JPS63502435A - 液晶化合物、混合物及びデバイス - Google Patents
液晶化合物、混合物及びデバイスInfo
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- JPS63502435A JPS63502435A JP50136687A JP50136687A JPS63502435A JP S63502435 A JPS63502435 A JP S63502435A JP 50136687 A JP50136687 A JP 50136687A JP 50136687 A JP50136687 A JP 50136687A JP S63502435 A JPS63502435 A JP S63502435A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
液晶 合力、混合物及びデバイス
本発明は、液晶混合物及びそれに使用される化合物に係る。
本発明は特に強誘電性スメクチック液晶混合物及び化合物に係る。本発明はまた
、これ等の混合物を封入した電気光学デバイスにも係る。
強誘電性スメクチック液晶材料はキラル傾斜スメクチック相、即ちキラルスメク
チツクC,F、G、H,1,F及びに相(本明細a中SC”等の傘はキラリティ
ーを示す)の強;六番性を利用するものである。SC*相は、最も流動性が高い
ことから電気光学デバイスにおける使用についてみも多く研究されており、−I
+を一眩11軒% Q /” ” 用ルモせト杓京をへ犠面l!矢いTQ^焔ル
モすことも表面配向に寄与する面で望ましいことである。
強誘電性液晶材料は、理想的には低粘度、広いスメクチック液晶温度範囲、安定
性等を具備することが望ましく、特に高い自発分極係数(Ps、nCcm−2で
測定)を有することが望ましい。単一成分材料でこれ等の性質を示すものもある
が、スメクチック相を示す混合物を使用するのが通常の方法となってきている。
該混合物中の少なくとも1つの化合物が光学的に活性(キラル)であって、該混
合物が示すスメクチック相が光学活性であり、特にSC”相である。このような
光学活性化合物を“キラルドーパント”と指称する。
本発明は、強誘電性スメクチック液晶混合物に含有させるのに好適な、式1で表
わされる新規な化合物を提供する。
式中、R及びR2c、tH,R,RO,ROOC,RCOo。
RCOOCH(CH3)COo及びC0oCH(CH3)COOR,CN及びハ
ロゲンから個々に選択され、RはC1−12アルキルであり、
式中、 ■、 <E> 、○、 <E) 、 OのそれぞれはCH3から選択さ
れた1つ以上の側方WE lk mを有していてもよく、
B、C及びDはCoo、OOC,CH2CH2,0CH2゜に選択され、
b、c、d、e及び2のそれぞれは個々に0または1であるが、但しくb+c−
zj+e)は1.2または3であり、X、Y、217)そレソレハ相異なり、−
o−、coo、ooc。
ル、フェニル、シクロヘキシル、ハロゲンまたはCNを示し、在する場合は同じ
側方置換パターンを有する。
式1の化合物は強誘電性スメクチック液晶混合物の有用な成分である。本発明の
もう1つの形態によれば、少なくとも2種の化合物を含み、その少なくとも1種
が式1の化合物である強誘電性スメクチック液晶混合物が提供される。
このような混合物における有用性は以下に記載するような構造上及びその他の面
からの好適物を選択する要因の1つである。
式1の化合物は光学的に活性であってもよく、ラセミ体であってもよく、また光
学的に不活性であってもよいが、好ましくは混合物は少なくとも1種の光学的に
活性な式1の化合物を含む。
アルキル基Rは、直鎖(−n)であってもよく、分枝であっTもよ<、RCOO
CH(CH3)COOまたはC0oCH(CH3)GOOR以外に存在するとき
はキラルであってもよい。好ましくはR1及びR2は個々にアルキル、アルコキ
シ、アルカノイルオキシまたはアルコキシカルボニル存在する場合の0・0.0
j0,■の好ましい置換基はFである。これらの環の1つが00 である化合物
が特に有用である。
好ましくは式1のWはn−アルキル、特にメチルである。
式1の単位−X−Y−(Z)、の好ましい構造を下記表1に挙げる。
表2に挙げる。
表 2
舎・ ()・(X)・+・
表2に示した構造中でフェニル環は1つのハロゲン側方置換基を有してもよい。
式1の化合物の好ましい全体的構造を下記表3に挙げる。
次 3
表3においてR1はC3−1゜の直鎖または分校アルキルまたはアルコキシであ
り、R2はC1−12アルキルまたはアルコキシであるか、あるいはR2がフェ
ニルまたはシクロヘキシル環に直接結合している場合はR2はアルカノイルオキ
シ、アルコキシカルボニル、C0oCH(CH3)C3H7またはC00CH(
CH3)000C2H5であってもよい。表3のフェニル環は1つの側方ハロゲ
ン置換基を有してもよい。
表3に示したものの中で特に好ましい化合物は、構造3.1゜3.2. 3.3
. 3.4. 3.5. 3.6. 3.7.3.8. 3.9及び3.10で
R2が2−オクチルオキシ(2−メチルへブチルオキシ)のもの、及び3.16
のものである。
構造3.16に°おいてはR2は好ましくは2−メチルへブチルである。
式IにおいてRは好ましくはC3−C12n−アルキルである。
日本国特許出願56925/1984 (公開NQ 199856/1985)
は式Iの化合物に関して一連のラセミ化合物のみを開示している。またその記載
においてはネマチック液晶混合物中でのその使用についてのみ言及している。強
誘電性スメクチック液晶混合物の物理及び化学はネマチック混合物のそれと非常
