JPH05213930A - 新規な光学活性ベンゾジオキサン誘導体および液晶組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】強誘電性液晶組成物用のキラルドーパントとし
て好適な光学活性化合物を提供する。 【構成】一般式（Ｉ）で表される光学活性ベンゾジオキ
サン化合物及び該光学活性ベンゾジオキサン化合物を含
有する液晶組成物。 〔式中、Ｒは、Ｃ_１〜１４−アルキル基、あるいは、Ｃ
_１〜１４−アルコキシ基を表し、Ｙは、単結合、−ＣＯ
−Ｏ−、または−ＣＨ_２−Ｏ−を表し、Ａ環は（フッ素
置換）１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキシレ
ン、（フッ素置換）４，４′−ビフェニレン等を表し、
Ｂ環は図示構造の１，４−ベンゾジオキサン−２−オン
環を表す〕 【効果】式（Ｉ）の光学活性化合物はＳｍＣ相を有する
液晶組成物に添加することにより強誘電性を誘起し、極
めて応答速度の速い液晶組成物を与える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【技術分野】本発明は、新規な光学活性化合物並びにこ
れらの光学活性化合物の少なくとも１種を含有すること
を特徴とする液晶組成物に関する。更に詳しく言えば、
本発明は、強誘電性液晶に関し、強誘電性液晶組成物の
組成成分として有用で、かつ化学的安定性に優れた光学
活性ベンゾジオキサン環を有する新規な光学活性化合物
ならびに、それらの光学活性ベンゾジオキサン環を有す
る新規な光学活性化合物の少なくとも１種を含有する諸
特性に優れた性質を示す液晶組成物に関する。

【０００２】

【背景技術】時計、電卓、パーソナルワープロ、ポケッ
トテレビ用等の表示素子として、液晶表示素子は広く用
いられている。これは受光型で目が疲れない、消費電力
が少ない、薄型である等の優れた特徴を有しているため
であるが、一方においては応答速度が遅い、メモリー性
がない等から応用面において制約があった。応用面の拡
大を図るため、従来用いられていたツイステッドネマチ
ック（ＴＮ）型表示方式を改良したスーパーツイステッ
ドネマチック（ＳＴＮ）型表示方式等も見いだされてい
る。しかし、これらは大画面表示或いはグラフィック表
示用としては充分でなく、これらに代わる液晶表示素子
の研究も種々行われている。その１つに強誘電性液晶
〔Ｒ．Ｂ．Ｍｅｙｅｒら；Ｐｈｙｓｉｑｕｅ，３６Ｌ−
６９（１９７５）〕を利用した表示方式〔Ｎ．Ａ．Ｃｌ
ａｒｋら；Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓ．ｌｅｔｔ．，３
６，８９９（１９８０）〕がある。この方式は従来方式
に比べて１００倍もの高速応答であること、及びメモリ
ー性があること等の優れた特徴を有しているため、液晶
表示素子の用途拡大が期待されている。強誘電性液晶は
液晶分子長軸が層法線方向とある角度を有する一連のス
メクチック液晶を指すが、実用的にはそのなかのカイラ
ルスメクチックＣ（カイラルＳｍＣ）相が利用される。

【０００３】表示素子用の強誘電性液晶組成物には、
（ａ）種々のカイラルＳｍＣ相を有する化合物同士を混
合して得られるものと（ｂ）種々のＳｍＣ相を有する化
合物と光学活性化合物とを混合して得られるものとがあ
る。強誘電性液晶表示素子用の強誘電性液晶組成物とし
て、当初（ａ）の方式で得られる液晶組成物が用いられ
ていたが、研究開発が進展し、ＳｍＣ相を有する化合物
に光学活性化合物を添加することにより強誘電性液晶組
成物が得られることが判明して以来、ＳｍＣ化合物を混
合して得られるＳｍＣ組成物（ＳｍＣホスト）に１種〜
数種の光学活性化合物（カイラルＳｍＣ相を有している
方が好ましいが、必ずしも有していなくとも良い。キラ
ルドーパントと呼称される）を添加して強誘電性液晶組
成物を調製することによる（ｂ）の方式が主流となって
きている。

【０００４】これは実用面において、（ｂ）の方式の方
が、要求される種々の特性（動作温度範囲、応答速度、
自発分極、ラセンピッチ、化学的安定性等）に合わせて
調製しやすいこと、又、カイラルＳｍＣ化合物に比べて
ＳｍＣ化合物は安価に合成できること等から、（ａ）の
方式より有利と考えられているためである。

【０００５】しかし、未だ実用に供せられるまでに至っ
ておらず、強誘電性液晶組成物として優れた特性を発現
する化合物の開発が望まれている。

【０００６】本発明者らは、前記（ａ）方式あるいは
（ｂ）方式の両方式に有用な光学活性化合物に着目し、
特に、（ｂ）方式のＳｍＣホストに添加してカイラルＳ
ｍＣ相を誘起せしめ、液晶表示素子用材料として実用に
供することのできるキラルドーパントに視点を置き、か
つ又、安価に合成可能なキラルドーパントを得ることを
目的に検討した。

【０００７】キラルドーパントに要求される特性の１つ
として、ＳｍＣホストにそれを添加することにより得ら
れる強誘電性液晶組成物の自発分極が大きいことが上げ
られる。これは強誘電性液晶における応答時間と自発分
極の関係式τ＝η・Ｅ／Ｐｓ（τ＝応答時間、η＝粘
性、Ｅ＝電界、Ｐｓ＝自発分極）から明らかなように、
自発分極を大きくすれば応答時間を短くできるためであ
る。

【０００８】自発分極とキラルドーパントの分子構造と
の関係については、種々の説があるがいずれも経験則に
よるという域を脱しておらず、未だ確固としたものはな
い。それらの中の１つに「強誘電性を発現させる分子構
造中の双極子モーメントを持つ部分の自由回転を阻害す
れば、全体としての双極子部分を一定方向に向かわせる
ことが可能となり自発分極を大きくすることができる」
との説がある（特開平２−１３８２７４号公報参照）。

【０００９】

【発明の開示】本発明者等は、上記の説を基に鋭意研究
した結果、環内に不斉炭素を有するベンゾジオキサン誘
導体は、環内の不斉炭素によって、不斉炭素周辺の自由
回転が抑えられ、双極子の向きが一方向にそろえられる
ことにより、キラルドーパントとして極めて優れた特性
を有することを見い出した。本発明は、かかる知見に基
づいて完成するに至ったものである。

【００１０】すなわち、本発明は、一般式、（Ｉ）

【化８】 〔式中、Ｒは、炭素原子数１〜１４の直鎖状または分岐
鎖状のアルキル基、あるいは、炭素原子数１〜１４の直
鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基を表し、Ｙは、単結
合、−ＣＯ−Ｏ−、または−ＣＨ_２−Ｏ−を表し

【００１１】

【化９】

【００１２】

【化１０】 （式中、Ｒ′は、炭素原子数１〜１４の直鎖状または分
岐鎖状のアルキル基を表し、＊は、不斉部位を表す）を
表す〕で表される光学活性ベンゾジオキサン化合物、並
びにそれらの少なくとも１種を含有することを特徴とす
る液晶組成物を提供するものである。

【００１３】本発明に係わる新規な光学活性化合物は、
それ自身、単独ではカイラルＳｍＣ相を有していない
が、それらをＳｍＣホスト液晶に適当な割合で混合する
と、電圧が印加されることにより高速な光学応答を示す
強誘電性液晶組成物を調製することができる極めて有用
な化合物である。

【００１４】以下に本発明に係わる化合物の合成経路に
ついて説明し、さらに、実施例により本発明を詳細に説
明する。これらの合成経路は、その一例であり、また、
実施例とともにこれらの例により本発明は、制約される
ものではない。

【００１５】以下の記述に用いられている略記号は下記
のとおりである。 ＨＬＣ 高速液体クロマトグラフィー ＧＬＣ ガスクロマトグラフィー （Ｓ） 絶対立体配置におけるＳ配置 （Ｒ） 絶対立体配置におけるＲ配置 Ｄ 相対立体配置におけるＤ系列 Ｌ 相対立体配置におけるＬ系列 ｂ．ｐ 沸点 ｍ．ｐ 融点 Ｃｒｙｓｔ． 結晶 ＳｍＣ スメクチックＣ相 ＳｍＡ スメクチックＡ相 Ｎｅ ネマチック相 Ｃｈ コレステリック相 Ｉｓｏ． 等方性液体

【００１６】

【化１１】 説明する。（化合物名を式によって略記する。）

【００１７】経路１

【化１２】

【００１８】

【化１３】

【００１９】続いて、このものをＰｄ触媒の存在下で、
加圧水素により脱ベンジル化反応を行い、さらに、加熱
による閉環反応を行って

【化１４】

【００２０】

【化１５】 続いて、Ｐｄ触媒の存在下に、加圧水素による脱ベンジ
ル化反応を行い、さらに、加熱による閉環反応を行うこ
とにより、

【化１６】

【００２１】

【化１７】

【００２２】経路２

【化１８】

【００２３】

【化１９】 続いて、このものをＰｄ触媒の存在下で、脱ベンジル化
反応を行い、さらに、加熱による閉環反応を行って目的
物である

【化２０】

【００２４】

【化２１】 続いて、Ｐｄ触媒の存在下に、加圧水素による脱ベンジ
ル化反応を行い、さらに、加熱による閉環反応を行うこ
とにより

【００２５】

【化２２】

【００２６】経路３

【化２３】

【００２７】

【化２４】

【００２８】

【化２５】 で表される化合物を得た後、Ｐｄ触媒の存在下に、加圧
水素による脱ベンジル化反応を行い、続いて、加熱閉環
反応を行って

【００２９】

【化２６】

【００３０】

【化２７】

【００３１】

【化２８】

【００３２】経路４

【化２９】

【００３３】

【化３０】

【化３１】

【００３４】

【化３２】

【００３５】次に、中間体

【化３３】 で表される化合物の合成経路について説明する。

【００３６】この中間体の一部は、市販されており、Ｍ
ｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．１９８９１７
２ １２５−１４６に記載の合成方法に従って

