濾過さ
れ、イして濾液は濃縮された。粗生成物はへブタンから
２回前晶析され２．６３７　（収率２７％）の生成物、
６−（１，１−ジヒド［１パーフルオロブト４ニジ）二
ロチン酸、少量の出発６−クロロ―」チン酸含有、を得
た。
実施例３６ ４−ベンジルオキシフ１ノール（１０，０ｇ、０．０５
モル）、実施例１のように調製された４（１，１−ジヒ
ドロパーフルＪ’　０ブ；・キシ）安息香１（１６，０
ｇ、０．０５モル）、及び４ジメチルアミノピリジン（
０，１ｙ＞が１００ｔｔｔｌの塩化メチレンに溶解され
た。そのあどジシク［１へ：Ｖジルカルボジイミド ０、０５３モル）が−度に加えられた。反応混合物は２
５℃で窒素雰囲気′ｃ１２時間かぎ混ぜられた。反応生
成物は濾過され、濾液は約１００ｄの０、５Ｎ塩酸、約
１００１ｄの５％炭酸水素ナトリウム水溶液、及び約２
００ｍの水で次々に洗浄された。有機物相は分離され、
無水１ｖｌｓ０４で乾燥され、濾過され、そして濾液は
濃縮されてエタノールからの再晶析後２２ｇの４−ベン
ジル第１ジフエニル　４−（１．１−ジヒドロパーフル
オロブトキシ）安息香酸を得た。
実施例３７−３８ 実施例３７−３８においては、化合物は実施例３６と同
様に調製された。但し実施例３７においては、４−（１
．１−ジヒドロパーフルオ［１ブトキシ）安息香酸にた
いし４−ベンジルオキシ安息香１（２．２８ｇ、１０ミ
リモル、実施例１４）で置き換え、そして４−ベンジル
オキシフェノールにだいし１，７−ジヒドロパーフルオ
ロブタノール（２．ＯＯｇ、１０ミリモル）で置き換え
、実施例３８においては、４−　（１．１−ジヒドロパ
ーフルオロブトキシ）安息香酸にだいし４−ベンジルオ
キシ安息香１１（２．２８ｇ、１０ミリ土ル、実施例１
４）で直さ模λ、イしで４　ベンジルオキシフェノール
にだいし１，１−ジヒドロパーフルオ日ヘキザノール（
３．００ｇ、１０ミリモル）で置き換えた。このように
して得られた化合物は１．１−ジヒドロパーフルオロブ
チル４ベンジルオキシベンゾエート（実施例３７）及び
ｌ、１−ジヒドロパーフル′Ａ［１ヘキシル４−ベンジ
ルオキシベンゾエート（実施例３８）であった。
実施例３９ ４−ベンジルオキシフェノール（２０．０９、１００ミ
リモル）が２００ａｉ！の乾燥エーテル及び１０〆のト
リエチルアミンに溶解された。４−デシルオキシ塩化ベ
イゾイル（３０．（ｌ、１００ミリモル）が窒素存在下
室温でかき混じ乍ら滴下法で加えられた。窒素雰囲気ト
室編で１日間攪拌後、２００Ｉｄのトルエンと２００１
ｄの塩化メチレンが反応混合物に加えられた。ぞの接反
応混合物は濾過され濾液は０．５Ｎのｌ−Ｉ　Ｃ　Ｉで
２回、水で１回洗浄され、無水硫酸マグネシウムで乾燥
され、濾過され、そして減圧濃縮された。粗生成物は１
〜５フ ルエンーエタノールから再結晶化され４３．３ｇ（収率
９５％）の４−ペンジルオキシフェニル４デシルオキシ
ベンゾ１−トを得た。
実施例４０ 実施例４０では化合物は実施例３９と同様に調製された
。但しモノベンジルヒドロキノン（１０９、５０ミリモ
ル）が用いられ、そして４〜デシルオキシ塩化ベンゾイ
ルにたいし４−デシル塩化ベンゾイル（１４．ｏｇ、５
０ミリモル）で置き換えられた。このようにし−〇得ら
れた生成物は４ベンジルオキシフェニール４−デシルベ
ンジェ−１〜であった。
実施例４１ 実施例３６のように調製された４−ベンジルオキシフェ
ニール４−（１．１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）
ベンゾエート（２２ｇ、０、０４３８モル）が容積５０
　：　５０のエタノール−酢酸エチル２００−に溶解さ
れ、５　０　０　ｋＰａの水素圧で炭素担持１０％パラ
ジウム触１２．０９を用い−（２５℃で２時間水素添加
された。反応混合物は触媒を濾別され、濾液は減Ｊ＝−
トで濃縮され１７．３ｇの４−ヒト［１キシノエニール
４（１，１−ジヒド［１パーノル第１−１ブｉ−二１シ
）ベンゾニーｉ−を得た。。
χ薯」〕」シ二土上 実施例４２−４５においては、化合物は実施例４１と同
様に調製された。但し 実施ｆ９４４２においては、 ４−ベンジル第４−ジフェニル　４−−（１，１ジヒド
［１パーフル７ｊ’ｌｌブト）シ）ベンゾ■−１〜にた
いし、実施例３７のように調製された、１．１−ジヒド
ロパーフル第１−１ソブル　４−ベンジルＡ１−ジベン
ゾニー１〜で置き換え、実施例４３においては、 ４−ベンジルオキシ７Ｔニル　’１−（１，１ジヒドロ
パーノルオロブト：１シ）ベンゾエートに対し実施例３
８のように調製された、１．１−ジじドロパーノルオ「
Ｉヘキシル　４ベンジルオー１ジベンゾエートで置き換
え、実施例４４においては、 ４−ベンジルオキシフェニル　１−（１，１ジヒドロバ
ーノルオロブ１〜１ニジ）ベンゾ゛［−トに対し実施例
３９のように調製された、４−ベンジルオキシフェニル
　４−デシルＡキシベンゾエートで置ぎ換え、 実施例４５においては、 ４−ベンジルオキシフェニル　４−（１，１ジヒドロパ
ーフルオロブ！〜１シ）ベンゾエートに対し実施例４０
のように調製された、４−ベンジルオキシノに−ル　４
−デシルベンゾニー１〜Ｃｄぎ換えた。
このようにして生成された化合物は １．１−ジヒドロパーフルオロブチル４−にドロキシベ
ンゾニー１〜（実施例４２） １．１−ジヒドロパーフルオロヘキシル４−ヒドロ」−
ジベンゾニ−１〜（実施例／ｌ３）４−ヒドロオキシフ
ェニル　４−デシルオキシベンゾエート（実施例４４） ４−ヒドロオキシフェニル　４−デシルベンジェ１−（
実施例／Ｉ５）ぐあった。
実ｍＰＡ４Ｂ 実施例２７で合成された４−へ：１−シルＡ＋シブオフ
エノール（１，０５ｇ、５ミリモル）の、１ｄのドライ
トリエチルアミンを含む３〇−のドライエチルエーテル
中の溶液に対し、実施例１で合成された材料から誘導さ
れた／Ｉ−（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）
塩化安息香酸（１，７０！？、５ミリモル）が滴十法で
加えられた。反応沢合物は室温で１１」間かさ脛ぜられ
イの時点【・濾過され、ｉｌ＆液は約５０ｄ（１）０．
５ＭＨＣｌ、約５０ｔｒｄ！の水Ｃ順次洗浄され、無水
ＭｇＳＯ４で乾燥され、濾過され、そして＆ＩＩ液は減
圧濃縮された。粗残留物（まト１１）　Ｌ　Ｃ（トルエ
ン、シリカゲル）で精製されつづいて無水エタノールか
ら再晶析されて２．１７ｇ（収率８２％）の４（１，１
−ジヒドロパー１１１４口へ一１ニシルＡ−１シ）ヂオ
ール安息香酸４′−ヘキシルＡキシフ■ニルエステル（
表１の化合物１）を得た。この構造はプロトン−及びフ
ッ素−核磁気共鳴、質量分光測定、及び赤外分光法で確
認されノζ、７実施例４７−４８ 実施例４７−４８においては、表１の化合物２３が実施
例４６と同様に調製された。但し、４ヘキシルＡキシチ
オ−フェノール及び／Ｉ−（１゜１−ジヒドロパーフル
オロ１１〜Ｖシ）塩化安息香１に対し以下に示Ｊブレカ
ーザ化合物で置き換えられた。
実施例４７、化合物２は４−ヘキシルヂオフェノール及
び４−（１，１〜ジヒド［］パーフルオロブトキシ〉安
息香酸〈実施例１）から調製された。
実施例４Ｂ、化合物３は４−メ１ヘー髪シチＡフェノー
ル（実施例２８）及び４−（１，１−ジヒドロパーフル
オロオクヂルＡ−１シ）安息香酸（実施例５）から調製
された。
実施例４９ ４−デシル第４−シ安息香Ｍ（０，７０ｇ、２．５ミリ
モル）及び４−（１，１−ジヒドロパーフルオロ１１〜
Ｖシ）フェノール（０，７３ｇ、２．５ミリｔル、実施
例２０Ｃ′合成）が５０ｄの塩化メヂレンに溶解され／
、−，４−（Ｎ、Ｎ−ジメデルアミノ）ピリジン（０，
１ｇ＞、ついでＮ。
Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミド（０，５２ｇ、２
．５ミリｔル）が反応混合物に加えられた。
反応生成物は窒素の存在下室温で１日間かき混ぜられ、
濾過され、約５０ａｄ！の０．５Ｍ　トＩＣｊ！、約５
０−の５％炭酸水素す］・リウム、及び５０Ｉｄ！の水
で次々に洗浄された。分離された有機物層は無水Ｍｇ５
０４Ｔ：乾燥され、濾過され、ぞして濾液は減圧濃縮さ
れた。粗生成物はＨＰＩ−Ｃ（１−ル■ン、シリカゲル
）で精製され、ついでエタノールから再晶析されて１．
０２ｙ　（収率７４％）の４−デシルオキシ安息香ｌ／
ｌ’−（１，１−ジヒド［］パーフルオロブトキシ）フ
ェニルエステル、（化合物４、表■）を得た。プロトン
−及びフッ素−核磁気共鳴、質量分光測定、及び赤外分
光法で特性を測定した。
実施例５０−１０１ 実施例！：１Ｏ−１０１においては、表■の化合物５−