に異なっており、特に相溶性と光学的純度の必要性において異なっていることは
よく知られている。従ってネマチック系についての知見は非常に特異的なスメク
チック混合物の形成について殆ど何の示唆も提供し得ない。
本発明の強誘電性スメクチック液晶混合物は通常多くの化合物から構成され、1
種以上の光学的に活性な化合物を含み、好ましくはそのうち少なくとも1種が式
1の化合物である。混合物中のその他の化合物は通常、単独でまたはその他の化
合物の一部もしくは全部と混合されてスメクチック相、好ましくはScを示す化
合物を少なくとも1種含み、それ等の化合物の少なくとも1種はラセミ体である
式1の化合物であってもよい。これ等のその他の化合物は「スメクチックホスト
」と指称されることが多い。
スメクチックホストの例としては以下のようなものが挙げらで示される、P C
T / G B 86/ 0040に開示された化合物及びその混合物。ここで
RA及びR8はアルキル(好ましくはn−フルキル)、アルコキシ(好ましくは
n−アルコキシ)、アルカノイルオキシまたはアルコキシ力ルボニlル(好まし
くはn −アルコキシカルボニル)から個々に選択され1−12個、好ましくの
タイプのものであり、RCはアルキルである。
の化合物及びそれ等の混合物。RA及びRBはアルキル(好ましくはn−アルキ
ル)またはアルコキシ(好ましくはn−アルコキシ)から個々に選択され、12
個までの炭素原子を含むものである。
(C)公知のスメクチックホストのその他の例として下記一般式の化合物が挙げ
られる。R及びR8はn−アルキル及びn−アルコキシから個々に選択され、R
cはn−アルキル、好ましくはエチルである。
(d) r−1−シアノ−シス−4−(4’−アルキルまたはアルコキシ−ごフ
ェニル−4−イル)−1−アルキルまたはアルコキシシクロヘキサン。
r−1−シアノ−シス−4−(トランス−4−アルキルまたはアルコキシシクロ
ヘキシル)−1−(トランス−4−アルキルまたはアルコキシシクロヘキシル)
−シクロヘキサン。
前記混合物はまた、スメクチック材料と相溶性のその他の光学活性化合物を含有
してもよく、その例としてはPCT GB/85100512に開示された乳M
FII導体、例えばまたはEPA 0110299に開示された化合物、例えば
またはPCT/GB8610046に開示され゛たテルペノイド誘導体がある。
混合物が1種より多い光学活性化合物、例えば式Iの化合物と上述のその他の光
学活性化合物の1種を含むような場合、これ等の化合物によって誘起されるS8
相のヘリカルツイストの向きは同じでも逆でもよく、即ち(+)及び(−)の光
学活性化合物の両方を使用し得る。ヘリカルピッチの長さを増加させるために逆
の方向のS″相のツイストを起す化合物を含有させることが望ましいことが多い
。混合物中の光学活性化合物のそれぞれが混合物中で同じ符号のpsを示すこと
が望ましい。
混合物はまた、例えばPs、SC相の範囲、粘度等の性質を改善するために、あ
るいはSC*より高い温度でSA相を出現させて配向に寄与させるためにその他
の公知の添加剤を含んでもよい。SC相の範囲を拡げるために使用し得る化合物
の種類が挙げらける。R1及びR8は個々に0l−12n−アルキルまたはn−
アルコキシである。
混合物はまた多色性染料を含んでもよい。
限定されるものではないが、典型的な本発明の強誘電性スメクチック液晶混合物
は下記の組成を有する。
1種以上のスメクチックホスト化合物 30−99重M%1種以上の式Iの光学
活性化合物 1−50重量%1種以上のその他の光学活性化合物 0−20重量
%任意の添加剤及び多色性染料 0−20重n%1種以上のラセミ体の式1の化
合物 0−20重量%合計で100重R%とする。本発明の液晶材料の種々の成
分の性質及び相対量は、該材料に意図される用途に依存し、特定の要求に適合さ
せるためにはいくらかの試行HFjが必要であるが、このような材料の混合及び
評価の基本的原則は当分野においてよく知られている。
式1の化合物は一般的に使用され得る径路により調製することができる。エステ
ルであるもの、即ち−000−または−000−基を含むものは公知のエステル
合成方法のいずれをも使用して調製することができ、新規な化合物を形成するこ
とができる。−に示した。図中、 (i) K2CO2,ブタノン(ii)KO
H,IMS、R20
であり、R,R2はアルキルまたはアルコキシである。
ステップAmで使用するスルホネートは市販のエチルラクテートのスルホネート
である。
光学的に活性な式1の化合物が要求される場合には、径路Aの各段階について生
成物の光学活性をチェックすべきである。
その他の式1の化合物の調製方法は実験実施例より当業者には明らかであろう。
本発明の液晶材料は、例えば^Dp1. phys、 tett (1980)
、36゜899及びRecent Developraents in Con
densed Matter Physics(1981)、4.309に記載
された“クラークーラガーウォールデバイス等の公知の強誘電性スメクチック液
晶表示デバイスのいずれのタイプのものにも使用し得る。このタイプのデバイス
の物理及び製造方法はよく知られており、例えばPCT/GB85100512
及びPCT/GB8610040等に記載されている。実際のこのようなデバイ
スは、通常少なくとも1つが光学的に透明な2つの基板と、基板内表面上に配置
され電圧を印加し得る電極と、基板の間にサンドインチされた液晶材料層から構
成される。SC*相のヘリカルピッチ長は材料の厚さに匹敵することが望ましく
、これが長いピッチの混合物が有用であることの理由である。本発明の材料はク