【化３４】 また、経路５に示したケトカルボン酸の不斉水素還元か
らも合成可能である。

【００３７】経路５ Ｒ′′′ＣＨ_２ＣＯＯＣ_２Ｈ_５（Ｒ′′′は炭素原子数
１〜１３の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基）で表さ
れる化合物とシュウ酸ジエチルとをアルカリ存在下に反
応させ、

【化３５】 次に、このものを酸性条件下に、加水分解し、次いで、
脱炭酸反応を行ってＲ′ＣＯＣＯＯＨで表される化合物
を得、続いてＲｈ触媒の存在下に、加圧水素による不斉
水素還元を行って

【化３６】

【００３８】このものとＲ″ＯＨとからエステル化反応
を行うことにより中間体

【化３７】

【００３９】経路６ この化合物の一部も市販されているが、

【化３８】 で表される化合物のグリニャール試薬あるいは、Ｌｉ塩
を調製し、硼酸エステルと反応させた後、酸性条件下に
加水分解することにより、

【化３９】

【００４０】次に、実施例を示し、各合成法について詳
細に説明する。

【００４１】

【実施例】

実施例１ （Ｒ）−２−ブチル−６−（４′−オクチル
オキシフェニノル）−１，４−ベンゾジオキサン−３−
オンの合成

【化４０】

【００４２】１） （Ｓ）−２−ヒドロキシヘキサン酸
エチルエステルの合成

【化４１】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、
（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキサン酸４８ｇ（Ｍｏｌ．Ｃ
ｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．１９８９１ １７２
１２５−１４６に記載の合成例に従い、Ｌ−ノルロイシ
ンを用いて合成）、エタノール３００ｍｌ、ｐ−トルエ
ンスルホン酸０．５ｇを仕込み、還流下に８時間撹拌し
た。反応液を濃縮後、残留分へ無水炭酸カリウム０．８
ｇを加え暫く撹拌した。これにエーテルを注加し不溶物
を濾過した後、溶媒を留去し、残留分を減圧蒸留して標
記化合物を得た。収量２７ｇ 収率４６％ ＧＬＣ９７
％ ｂ．ｐ８９−９２℃／１５ｍｍＨｇ

【００４３】２） ４−ブロモ−２−ベンジルオキシフ
ェノールの合成

【化４２】 温度計、撹拌機を備えたフラスコに、２−ベンジルオキ
シフェノール１２５ｇ、酢酸エチル６５０ｍｌを仕込
み、氷水冷下（０℃）臭素１００ｇを１時間かけて滴下
し、同温度で１．５時間撹拌した。反応液をチオ硫酸ナ
トリウム水溶液５００ｍｌに注加し析出する固形物を濾
過して除き、濾液をエーテルで抽出した。この抽出液を
水酸化ナトリウム水溶液、水、希塩酸、水の順に洗浄し
芒硝で乾燥させた後、溶媒を留去した。残留分を減圧蒸
留して標記化合物を得た。収量１３１ｇ 収率７５％
ＧＬＣ９７％ ｂ．ｐ１５０−１８０℃／０．３４ｍｍ
Ｈｇ

【００４４】３） （Ｒ）−２−（４−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチルエステ
ルの合成

【化４３】 温度計、撹拌機を備えたフラスコに、４−ブロモ−２−
ベンジルオキシフェノール８．７ｇ、トリフェニルホス
フィン８．２ｇ、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキサン酸エ
チルエステル５．０ｇ、ＴＨＦ ４０ｍｌを仕込み、氷
水冷下アゾジカルボン酸ジエチルエステル５．４ｇを滴
下した。同温度で２時間、室温下で４日間撹拌した後、
反応液を希塩酸へ注加し有機層をベンゼンで抽出した。
ベンゼン層を水洗、芒硝で乾燥させた後、溶媒を留去し
た。残留分をヘキサンへ注加し不溶物を濾過により取り
除いた後濾液を濃縮して標記化合物を得た。収量１２．
７ｇ

【００４５】４） ４−オクチルオキシフェニルボロン
酸の合成

【化４４】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、マグ
ネシウム１１ｇ及び微量のヨウ素を仕込み、窒素気流
下、乾燥ＴＨＦ ２００ｍｌに溶解させた４−オクチル
オキシブロモベンゼン１１６ｇを滴下してグリニャール
試薬を調製した。別のフラスコに硼酸トリメチル４５
ｇ、乾燥ＴＨＦ １００ｍｌを仕込み、１０℃以下で先
に調製したグリニャール試薬を滴下した。同温度で１時
間、室温下で２時間撹拌した後、反応液を冷希塩酸へ注
加した。有機層をエーテルで抽出後エーテル層を水洗し
芒硝で乾燥させた。溶媒を留去後、残留分をヘキサンよ
り再結晶して標記化合物を得た。収量４７ｇ

【００４６】５） （Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ
−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イル）オキ
シヘキサン酸エチルエステルの合成

【化４５】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、Ｐｄ
〔ＰＰｈ_３）_４０．５ｇ、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇ（ベンゼン２５ｍｌに溶解）、２Ｍ炭
酸ナトリウム水溶液２０ｍｌ、４−オクチルオキシフェ
ニルボロン酸４．３ｇ（エタノール２０ｍｌに溶解）を
仕込み、窒素気流下還流温度で６時間撹拌した。反応液
を水へ注加し有機層をベンゼンで抽出した。ベンゼン層
を水洗し芒硝で乾燥させた後、溶媒を留去した。残留分
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ベンゼ
ン）にて精製し標記化合物を得た。収量７．５ｇ 収率
８１％ ＨＬＣ ９２％

【００４７】６） （Ｒ）−２−ブチル−６−（４′−
オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサン
−３−オンの合成

【化４６】 オートクレーブに、（Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ
−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イル）オキ
シヘキサン酸エチルエステル７．０ｇ、酢酸エチル８０
ｍｌ、１０％Ｐｄ−Ｃ３ｇを仕込み、水素圧を１０ｋｇ
／ｃｍ^２に設定し室温下２４時間撹拌した。反応液を濾
過後、濾液を濃縮し残留分を減圧蒸留した。更に留分を
アセトン／エタノール混合溶媒より再結晶して標記化合
物を得た。収量４．０ｇ収率７６％ ＨＬＣ ９９％
ｂ．ｐ２１０℃／０．５ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収
スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃ
ｍ^−１、１７８０ｃｍ^−１に吸収を有し、また、マスス
ペクトル測定では、ｍ／ｅ＝４１０に分子イオンピーク
および基準ピークが観察された。これらの測定結果と使
用した原料との関係からみて、得られた化合物は、標記
化合物であると同定された。このものをメトラー社製ホ
ットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に相転移温度
を観察した結果を表１に示す。

【００４８】実施例２ （Ｓ）−２−プチル−６−
（４′−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジ
オキサン−３−オンの合成

【化４７】

【００４９】１） （Ｒ）−２−ヒドロキシヘキサン酸
エチルエステルの合成

【化４８】 実施例１−１）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸４８ｇに替えて、（Ｒ）−２−ヒドロキシヘキサ
ン酸４８ｇ（Ｄ−ノルロイシンを用いて合成）を用い、
他は実施例１−１）と同様に操作して標記化合物を得
た。収量２９ｇ 収率５０％ ＧＬＣ ９６％ ｂ．ｐ
８０−１１０℃／２０ｍｍＨｇ

【００５０】２） （Ｓ）−２−（４−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチルエステ
ルの合成

【化４９】 実施例１−３）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸エチルエステル５．０ｇに替えて、（Ｒ）−２−
ヒドロキシヘキサン酸エチルエステル５．０ｇを用い、
他は実施例１−３）と同様に操作して標記化合物を得
た。収量１１．６ｇ

【００５１】３） （Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ
−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イル）オキ
シヘキサン酸エチルエステルの合成

【化５０】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、（Ｓ）−２−（４−ブロモ
−２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチ
ルエステル７．２ｇを用い、他は実施例１−５）と同様
に操作して標記化合物を得た。収量７．２ｇ 収率７８
％ ＨＬＣ ９３％

【００５２】４） （Ｓ）−２−ブチル−６−（４′−
オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサン
−３−オンの合成

【化５１】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇ．に替え
て、（Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ−３′−ベンジ
ルオキシビフェニル−４′−イル）オキシヘキサン酸エ
チルエステル７．０ｇを用い、他は実施例１−６）と同
様に操作して標記化合物を得た。収量３．０ｇ 収率５
７％ ＨＬＣ ９８％ ｂ．ｐ２００−２１０℃／０．
５ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクトルを測定する
と、２８００−３０００ｃｍ^−１、１７８０ｃｍ^−１、
に吸収を有し、また、マススペクトル測定では、ｍ／ｅ
＝４１０に分子イオンピークおよび基準ピークが観察さ
れた。これらの測定結果と使用した原料との関係から得
られた化合物は、標記化合物であると同定された。この
ものをメトラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、
顕微鏡下に相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【００５３】実施例３ （Ｒ）−２−メチル−６−
（４′−オクチルオキシフェニル）−１．４−ベンゾジ
オキサン−３−オンの合成

【化５２】

【００５４】１） （Ｒ）−２−（４−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシプロピオン酸エチルエス
テルの合成

【化５３】 実施例１−３）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸エチルエステル５．０ｇに替えて、（Ｓ）−乳酸
エチル３．７ｇを用い、他は実施例１−３）と同様に操
作して標記化合物を得た。収量６．６ｇ

【００５５】２） （Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ
−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イル）オキ
シプロピオン酸エチルエステルの合成