５６は実施例４９と同様に調製された。但し、４−デシ
ルオキシ安息香酸及び４−（１，１−ジヒトＬ］パーフ
ルオロブＩ〜キシ）フェノールにだいし、以下に示すプ
レカーサ化合物で置き換えられた。
実施例５０、化合物５は、 ４−デシルオキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフル２ロ■トキシ）７丁ノ
ール（実施例２４）から調製された。
実施例５ｌ、化合物６は、 ４−デシル、ｔ−にシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ）
フェノール（実施例２１）から調製された。
実施例５２、化合物７は、 ４−デシルオキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルＡロオクチルＡ１シ）
フェノール（実施例２２）から調製された。
実施例５３、化合物８は、 ４−デシルオキシ安息香酸及び ４−　（１，１，２，２−テトラヒト１」パーフルオロ
ヘ４：シルオーキシ）フェノール（実施例２３）から調
製された。
実施例５４、化合物９は、 ４−デシルオキシ安息香酸及び １−（４−ヒドロオキシフ」−）４ニジ）−１１パーツ
ルアｊＤ７１クヂルウンデカン（実施例１９）から調製
された。
実施例５５、化合物１０は、 ４−ブトキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）フェノ
ール（実施例２４）から調製された。
実施例５６、化合物１１は、 ４−ブトキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオ［１ヘキシルオキシ
）フェノール（実施例２１）から調製された。
実施例５７、化合物１２は、 ４−へキシルオキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフル７１−　Ｄブト４ニジ
）フェノール（実施例２０）から調製された。
実施例５８、化合物１３は、 ４−へキシルオキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ）
フェノール（実施例２１）から調製された。
実施例５９、化合物１４は、 ４−へキシルオキシ安息香酸及び ４−（１，１−−ジヒド１］パーフルオロオクヂルＡ”
キシ）フェノール（実施例２２）から調製された。
実施例６０、化合物１５は、 ４−オクチルオキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）フェノ
ール（実施例２０）から調製された。
実施例６ｌ、化合物１６は、 ４−オクチルオキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキシル第４−シ
）フェノール（実施例２１）から調製された。
実施例６２、化合物１７は、 ４−オクチルオキシ安息香酸及び ４−　（１，１−ジヒドロパーフルオロオクチル第４−
シ）フェノール（実施例２２）から調製された。
実施例６３、化合物１８は、 ４−デシル安息香酸及び ４−（１，１−ジヒド１」パーフルＡｌ’ｌ　Ｉ　ｌ〜
ルキシフェノール（実施例２４）から調製された、１実
施例６４、化合物１９は、 ４−デシル安息香酸及び −１（１，１−−ジヒド［１パーフルオｌ］へキシルオ
キシ）フェノール（実施例２１）から調製された。
実施例６５、化合物２０は、 ４−ドデシルオキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒド［１パーフルＡ［１オクチルオキ
シ）フェノール（実施例２２）から調製された。
実施例６６、化合物２１は、 ３−クロロ−４−Ａクブールオキシ安息香酸く実Ｒ例１
３）及び ４−（１，１−−ジヒドロパーフルオロエトキシ）フェ
ノール（実施例２４）から調製された。
実施例６７、化合物２２は、 ４−（１，１−−ジヒドロパーフルＡＯ工ｉ〜ギシ）安
息香Ｍ（実施例２）及び ４−へ：１−シルオキシフェノールから調製された。
実施例６８、化合物２３は、 ４＝（１，１−−ジヒドロパーフルオロプロポ１−シ）
安息香ｗｉ（実施例３）及び ４−へキシルオキシ７１ノールから調製された。
実施例６９、化合物２４は、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロエトキシ）安息香
酸〈実施例１）及び ４−ヘキシルオキシフェノール（実施例１５）から調製
された。
実施例７０、化合物２５は、 ４−１１．１−ジヒドロパーフルオロエトキシ）安息６
Ｍ（実施例１）及び ４−ヘプチルオキシフェノールから調製された。
実施例７ｌ、化合物２６は、 ４−（１，”ｌ−ジヒド［］パーフルＡロブトキシ）安
息香１（実施例１）及び ４−オクチルオキシフ］７ノール（実施例１６）から調
製された。
実施例７２、化合物２７は、 ４−（１，１−ジヒド【」パーフルＡしＩブ１〜キシ）
安息香１（実施例１）及び ４−デシル第４−ジフェノール（実施例１７）から調製
された。
実施例７３、化合物２８は、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロエトキシ）安息香
′Ｍ（実施例１）及び ４−ドデシルオキシフェノール（実施例１８）からｖＡ
製された。
実施例７４、化合物２９は、 ４−　（１，１−ジヒドに１パーフルオロへ」：シル第
４シ）安息香酸（実施例４）及び ４−へキシル第４−ジフェノール（実施例１５））から
調製された。
実施例７５、化合物３０は、 ４−＜１．１−ジヒドロパーフルオロヘキシルオキシ）
安り香酸（実施例４）及び ４−ヘプチルオキシフェノールから調製された。
実施例７６、化合物３１は、 ｔ−（１，１−ジヒドロパーノルオ［１ヘキシルオキシ
）安息香１１！（実施例４）及び４−オクチルオキシフ
ェノール（実施例１６）から調製された。
実施例７７、化合物３２は、 ４−（１，１−ジヒドロパーノル第１二］ヘキシルオキ
シ）安息香酸〈実施例４）及び ４−デシルオキシフェノール（実施例１７）から調製さ
れた。
実施例７８、化合物３３は、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロオクチルオキシ）
安息香酸（実施例５）及び ４−へキシルオキシフェノール（実施例１５）から調製
された。
実施例７９、化合物３４は、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロオクチルオキシ）
安息香酸（実施例５）及び ４−オクチルオキシフェノール（実施例１６）からＷ４
製された。
実施例８０、化合物３５は、 ４−１１．ｌ−ジヒドロパーフルオロオクチルオキシ）
安息香酸（実施例５）及び ４−デシル第４ニジフエノール（実施例１７）から調製
された。
実施例８ｌ、化合物３６は、 ３−クロロ−４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキ
シルオキシ）安息香酸（実施例６）及び４−デシルオキ
シフェノール（実施例１７）から調製された。
実施例８２、化合物３７は、 ２−クロロ−４−、−（１，１−ジヒドロパーフルオロ
へキシルオキシ）安息香ｌ１ｌ（実施例９）及び４−デ
シルオキシノニ［ノール（実施例１７）から調製された
。
実施例８３、化合物３８は、 ３−クロロ−４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキ
シルオキシ）安息香１１ｆ（実施例６）及び４−オクチ
ルオキシフェノール（実施例１６）から調製された。
実施例８４、化合物３９は、 ２−クロロ−４−（１，１−ジヒドロパーフル１口へキ
シルオキシ）安息香酸（実施例９）及び４−オクチルオ
」−ジフェノール（実施例１６）から調製された。
実施例８５、化合物４０は、 ３−クロロ−４−（１，１−ジヒドロパーフルオロオク
チルオキシ）安息香酸（実施例８）及び４−デシルオキ
シフェノール（実施例１７）から調製された。
実施例８６、化合物４１１よ、 ２−クロロ−４−（１，１−ジヒド［１パーフルＡロオ
クチルオキシ）安息香酸（実施例７）及び４−デシルオ
キシフェノール（実施例１７）から調製された。
実施例８７、化合物４２は、 ４−オクチル安息香酸及び １．１−ジヒドロパーフルオロブチル　２−クロロ−４
−ヒドロキシ安息香酸から調製された。
実施例８８、化合物４３は、 ４−デシルオキシ安息香酸及び １．１−ジヒドロパーフルオロブチル　２−クロロ−４
−ヒドロキシ安息香酸から調製された。