ラークーラガーウォールデバイスの複屈折型ディスプレイモード及びゲストホス
ト型ディスプレイモードのいずれにおいても使用し得る。デバイスは例えば詩計
、計算機、ビデオスクリーンディスプレイ等の形態にすることができ、このよう
な形態のデバイスの製造方法は当業者によく知られている。
以下に例示としてのみの意味において、第1図及び第2図を参照しながら本発明
を説明する。第1図は製造径路へを示す。
第2因は液晶デバイスの断面因を示す。
注二本記載及び以下の実施例において 0 はトランスシクロヘキシルを表わす
。
笑澹m
(4−n−ペン ルー4°−ビフェニリル)−2−(4”−オクトキシフェノル
オ シー(S−プロピ ネートの調gII!(j1^)−:エ ルー24゛−ト
ルエンスルホニル シ S−プロピオネート
エチルL−(+)−ラクテート(25g、0.2119モル)をトルエン−4−
スルホニルクロリド(50,5g、0.2648モル)及びピリジン(75zi
’)と共に室温で攪拌した。3時間後、水(3z1.0.1667モル)を添加
し更に1時間攪拌を維持した。有機層を分離し、水相をジクロロメタン(2x1
50zjりで抽出した6合わせた有機物質を水(200z1)で洗浄し、蒸気浴
で溶媒を蒸留除去した。第一段階生成物so、syが収率88%で得られた。こ
れをプロパン−2−オール(150zl’)がら再結晶化によって精製し、二
:エ ルー2−4′−n−オ トゝジフェニル シ(S−プロピ ネート ^
1
第一段階の生成物(10g、0.03676モル)を、4−n−オクトキシフェ
ノール(8,16g、0.03676モル)及び無水炭酸カリウム(10y)と
共にブタノン(100xf)中で撹拌し還流下で24時間沸騰した。冷却した反
応混合物を水(200zf)に添加し、水相をジクロロメタン(2x15j)’
z1)で分離抽出して生成物を単離した0合わせた有機物質を水(200++i
’)で洗浄し、硫酸ナトな、これを塩基性アルミナ(72y)カラムクロマトグ
ラフィーで精製し、石油アルコール(沸点60〜80″C)で溶出した。
生成物10.0g、収率85%が得られた。
三 F:2−(4’−クト ジフェニルオキシ(S−プロピオン スーツプ^j
第二段階の生成物(11,9g、0.03696モル)を水酸化カリウム(6f
I)、工業用メチルアルコール(75i1)及び水(15z1)と共に還流下で
3時間15分間沸騰した。冷却した反応混合物を10%塩酸(250z1)に添
加して生成物を単離した。生成物を炉別し、水洗し40℃で真空乾燥した。生成
物8.9g、収率82%が得られた。
=4−〇−ペン ル4−ビフェニ1ル2−4”−クト′シフェニルオ シ S−
プロピ ネートスーツブ^ii囚套り上
この生成物を調製するために、まず第三段階の酸塩化物を形成した。第三段階の
生成物(8,5g、0.02891モル)を塩化チオニル(27zf)と共に還
流下で2時間沸騰し、次に余剰の塩化チオニルを蒸気浴及び最終的に高真空下(
0,1ミリバール)で蒸発除去した。この酸塩化物を次に、ジクロロメタン(1
25tjり及びトリエチルナミン(12,5zi’)に溶解した4′−ヒドロキ
シ−4−n−ペンチルビフェニル(6,9g、0.02891モル)に添加した
。この混合物を還流下で1時間10分間沸臆し、放冷し、水(150z1)に添
加して分離し、塩11ff <10%を150zF)と水(150z1)とを順
次用いて洗浄することによって生成物を単離した、
溶媒を蒸発除去して、粗生成物ta、sg、理論量の91.3%の収率が得られ
た。これを塩基性アルミナ(50g)カラムクロマトグラフィーで精製し、石油
アルコール(沸点60〜80℃)とジクロロメタンとの2=1混合物でで溶出し
た。生成物9.0g、理論量の60.4%の収率が得られた。これを工業用メチ
ルアルコール(70zjり及びピリジン(0,75z1)から再結晶化して更に
精製した。融点に一186℃の(4−ローベンチルー4′−ビフェニリル)2−
(4”−オクトキシフェニルオキシ)−(S)−プロピオネート(8,0g)が
理論量の54%の収率で得られた。
実施例1の生成物の自発分極Psを、転移温度5C−S^90℃、S^−Ch9
4℃及びCh−1133−136℃の混合物中で濃度10重量%で測定した。
この混合物の自発分極の経温変化を以下に示す。
■エエ b工しシ恒ピ上
50 0.41
55 0.59
80 0.80
85 0.56
88 0.28
89 0.16
同様の方法で式
で示される結晶−等方性融点84′Cの化合物を調製した。
寒月」[と
2.98y(0,01モル)の4−(5−へブチルピリミジニル−(2))−安
息香酸と、市販のR−プロピレンオキシドとへブチルオキシフェニルマグネシウ
ムプロミドとから調製された2、5g(0,01モル)の左旋性3−(4−へブ
チルオキシフェニル−(1))−プロパノ−ルー(2)、α2°= 3.15(
CLCjz中C=1)と、2.3gのジシクロへキシルカルボジイミドと0.2
.の4−N、N−ジメチルアミノピリジンと、251Ilのジクロロエタンとを
室温で48クロヘキシルウレアの沈殿物を戸別し、ジクロロメタンで洗浄した。
ジクロロメタン溶液のP液を合わせて蒸発後トルエン72%酢酸エチルでのシリ
カゲル上のクロマトグラフにかけた。主画分からエタノールよりの再結晶化後、
1−(p−へブチルオキシフェニル)−2−プロピル−4−(5−ヘプチルピリ
ミジニル−(2))−ベンゾエートを得、このHPLC純度は99.1(α 2
0= −80−6) Ii点76.2℃融解エンタルピー 8.16kca11
モル同様にして以下の酸力iら、左旋性1−(4−へブチルオキシフェニル)−
2−プロパノ−・ルとのエステル化によって対応す寒月iと