【化５４】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、 （Ｒ）−２−（４−ブロ
モ−２−ベンジルオキシフェニル）オキシプロピオン酸
エチルエステル６．４ｇを用い、他は実施例１−５）と
同様に操作して標記化合物を得た。収量６・５ｇ

【００５６】３） （Ｒ）−２−メチル−６−（４′−
オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサン
−３−オンの合成

【化５５】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ−３′−ベンジ
ルオキシビフェニル−４′−イル）オキシプロピオン酸
エチルエステル６．５ｇを用い、他は実施例１−６）と
同様に操作して標記化合物を得た。収量３．２ｇ 収率
６７％ ＨＬＣ １００％ ｂ．ｐ１９０℃／０．２４
ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクトルを測定する
と、２８００−３０００ｃｍ^−１、１７９０ｃｍ^−１、
に吸収を有し、また、マススペクトル測定では、ｍ／ｅ
＝３６８に分子イオンピークおよび基準ピークが観察さ
れた。これらの測定結果と使用した原料との関係から得
られた化合物は、標記化合物であると同定された。この
ものをメトラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、
顕微鏡下に相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【００５７】実施例４ （Ｓ）−２−メチル−６−
（４′−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジ
オキサン−３−オンの合成

【化５６】

【００５８】１） （Ｓ）−２−（４−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシプロピオン酸メチルエス
テルの合成

【化５７】 実施例１−３）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸エチルエステル５．０ｇ．に替えて、（Ｒ）−乳
酸メチル３．３ｇを用い、他は実施例１−３）と同様に
操作して標記化合物を得た。収量９．６ｇ

【００５９】２） （Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ
−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イル）オキ
シプロピオン酸メチルエステルの合成

【化５８】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇ替えて、（Ｓ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシプロピオン酸メチ
ルエステル６．２ｇを用い、他は実施例１−５）と同様
に操作して標記化合物を得た。収量６．４ｇ 収率７７
％ ＨＬＣ ９９％

【００６０】３） （Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ
−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イル）オキ
シプロピオン酸の合成

【化５９】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、
（Ｓ）−２−（４−オクチルオキシー３′−ベンジルオ
キシビフェニル−４′−イル）オキシプロピオン酸メチ
ルエステル６．４ｇ，エタノール６０ｍｌ，水酸化ナト
リウム１．５ｇ（水１５ｍｌに溶解）を仕込み、還流下
２時間撹拌した。反応液を希塩酸へ注加し有機層をベン
ゼンで抽出した。ベンゼン層を水洗し芒硝で乾燥させた
後、溶媒を留去した。残留分をヘキサンより再結晶して
標記化合物を得た。収量６．１ｇ ｍ．ｐ９５−１１０
℃

【００６１】４） （Ｓ）−２−メチル−６−（４′−
オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサン
−３−オンの合成

【化６０】 オートクレーブに、（Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ
−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イル）オキ
シプロピオン酸６．１ｇ、酢酸エチル５０ｍｌ、１０％
Ｐｄ−Ｃ１．５ｇを仕込み、水素圧を１０ｋｇ／ｃｍ^２
に設定し、室温下２４時間撹拌した。反応液を濾過し、
濾液を濃縮した。残留分を減圧蒸留し、さらに、留分を
アセトンより再結晶して標記化合物を得た。収量２．８
ｇ 収率５８％ ＨＬＣ ９９％ ｂ．ｐ１８６−１９
０℃／０ｂ２４ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクト
ルを測定すると、２８００−３０００ｃｍ^−１、１７９
０ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、マススペクトル測定
では、ｍ／ｅ＝３６８に分子イオンピークおよび基準ピ
ークが観察された。これらの測定結果と使用した原料と
の関係から得られた化合物は、標記化合物であると同定
された。このものをメトラー社製ホットステージＦＰ−
８２に入れ、顕微鏡下に相転移温度を観察した結果を表
１に示す。

【００６２】実施例５ （Ｒ）−２−〔（Ｓ）−１−メ
チルプロピル〕−６−（４′−オクチルオキシフェニ
ル）−１，４−ベンゾジオキサン−３−オンの合成

【化６１】

【００６３】１） （２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキシ
−３−メチルバレリル酸エチルエステルの合成

【化６２】 実施例１−１）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸４８ｇに替えて、（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキ
シ−３−メチルバレリル酸４８ｇ（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓ
ｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．１９８９ １７２ １２５−
１４６に記載の合成例に従い、Ｌ−（＋）−イソロイシ
ンを用いて合成）を用い、他は、実施例１−１）と同様
に操作して標記化合物を得た。収量２８ｇ 収率４８％
ＧＬＣ ９２％ ｂ．ｐ８９℃／１７ｍｍＨｇ

【００６４】２） （２Ｒ，３Ｓ）−２−（４−ブロ
モ−２−ベンジルオキシフェニル）オキシ−３−メチル
バレリル酸エチルエステルの合成

【化６３】 実施例１−３）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸エチルエステル５．０ｇに替えて、 （２Ｓ，３
Ｓ）−２−ヒドロキシ−３−メチルバレリル酸エチルエ
ステル５．０ｇを用い、他は実施例１−３）と同様に操
作して標記化合物を得た。収量１２．５ｇ

【００６５】３） （２Ｒ，３Ｓ）−２−（４−オクチ
ルオキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシ−３−メチルバレリル酸エチルエステルの合
成

【化６４】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、（２Ｒ，３Ｓ）−２−（４
−ブロモ−２−ベンジルオキシフェニル）オキシ−３−
メチルバレリル酸エチルエステル７．２ｇを用い、他は
実施例１−５）と同様に操作して標記化合物を得た。収
量７．０ｇ 収率７５％ ＨＬＣ ９１％

【００６６】４） （Ｒ）−２−〔（Ｓ）−１−メチル
プロピル〕−６−（４′−オクチルオキシフェニル）−
１，４−ベンゾジオキサン−３−オンの合成

【化６５】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（２Ｒ，３Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ−３′
−ベンジルオキシビフェニル−４′−イル）オキシ−３
−メチルバレリル酸エチルエステル７．０ｇを用い、他
は実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を得た。
収量５２０ｍｇ 収率１０％ ＨＬＣ １００％ ｂ．
ｐ２００−２５０℃／０．５ｍｍＨｇこのものの赤外線
吸収スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃｍ
^−１、１７６０ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、マスス
ペクトル測定では、ｍ／ｅ＝４１０に分子イオンピーク
および基準ピークが観察された。これらの測定結果と使
用した原料との関係から得られた化合物は、標記化合物
であると同定された。このものをメトラー社製ホットス
テージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に相転移温度を観察
した結果を表１に示す。

【００６７】実施例６ （Ｒ）−２−メチル−６−
〔４′−｛（Ｓ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニ
ル〕−１，４−ベンゾジオキサン−３−オンの合成

【化６６】

【００６８】１） （Ｓ）−１−ブロモ−４−（１′−
メチルヘプチル）オキシベンゼンの合成

【化６７】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、４−
ブロモフェノール９０ｇ、トリフェニルホスフィン１４
５ｇ、（Ｒ）−２−オクタノール７２ｇ、ＴＨＦ ６０
０ｍｌを仕込み、氷水冷下アゾジカルボン酸ジエチルエ
ステル９６ｇを滴下した。同温度で２時間、室温下で４
日間撹拌した後、反応液を希塩酸へ注加し有機層をベン
ゼンで抽出した。ベンゼン層を水洗、芒硝で乾燥させた
後溶媒を留去した。残留分をへキサンへ注加し、不溶物
を濾過により取り除いた後濾液を濃縮した。残留分を減
圧蒸留して標記化合物を得た。収量１２６ｇ 収率８５
％ ＧＬＣ ９６％ ｂ．ｐ１０３℃／０．２ｍｍＨｇ

【００６９】２） （Ｓ）−４−（１−メチルヘプチ
ル）オキシフェニルボロン酸の合成

【化６８】 実施例１−４）において、４−オクチルオキシブロモベ
ンゼン１１６ｇに替えて、（Ｓ）−１−ブロモ−４−
（１′−メチルヘプチル）オキシブロモベンゼン１１６
ｇを用い、他は実施例１−４）と同様に操作して標記化
合物を得た。この物質は、室温下で液体であるため、実
施例１−４）記載のヘキサンによる再結精製工程は行わ
なかった。収量８８ｇ

【００７０】３） （Ｒ）−２−〔４−｛（Ｓ）−１−
メチルヘプチル｝オキシ−３′−ベンジルオキシビフェ
ニル−４′−イル〕オキシプロピオン酸エチルエステル
の合成

【化６９】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例３−１）で合成した
（Ｒ）−２−（４−ブロモ−２−ベンジルオキシフェニ
ル）オキシプロピオン酸エチルエステル６．４ｇを用
い、又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに
替えて、（Ｓ）−４−（１−メチルヘプチル）オキシフ
ェニルボロン酸４．３ｇを用い、他は実施例１−５）と
同様に操作して標記化合物を得た。収量７．０ｇ 収率
８２％ ＨＬＣ ９２％

【００７１】４） （Ｒ）−２−メチル−６−〔４′−
｛（Ｓ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニル〕−
１，４−ベンゾジオキサン−３−オンの合成

【化７０】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｒ）−２−〔４−｛（Ｓ）−１−メチルヘプチ
ル｝オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−
イル〕オキシプロピオン酸エチルエステル６．５ｇを用
い、他は実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量２．７ｇ 収率５７％ ＨＬＣ９９％ ｂ．
ｐ１８０℃／０．２ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収スペ
クトルを測定すると、２８００−３０００ｃｍ^−１、１
７９０ｃｍ^−１に吸収を有し、また、マススペクトル測
定では、ｍ／ｅ＝３６８に分子イオンピークが、ｍ／ｅ
＝２５６に基準ピークが観察された。これらの測定結果
と使用した原料との関係から得られた化合物は、標記化
合物であると同定された。このものをメトラー社製ホッ
トステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に相転移温度を
観察した結果を表１に示す。