実施例８９、化合物４４は、 ３−メトキシ−４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへ
キシルオキシ）安息香酸（実施例１０）及び４−デシル
オキシフェノール（実施例１７）から調製された。
実施例９０、化合物４５は、 ４−　（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）安息
香酸（実施例１）及び ４−シアンフェノールから調製された。
実施例９ｌ、化合物４６は、 ３−クロロ−’１−（１，１−ジヒドロパーフルオロへ
キシルオキシ）安息香酸〈実施例６）及び４−シアノフ
ェノールから調製された。
実施例９２、化合物４７は、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）安息香
ｒｅ＜実施例１〉及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロエトキシ）フェノ
ール（実施例２４）から調製された。
実施例９３、化合物４８は、 ］−ランス−４−ベンチルシクロヘキサンカルボン酸及
び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ）
フェノール（実施例２１）から調製された。
実施例９４、化合物４９は、 トランス−４−へブチルシクロへキシル−ｈｙ＞：１．
−４’　−シクロヘキザンカルボン酸及び４−（１，１
−ジヒドロパーフルオロエトキシ）フェノール（実施例
２４）から調製された。
実施例９５、化合物５０は、 トランス−４−ヘプチルシクロへキシル−丘乏ンスー４
′−シクロヘキサンカルボン酸及び４−（１，１−ジヒ
ドロパーフルオロへキシルオキシ）フェノール（実施例
２１）から調製された。
実施例９６、化合物５１は、 ４−（］］〜フランス−−ペンデルシクへ１シル）安息
香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ）
フェノール（実施例２１）から調製された。
実施例９７、化合物５２は、 ４−デシルビフェニール−４１−カルボン酸及び ４−（１，１−ジヒド１−１パーフルオロブトキシ）フ
ェノール（実施例２０＞から調製された。
実施例９８、化合物５３は、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロ１１−キシ〉安麿
香１（実施例１）及び ５−オクチルＡ」ニジ−１−ナフト−ル（実施例３２）
から調製された。
実施例９９、化合物５４は、 ４−（１，１−ジヒドロパーフル４口へキシルオキシ）
安息香酸（実施例４）及び ５−オクチルオキシ−１−ナフトール（実施例３２）か
ら調製された。
実施例１００．化合物５５は、 ４−デシルオキシ安息香酸及び ６−（１，１−ジヒドロバースルオロブ１〜キシ）２−
ナフトール（実施例３０）から調製された。
実施例１０ｌ、化合物５６は、 ４−７１クブルＡキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパーフルオーロブ上４−シ）＝
１−ナフトール（実施例３１）から調製された。
実施例１０２ 実施例３３で合成された６−ゾシルオキシニコｆンｍ（
２，７９ｇ、１０　ミｌ）　モル）　、　及ヒ実ｍ例２
１で合成された１−（１，１−ジヒドロパーフルオロへ
キシルオキシ）フェノール（３，９２ｇ、１０ミリモル
）が５０−の塩化メチレンに溶解された。４−＜Ｎ、Ｎ
−ジメチルアミノ）ピリジン（０，１ｇ）とそのあとで
Ｎ、Ｎ’　−ジシクロへキシルカルボジイミド（２，２
７ｇ、１１ミリモル）が反応沢合物に加えられた。反応
混合物は窒素の存在下で１日間還流され、冷却され、濾
過され、そして濾液は約５０ｍの０．５ＭトＩＣ！、約
５０ａｅの５％炭炭酸水ツノ〜リウム、及び約５０１ｄ
ｔの水で順次洗浄された。分離された有機物病は無水Ｍ
ｇＳＯ４で乾燥され、濾過され、そして濾液は減圧濃縮
された。粗残留物は１−ＩＰＬＣ（１〜ルエン、シリカ
ゲル〉で精製され、ついでヘプタンから再晶析され１．
０５Ｊ　（収率５４％）の６−デシルオキシニコチン１
１１ｉ４’（１，”ｌ−ジじド０パーフルオロヘキシル
Ａ４シ）エステル（化合物５７、表■）を得Ｉζ。Ｈ−
及びＦ−ＮＭＲ，ＭＳ、及びＩＲ分光法で特性を測定し
た。
実施例１０３−１０４ 実施例１０３−１０４において、表■の化合物５８−５
９が実施例１０２と同様に調製された。
但し、６−デシルオキシニコチン醒及び／１−（１゜１
−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ）フェノールに
だいし、以下に示すプレカーサ化合物で蹟き換えられた
。
実施例１０３、化合物５８は６−（４−メチルへ＝１−
シルＡキシ）ニコチン酸（実施例３４）及び４−１１．
１−ジヒドロパーフルオ［１ブトキシ）フェノール（実
施例２０）から調製された。
実施例１０４、化合物５９は６−（４−メチルへキシル
オキシ）ニコチン酸〈実施例３４）及び４−　（１，１
−ジヒドロパルフルオロへキシルオキシ）フェノール〈
実施例２１）から調製された。
実施例１０５ 実施例２９で合成された４−（１，１−ジヒドロパーフ
ルオロへキシルオキシ）ベンズアルデヒド（１，０１ｇ
、２．５ミリモル）及び２−ブチル−１，３−プロパン
ジオール（０，３３９，２゜５ミリモル）が、触＊ａの
ｐ−トルエンスルホン酸を含む４０ｄのトルエンに溶解
された。この詳合物は還流にかけられ生成された水は共
沸物としてディーンースターク（Ｄｅａｎ−８ｔａｒｋ
）　トラップに集められた。４時間後反応混合物は冷却
され、約５０ｍ１！の５％ＮａＨＣＯ３と約５０％の水
で洗浄された。有機物相は無水ＭｇＳＯ４で乾燥され、
濾過され、そして濾液は濃縮された。残留物は無水エタ
ノールから再晶析され表■の化合物６０、トランス−５
−ブヂルー２−（４−（１，１−ジヒドロパーフルオロ
へキシルオキシ）フェニル）１．３−ジオキサン０．７
９（収率５４％）を得た。その構造は１１−及びＦ−Ｎ
ＭＲ，ＭＳ、及びＩＲ分光法で確認された。
実施例１０６ トランスー５−ブチル−２−（４−フェニルカルボン酸
）−１，３−ジオキサン（０，２６ｇ、１．０ミリモル
）、４．−（１，１−ジヒドロパフルオロブトキシ）−
フェノール（０，２９ｇ、１．０ミリモル、実施例２０
で合成）、及び４ジメヂルアミノピリジン（０，０１ｇ
）が２５ｍ１’の塩化メヂレンに溶解されそしてジシク
ロヘキシルカルボジイミド が全量−度に加えられた。得られた溶液は窒素の雰囲気
上室温で１日間かき混ぜられた。反応混合物は濾過され
濾液は約２５−の０．５Ｍ　　ＨＣｊ！、約２５ｄの５
％炭酸水素すトリウム、及び約２５ｄの水で次々と洗浄
された。分離された有機物層は無水ＭｑＳＯ４で乾燥さ
れ、濾過され、濾液は減圧濃縮された。粗生成物はエタ
ノールからの再晶析で精製され表■の化合物６ｌ、１〜
ランス−５ブチル−１−　（４−［４−（１．１−ジヒ
ドロパーフルオロへキシルオキシ）フェニルオキシカル
ボニル］フェニル）−１．３−ジオキサン、０、３ｇ（
収率５６％）を得た。その構造はＨ及びＦ−ＮＭＲ，Ｍ
Ｓ，及びＩＲ分光法で確認された。
実施例１０７ 実施例１０７において、表■の化合物６２が実施例１０
６と同様に調製された。但し４−（１。
１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）フェノールにだい
し、ｌ−（１．１−ジヒドロパーフルオロへキシルオキ
シ）フェノール（実施例２１）で置き換えられた。
友１」ＬＬ店旦 この化合物は以下の２つの異った方法、Ａ及びＢで調製
された。
方法Ａ０１，１ージヒドロパーフルオ日ブヂル４−ヒド
ロキシ安息香酸（１．６０ｇ、５ミリモル、実施例４２
で調製）が５０ｄの無水１−チルに溶解された。トリエ
チルアミン（１．０ｇ＞が加えられ、ついで４−オクチ
ルオキシ塩化ベンゾイル（１．３４９、５ミリモル）が
滴下法で加えられた。反応混合物は窒素の雰囲気上室温
で１日間かき詮ぜられた。反応混合物は濾過され、濾液
は約５０ＩＩＲの０．５Ｎｌ−１ｃｊ！と約５０ａｅの
水で洗浄され、そして分離された有機物層は無水ＭａＳ
０４で乾燥され、濾過され、そして濾液は濃縮された。
粗生成物はエタノールから再晶析され表■の化合物６３
、４−（４−オクチルオキシベンゾイルオキシ）安息香
酸、１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシエステル、
２．０３ｇ（収率７４％）を得た。その構造はト１−及
びＦＮＭＲ，ＭＳ，及びＩＲ分光法で確認された。