(R−プロピレンオキシドと4′−へブチルオキシビフェニル−4−イル−マグ
ネシウムプロミドとから調製された)光学活オールをブチル、酸と共に実施例2
と同様に処理してエステル)−2−プロピルブチレートを調製した。同様にして
以下のによって対応するエステルを生成した。
・去1」[L
→
3.16g(0,01モル)の4−(5−へブチルオキシピリミジニル−(2)
)−安息香酸クロリドを、市販のS−プロピレンオキシドとヘプチルオキシフェ
ニルマグネシウムプロミドとから調製された2、5g(0,01モル)の右旋性
3−(4−へブチルオキシフニル−(1))−プロパノ−ルー(2)、α2°−
+ 3.14(CHzC1’z中の(±1)を含有する1511のピリジンに0
℃で攪拌下に添加する。
添加完了後、反応混合物を室温まで温めて1晩攪拌する。
次に、混合物を150z1の水に注ぎ、トルエンで抽出する。
次に、トルエン層を希HC4)、希NaOH及び水で順次洗浄し、Na2SO4
で乾燥し蒸発させる。残渣をトルエンで溶出することによってシリカゲルクロマ
トグラフにかけ、エステルを2生成する。これをアセトニトリル及びシクロヘキ
サンから再結晶化すると純粋物質1−(p−ヘプチルオキシフェニル)−2−ブ
ロピル−4−(5−へブチルピリミジニル−(2))−ベンゾエートを得る。
α2°=+79.6 ’Fd点76.2℃同様にして、以下の酸塩化物と右旋性
3−(4−へブチルオキシフェニル−(1))−プロパノ−ルー(2)とのエス
テル化によって対応するエステルを調製した。
笑光」[Σ
テトラヒドロフラン中5$Pd/活性炭を用い対応する2−ブテン酸の水素添加
及び(+)エフェドリン(2−メチルアミノ−1=1)による分解とによって調
製された3、419(0,01モル)の右旋性3−[4−(5−へブチルピリミ
ジニル−(2))−フェニル−(1)]−ブチルM登、1.42gのトランス4
−プロピルシクロヘキサノールと共に実施例1の方法でエステル化する。クロマ
トグラフィーで精製し結晶化して光学活性トランス−4−プロピルシクロへキシ
ル−3”[4−(5−へブチルピリミジニル−(2))−フェニル−(1)]−
ブチレートが得られる。
同様にして以下のアルコールとのエステル化によって対応するエステルを調製し
た。
ス上」1[
前記実施例と同様に分解によって得られた1、7gの左旋性3−[4−(5−へ
1チルピリミジニル−(2)’)−゛フ゛二ニル−(1)]−ブメチルアミノ(
α、o°=−3,30>ヲ5Ocf!241mヨッテ常法テ対応’tル酸塩化物
に変換した。これを1011のジエチルエーテルに溶解し、15x1のジエチル
エーテル中に3x1のピリジンと1.64gの4−ペンチルフェノールとを含有
する溶液に0℃で滴下した。0℃で更に1時間攪拌後、混合物を室温で1晩攪拌
した。中性成分の抽出及びクロマトグラフ分Hf&に光学活性p−ペンチルフェ
ニル−3−[4−(5−へブチルピリミジニル−(2))−フェニル−(1)]
−ブチレートが得られた。
同様にして以下のアルコールのエステル化によって対応するエステルが得られた
。
夾11[L
all)ランス4−(4’−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン−酢酸
から、該酸と等価量の炭酸セシウム(C52CO,)である成分をジメチルホル
ムアミド中で混合しジメチルホルムアミドを蒸発させて調製することによって誘
導された3、97.のCs−塩を、2.55.の右旋性1−ブロモ−1−(4−
ペンチルフェニル)−エタンと共に3011のジメチルホルムアミド中で60℃
で攪拌下に1晩反応させる0反応混合物を水に注ぎ、n−ヘキサンで抽出し、乾
燥し、蒸発させシリカゲルで濾過する。アセトニトリルから再結晶化後、1−(
p−ペンチルフェニル)−1−エチルall)ランス−4(4−プロピルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシルアセテートが得られる。
同様の方法で以下の酸から対応するエステルが得られる。
ば蒙栂静゛淳旋堀2
夾1」IL
ドイツ特許比!j[DE−OS3515373に記載の3.47g<0.01モ
ル)の光学活性p−(5−ヘキシルピリミジン−2−イル)−フェノールのα−
クロロプロピオン酸エステルを2.15gのp−ヘプチルフェノールナトリウム
と共に20xlのトメチルピロリドン中で80℃で2時間反応させる。得られた
反応混合物を水に注ぎ、トルエンで抽出し、トルエン暦を乾燥し蒸発させる。残
渣をトルエン/11アセトンを用いてシリカゲルクロマトグラフにかけた。再結
晶化後の主画分から、光学活性p−(5−へキシルピリミジン−2−イル)−フ
ェニル2−(p−へブチルフェノキシ)−プロピオネートを得た。
以下の核物質を同様にして反応させると対応する誘導体が得られた。
叉JLL乳
(÷)エフェドリンによる分解とテトラヒドロフラン中の52Pd/活性炭の存
在下での対応するα−メチルシンナミン酸の水素添加によるラセミ酸の調製とに
よって得られた3、4g(0,01モル)の左旋性3−[4−(5−へブチルピ
リミジニル−(2))−フェニル−<1>3−2−メチルプロピオン酸(CH2
Cj’i中でα6゜=2.3°)を2.20.のノニルフェノールで実施例2と
同様にエステル化する。光学活性p−ノニルフェノール3−[4−(5−へブチ
ルピリミジニル−(2))−フェニル−(1)]]〜2−メチルプロピオネーが
得られる。
同様にして以下のα−メチルプロピオン酸誘導体を対応する4−ノニルフェノー
ルエステルに変換した。
寒1」u■
3011のテトラヒドロフランに入れた2、7y(0,01モル)の左旋性4−