【００７２】実施例７ （Ｓ）−２−メチル−６−
〔４′−｛（Ｓ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニ
ル〕−１，４−ベンゾジオキサン−３−オンの合成

【化７１】

【００７３】１） （Ｓ）−２−〔４−｛（Ｓ）−１−
メチルヘプチル｝オキシ−３′−ベンジルオキシビフェ
ニル−４′−イル〕オキシプロピオン酸メチルエステル
の合成

【化７２】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例４−１）で合成した
（Ｓ）−２−（４−ブロモ−２−ベンジルオキシフェニ
ル）オキシプロピオン酸メチルエステル６．２ｇを用
い、又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに
替えて、実施例６−２で合成した（Ｓ）−４−（１−メ
チルヘプチル）オキシフェニルボロン酸４．３ｇを用
い、他は実施例１−５）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量６．６ｇ 収率７９％ ＨＬＣ ９９％

【００７４】２） （Ｓ）−２−メチル−６−〔４′−
｛（Ｓ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニル）−
１，４−ベンゾジオキサン−３−オンの合成

【化７３】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｓ）−２−〔４−｛（Ｓ）−１−メチルヘプチ
ル｝オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−
イル〕オキシプロピオン酸メチルエステル６．３ｇを用
い、他は実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量２．７ｇ 収率５７％ ＨＬＣ ９９％
ｂ．ｐ１８５℃／０．２ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収
スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃ
ｍ^−１、１７９０^−１、に吸収を有し、また、マススペ
クトル測定では、ｍ／ｅ＝３６８に分子イオンピーク
が、ｍ／ｅ＝２５６に基準ピークが観察された。これら
の測定結果と使用した原料との関係から得られた化合物
は、標記化合物であると同定された。このものをメトラ
ー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に相
転移温度を観察した結果を表１に示す。

【００７５】実施例８ （Ｒ）−２−メチル−６−
（３′−フルオロ−４′−オクチルオキシ）フェニル−
１，４−ベンゾジオキサン−３−オンの合成

【化７４】

【００７６】１） ４−ブロモ−２−フルオロオクチル
オキシベンゼンの合成

【化７５】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、市販
の４−ブロモ−２−フルオロフェノ−ル９６ｇ、水酸化
ナトリウム２６ｇ（水７０ｍｌに溶解）、エタノール３
５０ｍｌを仕込み、還流下オクチルブロマイド１０９ｇ
を滴下した。同温度で６時間撹拌した後、反応液を濃縮
しベンゼンで希釈した。ベンゼン溶液を水洗し芒硝で乾
燥させた後、溶媒を留去し残留分を減圧蒸留して標記化
合物を得た。収量１２３ｇ 収率８０％ ＧＬＣ９７％
ｂ．ｐ１３２℃／０．７ｍｍＨｇ

【００７７】２） ３−フルオロ−４−オクチルオキシ
フェニルボロン酸の合成

【化７６】 実施例１−４）において、４−オクチルオキシブロモベ
ンゼン１１６ｇに替えて、４−ブロモ−２−フルオロオ
クチルオキシベンゼン１２３ｇを用い、他は、実施例１
−４）と同様に操作して標記化合物を得た。収量３８ｇ

【００７８】３） （Ｒ）−２−（３−フルオロ−４−
オクチルオキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−
４′−イル）オキシプロピオン酸エチルエステルの合成

【化７７】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例３−１）で合成した
（Ｒ）−２−（４−ブロモ−２−ベンジルオキシフェニ
ル）オキシプロピオン酸エチルエステル６．４ｇを用
い、又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに
替えて、３−フルオロ−４−オクチルオキシフェニルボ
ロン酸４．６ｇを用い、他は実施例１−５）と同様に操
作して標記化合物を得た。収量６．８ｇ 収率７７％
ＨＬＣ ９９％

【００７９】４） （Ｒ）−２−（３−フルオロ−４−
オクチルオキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−
４′−イル）オキシプロピオン酸の合成

【化７８】 実施例４−３）において、（Ｓ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシプロピオン酸メチルエステル６．４ｇに替え
て、（Ｒ）−２−（３−フルオロ−４−オクチルオキシ
−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イル）オキ
シプロピオン酸エチルエステル６．８ｇを用い、他は実
施例４−３）と同様に操作して標記化合物を得た。収量
６．４ｇ

【００８０】５） （Ｒ）−２−メチル−６−（３′−
フルオロ−４′−オクチルオキシフェニル）−１，４−
ベンゾジオキサン−３−オンの合成

【化７９】 実施例４−４）において、（Ｓ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシプロピオン酸６．１ｇに替えて、（Ｒ）−２
−（３−フルオロ−４−オクチルオキシ−３′−ベンジ
ルオキシビフェニル−４′−イル）オキシプロピオン酸
６．３ｇを用い、他は実施例４−４）と同様に操作して
標記化合物を得た。収量３．２ｇ 収率６５％ ＨＬＣ
９９％ ｂ．ｐ１８５℃／０．７ｍｍＨｇこのものの
赤外線吸収スペクトルを測定すると、２８００−３００
０ｃｍ^−１、１７９０ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、
マススペクトル測定では、ｍ／ｅ＝３８６に分子イオン
ピークが、ｍ／ｅ＝２７４に基準ピークが観察された。
これらの測定結果と使用した原料との関係から得られた
化合物は、標記化合物であると同定された。このものを
メトラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡
下に相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【００８１】実施例９ （Ｒ）−３−ブチル−６−
（４′−オクチルオキシ）フェニル−１，４−ベンゾジ
オキサン−２−オンの合成

【化８０】

【００８２】１） ２−ベンジルオキシ−５−ブロモベ
ンズアルデヒドの合成

【化８１】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、エタ
ノール８００ｍｌを仕込み、金属ナトリウム１５．５ｇ
を溶解させた。次に、５−ブロモサリチルアルデヒド１
２５ｇを加え完全に溶解するまで加熱撹拌した後、還流
下塩化ベンジル８５ｇを滴下し６時間撹拌した。反応液
を水へ注加し有機層をベンゼンで抽出した。抽出液を水
洗し芒硝で乾燥させた後、溶媒を留去した。残留分をヘ
キサン／ベンゼンの混合溶媒より再結晶して標記化合物
を得た。収量１４５ｇ 収率７４％ ＧＬＣ９９％
ｍ．ｐ７０−７１．８℃

【００８３】２） ５−ブロモ−２−ベンジルオキシフ
ェノールの合成

【化８２】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、ｍ−
クロロ過安息香酸１２５ｇ、塩化メチレン８００ｍｌを
仕込み、穏やかに還流させた。次に塩化メチレン４００
ｍｌに溶解させた５−ブロモ−２−ベンジルオキシベン
ズアルデヒド１７０ｇを滴下して６時間撹拌した。析出
する不溶物を濾過した後、濾液を濃縮し酢酸エチルで希
釈した。酢酸エチル溶液を炭酸ナトリウム水溶液、水の
順で洗浄した後、溶媒を留去した。残留分へエタノール
４００ｍｌ、水酸化ナトリウム５０ｇ（水２００ｍｌに
溶解）を加え、還流下２時間撹拌した。反応液を希塩酸
へ注加し有機層をベンゼンで抽出した。抽出液を水洗し
芒硝で乾燥させた後、溶媒を留去した。残留分を減圧蒸
留して標記化合物を得た。収量１５０ｇ 収率９２％
ＧＬＣ ９９％ ｂ．ｐ１５５−１５８℃／１．５ｍｍ
Ｈｇ

【００８４】３） （Ｒ）−２−（５−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチルエステ
ルの合成

【化８３】 実施例１−３）において、４−ブロモ−２−ベンジルオ
キシフェノ−ル８．７ｇに替えて、５−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェノ−ル８．７ｇを用い、他は実施例１
−３）と同様に操作して標記化合物を得た。収量１２．
９ｇ

【００８５】４） （Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ
−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−イル）オキ
シヘキサン酸エチルエステルの合成

【化８４】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、（Ｒ）−２−（５−ブロモ
−２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチ
ルエステル７．２ｇを用い、他は実施例１−５）と同様
に操作して標記化合物を得た。収量７．５ｇ 収率８０
％ ＨＬＣ ９１％

【００８６】５） （Ｒ）−３−ブチル−６−（４′−
オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサン
−２−オンの合成

【化８５】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ−４′−ベンジ
ルオキシビフェニル−３′−イル）オキシヘキサン酸エ
チルエステル７．０ｇを用い、他は実施例１−６）と同
様に操作して標記化合物を得た。収量２．５ｇ 収率４
８％ ＨＬＣ １００％ ｂ．ｐ２００−２０５℃
／０．３ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクトルを測
定すると、２８００−３０００ｃｍ^−１、１７９０ｃｍ
^−１、に吸収を有し、また、マススペクトル測定では、
ｍ／ｅ＝４１０に分子イオンピーク及び基準ピークが観
察された。これらの測定結果と使用した原料との関係か
ら得られた化合物は、標記化合物であると同定された。
このものをメトラー社製ホットステージＦＰ−８２に入
れ、顕微鏡下に相転移温度を観察した結果を表１に示
す。

【００８７】実施例１０ （Ｓ）−３−ブチル−６−
（４′−オクチルオキシ）フェニル−１，４−ベンゾジ
オキサン−２−オンの合成

【化８６】

【００８８】１） （Ｓ）−２−（５−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチルエステ
ルの合成

【化８７】 実施例１−３）において、４−ブロモ−２−ベンジルオ
キシフェノール８．７ｇに替えて、実施例９−２）で合
成した５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェノール８．
７ｇを用い、又（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキサン酸エチ
ルエステル５．０ｇに替えて、実施例２−１）で得られ
た（Ｒ）−２−ヒドロキシヘキサン酸エチルエステル
５．０ｇを用い、他は実施例１−３）と同様に操作して
標記化合物を得た。収量１２．５ｇ