方法Ｂ０化合物６３は実施例４９と同様に調製された。
４−オクチルオキシ安息香酸（１．２５び、５ミリモル
）、１．１−ジヒドロパーフルオロブチル　４−ヒドロ
キシ安息香１（１．６（ｌ、５ミリモル）、及び４−ジ
メチルアミンピリジン（０．０５ｇ）が５０ｍ！の塩化
メブレンに溶解された。ジシクロへキシルカルボジイミ
ド（１．０３ｇ、５ミリモル）が全量−度に加えられた
。反応混合物は窒素雰囲気ド室温で１日間かき混ぜられ
、濾過され、そして濾液は約５０１１１ｅの０、５Ｍ　
　ＨＣｉ！、約５０１ｄの５％炭酸水素ナトリウム、及
び約５０ｊＩｅの水で次々に洗浄された。
分離された有機物層は無水ＭＱＳＯ４で乾燥され、濾過
され、そして濾液は減圧濃縮されて粗生成物が残り、そ
れはエタノールから再晶析されて表■の化合物６３、４
−　（１−オクチルオキシベンゾイルオキシ）安息香酸
、１．１−ジヒドロパーフルオロブトキシエステル、２
．０７ｇ（収率７６％）を得た。
実施例１０９−１１５ 実施例１０９−１１５において、表■の化合物６４−７
０が、実施例１０８と同様に調製された。
但し４−オクチルオキシ塩化安息香酸及び１，１ジヒド
ロパーフルオロブチル　４−ヒドロキシベンゾニー１・
にたいし、以下に示すブレカーサ化合物で置き換えられ
た。
実施例１０９、化合物６４は方法Ａに従い、４−デシル
オキシ塩化ベンゾイル及び １．１−ジヒドロパーフルオロブチル　４−ヒドロキシ
ベンゾエート（実施例４２） から調製された。
実施例１１０、化合物６５は方法Ａに従い、４−デシル
オキシ塩化ベンゾイル及び １．１−ジヒドロパーフルオ［１ヘキシル　４−ヒドロ
キシベンゾエート（実施例４３） から調製された。
実施例１１ｌ、化合物６６は方ａＡに従い、４−デシル
塩化ベンゾイル及び １．１−ジヒドロパーフルオ［１ブチル　４−ヒドロキ
シベンゾエート（実施例４２） から調製された。
実施例１１２、化合物６７は方法Ｂに従い、６−（４−
メチルへキシルオキシ）ニコチン酸〈実施例３６）及び １．１−ジヒドロパーフルオロブチル　４−ヒドロキシ
ベンゾエート（実施例４２） から調製された。
実施例１１３、化合物６８は方法Ｂに従い、３−クロロ
−４−オクチルオキシ安息香酸（実施例１３）及び （１，１−ジヒドロパーフルオロブチル　４−ヒドロキ
シベンゾエート（実施例４２） から調製された。
実施例１１４、化合物６９は方法Ｂに従い、４−（１，
１−ジヒドロパーフル１０７１〜キシ）安息香酸（実施
例１）及び ４−ヒドロキシ安息香酸メチル から調製された。
実施例１１５、化合物７０は方法Ｂに従い、４−アセト
オキシ安息香酸及び ４−（１，１−ジヒドロパースルオロブ１〜キシ）フェ
ノール（実施例２０） から調製された。
実施例１１６ ４−ヒドロキシフェニル　４−（１，１−ジヒドロパー
フルオロブトキシ）ベンゾエート（２，０６ｇ、５ミリ
モル、実施例４１で合成）とトリエチルアミン（２，０
０ｇ）が５０ｄの無水Ｔ　Ｉ−Ｉ　Ｆに溶解された。４
−オクチルオキシ塩化ベンゾイル（１，３４ｇ、５ミリ
モル）がかき沢ぜ乍ら滴下法で加えられた。添加完了後
反応混合物は窒素雰囲気上室温で１日間かき混ぜられた
。
反応混合物は濾過され濾液は減圧濃縮された。粗残留物
はトルエン−エタノールから再晶析され、表■の化合物
７１．１−（４−オクチルＡキシベンゾイルＡキシ）−
４−（４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）
ベンゾイルオキシ）ベンゼン、２．９３ｇ（９１％）を
得た。
実施例１１７−１２５ 実施例１１７−１２５において、表■の化合物７２−８
０が実施例１１６と同様に調製された。
但し４−オクチルオキシ塩化ベンゾイル及び４ヒドロキ
シフエニル　４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブト
キシ）ベンゾエートにだいし以下のプレカーす化合物で
置き換えられた。
実施例１１７、化合物７２は、 ４−デシルオキシ塩化ベンゾイル及び ４−ヒドロキシフェニル　４−（１，１−ジヒドロパー
フルオロブトキシ）ベンゾエート（実施例４１）から調
製された。
実施例１１８、化合物７３は、 ４−デシル塩化ベンゾイル及び ４−ヒドロキシフェニル　１−（１，１−ジヒドロパー
フルオロブトキシ）ベンゾエート（実施例４１）から調
製された。
実施例１１９、化合物７４は、 ３−クロロ−４−オクチルオキシ塩化ベンゾイル（実施
例１３）及び ４−ヒドロキシフェニル　４−（１，１−ジヒドロパー
フルオロブトキシ）ベンゾエート（実施例４１）から調
製された。
実施例１２０、化合物７５は、 ３−メトキシ−４−オクチルオキシ塩化ベンゾイル（実
施例１２）及び ４−ヒドロキシフェニル　４−（１，１−ジヒドロパー
フルオロブトキシ）ベンゾエート（実施例４１）から調
製された。
実施例１２ｌ、化合物７６は、 ６−（４−メチルヘキシルＡキシ塩化ニコチノイル（実
施例３４）及び ４−ヒドロキシフェニル　４．−（１，１−ジヒドロパ
ーフルオロブトキシ）ベンゾエート（実施例４１）から
調製された。
実施例１２２、化合物７７は、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロエト１シ）フェノ
ール（実施例２４）及び ３−クロロ−４−（４’−デシルオキシベンジルオキシ
）安息香酸から調製された。
実施例１２３、化合物７８は、 ２−クロロ−４−（１，１−ジヒドロパーフルＡ日へキ
シルオキシ）塩化ベンゾイル（実施例９）及び ４−ヒドロキシフェニル　４−デシルベンゾエート（実
施例４５）から調製された。
実施例１２４、化合物７９は、 ３−クロロ−４−１１，１−ジヒドロパーフルオロへキ
シルオキシ）塩化ベンゾイル（実施例６）及び ４−ヒドロキシフェニル　４−デシルベンゾエト（実施
例４５）から調製された。
実施例１２５、化合物８０は ４−＜１．１−−ジヒドロパーフルオロオクチルオキシ
）安息香酸〈実施例５〉及び ４−ヒドロキシフェニル　４−（１，１−ジヒドロパー
フルオロブトキシ）ベンゾエート（実施例から調製され
た。
実施例１２６ ヒドロキノン（０，５５９，５ミリモル）、４（１，１
−ジヒドロパーフルオロブ１〜キシ）安息香酸（３，２
０９，１０，０ミリモル、実施例１で調製）及び４−ジ
メチルアミノピリジン（０，１０ｇ）が１００〆の塩化
メチレンに溶解された。ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド（２，０６ｇ、１０ミリモル）がその後−度に加えら
れた。反応混合物は窒素の存在下室温で１日間かき混ぜ
られ、濾過され、そして約１００＋＋１１！の０．５Ｍ
　　ＨＣｊ！、約１００ｍ！の５％炭酸水素ナトリウム
、及び約１００１ＲＩｌの水で次々に洗浄された。分離
された有機物層は無水ＭｇＳＯ４で乾燥され、濾過され
、そして濾液は減圧濃縮された。
粗生成物はエタノール−トルエンからの再晶析により精
製され表■の化合物８１．１．４−ビス−（４−（１，
１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）ペンゾイルオキシ
）ベンゼン、２．６２４？　（収率７３％）を得た。そ
の構造はＨ−及びＦ−ＮＭＲ。
ＭＳ、及びＩＲ分光法で確認された。
実施例１２７−１３１ 実施例１２７−１３１において、表１の化合物８２−８
６が実施例１２６と同様に調製された。
但しヒドロキノン及び４−（１，１−ジヒドロパーフル
オロブトキシ）安息香酸にだいし、以下に示すプレカー
υ化合物で置き換えられた。
実施例１２７、化合物８２は、クロロヒドロキノン及び
４−　（１，１−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ
）安息香ＩＩ（実施例４）から調製された。
実施例１２８、化合物８３は、メチルヒドロ４゛ノン及
び４−（１，１−ジヒドロパーフルオロプロポキシ）安
息香酸（実施例３）から調製された。
実施例１２９、化合物８４は、ｒ　ｈラフルオロヒドロ
キノン及び４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブト４
；シ）安息香酸（実施例１）から調製された。
実施例１３０、化合物８５は、１，４−ジヒドロキシナ
フタレン及び１−（１，１−ジヒドロパーフルオロブ１
〜キシ）安息香酸（実施例１）から調製された。
実施例１３ｌ、化合物８６は、２，６−ジヒドロキシナ
フタレン及び４−（１，１−ジヒドロパ−フルオロブト
キシ）安息香酸〈実施例１）から調製された。
実施例１３２ 実施例２４で調製された４−１１，１−ジヒドロパーフ