(2−ブロモ−1−メチルエチル−(1))−1−ペンチルベンゼンと66xg
のLi2Li2Cu1J14(3%)との混合物に、2.69g(0,01モル
)の1−ブロモ−4−(4−プロピルシクロヘキシル)−ベンゼンと0.24.
のマグネシウムとから調製されたグリニヤール試薬を含む10j1のテトラヒド
ロフラン溶液を望素下で滴下し、室温で攪拌する。室温で16時間攪拌後、反応
混合物を6NのHClで加水分解し、蒸発させる。残渣を希HCIとジエチルエ
ーテルとで処理する。エーテル層を中性まで洗浄し、乾燥し、蒸発させる。残渣
をn−ヘキサンでクロマトグラフにかけ結晶化した後に、光学活性クロス結合化
合物!−[p−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)−フェニル]−2−
(p−ペンチルフェニル)−プロパンが得られる。
同様にして以下のプロミドのグリニヤール化合物がクロス結合させた。
夾上[i
対応する#酸のα−メチルfヒと対応するフェニルグリシツールアミドのジアス
テレオマーの分離と加水分解とによって調製された2、26g(0,01モル)
の′ji:旋性トランス2−(4−ペンチルシクロへキシル−(1)−プロピオ
ン酸を、対応する酸塩化物を介して実施例5と同様にエステル化する。光学活性
トランス−4−10ビル−シクロヘキシルメチル2−(トランス−4−ペンチル
シクロへキシル−(1)−10ビオネートが得られる。
以下のアルコールを使用して対応するエステルが得られた。
夾W又
150z1のテトラヒドロフラン中の10.9.のp−(トランス−4−プロピ
ル−シクロヘキシル)−フェノールと5.8xlの(S)−エチルラクテートと
3.1gのトリフェニルホスフィンとの溶液に、7.9z1のアゾビスエトキシ
カルボニルを室温で滴下する。
得られた混合物を1晩攪拌して蒸発させる。 90zffiのCH20H(90
2)と50xlf)CH2Chとの混合物中の残渣の懸濁液を5xlf)H2O
2と混合する。15分後に水性NazS20s及び100z1の水を順次添加す
る。有機層をNaHCO,及び水で順次洗浄し、Na、SO。
で乾燥する。蒸発後残渣をシリカゲルクロマトグラフにがける。沸点180℃(
0,06Torr)の光学活性エチル−2−[p−(ト5ンスー4−プロピルシ
クロヘキシル(−フェノキシ]−プロピオネートが得られる。
同様にして、エチルラクテート、メチルラクテート、プロピルラクテート、ヘキ
シルラクテート、ヘプチルラクテート、2−メチルブチルラクテート又は同様の
ラクテートとのエーテル化によって以下のフェノールから対応するラクテートエ
ーテルが得られる。
X19’llユ
テトラヒドロフラン(300zjり中の4−(4”−ヒドロキシビフェニル−4
−イル−1)−シアン−1−オクチルシクロヘキサン(19,’h)エチルラク
テート(6,5g)とトリフェニルホスフィン(13,1y)との混合物に、テ
トラヒドロフランに溶解したジエチルアゾジカルボキシレート(9,6g)を添
加した。混合物を50℃で1時間攪拌し1晩静置しな、溶媒を除去し、残渣を熱
いトルエン(100zjりに溶解し、次に0℃に冷却して濾過した。クロマトグ
ラフィーによって生成物を炉液から単離した。
この手順によって光学活性2− (4’ −(4−シアン−4−オクチルシクロ
ヘキシル)−ビフェニル−4−イルオキシ)プロピオン酸エステルが得られた。
式
のアルキルラクテートとフェノールとを使用し同様の方法で類似化合物が得られ
た。
叉1」1ま
4−シアノ−4−シクロヘキサノールとp−ベンジルオキシ安息香酸とを反応さ
せ接触水素添加によってベンジル基を除去することによって調製されたp−ヒド
ロキシ安息香aE−(4−シアノ−4−ヘプチルシクロヘキシル)−エステル(
20,6g)と、光学活性へキシルラクテート(11,5g)と、トリフェニル
ホスフィン(15,7y)とを含むテトラヒドロフラン(150zl)中の混合
物に、ジエチルアゾジカルボキシレートのテトラヒドロフラン溶液を添加した。
混合物を50℃で1時間攪拌し、12時間靜1後溶媒を除去した。残渣を熱いト
ルエフ (100zjりに溶解し、冷却し、濾過し、クロマトグラフィー及び結
晶化によって生成物を単離した。
この手順で光学活性p−(4−シアノ−4−へブチルシクロへキシルオキシカル
ボニル)−フェノキシプロピオン酸ヘキシルエステルが得られた。
以下のアルキルラクテート及びフェノールを用い同様の手順で処理して類似化合
物を得た。
HO−CにンCo<IE蛤暉
寒上[
(S−1−メチルヘプチル4−n−デシルビフェニル−4′−オキシアセテート
)の調製
−IPtI(エチル−4−n−一シルビフェニル−4゛−ゝシアセー二上上
4−n−デシル−4°−ヒドロキシビフェニル(lh)とエチルブロモアセテー
ト(6,5y)と無水炭酸カリウム(6,6y)とブタノン(160zj)とを
500zjl’の丸底フラスコに充填した。得られた混合物を撹拌し還流下に2
0時間沸騰させた0反応混合物を熱いうちに貼atlIan541濾紙で一過し
、回転蒸発器でブタノンを除去して、淡黄色固体の粗生成物(12y)を得た。
24社の工業用メチルアルコールで再結晶化して物質を精製し、白色結晶質生成
物(8,h)を得た。
第二「′LWI+(4−■−−シルビフェニルー4°−オキシ酢゛)エチル4−
n−デシルビフェニル−4′−オキシアセテート(9,8g)と、水酸化カリウ
ム(3,5y)と、水(11+1)と工業用メチルアルコール(400zjりと
の混合物を攪拌し還流下で1晩加熱した0反応混合物を冷却し、21の冷水に添
加し、濃塩酸の添加によってpi(1に酸性化した。得られた沈殿固体をp別し