【００８９】２） （Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ
−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−イル）オキ
シヘキサン酸エチルエステルの合成

【化８８】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、（Ｓ）−２−（５−ブロモ
−２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチ
ルエステル７．２ｇを用い、他は実施例１−５）と同様
に操作して標記化合物を得た。収量７．１ｇ 収率７６
％ ＨＬＣ ９１％

【００９０】３） （Ｓ）−３−ブチル−６−（４′−
オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサン
−２−オンの合成

【化８９】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ−４′−ベンジ
ルオキシビフェニル−３′−イル）オキシヘキサン酸エ
チルエステル７．０ｇを用い、他は実施例１−６）と同
様に操作して標記化合物を得た。収量２．１ｇ 収率４
０％ ＨＬＣ １００％ ｂ．ｐ２００−２０５℃
／０．３ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクトルを測
定すると、２８００−３０００ｃｍ^−１、１７９０ｃｍ
^−１、に吸収を有し、また、マススペクトル測定では、
ｍ／ｅ＝４１０に分子イオンピーク及び基準ピークが観
察された。これらの測定結果と使用した原料との関係か
ら得られた化合物は、標記化合物であると同定された。
このものをメトラー社製ホットステージＦＰ−８２に入
れ、顕微鏡下に相転移温度を観察した結果を表１に示
す。

【００９１】実施例１１ （Ｒ）−３−メチル−６−
（４′−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジ
オキサン−２−オンの合成

【化９０】

【００９２】１） （Ｒ）−２−（５−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシプロピオン酸エチルエス
テルの合成

【化９１】 実施例１−３）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸エチルエステル５．０ｇに替えて、（Ｓ）−乳酸
エチル３．７ｇを用い、又４−ブロモ−２−ベンジルオ
キシフェノ−ル８．７ｇに替えて、実施例９−２）で合
成した５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェノール８．
７ｇを用い、他は実施例１−３）と同様に操作して標記
化合物を得た。収量６．５ｇ

【００９３】２） （Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ
−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−イル）オキ
シプロピオン酸エチルエステルの合成

【化９２】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、（Ｒ）−２−（５−ブロモ
−２−ベンジルオキシフェニル）オキシプロピオン酸エ
チルエステル６．４ｇを用い、他は実施例１−５）と同
様に操作して標記化合物を得た。収量６．５ｇ

【００９４】３） （Ｒ）−３−メチル−６−（４′−
オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサン
−２−オンの合成

【化９３】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ−４′−ベンジ
ルオキシビフェニル−３′−イル）オキシプロピオン酸
エチルエステル６．５ｇを用い、他は実施例１−６）と
同様に操作して標記化合物を得た。収量３．０ｇ 収率
６３％ ＨＬＣ９９％ ｂ．ｐ １８５℃／０．３５ｍ
ｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクトルを測定すると、
２８００−３０００ｃｍ^−１、１８００ｃｍ^−１、に吸
収を有し、また、マススペクトル測定では、ｍ／ｅ＝３
６８に分子イオンピーク及び基準ピークが観察された。
これらの測定結果と使用した原料との関係から得られた
化合物は、標記化合物であると同定された。このものを
メトラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡
下に相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【００９５】実施例１２ （Ｓ）−３−メチル−６−
（４′−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジ
オキサン−２−オンの合成

【化９４】

【００９６】１） （Ｓ）−２−（５−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシプロピオン酸メチルエス
テルの合成

【化９５】 実施例１−３）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸エチルエステル５．０ｇに替えて、（Ｒ）−乳酸
メチル３．３ｇを用い、又４−ブロモ−２−ベンジルオ
キシフェノール８．７ｇに替えて、実施例９−２）で合
成した５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェノール８．
７ｇを用い、他は実施例１−３）と同様に操作して標記
化合物を得た。収量８．６ｇ

【００９７】２） （Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ
−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−イル）オキ
シプロピオン酸メチルエステルの合成

【化９６】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、（Ｓ）−２−（５−ブロモ
−２−ベンジルオキシフェニル）オキシプロピオン酸メ
チルエステル６．２ｇを用い、他は実施例１−５）と同
様に操作して標記化合物を得た。収量６．７ｇ

【００９８】３） （Ｓ）−３−メチル−６−（４′−
オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサン
−２−オンの合成

【化９７】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ−４′−ベンジ
ルオキシビフェニル−３′−イル）オキシプロピオン酸
メチルエステル６．３ｇを用い、他は実施例１−６）と
同様に操作して標記化合物を得た。収量２．６ｇ 収率
５５％ ＨＬＣ ９９％ ｂ．ｐ１８６℃／０．２８ｍ
ｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクトルを測定すると、
２８００−３０００ｃｍ^−１、１８００ｃｍ^−１、に吸
収を有し、また、マススペクトル測定では、ｍ／ｅ＝３
６８に分子イオンピーク及び基準ピークが観察された。
これらの測定結果と使用した原料との関係から得られた
化合物は、標記化合物であると同定された。このものを
メトラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡
下に相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【００９９】実施例１３ （Ｒ）−３−〔（Ｓ）−１−
メチルプロピル〕−６−（４′−オクチルオキシフェニ
ル）−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化９８】

【０１００】１） （２Ｒ，３Ｓ）−２−（５−ブロ
モ−２−ベンジルオキシフェニル）オキシ−３−メチル
バレリル酸エチルエステルの合成

【化９９】 実施例１−３）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸エチルエステル５．０ｇに替えて、実施例５−
１）で得た（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキシ−３−メチ
ルバレリル酸エチルエステル５．０ｇを用い、又４−ブ
ロモ−２−ベンジルオキシフェノール８．７ｇに替え
て、実施例９−２）で合成した５−ブロモ−２−ベンジ
ルオキシフェノール８．７ｇを用い、他は実施例１−
３）と同様に操作して標記化合物を得た。収量１２．１
ｇ

【０１０１】２） （２Ｒ，３Ｓ）−２−（４−オク
チルオキシ−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−
イル）オキシ−３−メチルバレリル酸エチルエステルの
合成

【化１００】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、（２Ｒ，３Ｓ）−２−（５
−ブロモ−２−ベンジルオキシフェニル）オキシ−３−
メチルバレリル酸エチルエステル７．２ｇを用い、他は
実施例１−５）と同様に操作して標記化合物を得た。収
量７．１ｇ 収率７６％ ＨＬＣ ９３％

【０１０２】３） （Ｒ）−３−〔（Ｓ）−１−メチル
プロピル〕−６−（４′−オクチルオキシフェニル）−
１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１０１】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（２Ｒ，３Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ−４′
−ベンジルオキシビフェニル−３′−イル）オキシ−３
−メチルバレリル酸エチルエステル７．０ｇを用い、他
は実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を得た。
収量２．２ｇ 収率４２％ ＨＬＣ ９９％ ｂ．ｐ２
００−２２０℃／０．５ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収
スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃ
ｍ^−１、１７７５ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、マス
スペクトル測定では、ｍ／ｅ＝４１０に分子イオンピー
ク及び基準ピークが観察された。これらの測定結果と使
用した原料との関係から得られた化合物は、標記化合物
であると同定された。このものをメトラー社製ホットス
テージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に相転移温度を観察
した結果を表１に示す。

【０１０３】実施例１４ （Ｒ）−３−メチル−６−
〔４′−｛（Ｒ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニ
ル〕−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１０２】

【０１０４】１） （Ｒ）−１−ブロモ−４−（１′−
メチルヘプチル）オキシベンゼンの合成

【化１０３】 実施例６−１）において、（Ｒ）−２−オクタノール７
２ｇに替えて、（Ｓ）−２−オクタノール７２ｇを用
い、他は実施例６−１）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量１１８ｇ ｂ．ｐ１１４〜１１６℃／０．２
ｍｍＨｇ

【０１０５】２） （Ｒ）−４−（１−メチルヘプチ
ル）オキシフェニルボロン酸の合成

【化１０４】 実施例１−４）において、４−オクチルオキシブロモベ
ンゼン１１６ｇに替えて、（Ｒ）−１−ブロモ−４−
（１′−メチルヘプチル）オキシベンゼン１１６ｇを用
い、他は実施例１−４）と同様に操作して標記化合物を
得た。このものは、室温下液体のため、実施例１−４）
記載のヘキサンによる再結精製工程は行わなかった。収
量７９ｇ

【０１０６】３） （Ｒ）−２−〔４−｛（Ｒ）−１−
メチルヘプチル｝オキシ−４′−ベンジルオキシビフェ
ニル−３′−イル〕オキシプロピオン酸エチルエステル
の合成

【化１０５】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例１１−１）で合成し
た（Ｒ）−２−（５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェ
ニル）オキシプロピオン酸エチルエステル６．４ｇを用
い、又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに
替えて、（Ｒ）−４−（１−メチルヘプチル）オキシフ
ェニルボロン酸４．３ｇを用い、他は実施例１−５）と
同様に操作して標記化合物を得た。収量７．２ｇ 収率
８７％ ＨＬＣ ９７％

【０１０７】４） （Ｒ）−３−メチル−６−〔４′−
｛（Ｒ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニル）−
１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１０６】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｒ）−２−〔４−｛（Ｒ）−１−メチルヘプチ
ル｝オキシ−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−
イル〕オキシプロピオン酸エチルエステル６．５ｇを用
い、他は実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量２．５ｇ収率５３％ ＨＬＣ ９９％ ｂ．
ｐ １９０℃／０．６５ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収
スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃ
ｍ^−１、１７８０ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、マス
スペクトル測定では、ｍ／ｅ＝３６８に分子イオンピー
クが、ｍ／ｅ＝２２８に基準ピークが観察された。これ
らの測定結果と使用した原料との関係から得られた化合
物は、標記化合物であると同定された。このものをメト
ラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に
相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【０１０８】実施例１５ （Ｓ）−３−メチル−６−
〔４′−｛（Ｒ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニ
ル）−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１０７】