ルオロエトキシ）フェノール（１，９２シ、１０．０ミ
リモル）、２ＩＩｄｌのトリＪチルアミン及び５０ｄの
無水「トＩＦの溶液に、１０＃ｌｉ！の無水丁）ＩＦ中
の塩化テレフタ［１イル（１，０２ｇ、５．０ミリモル
）が滴下法で加えられたｌ、添加完了後、反応混合物は
窒素雰囲気上室温で１１−１間かき混ぜられ、濾過され
、そして濾液は減圧潮路された。粗残留物は］・ル１ン
ーエタノールから再晶析され、表■の化合物８７、ビス
−（４−（１゜１−ジヒドロパーフルオロエトキシ）フ
ェニル）プレフタレート、２．３８ｇ（収率９３％）を
得た。その構造はト１−及びＦ−ＮＭＲ，ＭＳ、及びＩ
Ｒ分光法で確認された。
実施例１３３−１３５ 実施例１３３−１３５において、表■の化合物８８−９
０が実施例１３２と同様に調製された。
但し４−（１，１−ジヒドロパーフルオロエトキシ）フ
ェノールにだいし、以下に示すプレカーサ化合物で置き
換えられた。
実施例１３３、化合物８８は、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロエトキシ）フェノ
ール（実施例２５）を用いて調製された。
実施例１３４、化合物８つは、 ４−（１，１−ジヒドロパーフルオロエトキシ）フェノ
ール（実施例２０）を用いて調製された。
実施例１３５、化合物９０は、 ４−＜１．１−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ）
７１ノール（実施例２１）を用いて調製された。
去−一工 ９つ 表■の化合物は転移温度に対し、メトラー「Ｐ５ホット
ステージ及びライツ偏光顕微鏡を用いた材料の相変化の
光学的観察により、及び／又はパーキンエル？　−（ｐ
ｅｒｋｉｎ　ｅｌ＋＋＋ｅｒ）モデルＤＳＣ４を用いた
標準法示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により評価した。等
方性状態（１）から結晶状態（Ｋ）までの冷却における
転移温度（℃）が表ＩＩに示される。スメクチックＡ　
（ＳｍＡ）及びスメクチックＣ（ＳｍＣ）以外の中間相
への及び中間相からの転移が表■に示され−（いる。ネ
マチック相はＮにより、スメクチックＢはＳｍＢにより
、スメクチック［はＳｍＥにより、又スメクチック［は
ＳｍＦにより示される。
（ＳｍＡ−＞ＳｍＢ＞ （ＳｍＢ−＞Ｋ） 表　　■ ＳｍＡ−＞ＳｍＣ Ｊ迩〜乍煕辷と（ （Ｓ鮎−＞ＳｍＢ） （ＳｍＢ−＞Ｋ） （Ｎ−＞ＳｍＡ） （ＳｍＡ−＞ＳｒｎＣ） （１−＞Ｎ１ （１−＞Ｎ） （Ｎ−＞ＳｍＡ） （ＳｍＡ−＞ＳｍＣ） （Ｎ−＞ＳｍＪす （ＳｍＡ−＞ＳｍＣ） （ＳｍＡ−＞ｓｍｃ） （ＳｍＣ−＞Ｋ） （ＳｍＣ−＞Ｋ） （ＳｍＣ−＞ＳｍＦ） （ｓｍｒ−＞Ｋ） （１−＞Ｎ） （Ｎ−＞ＳｍＣ） （ＳｍＣ−＞ＳｍＢ） （ＳｍＢ−＞Ｋ） 下記の実施例１３６−１４２においては、この発明のア
キラル、スメクチック液晶化合物単独、この発明のアキ
ラル、スメクチック液晶化合物の混合物、及びこの発明
のアキラル、スメクチック液晶化合物と他の液晶化合物
との混合物を含む液晶電気工学的装置が記述される。
例えば、スメクチックＣとキラル成分のないスメクチッ
クＣとの混合物は、以下の文献に記載されているように
応用装置に有用である。
Ｐｅ１ｚｌ　　Ｇ、　　５ｃｈｕｂｅｒｔ、　Ｈ，、Ｚ
ａｓｃｈｋｅ、　Ｈ，、及びＤｅｍｕｓ、　Ｄ、、にｒ
ｉｓｔａｌｌ　Ｔｅｃｈｎｉｋ、、　１９７９．　ｖｏ
ｌ、　１４８１７・Ｐｅ１ｚｌ　　Ｇ、　　Ｋｏｌｂｅ
、　Ｐ、、　Ｐｒｃｕｋｓｃｈａｓ、　ＵＤｉｅｌｅ、
　Ｓ、、及びＤｃｍｕｓ、　Ｄ、、　Ｍｏ１．　　Ｃｒ
ｙｓｔ。
１−ｉｑ、　　Ｃｒｙｓｔ、、　　１９７９．　ｖｏｌ
、　５３．１６７；　Ｐｅ１ｚＧ、　　　５ｃｈｉｌｌ
ｅｒ、　Ｐ、、　ａｎｄ　Ｄｅｉｕｓ、　Ｄ、、　Ｌｉ
ｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌｓ、　１９８７．　ｖｏｌ、　
２．１３１；及び５Ｃｈｌ　ｌ　ｆａｒＰ、、　Ｐｅ１
ｚｌ、　Ｇ、、　　及びＤｅｍｕｓ、　Ｄ、、Ｌｉｑｕ
ｉｄＣｒｙｓｔａｌｓ、　１９８７．　ｖｏｌ、２．２
１．この中でフリーアリツク効果が使われている。
スメクチックＣとキラルドーパント（ｃｈ＋ｒａｄｏｐ
ａｎｔ）　、即ち光学活性で、それ自体が液晶であり又
は液晶でない材料、を含む混合物は、Ｃ１ａｒｋ及びｔ
ａｃ＋ｅｒｗａ　ｌ　１によって米国特許第４．３６７
゜９２４に記載されているにうに強誘電性で応用装置に
有用である。
スメクチックへ中間相を示づ混合物は Ｃｒｏｓｓｌａｎｄらによって米国特許第４，４１１，
４９４、第４，４１９，６６４、及び第４，５２８゜５
６２に記載の装置に有用である。
スメクチックへ中間相をポしそしてヤラル成分を含む混
合物は、ＬａｒｉｌｅｌＷａｌ　ｌらによって、強誘電
性液晶に関する第１回国際シンポジウム、Ｂｏｒｄｅａ
ｕｘ−Ａｒｃａｃｈｏｎ　　Ｆｒａｎｃｅ　　１９８７
において発表されたような装置に有用である。
それぞれの成分のパーセンデージは、別に注記がなけれ
ば混合物について、標準のガスクロマトグラフィーによ
って測定された。中間相はメトラーＦＰ−５ホットステ
ージ及びライフの偏光顕微鏡を用いた光学顕微鏡により
測定された。転移温度はホットステージ及び偏光顕微鏡
を用いた光学顕微鏡により、及び／又はＰｅｒｋｉｎ−
Ｅ１ｍｅｒモデルＤＳＣ−４を用いた標準丞差走査熱壜
測定によって測定した。混合物の応答時間はセルの光応
答の上昇端において計測し最大トランスミッションの１
０−９０％から計算された。応答時間は電圧３０におい
て又それぞれの実施例において与えられた温度において
計測された。ボラリゼーションはミャサトらの方法、日
本応用物理学会誌（Ｊａｐ、ＪＡｔ）ｌ）１．Ｐｈ５ｙ
ｓ）　、ｖｏｌ、２２．１９８３、ｐ、１６６１−１６
６３、に従って、キシルスメクチツクＣ（スメクチック
Ｃ＊）中間相を示づ混合物について測定された。スメク
チックＣ（＊）中間体中の混合物の傾角はＢａ１ｋａｌ
ｏｖらによって、町すュｆｉ工Ｌ＋ｑ、Ｃｒｙｓｔ、、
　　１９８５　、ｖｏｌ、　１２７、ｆｌｔｌ、３９７
４０６に記載の技法によって測定された。
液晶電気光学的表示装置に用いられたそれぞれのセルは
以下のようにしてつくられた。
２枚のインジウム−スズ酸化物被覆ガラス基板（３，４
９ｃＩＲＸ２．８６ＣＩＩ、１．６５ａｍ厚）はモノエ
タノールアミンによって洗浄された。電極バターンはそ
れぞれのインジーラム−スズ酸化物被覆中に光リソグラ
フィー法によってエツチングされた。得られたガラス基
板は０．９０７３ｃｍ−”の導電性インジウム−スズ酸
化物電極活性面積をもった。ひとつの基板のインジウム
−スズ酸化物表面上に０．５％のナイロンギ酸溶液が１
１００ｒ、　ｐ、　ｍで紡出（ｓｐｉｎ）され、溶剤は
除かれ、ナイロン被膜（約５００オングストローム厚）
は柔らかいローラブラシで１５分間バノかけされた。両
ガラス基盤は、基盤の両側の端部に沿って位置するマイ
ラースペーサ（２−４ミクロン厚）を介して、そのスペ
ーサをもつ端部に沿ってほどこされた熱硬化性又はＵ、
　Ｖ、硬化性エポキシ接着剤により、インジウム−スズ
酸化物表面同志を向い合わせてお互いに接着された。そ
のセルはその後、スメクチックＡじ）転移に対し等方性
（１ｓＯｔｒｏｐｉｃ　）より高い温度で特定の液晶材
料が毛細管作用により充電された。
実施例１３６ 混合物は以下を混合してつくられた。
６−デシルオキシニコチンｌ　　４−＜１．１−ジヒド
ロパーフルオロへキシルオキシ）フェニルエステル（化
合物５７）　　　　　　５．１４％４−オクチルオキシ
安息香酸　４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキ
シ）フェニルエステル（化合物１５）　　　　　　　　
　　９．３６％４−オクチルオキシ安息香酸　４−（１
，１−ジヒドロパーフルオロへキシルオキシ）フェニル
エステル（化合物１６）　　　　　　　９．４４％４−
（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）安息香酸　
４−オクチルフェニルエステル（化合物２６＞　　　　
　　　　　　　１０．６１％４−（４−オクチル第１−
ジベンゾイルオキシ）安息香酸　１，１−ジヒドロパー
フルオロブトキシエステル（化合物６３）　　　　　１
２．４２％４−　（４’　−デシルオキシベンゾイルオ
キシ）安息香酸　１，１−ジヒドロパーフルオロブトキ
シエステル（化合物６４）　　　　　３０．２３％３−