、乾燥し、それ以上精製しないで合成の次の段階で使用した。
収量は8.3gであった。
三 5−1−メ ルヘプ ル4−n−−シルビフェニル−4゛−ンシアセーート
4−n−デシルビフェニル−4°−オキシ酸a (4g)と5−2−オクタツー
ル(1,56y>とジシクロへキシルカルボジイミド(2,47y>と4−ジメ
チルアミノピリジン(0,2y)とジシクロメタン(50zl)とを室温で1晩
攪拌した6反応混合物を濾過し、固体残渣をジシクロメタン(25z1)で洗浄
し合わせた液体抽出物を回転蒸発器で蒸発乾固した。生成物は黄白色の固体であ
った。52gの中性アルミナを用いたクロマトグラフィーによって生成物を精製
し、石油エーテルで溶出し、1011の工業用メチルアルコールから再結晶化し
た。 )IPLC”C純度99.9:の純白生成物1.15yが得られた。融点
は42〜42.5℃であった。
同様の方法で以下の化合物(B)
をIIPLcで純度99.51融点53.5〜54℃の白色固体として調固体結
晶−5c==87℃、5c−N= 110℃、N−I= 111℃を調製した。
上記化合物(^)及び(B)を含む強誘電性スメクチック液晶組成物を調製した
。各組成物は
から成るホスト中に10重izの化合物な含有し、ホストと化合物(^)又は(
B)との合計が100重量2である。混合物は以下に示すように混合物(^)又
は(B)と指称される。
匹Illいυ−
IL九追
5−(−)プロピレンオキシドから調製された1−(4’−オクトキシビフェニ
ル−4−イル)プロパン−2−オールとp−ヘキシル安息香酸とから(÷)−p
−ヘキシル安息香酸(1−) (4’−オクトキシビフェニル−4−イル)−2
−プロピルエステルを生成した。
これは融点67℃でジクロロメタン中5重量%の濃度で[α]26が+66.6
°であった。
11鰺旺
前記方法を使用して調製した式■のいくつかの別の化合物の特性を以下に示す。
C3)(、%Qo−0ξHHCH3C00CH3,p、 12’C3Hy−○−
Qo−OgHCH3COOC4H7’ m、 p、 O’C6Hl3−(30−
0ξHCH3C00C2Hs Ol−1)−36’C7’+5−CN()−〇さ
HC)13COOC2)15m、 p、 31’C7H+5−GN−O−0ご)
Ic)13COOC4)13. rn、 p、 1B’C9’19−CN−■−
〇5HCH3COOC2145m、 p、 33’X11U1
式■の化合物を含む強誘電性スメクチック液晶組成物の例を以下に示す。
成分 重量%
2−p−ノニルオキシフェニル−5−へブチルピリミジン 32−p−へキシル
オキシフェニル−5−ノニルピリミジン 72−p−ノニルオキシフェニル−5
−ノニルピリミジン 23r−1−シアノ−シス−4−(4°−オクチルオキシ
ビフェニル−4−イル)−1−ブチルシクロヘキサン 28r−1−シアノ−シ
ス−4−(4’−へブチルビフェニル−4−イル)−1−ヘキシルシクロヘキサ
ン 14r−1−シアノ−シス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)−1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン 6
z−p−へブチルオキシフェニル−5−へブチルピリミジン 32−p−オクチ
ルオキシフェニル−5−へブチルピリミジン 32−p−へキシルオキシフェニ
ル−5−ヘプチルピリミジン 3上記混合物は
SC54SA 56 Ch 95 Iを示した。
自発分極Psは25℃で+4.3nCcm−’であった。
Xl直牝リす
強誘電性スメクチック液晶組成物の例。
成分 重量%
2−p−ノニルオキシフェニル−5−ヘプチルピリミジン 32−、−へキシル
オキシフェニル−5−ノニルピリミジン 72−p−ノニルオキシフェニル−5
−ノニルピリミジン 23r−1−シアノ−シス−4−(4”−オクチルオキシ
ビフェニル−4−イル)−1−ブチルシクロヘキサン 28r−1−シアノ−シ
ス−4−(4°−へブチルビフェニル−4−イル)−1−ヘキシルシクロヘキサ
ン 14r−1−シアノ−シス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)−1−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン 6
z−p−へブチルオキシフェニル−5−ヘプチルピリミジン 32−p−オクチ
ルオキシフェニル−5−ヘプチルピリミジン 3上記混合物は
自発骨iPsは20℃で+10.4nCcm−”であった。
え1匠孤
エチルラクテートに代えて公知のα−ヒドロキシカルボン酸c、H,CI(OH
)COO)lを使用しこれがらスルホネートを生成するように手順^を修正して
ラセミ化合物を調製した。公知の別のα−ヒドロキシカルボン酸、例えば
C211SCH(0)1)COOH
C,H,CI(Of()COOII
C,H,Ic)I(OH)COOH
を使用しかかる酸、類似化合物の別のアルキル、シクロアルキル又はフェニル等
のエステルを調製し得る。
または、公知のアルデヒドがらシアノヒドリンを介して以下の加水分解手順でα
−ヒドロキシカルボン酸を合成してもよい。
OHOH
R−CHO−〉RCH−CN q RCH−COOH(t)HCN(無水) 濃
HC1,50℃。
KCN(微量)、H” 12時間
ブルシンを使用し公知の方法でラセミ酸を光学的に分離し得る。Rは適当なアル
キル基を示す。
または、市販の(Alclrieh)(±)−エチル−2−ブロモヘキサノエー
トと適当なフェノールとを反応させて前記化合物を調製してもよい。
生成物を単離し標準方法で精製した。