【０１０９】１） （Ｓ）−２−〔４−｛（Ｒ）−１−
メチルヘプチル｝オキシ−４′−ベンジルオキシビフェ
ニル−３′−イル〕オキシプロピオン酸メチルエステル
の合成

【化１０８】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例１２−１）で合成し
た（Ｓ）−２−（５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェ
ニル）オキシプロピオン酸メチルエステル６．２ｇを用
い、又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに
替えて、実施例１４−２）で合成した（Ｒ）−４−（１
−メチルヘプチル）オキシフェニルボロン酸４．３ｇを
用い、他は実施例１−５）と同様に操作して標記化合物
を得た。収量６．４ｇ 収率７７％ ＨＬＣ ９９％

【０１１０】２） （Ｓ）−３−メチル−６−〔４′−
｛（Ｒ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニル）−
１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１０９】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｓ）−２−〔４−｛（Ｒ）−１−メチルヘプチ
ル｝オキシ−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−
イル〕オキシプロピオン酸メチルエステル６．３ｇを用
い、他は実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量２．２ｇ 収率４７％ ＨＬＣ ９９％
ｂ．ｐ１８５℃／０．２ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収
スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃ
ｍ^−１、１７８０ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、マス
スペクトル測定では、ｍ／ｅ＝３６８に分子イオンピー
クが、ｍ／ｅ＝２２８に基準ピークが観察された。これ
らの測定結果と使用した原料との関係からみて得られた
化合物は、標記化合物であると同定された。このものを
メトラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡
下に相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【０１１１】実施例１６ （Ｒ）−３−メチル−６−
〔４′−｛（Ｓ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニ
ル〕−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１１０】

【０１１２】１） （Ｒ）−２−〔４−｛（Ｓ）−１−
メチルヘプチル｝オキシ−４′−ベンジルオキシビフェ
ニル−３′−イル〕オキシプロピオン酸エチルエステル
の合成

【化１１１】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例１１−１）で合成し
た（Ｒ）−２−（５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェ
ニル）オキシプロピオン酸エチルエステル６．４ｇを用
い、又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに
替えて、実施例６−２）で合成した（Ｓ）−４−（１−
メチルヘプチル）オキシフェニルボロン酸４．３ｇを用
い、他は実施例１−５）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量７．０ｇ 収率８５％ ＨＬＣ ９９％

【０１１３】２） （Ｒ）−３−メチル−６−〔４′−
｛（Ｓ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニル〕−
１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１１２】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｒ）−２−〔４−｛（Ｓ）−１−メチルヘプチ
ル｝オキシ−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−
イル〕オキシプロピオン酸エチルエステル６．５ｇを用
い、他は実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量２．３ｇ 収率４９％ ＨＬＣ ９９％
ｂ．ｐ２２０℃／０．２ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収
スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃ
ｍ^−１、１８００ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、マス
スペクトル測定では、ｍ／ｅ＝３６８に分子イオンピー
クが、ｍ／ｅ＝２２８に基準ピークが観察された。これ
らの測定結果と使用した原料との関係から得られた化合
物は、標記化合物であると同定された。このものをメト
ラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に
相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【０１１４】実施例１７ （Ｓ）−３−メチル−６−
〔４′−｛（Ｓ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニ
ル〕−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１１３】

【０１１５】１） （Ｓ）−２−〔４−｛（Ｓ）−１−
メチルヘプチル｝オキシ−４′−ベンジルオキシビフェ
ニル−３′−イル〕オキシプロピオン酸メチルエステル
の合成

【化１１４】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例１２−１）で合成し
た（Ｓ）−２−（５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェ
ニル）オキシプロピオン酸メチルエステル６．２ｇを用
い、又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに
替えて、実施例６−２）で合成した（Ｓ）−４−（１−
メチルヘプチル）オキシフェニルボロン酸４．３ｇを用
い、他は実施例１−５）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量６．５ｇ

【０１１６】２） （Ｓ）−３−メチル−６−〔４′−
｛（Ｓ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニル〕−
１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１１５】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｓ）−２−〔４−｛（Ｓ）−１−メチルヘプチ
ル｝オキシ−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−
イル〕オキシプロピオン酸メチルエステル６．３ｇを用
い、他は実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量２．１ｇ 収率４４％ ＨＬＣ ９９％
ｂ．ｐ２２０℃／０．１ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収
スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃ
ｍ^−１、１８００ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、マス
スペクトル測定では、ｍ／ｅ＝３６８に分子イオンピー
クが、ｍ／ｅ＝２２８に基準ピークが観察された。これ
らの測定結果と使用した原料との関係から得られた化合
物は、標記化合物であると同定された。このものをメト
ラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に
相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【０１１７】実施例１８ （Ｒ）−３−ヘキシル−６−
（４′−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジ
オキサン−２−オンの合成

【化１１６】

【０１１８】１） １−オキソヘプタン−１，２−ジカ
ルボン酸エチルエステルの合成

【化１１７】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、エタ
ノール２００ｍｌを仕込み、金属ナトリウム４．６ｇを
溶解させた。次に、シュウ酸ジエチル５８．４ｇを滴下
し、２０分後、さらにヘプタン酸エチル３２ｇを滴下し
た。反応液を１時間撹拌した後、減圧下５０℃でエタノ
ールを留去し希塩酸へ注加した。有機層をベンゼンで抽
出し抽出液を水洗、芒硝で乾燥させた後、溶媒を留去し
て標記化合物を得た。収量５１ｇ

【０１１９】２） α−ケトオクタン酸の合成

【化１１８】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、１−
オキソヘプタン−１，２−ジカルボン酸エチルエステル
３９ｇ、酢酸５０ｍｌ、濃塩酸２５ｍｌを仕込み、還流
下４時間撹拌した。反応液をエーテルで希釈し水洗した
後、芒硝で乾燥させた。溶媒を留去した後、残留分へ１
０％水酸化ナトリウム水溶液２４０ｍｌを氷水冷下徐々
に加えた。析出した結晶を収集し冷エタノールで洗浄し
た後、水２４０ｍｌに分散させ、濃塩酸２４ｍｌを加え
暫く撹拌した。有機物をエーテルで抽出し抽出液を水洗
後、芒硝で乾燥し溶媒を留去して標記化合物を得た。収
量２０ｇ

【０１２０】３） （Ｓ）−２−ヒドロキシオクタン酸
エチルエステルの合成

【化１１９】 オートクレーブに、アルゴン雰囲気下ロジウム（シクロ
ペンタジエン）ジクロライド．ダイマー〔Ｒｈ（ＣＯ
Ｄ）Ｃｌ_２）３１ｍｇのＴＨＦ２ｍｌ溶液、過塩素酸銀
（ＡｇＣｌＯ_４）２８ｍｇのＴＨＦ２ｍｌ溶液、（Ｓ）
−１−〔（Ｒ）−１′，２−ビス（ジフェニルフォスフ
ィノ）フェロセニル〕エタノール〔（Ｓ，Ｒ）−ＢＰＰ
ＦＯＨ）７６ｍｇＴＨＦ２ｍｌ溶液を仕込み、α−ケト
オクタン酸３９ｇ、エチルアルコール２００ｍｌ、トリ
エチルアミン３４ｍｌを加え、水素圧を５５ｋｇ／ｃｍ
^２に設定して４８時間撹拌した。反応液をフラスコに移
しｐ−トルエンスルフォン酸５０ｇを加え還流下４時間
撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、エーテル溶液とし、
炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し芒硝で乾燥
させた後、溶媒を留去して標記化合物を得た。収量４０
ｇ

【０１２１】４） （Ｒ）−２−（５−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシオクタン酸エチルエステ
ルの合成

【化１２０】 実施例１−３）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸エチルエステル５．０ｇに替えて、（Ｓ）−２−
ヒドロキシオクタン酸エチルエステル５．９ｇを用い、
又４−ブロモ−２−ベンジルオキシフェノール８．７ｇ
に替えて、実施例９−２）で合成した５−ブロモ−２−
ベンジルオキシフェノール８．７ｇを用い、他は実施例
１−３）と同様に操作して標記化合物を得た。収量１
３．５ｇ

【０１２２】５） （Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ
−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−イル）オキ
シオクタン酸エチルエステルの合成

【化１２１】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、（Ｒ）−２−（５−ブロモ
−２−ベンジルオキシフェニル）オキシオクタン酸エチ
ルエステル７．７ｇを用い、他は実施例１−５）と同様
に操作して標記化合物を得た。収量７．８ｇ 収率７９
％ ＨＬＣ ９４％

【０１２３】６） （Ｒ）−３−ヘキシル−６−（４′
−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサ
ン−２−オンの合成

【化１２２】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｒ）−２−（４−オクチルオキシ−４′−ベンジ
ルオキシビフェニル−３′−イル）オキシオクタン酸エ
チルエステル７．４ｇを用い、他は実施例１−６）と同
様に操作して標記化合物を得た。収量３．５ｇ 収率６
２％ ＨＬＣ １００％ ｂ．ｐ２２０−２４０℃
／０．３ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクトルを測
定すると、２８００−３０００ｃｍ^−１、１８００ｃｍ
^−１、に吸収を有し、また、マススペクトル測定では、
ｍ／ｅ＝４３８に分子イオンピーク及び基準ピークが観
察された。これらの測定結果と使用した原料との関係か
ら得られた化合物は、標記化合物であると同定された。
このものをメトラー社製ホットステージＦＰ−８２に入
れ、顕微鏡下に相転移温度を観察した結果を表１に示
す。

【０１２４】実施例１９ （Ｓ）−３−へキシル−６−
（４′−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジ
オキサン−２−オンの合成