クロロ−４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキシル
オキシ）安息香酸　４−デシル第キシフェニルエステル
（化合物３６） ２２．８１％ 混合物はスメクチックＡ及びスメクチックＣ中間相を示
した。混合物の転移温度はＩ→ＳｍＡに対し８７℃、Ｓ
　ｍ　Ａ　−）　Ｓ　ｍ　Ｃに対し６９℃で、そして５
°０において混合物はＳｍＣから未同定の高次スメクチ
ック又は結晶相に転移した。２５℃において１０Ｖ／ｌ
１ｍの電界を用いて、混合物はＳｍＣ中間相において１
５ミリ秒のオン時間と１５ミリ秒のオフ時間をもった。
２５℃において１５ｖ／μｍの電界を用いて、混合物は
ＳｍＣ中間相において１３ミリ秒のオン時間と１２ミリ
秒のオフ時間をもった。２５℃において２０ｖ／μｍの
電界を用いて混合物はＳｍＣ中間相において１１ミリ秒
のオン時間と５ミリ秒のオフ時間をもった。
実施例１３７ 混合物は以下を一緒に混合してつくられた。
６−デシルオキシニコチン酸　４−（１，１−ジヒド［
］パパーフルオロヘト１シルオキシフ■ニルエステル（
化合物５７）　　　　　　　４．４７％４−オクチルオ
キシ安息香Ｍ　４−（１，１−ジヒドロパーフル第［１
ブドー１−シ）ノ■ニルニスｊ−ル（化合物１５）　　
　　　　　　　　７．９８％４−オクチルオキシ安息香
Ｍ　　４−（１，１−ジヒドロバーフルレオ［１へ一１
゛シルＡ−＝ｌニジ）ノＪニル−Ｌ゛ステル（化合物１
６）　　　　　　　８．１３％４−（１，１−ジヒド［
Ｊバ〜フルオロブｉ〜Ｖシ）安息香Ｍ　　４−オクチル
ノエニル：ｆス゛ｊル（化合物２６）　　　　　　　　
　　　　９．０９％４−（４−オクチルオキシベンゾイ
ルオキシ）安息香酸　１，１−ジヒドロパーフル第［１
ブト１−シ］ニスチル（化合物６３）　　　　　１０．
７２％１−　（／ｌ’　−デシルオキシベンゾイルオキ
シ）安息香Ｍ　１，１−ジヒドロパーフルオロブト−１
ニジニスデル（化合物６４）　　　　　２６．０２％３
−クロロ−４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキシ
ルオキシ）安息香Ｍ　４−デシルＡキシフェニルＴステ
ル（化合物３６） ２５．２７％ Ｒ−１−（２−フルオロプロパノイルオキシ）フェニル
　４−　（１，１−ジヒド［１パーフルＡロブトキシ）
ベンゾエート（欧州特許公告第０．２５５．２３６の実
施例１３３により、５−２−クロロ−４−メチルベンタ
ノイツク酸の場所にＲ−２フルオロプロパノイツク酸を
用いて調製）８．３２％ ２．７ミクロン厚のセルがこの混合物で毛細管作用によ
り充たされた。混合物は４−ラルスメクヂツクＡ及びキ
ラルスメクヂツクＣ中間相を示した。ｕ合物の転移温度
はＩ→ＳｍＡ＊に対し９１℃、ｓｍＡ＊→ｓｍｃ”に対
し５９°Ｃで、ぞして２℃においてこのｌＩｔ合物はＳ
ｍＣ＊から未同定の高次のキラルスメクヂツク又は結晶
相に転移した。２０℃におい−Ｃ３０Ｖの電界を用い、
イの混合物は３０８マイク［１秒の応答時間、１２．／
１ｎＣ／ｃｍ　２０）偏光（ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ
）　、及Ｕ　２９°の傾角をちった。４５℃において３
０Ｖの電界を用い、その混合物は４１？イクロ秒の応答
時間、７　、７６　ｎＣ／ｃｍ　”の偏光、及び２２．
８°の傾角をもった、。
実施例１３８ 混合物は以下を一緒に混合してつくられた１゜４−オク
チルオキシ安息香酸　４−（１，１−ジヒドロパーフル
：４［１ブ１〜キシ）ノエニルエステル（化合物１５）
　　　　　　　　　１５．３３％４−（４−オクチル第
４−ジベンゾイルオキシ）安息香酸　１，１−ジヒド［
１バーノルオロブ１へ、１−ジエステル（化合物６３）
　　　　　１６．５１％４−（４−デシルオキシベンゾ
イル 香酸　１，１−ジヒド［］］パーフルＡロブトー１シ１
ステル化合物６４）　　　　　　２１．０８％２−クロ
ロ−４−　（４−オクチルオキシベンゾイルオキシ）安
息香酸　１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシエステ
ル（化合物４２）９、６７％ ３−クロロ−４−（ジヒドロパーフルＡ［１へ：１−シ
ルオキシ）安息香酸　４−オクチル′Ａキシノエニルエ
ステル（化合物３８）　　　　３７．４１％混合物はス
メクチック△及びスメクチック０中間組を示した。混合
物の転移温度はＩ→ＳｍＡに対し８８℃、Ｓｍ△→Ｓｍ
Ｃに対し６９℃、そして−９℃において混合物はＳ　ｍ
　Ｃから未同定の高次のスメクチックＣ又は結晶相に転
移した。
実施例１３９ 混合物は以下を一緒に混合してつくられた。
４−オクチルオキシ安息香酸　４−（１．１−ジヒド［
１パーフルオロブトキシ）フェニルエステル（化合物１
５）　　　　　　　　　１／ｌｉ３８％４−　（４−；
４クヂルオＹジベンゾイルオキシ）安息り酎　１，１−
ジヒドロパーフルオロブトキシエステル（化合物６３）
　　　　　１４．ｂ６％４−（４−デシルオキシベンゾ
イルオキシ）安息香酸　１，１−ジヒドロパーフルＡｒ
ｊブトキシニスデル（化合物６４）　　　　　　１８．
２９％２−クロロ−４〜（４−オクチルオキシベンゾイ
ルオキシ）安息香酸　１，１−ジヒド［１パーフルオロ
ブトキシ■ス−ｊル（化合物４２）１ｌ、７３％ ３−クロ［：Ｉ−４−（１．１−ジヒドロパーフル第口
へキシルオキシ）安息香酸　４−オクチルＡ−１シフ■
ニルエステル（化合物３８） ３１．２８％ ５−４−　（２−クロロ−４−メチルペンタノイルオキ
シ）フェニル　４−　＜１．１−ジヒドロパーフルオロ
へキシルオキシ）ベンゾエート（欧州特許公告箱０．２
５５，２３６の実施例１３３によって調製）　　　　　
　　　　　　　９．２７％２．７ミクロン厚のセルが毛
細管作用によってこの混合物で充ｔこされた。混合物は
キシルスメクチックＡとキシルスメクチツクＣの中間相
を示した。この混合物の転移温度はｌ−＞ＳｍＡ”に対
し８５℃、ＳｍＡ”−＋ＳｍＣ＊に対し６５℃で、そし
て−１３℃においてこの混合物はｓｍｃ”から未同定の
高次のキシルスメクチック又は結晶相に転移した。２５
℃において３０Ｖの電界を用い、混合物は１４８マイク
ロ秒の応答時間、８．９ｎＣ／ｃｍ−２（Ｄ偏光（ｐｏ
ｌａｒｉｚａｔｉｏｎ）　、及び３０．２゜の傾角をも
った。４５℃において３０Ｖの電界を用い、この混合物
は３７マイクロ秒の応答時間及び３０．０°の傾角をも
った。
実施例１４０ 混合物は以下を一緒に混合してつくられた。
４−オクチルオキシ安息香酸　４−（１，１−ジヒドロ
パーフルオロブトキシ）フェニルエステル（化合物１５
）　　　　　　　　　１３．３６％４−（４−オクチル
オキシベンゾイルオキシ）安息香酸　１，１−ジヒドロ
パーフルオロブトキシエステル（化合物６３）　　　　
　１３．１４％４−（４−デシルオキシベンゾイルオキ
シ〉安息香酸　１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシ
エステル（化合物６４）　　　　　　１６．９７％２−
クロロ−４−（４−オクチルオキシベンゾイルオキシ）
安息香酸　１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシエス
テル（化合物４２） １０．７８％ ３−クロロ−４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキ
シルオキシ）安息香Ｍ　４−オクチルオキシフェニルニ
スデル（化合物３８） ２８．３１％ Ｓ−４−（２−クロロ−４−メチルペンタノイルオキシ
）フェニル　４−　（１，１−ジヒド［１パーフルオロ
ヘキシルオキシ）安息香酸（欧州特許公告箱０．２５５
，２３６の実施例１３３によって調製）　　　　　　　
　　　　　　１７．４４％２．７ミクロン厚のセルが毛
細管作用によってこの混合物で充たされた。混合物はキ
シルスメクチツクΔど−ＶラルスメクチツクＣ中間相を
示した。
このｕ合物の転移温度はＩ　−＞　Ｓ　ｍ　Ａ　”に対
し８３℃、ＳｍＡ”−＋ＳｍＣ”に対し６１℃で、そし
て１３℃においてこの混合物はｓｍｃ”から未同定の高
次のキシルスメクチック又は結晶相に転移した。２５℃
において３０Ｖの電界を用い、混合物は８１マイクロ秒
の応答時間、２６．ＯｎＣ／ｃ１１＋−２の偏光、及び
３４．５°の傾角をもった。４５℃において３０Ｖの電
界を用い、混合物は１９マイクロ秒の応答時間と３２．
０”の傾角をもつた。
実施例１４１ 混合物は以下を一緒に混合してつくられた。
６−デシルオキシニコチン酸　４−　（１，１−ジヒド