式■の化合物を液晶材料に使用した例、及び本発明デバイスの具体例を第2図に
基づいて以下に説明する。
第2図において液晶セルは、例えば酸化スズ又は酸化インジウムから成る透明導
電層3を表面にもつガラススライド2と表面に透明導電層5をもつガラススライ
ド4との間にサンドイッチ状に挾持されたキラルスメクチック相を示す液晶材料
層1を含む0層3,5を夫々担持するスライド2.4は夫々、ポリイミドポリマ
ー薄膜6.7で被覆されている。セルを組立てる前に24!a、7を柔らかい布
で所与の方向にこする。こすり方向はセルを組立なときにこすった方向が平行に
配列するような方向である0例えばポリメチルメタクリレートから成るスペーサ
ー8がスライド2と4とを所望の間隔、例えば5μだけ離間させている。液晶材
料1はスライド2.4の間に所望の厚さ例えば5μまで導入される。液晶材料1
を導入しスライド2.4とスペーサー8との間のスペースに充填してスペーサー
8を公知の方法で真空封止する。好ましくは液晶分子がスライド2.4上でこす
り方向で容易に整列するように、スライド2,4間に導入されるときの液晶材料
が、スメクチック^又は等方性液相(材料の加熱によって得られる)である。
薄M 6 、7の上でこすり方向に平行な偏光軸をもつように偏光子9が配置さ
れ、こすり方向に垂直な軸をもつように検光子(交差偏光子)10が配置されて
いる。
約+IOVと一10Vとの間で変化する(図示しない従来のソースから)矩形波
電圧が層3と5に接触させることによってセルに印加されると、前記したように
電圧の符号変化によってセルは暗状態と明状態との間でスイッチングされる。
第2図のセル構造に基づくデバイスの(図示しない)変形具体例においては、公
知の方法、例えばホトエツチング又はマスクデポジションによって層3.5に選
択的な形状が与えられ、これらは例えば従来のディプレイデバイスと同様の1つ
以上のディスプレイ記号、例えば文字、数字、単語又は口形等を示し得る。これ
により形成される電極部分はマルチプレックス駆動のような種々の方法でアドレ
スされ得る。
室温でSC相を示す前記のごとき強誘電性スメクチック液晶組成物を液晶材料1
として使用することができる。
このデバイスでの使用には実施例15.18及び19の組成物が特に適当である
。
国際調査報告
Claims (17)
- 1.式I: ▲数式、化学式、表等があります▼I [式中、R1及びR2はH,R,RO,ROOC,RCOO,RCOOCH(C H3)COO及びCOOCH(CH3)COOR,CN及びハロゲンから個々に 選択され、RはC1−12アルキルであり、 式中、■,■,■,■,■のそれぞれは▲数式、化学式、表等があります▼,▲ 数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式 、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化 学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式 、表等があります▼から個々に選択され、これ等の環はハロゲン,CNまたはC H3から選択された1つ以上の側方置換基を有していてもよく、 B,C及びDはCOO,OOC,CH2CH2,OCH2,CH2O,CH=N ,N=CH,N=Nまたは単結合から個々に選択され、 b,C,d,e及びZのそれぞれは個々に0または1であるが、但し(b+c+ d+e)は1,2または3であり、X,Y,Zのそれぞれは相異なり−O−,C OO,OOC,CH2または▲数式、化学式、表等があります▼から選択され、 ここでWはC1−5アルキル,フェニル,シクロヘキシル,ハロゲンまたはCN を示し、WがCNのときはdまたはeが1であり、また環■及び■が存在する場 合は同じ側方置換パターンを示す〕を有する強誘電性スメクチック液晶混合物に 含有させるのに適した化合物。
- 2.R1及びR2がアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキシまたはアルコキ シカルボニルから個々に選択されることを特徴とする請求の範囲1に記載の化合 物。
- 3.Wがn−アルキルであることを特徴とする請求の範囲1または2に記載の化 合物。
- 4.Wがメチルであることを特徴とする請求の範囲3に記載の化合物。
- 5.X−Y−(Z)z−が、 ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、 化学式、表等があります▼から選択されることを特徴とする請求の範囲1〜3の いずれかに記載の化合物。
- 6.▲数式、化学式、表等があります▼が、▲数式、化学式、表等があります▼ ,▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります▼,▲ 数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式 、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化 学式、表等があります▼,▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化学式 、表等があります▼(フェニル環は1つの側方ハロゲン置換基を有していてもよ い)から選択されることを特徴とする請求の範囲1〜5のいずれかに記載の化合 物。