【化１２３】

【０１２５】１） （Ｒ）−２−ヒドロキシオクタン酸
エチルエステルの合成

【化１２４】 実施例１８−３）において、（Ｓ）−１−〔（Ｒ）−
１′，２−ビス（ジフェニルフォスフィノ）フェロセニ
ル〕エタノ−ル〔（Ｓ，Ｒ）−ＢＰＰＦＯＨ〕７６ｍｇ
に替えて、（Ｒ）−１−〔（Ｓ）−１′，２−ビス（ジ
フェニルフォスフィノ）フェロセニル〕エタノール
〔（Ｒ，Ｓ）−ＢＰＰＦＯＨ〕７６ｍｇを用い、他は実
施例１８−３）と同様に操作して標記化合物を得た。収
量４０ｇ

【０１２６】２） （Ｓ）−２−（５−ブロモ−２−ベ
ンジルオキシフェニル）オキシオクタン酸エチルエステ
ルの合成

【化１２５】 実施例１−３）において、（Ｓ）−２−ヒドロキシヘキ
サン酸エチルエステル５．０ｇに替えて、（Ｒ）−２−
ヒドロキシオクタン酸エチルエステル５．９ｇを用い、
又４−ブロモ−２−ベンジルオキシフェノール８．７ｇ
に替えて、実施例９−２）で合成した５−ブロモ−２−
ベンジルオキシフェノール８．７ｇを用い、他は実施例
１−３）と同様に操作して標記化合物を得た。収量８．
２ｇ

【０１２７】３） （Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ
−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−イル）オキ
シオクタン酸エチルエステルの合成

【化１２６】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、（Ｓ）−２−（５−ブロモ
−２−ベンジルオキシフェニル）オキシオクタン酸エチ
ルエステル７．７ｇを用い、他は実施例１−５）と同様
に操作して標記化合物を得た。収量８．０ｇ 収率８１
％ ＨＬＣ ９２％

【０１２８】４） （Ｓ）−３−ヘキシル−６−（４′
−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサ
ン−２−オンの合成

【化１２７】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ−４′−ベンジ
ルオキシビフェニル−３′−イル）オキシオクタン酸エ
チルエステル７．４ｇを用い、他は実施例１−６）と同
様に操作して標記化合物を得た。収量３．９ｇ 収率６
９％ ＨＬＣ ９９％ ｂ．ｐ２２５℃／０．２５ｍｍ
Ｈｇこのものの赤外線吸収スペクトルを測定すると、２
８００−３０００ｃｍ^−１、１８００ｃｍ^−１、に吸収
を有し、また、マススペクトル測定では、ｍ／ｅ＝４３
８に分子イオンピーク及び基準ピークが観察された。こ
れらの測定結果と使用した原料との関係から得られた化
合物は、標記化合物であると同定された。このものをメ
トラー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下
に相転移温度を観察した結果を表１に示す。

【０１２９】実施例２０ （Ｓ）−３−ブチル−６−
（４−オクチルオキシビフェニル−４′−イル）−１，
４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１２８】

【０１３０】１） ４−オクチルオキシビフェニルボロ
ン酸の合成

【化１２９】 実施例１−４）において、４−オクチルオキシブロモベ
ンゼン１１６ｇに替えて、４−ブロモ−４′−オクチル
オキシビフェニル１４７ｇを用い、他は実施例１−４）
と同様に操作して標記化合物を得た。収量５９ｇ

【０１３１】２） （Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ
−４″−ベンジルオキシターフェニル−３″−イル）オ
キシヘキサン酸エチルエステルの合成

【化１３０】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例１０−１）で合成し
た（Ｓ）−２−（５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェ
ニル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．２ｇを用
い、又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに
替えて、４′−オクチルオキシビフェニルボロン酸５．
６ｇを用い、他は実施例１−５）と同様に操作して標記
化合物を得た。収量６．６ｇ 収率６２％ ＨＬＣ ９
０％

【０１３２】３） （Ｓ）−３−ブチル−６−（４−オ
クチルオキシビフェニル−４′−イル）−１，４−ベン
ゾジオキサン−２−オンの合成

【化１３１】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｓ）−２−（４−オクチルオキシ−４″−ベンジ
ルオキシターフェニル−３″−イル）オキシヘキサン酸
エチルエステル８．０ｇを用い、他は実施例１−６）と
同様に操作して標記化合物を得た。収量３．０ ｇ 収
率４８％ ＨＬＣ ９８％ ｂ．ｐ２３６℃／０．０
１４ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクトルを測定す
ると、２８００−３０００ｃｍ^−１、１７９０ｃ
ｍ^−１、に吸収を有し、また、マススペクトル測定で
は、ｍ／ｅ＝４８６に分子イオンピーク及び基準ピーク
が観察された。これらの測定結果と使用した原料との関
係から得られた化合物は、標記化合物であると同定され
た。このものをメトラー社製ホットステージＦＰ−８２
に入れ、顕微鏡下に相転移温度を観察した結果を表１に
示す。

【０１３３】実施例２１ （Ｒ）−３−ブチル−６−
〔４′−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フ
ェニル〕−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１３２】

【０１３４】１） ４−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）フェニルボロン酸の合成

【化１３３】 実施例１−４）において、４−オクチルオキシブロモベ
ンゼン１１６ｇに替えて、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）ブロモベンゼン１２６ｇを用い、他
は実施例１−４）と同様に操作して標記化合物を得た。
収量５６ｇ

【０１３５】２） （Ｒ）−２−〔４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−４′−ベンジルオキシビ
フェニル−３′−イル〕オキシヘキサン酸エチルエステ
ルの合成

【化１３４】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例９−３）で合成した
（Ｒ）−２−（５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェニ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．２ｇを用い、
又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに替え
て、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フ
ェニルボロン酸４．７ｇを用い、他は実施例１−５）と
同様に操作して標記化合物を得た。収量７．２ｇ 収率
７４％ ＨＬＣ ９６％

【０１３６】３） （Ｒ）−３−ブチル−６−〔４′−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニル）
−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１３５】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０に替えて、
（Ｒ）−２−〔４−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−４′−ベンジルオキシビフェニル−３′−イ
ル〕オキシヘキサン酸エチルエステル７．３ｇを用い、
他は実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を得
た。収量３．５ｇ 収率６３％ ＨＬＣ １００％
ｂ．ｐ２００℃／０．０５ｍｍＨｇこのものの赤外線吸
収スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃｍ
^−１、１７８０ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、マスス
ペクトル測定では、ｍ／ｅ＝４３４に分子イオンピーク
が、ｍ／ｅ＝４０６に基準ピークが観察された。これら
の測定結果と使用した原料との関係から得られた化合物
は、標記化合物であると同定された。このものをメトラ
ー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に相
転移温度を観察した結果を表１に示す

【０１３７】実施例２２ （Ｓ）−３−メチル−６−
（３″−フルオロ−４″−オクチルオキシビフェニル−
４′−イル）−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの
合成

【化１３６】

【０１３８】１） ３−フルオロ−４−オクチルオキシ
ビフェニルの合成

【化１３７】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、３−
フルオロ−４−ヒドロキシビフェニル１５．３ｇ，オク
チルブロマイド１７．３ｇ、炭酸カリウム２２．４ｇ、
シクロヘキサノン１５０ｍｌを仕込み、還流下に４時間
撹拌した後、反応液を希硫酸に注加した。有機層をベン
ゼンで抽出後、ベンゼン層を水洗し芒硝で乾燥させた。
溶媒を留去後、残留分をアセトンより再結晶して標記化
合物を得た。収量２３ｇ 収率９４％ ＧＬＣ ９９％

【０１３９】２） ３−フルオロ−４−オクチルオキシ
−４′−ブロモビフェニルの合成

【化１３８】 温度計、還流冷却器、撹拌機を備えたフラスコに、３−
フルオロ−４−オクチルオキシビフェニル２３ｇ、クロ
ロホルム４０ｍｌを仕込み、氷水冷下（０℃）臭素１
２．２ｇを１５分かけて滴下し湯浴中（６２℃）１．５
時間撹拌した後、反応液を水に注加した。有機層を分液
した後、水酸化ナトリウム水溶液、水の順に洗浄し芒硝
で乾燥させた。溶媒を留去後、残留分をアセトンより再
結晶して標記化合物を得た。収量２２．７ｇ 収率７９
％ ＧＬＣ ９６％

【０１４０】３） ３′−フルオロ−４′−オクチルオ
キシビフェニルボロン酸の合成

【化１３９】 撹拌子を入れたコック付フラスコに、３−フルオロ−４
−オクチルオキシ−４′−ブロモビフェニル７ｇ、乾燥
ＴＨＦ ６０ｍｌを仕込み、系内をアルゴン置換下−６
０℃に冷却し、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン
溶液１４．５ｍｌを加え、同温度で３．５時間撹拌させ
た。次に、硼酸トリメチル２．４ｇのＴＨＦ液を滴下ロ
ートを用いて滴下し同温度で２時間撹拌後、室温まで昇
温させ一昼夜撹拌させた。反応液を１０％硫酸１００ｍ
ｌに注加しベンゼンで抽出後、水洗、芒硝で乾燥させ
た。溶媒を留去後、残留分をヘキサン／ＴＨＦ混合溶媒
より再結晶して標記化合物を得た。収量４．８ｇ 収率
７５％ ＨＬＣ ９０％

【０１４１】４） （Ｓ）−２−（３−フルオロ−４−
オクチルオキシ−４″−ベンジルオキシターフェニル−
３″−イル）オキシプロピオン酸メチルエステルの合成

【化１４０】 実施例１−５）において、（Ｒ）−２−（４−ブロモ−
２−ベンジルオキシフェニル）オキシヘキサン酸エチル
エステル７．２ｇに替えて、実施例１２−１）で合成し
た（Ｓ）−２−（５−ブロモ−２−ベンジルオキシフェ
ニル）オキシプロピオン酸メチルエステル６．２ｇを用
い、又４−オクチルオキシフェニルボロン酸４．３ｇに
替えて、３′−フルオロ−４′−オクチルオキシビフェ
ニルボロン酸５．９ｇを用い、他は実施例１−５）と同
様に操作して標記化合物を得た。収量３．８ｇ 収率３
８％ ＨＬＣ ９８％