ロパーフルオロへキシルオキシ）フェニルエステル（化
合物５７）　　　　　　５．０９％４−オクチルオキシ
安息香酸　４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキ
シ）フェニルエステル（化合物１５）　　　　　　　　
　　　９．０４％４−オクチルオキシ安息香Ｍ　　４−
（１，１−ジヒド［］パーフルオロへキシルオキシ）フ
ェニルエステル（化合物１６）　　　　　　　９．３０
％４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブトキシ）安息
香酸　４−オクチルオキシフェニルニスデル（化合物２
６）　　　　　　　　　１０．０６％４−（４−オクチ
ルオキシベンゾイルオキシ）安息香酸　１，１−ジヒド
ロパーフルオロブトキシエステル（化合物６３）　　　
　　１１．２２％４−（４−デシルオキシベンゾイルオ
キシ）安息香１ｕｌｌ、１−ジヒドロパーフルオロブト
キシエステル（化合物６４）　　　　　　２８．３２％
３−クロロ−４−（１，１−ジヒドロパーフルオロへキ
シルオキシ）安息香Ｍ　４−デシル第キシフェニルエス
テル（化合物３６） ２１．０４％ 旦−２−メチルブチル　４−（４’　−オクチルオキシ
ベンゾイルオキシ）ベンゾ−［−ト（Ｊ、　Ｗ、　Ｇｏ
ｏｄｂＶ及びｌ’、Ｈ，Ｌｅｓｌｉｅにより、液晶及び
芳香流体（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ　ａｎｄ　
０ｒｄｅｒｅｄＦｌｕｉｄｓ）　　、　ｖｏｌ、４　　
、１）ｐｌ−４２、八　Ｃ，ＧｒｉｌＩｉｎ　　及びＪ
、八Ｊｏｈｎｓｏｎ　ＩＱ’Ｊに記載＞　　　　５．９
２％２．９ミク［１ン厚のヒルが毛細管作用によりこの
混合物で充たされた。混合物はキラルスメクブツクΔ及
びキラルスメクヂツクＣ中間相を示した。
この混合物の転移湿度はＩＩＳｍＡ＊に対し８７℃、Ｓ
ｍＡ＊−＋ＳｍＧ”に対し６８℃で、そして２℃におい
て肘合物はＳ　ｒｒｌ　（、’　　から未同定の高次の
キラルスメクヂック又は結晶相に転移した。
２５℃において３０ｖ／μｍの電界を用い、混合物は２
５０？イク［１秒の応答時間及び１以上のｎＣ／ｃｍ　
２１／）偏光（ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ）　ヲもツタ
。
実施例１４２ 混合物は以下を一緒に沢合してつくられた。
６−デシルオキシニ」チン酸　４−（１，１−ジヒド［
１パ一ノルＡ口へ：１：シルオキシ）フェニルエステル
（化合物５７）　　　　　　４．８５％４−オクチルオ
キシ安息香酸　４−（１，１−ジヒドロパーフルオロブ
トキシ）フェニルニスアル（化合物１５）　　　　　　
　　　　８．７９％４−オクチルオキシ安息香酸　４−
（１，１−ジヒドロパーフルオロへ手シルオニ４−シ〉
フェニルエステル（化合物１６）　　　　　　　８．９
６％４−（１，１−ジヒドロバーフルレオロブ１〜にシ
）安息香酸　４−オクチルＡキシフェニルエステル（化
合物２６）　　　　　　　　　　９．７８％４−　（１
−：４クヂルＡキシベンゾイルオー１シ）安息香酸　１
，１−ジヒドロパーフルオーロブ１ヘ−１−ジエステル
（化合物６３）　　　　　１０．８３％４−−（４−デ
シルオキシベンゾイルオキシ〉安Ｇ、を香酸　１，１−
ジヒドロパーノルオ［１ブトキシエステル（化合物６４
）　　　　　　２６．０６％３−クロロ−４−（１，１
−ジヒドロパーフルオロへギシルオキシ）安息香酸　４
−デシル第キシフェニルエステル（化合物３６） １９．５８％ 尺−１−メチルヘブブール　１−（４’−（１，１ジヒ
ドロパーフルオロブＩ〜キシ）ベンゾイルオキシ）ベン
ゾエート（欧州特泊公告第０＋２５５２３６の実施例８
８により、景−２−メチルブヂル　４−ヒドロキシベン
ゾ■−１〜の場所に尺−１メチルへブチル４−ヒドロ１
ニジベンゾＩ　−ｌ−を用いて調製した。　　　　　　
　１１゜１５％２．８ミクロン厚のセルが毛細管作用に
よりこの混合物で充たされた。混合物はキラルスメクブ
ツクＡ及びキシルスメクチックＣ中間相を示した。
Ｕ合物の転移温度はＩ−＋ＳｍＡ”に対し８０°０、Ｓ
ｍＡ”−＋ＳｍＣ”に対し６３°Ｃ−Ｃ１そして２℃に
おいて混合物はＳ　ｒＴＩ　Ｃ＊から未同定の高次の１
ラルスメクヂツク又は結晶相に転移した。３５℃におい
て３０Ｖの電界を用い、この混合物は４０マイクロ秒の
応答時間、２２　、９　ｎＣ／ｃｍ　２の偏光、及び３
０．６°の傾角をもった。
以下の表ＩＩＩ−Ｉχにおいて、この発明の選ばれた化
合物と類似の炭化水素とによって示される中間相との比
較がなされる。炭化水素類似物に対する中ｔｍ相は、Ｄ
ｅｍｕｓ、’　Ｄｅｍｕｓ及びＺａＳＣｈｋｅＦｌｕｓ
ｓｉｇｅ　　Ｋｒ１ｓｔａｌｌｅ　ｉｎ　Ｔａｂｅｌｌ
ｅｎ　　ＶＥＢＤｅｕｔｓｃｈｅｒ　　Ｖｅａｌａｇ　
ｆｕｒ　ＧｒｕｎｄｓｔｏＨｉｎｄｕｓｔｒｉｅＬｅｉ
ｐｚ＋ｏ、　１９７４、及びＤｅｍｕｓ及びＺａｓｃｈ
ｋｅＦｌｕｓｓｉｇｅ　　Ｋｒ１ｓｔａｌｌｅ　ｉｎ　
Ｔａｂｅｌｌｅｎ　ＩＩ、ＶＥＢＤｅｕｔｓｃｈｅｒ　
Ｖｅｒｌａｇ　ｆｕｒ　Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆｉｎｄｕ
ｓｔｒｉｅしｅｉｐｚｉｇ、　　１９８４から得た。
表■の化合物は次式で示すことができる。
ここにＲ，Ｒ’及びＸは表の通りである。この発明の化
合物に対する化合物番号も又表■に示される。
表　　■ Ｒ Ｃ，Ｈ，Ｏ− Ｃ，Ｆ、　ＣＨ，Ｏ− Ｃ，Ｈ，Ｏ− Ｃ，Ｆ’、　ＣＨ７− Ｃ，Ｈ，Ｏ− Ｃ，Ｐ、　ＣＭ、　Ｏ− Ｃ，Ｈ，０− Ｃ４Ｈ，０− Ｃ３Ｆ、　ＣＨ，Ｏ− Ｃ，Ｈ，Ｏ− Ｃ，Ｆ、　ＣＨ２０− Ｃ，Ｈ，Ｏ− Ｃ，Ｆ、　ＣＨ，Ｏ− Ｃ，Ｈ工、０− ｃ、ｒ工、　ＣＨ，０− Ｃ６Ｈよ、〇− Ｃ，Ｈｌ、　０− Ｃ６Ｆ、　、　ＣＨ，Ｏ− Ｃ，Ｈｌ、　０− Ｃ１゜Ｈｌ、　０− Ｃ１゜Ｈ２１ｏ− Ｃ１゜Ｈ，１０− Ｃ，Ｈ，Ｏ− Ｃ，Ｆ、　ＣＨ２０− Ｃ，Ｈ，、Ｏ− Ｒ′ −Ｃ６Ｈ□。
−Ｃ６Ｈｌ　３ −ＱＣ，Ｈ□。
−ＱＣ６Ｈ１゜ −ＱＣ６Ｈ工。
−ＱＣ，Ｈ，。
一０ＣＨ２Ｃ６Ｆ□１ −ＱＣ，Ｈユ。
−ＱＣ，Ｈユ。
−ＱＣ，Ｈ，。
−ＱＣ，Ｈ１□ −ＯＣ，。Ｈ２１ −ＯＣ工。Ｈ２□ −ＱＣ６Ｈ，。
−ＱＣ６Ｈ，。
−ＯＣＨ，Ｃ，Ｆ１□ −ＱＣ，Ｈ，。
−ＱＣ，Ｈｌ。
一０ＣＨ２Ｃ，Ｆｌ。
−ＱＣ，Ｈ工。
一０ＣＨ２Ｃ６Ｆ’１ｌ −ＯＣＨ，ＣＨ２Ｃ４Ｆ。
ＣＮ ＣＮ −ＱＣ６Ｈよ。
中　　間　　相 ５ＩＴＬＡ、　　ＳｍＣ ＳｍＡ、ＳｍＣ ＳｍＡ、　　ＳｍＣ ５＋ｕＡ ５ｒｎＡ、　　ＳｍＣ ５ｒＬＬＡ、　　ＳｍＣ ＳｍＡ、　　ＳｍＣ Ｓｍｌリ　ＳｍＣ ＳｍＡ、ＳｍＣ ５ｒａＡ、　　ＳｍＣ ＳｍＡ、ＳｍＣ Ｎ、　　ＳｍＡ、　　ＳｍＣ，ＳｍＢ ＳｒａＡ、　　ＳｍＣ ３ｒＩＩＡ、　　ＳｍＣ ｒｌＩＡ Ｎ、ＳｍＣ Ｃ，Ｈｌ、　Ｏ− Ｃ，Ｈ，、Ｏ− Ｃ，Ｆ、　、　Ｃ０２Ｏ− −ＯＣＨ２Ｃ，Ｆ□。
−ＯＣユ。Ｈ２１ −ｏＣ１゜Ｈ２１ ＳｍＡ、ＳｍＣ Ｎ、ＳｍＣ ＳｍＡ、ＳｍＣ 表■の化合物は次式で表わすことができる。
表　　Ｖ ここにＲは表に示す通りである。この発明の化合物に対
する化合物番号も文人ＩＶに示される。
Ｋ−韮 化合物 Ｒ」勉　　　　中間相 Ｃ，Ｈ，−Ｎ Ｃ，Ｆ、ＣＭ、−８９５ｒｌＩＡ、　ＳｍＣＣ，Ｈ□、
−Ｎ Ｃ３Ｆ、　、　ＣＨ，−９０５ｒａＡ、　ＳｍＣＣ４Ｈ
。
Ｃ３Ｆ、　ＣＨ２ ＳｍＡ 表■の化合物は次式で表わすことができる。
ここにＲ，Ｒ’　、及びＸは表に示す通りである。
この発明の化合物に対する化合物番号も文人■に示す。
表Ｖの化合物は次式で表わすことができる。
ここにＲは表Ｖに示す通りである。この発明の化合物に
対する化合物番号も文人Ｖに示す。
表　　■ 表　　■ ０５　Ｆｌ　１　ＣＨ２ ＳｍＡ；　　ＳｍＢ 表■の化合物は次式で表わすことができる。
ここにＲは表■に示す通りである。
この発明の化 合物に対する化合物番号も文人■に示す。
表■の化合物は次式で表わすことができる。
表　　■ ここにＲは表■に示す通りである。
この発明の化 合物に対する化合物番号も文人Ｖｆに示す。
表■の化合物は次式で表わすことができる。
ここにＲは表に示す通りである。
この発明の化合 物に対する化合物番号も文人ＩＸに示す。
Ｃ６Ｆ１１ＣＨ，０− Ｃ６Ｈ□３ｏＯ−ｏａ− ＳｍＡ 当業者にとってはこの発明の多くの改良や変更がこの発
明の範囲や精神を逸脱しないでできることが明らかにな
るであろう。
又この発明がここに 詳述された上述の説明のための実施例に不当に拘束され