- 7.▲数式、化学式、表等があります▼R1はC3−10の直鎖または分枝アル キルまたはアルコキシであり、R2はC1−12のアルキルまたはアルコキシで あるか、R2がフェニルまたはシクロヘキシル環に直接結合しているときはR2 はアルカノイルオキシ、アルコキシカルボニル、COOCH(CH3)C3H7 またはCOOCH(CH3)COOC2H5であってもよく、フェニル環は1つ の側方ハロゲン置換基を有していてもよい)から選択される式を有する請求の範 囲5または6に記載の化合物。
- 8.▲数式、化学式、表等があります▼(R2は2−メチルヘプチルオキシであ る)から選択される式を有する請求の範囲5または6に記載の化合物。
- 9.Rが直鎖のC3−12アルキルであることを特徴とする請求の範囲1に記載 の化合物。
- 10.■■■■及び■の1つが▲数式、化学式、表等があります▼であることを 特徴とする請求の範囲1に記載の化合物。
- 11.化合物の混合物である強誘電性スメクチック液晶材料であって、少なくと も1種が式Iの化合物であり、少なくとも1種がスメクチック相を示す化合物で あり、混合物が、1種以上の式Iの化合物1−50重量%スメクチック相を示す 1種以上の化合物50−99重量%の組成を有することを特徴とする前記液晶材 料。
- 12.スメクチック相を示す少なくとも1種の化合物が式▲数式、化学式、表等 があります▼ (RA及びRBは個々にアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキシまたはアル コキジカルボニルである)を有することを特徴とする訴求の範囲11に記載の材 料。
- 13.RA及びRBが個々にn−アルキル、n−アルコキシまたはn−アルコキ シカルボニルであることを特徴とする請求の範囲12に記載の材料。
- 14.スメクチック相を示す少なくとも1種の化合物が▲数式、化学式、表等が あります▼または▲数式、化学式、表等があります▼ (RCはアルキルであ) から選択される式を有することを特徴とする請求の範囲12に記載の材料。
- 15.スメクチック相を示す少なくとも1種の化合物が式▲数式、化学式、表等 があります▼ (RA及びRBは個々にアルキルまたはアルコキシである)を有することを特徴 とする請求の範囲11に記載の材料。
- 16.RA及びRBが個々にn−アルキルまたはn−アルコキシであることを特 徴とする請求の範囲15に記載の材料。
- 17.請求の範囲11に記載した液晶材料を使用することを特徴とする液晶電気 光学ディスフレイデバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB868604330A GB8604330D0 (en) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | Liquid crystal compounds mixtures |
GB8604330 | 1986-02-26 | ||
GB8604739 | 1986-02-26 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7324863A Division JP2637942B2 (ja) | 1986-02-21 | 1995-12-13 | 液晶化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63502435A true JPS63502435A (ja) | 1988-09-14 |
JP2645048B2 JP2645048B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=10593449
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50136687A Expired - Fee Related JP2645048B2 (ja) | 1986-02-21 | 1987-02-20 | 液晶化合物、混合物及びデバイス |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2645048B2 (ja) |
GB (1) | GB8604330D0 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001328955A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-11-27 | Seimi Chem Co Ltd | 光学活性化合物、それを含有する液晶組成物および液晶素子 |
-
1986
- 1986-02-21 GB GB868604330A patent/GB8604330D0/en active Pending
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1987
- 1987-02-20 JP JP50136687A patent/JP2645048B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001328955A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-11-27 | Seimi Chem Co Ltd | 光学活性化合物、それを含有する液晶組成物および液晶素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8604330D0 (en) | 1986-03-26 |
JP2645048B2 (ja) | 1997-08-25 |
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