るべきでないことを理解すべきである。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）フルオロカーボン末端部分及び炭化水素又はもう
    ひとつのフルオロカーボン末端部分を含むアキラルフツ
    素含有液晶化合物であつて、末端部分が中心核によつて
    結合され、化合物がスメクチツク中間相又は潜在的スメ
    クチツク中間相をもつもの。
  2. （２）請求項（１）に記載の化合物であつて、前述のフ
    ルオロカーボン末端部分が式 −ＤＣ＿ｑＦ＿２＿ｑ＿＋＿１ で表わすことができることを特徴とするもの。 ここにｑは１−２０で、 Ｄは ▲数式、化学式、表等があります▼、 −Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｒ−、−（ＣＨ＿２）＿ｒ−、−
    ＯＳＯ＿２−、−ＳＯ＿２−、 −ＳＯ＿２（ＣＨ＿２）＿ｒ−、 −Ｏ（ＣＨ＿２）＿ｒ−Ｏ（ＣＨ＿２）＿ｒ′−　、▲
    数式、化学式、表等があります▼、又は ▲数式、化学式、表等があります▼ で、ここにｒ及びｒ′は独立に１から２０で、ｐは０か
    ら４である。
  3. （３）請求項（１）に記載の化合物であつて前述の中心
    核が少くとも２つの芳香族、複素環式芳香族、脂環式、
    又は置換された芳香族、複素環式芳香族、又は脂環式、
    環を含むことを特徴とするもの。
  4. （４）請求項（３）に記載の化合物であつて、環が、ひ
    とつを他と−ＣＯＯ−、ＣＯＳ−、 −ＨＣ＝Ｎ−、又は−ＣＯＳｅ−によつて結合されてい
    ることを特徴とするもの。
  5. （５）請求項（１）に記載の化合物であつて、前述の化
    合物が一般式 I で表わすことができることを特徴とす
    るもの。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ここにＭ、Ｎ、及びＰはそれぞれ独立に ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
    、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
    ▼▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
    、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
    ▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 で、ａ、ｂ、及びｃは独立にゼロ又は１から３の整数で
    ある。但しａ＋ｂ＋ｃは少くとも２とする。 Ａ及びＢはそれぞれ無方向性でそしてそれぞれ独立に、
    無し、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、 −ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝Ｎ、で、Ｘ、Ｙ
    、及びＺは独立にゼロ又は１から４の整数で、 Ｄは ▲数式、化学式、表等があります▼、 −Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｒ−、−（ＣＨ＿２）＿ｒ−、−
    ＯＳＯ＿２−、−ＳＯ＿２−、 −ＳＯ＿２−（ＣＨ＿２）＿ｒ−、 −Ｏ（ＣＨ＿２）＿ｒ−Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｒ′−、▲
    数式、化学式、表等があります▼、又は ▲数式、化学式、表等があります▼ で、ここにｒ及びｒ′は独立に１から２０、ｐは０から
    ４で、 Ｒは −Ｏ−Ｃ＿ｑＨ＿２＿ｑ−Ｏ−Ｃ＿ｑ＿′Ｈ＿２＿ｑ＿
    ′＿＋＿１、−Ｃ＿ｑＨ＿２＿ｑ−Ｏ−Ｃ＿ｑ＿′Ｈ＿
    ２＿ｑ＿′＿＋＿１、−Ｃ＿ｑＨ＿２＿ｑ−Ｒ′、−Ｏ
    −Ｃ＿ｑＨ＿２＿ｑ−Ｒ′、▲数式、化学式、表等があ
    ります▼、又は ▲数式、化学式、表等があります▼、 で、ここにＲ′は−Ｃｌ、−Ｆ、−ＣＦ＿３、−ＮＯ＿
    ２、−ＣＮ、−Ｈ、 ▲数式、化学式、表等があります▼、又は ▲数式、化学式、表等があります▼で、 ｑ及びｑ′は独立に１から２０で、そしてＲは直鎖又は
    分枝鎖であり得、そして Ｒ＿ｆはＣ＿ｑＦ＿２＿ｑ＿＋＿１で、ここにｑ及びｑ
    ′は独立に１から２０である。
  6. （６）請求項（１）に記載の前記化合物を含む液晶表示
    装置であつて、前記化合物がスメクチツク中間相をもつ
    もの。
  7. （７）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる少くともひとつの化合物と、式▲数式、化
    学式、表等があります▼ で表わされる少くともひとつの化合物とを混合するステ
    ップ１）、又は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる少くともひとつの化合物と、式▲数式、化
    学式、表等があります▼ で表わされる少くともひとつの化合物とを混合するステ
    ップ２）を含む、請求項（１）に記載のアキラルフツ素
    含有液晶化合物を調製するためのプロセス。 ここにＭ、Ｎ、及びＰはそれぞれ独立に ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
    、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
    ▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
    式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、▲数式、化学式、表等があります▼； で、ａ、ｂ、及びｃはそれぞれ独立にゼロ又は１から３
    の整数である。但しａ＋ｂ＋ｃの合計は少くとも２とす
    る。 Ａ及びＢはそれぞれ独立に、無し、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、−ＣＨ＝Ｎ−、−
    ＣＨ＿２−Ｏ−、▲数式、化学式、表等があります▼、
    又は−Ｏ−、−ＣＨ＿２ＣＨ＿２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、
    又は−Ｃ≡Ｃ−で； Ａ′、Ａ″、Ｂ′、及びＢ″はそれぞれ独立に−ＯＨ、
    −ＣＯＯＨ、−ＣＨ（ＣＨ＿２ＯＨ）＿２、−ＳＨ、−
    ＳｅＨ、−ＴｅＨ、−ＮＨ＿２、−ＣＯＣｌ、−ＣＨＯ
    、又は−ＣＨ＿２ＣＯＯＨである。但しＡ′はＡ″との
    付加反応又は縮合反応に入り得、Ｂ′はＢ″との付加又
    は縮合反応に入り得る。 Ｘ、Ｙ、及びＺはそれぞれ独立に−Ｈ、−Ｃｌ、−Ｆ、
    −ＯＣＨ＿３、−ＯＨ、−ＣＨ＿３、−ＮＯ＿２、−Ｂ
    ｒ、−Ｉ、又は−ＣＮで、 ｌ、ｍ、及びｎはそれぞれ独立にゼロ又は１から４の整
    数で、 Ｒは、 −ＯＣ＿ｑＨ＿２＿ｑ−ＯＣ＿ｑ＿′Ｈ＿２＿ｑ＿′＿
    ＋＿１、−Ｃ＿ｑＨ＿２＿ｑ−Ｏ−Ｃ＿ｑ＿′Ｈ＿２＿
    ｑ＿′＿＋＿１、−Ｃ＿ｑＨ＿２＿ｑ−Ｒ′、−Ｏ−Ｃ
    ＿ｑＨ＿２＿ｑ−Ｒ′、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、又は ▲数式、化学式、表等があります▼、 ここにＲ′は−Ｈ、−Ｃｌ、−Ｆ、−ＣＦ＿３、−ＮＯ
    ＿２、−ＣＮ、 ▲数式、化学式、表等があります▼、又は▲数式、化学
    式、表等があります▼で、 ｑ及びｑ′は独立に１から２０で、 Ｄは ▲数式、化学式、表等があります▼、 −Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｒ−、−（ＣＨ＿２）＿ｒ−、−
    ＯＳＯ＿２−、−ＳＯ＿２−、 −ＳＯ＿２−（ＣＨ＿２）＿ｒ−、 −Ｏ（ＣＨ＿２）＿ｒ−Ｏ（ＣＨ＿２）＿ｒ＿′−、▲
    数式、化学式、表等があります▼、又は ▲数式、化学式、表等があります▼で、 ここにｒ及びｒ′は独立に１から２０で、ｐは０から４
    で、 Ｒ＿ｆは−Ｃ＿ｑＦ＿２＿ｑ＿＋＿１で、ここにｑ及び
    ｑ′は独立に１から２０で、そして 前述のＡ′及びＡ″又はＢ′及びＢ″は好適なカプリン
    グ剤の存在下で反応することができる。
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