【０１４２】５） （Ｓ）−３−メチル−６−（３″−
フルオロ−４″−オクチルオキシビフェニル）−１，４
−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１４１】 実施例１−６）において、（Ｒ）−２−（４−オクチル
オキシ−３′−ベンジルオキシビフェニル−４′−イ
ル）オキシヘキサン酸エチルエステル７．０ｇに替え
て、（Ｓ）−２−（３−フルオロ−４−オクチルオキシ
−４″−ベンジルオキシターフェニル−３″−イル）オ
キシプロピオン酸メチルエステル７．８ｇを用い、他は
実施例１−６）と同様に操作して標記化合物を得た。収
量２．７ｇ 収率４３％ ＨＬＣ １００％ ｂ．ｐ２
３０℃／０．１ｍｍＨｇこのものの赤外線吸収スペクト
ルを測定すると、２８００−３０００ｃｍ^−１、１８０
０ｃｍ^−１、に吸収を有し、また、マススペクトル測定
では、ｍ／ｅ＝４６２に分子イオンピークが、ｍ／ｅ＝
３２２に基準ピークが観察された。これらの測定結果と
使用した原料との関係から得られた化合物は、標記化合
物であると同定された。このものをメトラー社製ホット
ステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に相転移温度を観
察した結果を表１に示す。

【０１４３】実施例２３ （Ｒ）−２−オキソ−３−メ
チル−１，４−ベンゾジオキサン−６−イル４−オクチ
ルオキシベンゾエートの合成

【化１４２】

【０１４４】１） ２−ブロモ−１，４−ジベンジルオ
キシベンゼンの合成

【化１４３】 温度計、撹拌機を備えたフラスコに、市販の１，４−ジ
ベンジルオキシベンゼン４１ｇ、炭酸カルシウム１４．
２ｇ、塩化メチレン２００ｍｌを仕込み、これに臭素２
４．８ｇを塩化メチレンに溶かして５℃以下で滴下し
た。同温度で臭素の色が消失するまで撹拌した後、反応
液を濾過した。濾液を希苛性ソーダ水溶液、水の順で洗
浄し、芒硝で乾燥させた後、溶媒を留去した。残留分を
減圧蒸留して標記化合物を得た。収量３０ｇ 収率５７
％ ＧＬＣ ９３％ ｂ．ｐ１７０−１７５℃／０．１
５ｍｍＨｇ

【０１４５】２） ２，５−ジベンジルオキシフェノー
ルの合成

【化１４４】 温度計、撹拌機を備えたフラスコの内部を窒素で置換
し、これに２−ブロモ−１，４−ジベンジルオキシベン
ゼン３０ｇ、テトラヒドロフラン１６０ｍｌを仕込ん
だ。この溶液を液体窒素−アセトン浴で−６０℃以下ま
で冷却し、これに１．６Ｍブチルリチウム−ヘキサン溶
液６４ｍｌを滴下してしばらく撹拌した。次に、ホウ酸
トリメチルエステル２５ｇを滴下し、−６０℃以下で２
時間、室温下で一夜撹拌した。反応液を冷希硫酸に注加
し、しばらく撹拌した後、有機相を別のフラスコに分取
した。これに、１０％過酸化水素水１００ｍｌを加え、
室温で２時間撹拌した。有機相を水洗、芒硝で乾燥させ
た後、溶媒を留去した。残留分をシリカゲルクロマトグ
ラフィー（溶離液ベンゼン／ヘキサン＝１／１）にて精
製し、更にベンゼン−ヘキサンの混合溶媒より再結晶し
て標記化合物を得た。収量９．３ｇ 収率３８％ ＧＬ
Ｃ ８７％ ｍ．ｐ９５．５−９６．５℃

【０１４６】３） （Ｒ）−２−（２，５−ジベンジル
オキシフェニル）オキシプロピオン酸エチルエステルの
合成

【化１４５】 温度計、撹拌機を備えたフラスコに、２，５−ジベンジ
ルオキシフェノール１０．８ｇ、トリフェニルホスフィ
ン１０ｇ、（Ｓ）−乳酸エチルエステル４．６ｇ、テト
ラヒドロフラン８０ｍｌを仕込み、これに氷水冷下ジア
ゾカルボン酸ジエチルエステル７ｇを滴下し、氷水冷下
で２時間、室温下で一夜撹拌した。反応液をベンゼンで
希釈し、希塩酸、水の順で洗浄した。芒硝で乾燥させた
後、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶離液ベンゼン）にて精製して標記化合物
を得た。収量１１ｇ 収率７７％ ＧＬＣ ９５％ 室
温にて液体

【０１４７】４） （Ｒ）−３−メチル−６−ヒドロキ
シ−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンの合成

【化１４６】 オ−トクレ−ブに１０％ Ｐｄ−Ｃ４ｇ、（Ｒ）−２−
（２，５−ジベンジルオキシフェニル）オキシプロピオ
ン酸エチルエステル１１ｇ、酢酸エチル１５０ｍｌを仕
込み、水素圧を１５ｋｇ／ｃｍ^２に設定して１０時間撹
拌した。反応液を濾過してＰｄ−Ｃを除き、濾液を濃縮
した。残留分を減圧下に蒸留を２回行い、標記化合物を
得た。収量２．６ｇ 収率５３％ ＧＬＣ ９８％
ｍ．ｐ１４８．５−１５０．５℃

【０１４８】５） （Ｒ）−２−オキソ−３−メチル−
１，４−ベンゾジオキサン−６−イル４−オクチルオキ
シベンゾエートの合成

【化１４７】 温度計、撹拌機を備えたフラスコに、４−オクチルオキ
シ安息香酸１．８ｇ、Ｒ）−３−メチル−６−ヒドロキ
シ−１，４−ベンゾジオキサン−２−オン１．３ｇ、４
−ピロリジノピリジン０．１ｇ、塩化メチレン５０ｍｌ
を仕込み、これに氷水冷下、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド１．６ｇを塩化メチレンに溶かして滴下した。氷
水冷下で２時間、室温で一夜撹拌した後、反応液を濾過
して不溶物を除いた。濾液を希塩酸、水の順で洗浄した
後、芒硝で乾燥させ、溶媒を留去した。残留分をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ベンゼン）にて
精製し、さらにアセトンより再結晶して標記化合物を得
た。収量１．７ｇ ＨＬＣ ９９％このものの赤外線吸
収スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃｍ
^−１、１８００ｃｍ^−１、１７２０ｃｍ^−１に吸収を有
し、また、マススペクトル測定では、ｍ／ｅ＝４１２に
分子イオンピークが、ｍ／ｅ＝２３３に基準ピークが観
察された。これらの測定結果と使用した原料との関係か
らみて得られた化合物は、標記化合物であると同定され
た。このものをメトラー社製ホットステージＦＰ−８２
に入れ、顕微鏡下に相転移温度を観察した結果を表１に
示す。

【０１４９】実施例２４ （Ｒ）−２−オキソ−３−メ
チル−１，４−ベンゾジオキサン−６−イルトランス−
４−（４′−オクチルフェニル）シクロヘキサンカルボ
キシレートの合成

【化１４８】 実施例２３−５）において、４−オクチルオキシ安息香
酸１．８ｇに替えて、トランス−４−（４′−オクチル
フェニル）シクロヘキサンカルボン酸２．２ｇを用い、
他は、実施例２３−５）と同様に操作して標記化合物を
得た。収量１．２ｇ ＨＬＣ ９８％このものの赤外線
吸収スペクトルを測定すると、２８００−３０００ｃｍ
^−１、１８００ｃｍ^−１、１７７０ｃｍ^−１、１７５０
ｃｍ^−１に吸収を有し、また、マススペクトル測定で
は、ｍ／ｅ＝４７８に分子イオンピークが、ｍ／ｅ＝２
７１に基準ピークが観察された。これらの測定結果と使
用した原料との関係からみて得られた化合物は、標記化
合物であると同定された。このものをメトラー社製ホッ
トステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に相転移温度を
観察した結果を表１に示す。

【０１５０】実施例２５ （Ｒ）−２−オキソ−３−メ
チル−１，４−ベンゾジオキサン−６−イル４−オクチ
ルオキシビフェニル−４′−カルボキシレートの合成

【化１４９】 実施例２３−５）において、４−オクチルオキシ安息香
酸１．８ｇに替えて、４−オクチルオキシビフェニル−
４′−カルボン酸２．２ｇを用い、他は実施例２３−
５）と同様に操作して標記化合物を得た。収量１．２ｇ
ＨＬＣ ９９％このものの赤外線吸収スペクトルを測
定すると、２８００−３０００ｃｍ^−１、１８００ｃｍ
^−１、１７３０ｃｍ^−１に吸収を有し、また、マススペ
クトル測定では、ｍ／ｅ＝４８８に分子イオンピーク
が、ｍ／ｅ＝３０９に基準ピークが観察された。これら
の測定結果と使用した原料との関係から得られた化合物
は、標記化合物であると同定された。このものをメトラ
ー社製ホットステージＦＰ−８２に入れ、顕微鏡下に相
転移温度を観察した結果を表１に示す。

【０１５１】

【表１】

【０１５２】実施例２６ 下記式の化合物を、それぞれ下記の組成で調製したＳｍ
Ｃ相を有する液晶組成物

【外１】

【０１５３】

【化１５０】 に対し、実施例１で得られた（Ｒ）−２−ブチル−６−
（４′−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジ
オキサン−３−オンを５重量％添加して液晶組成物を調
製した。その相転移温度は、

【外２】 であった。ＥＨＣ社製セル厚２μｍの液晶セル（配向膜
にポリイミドを用い、平行配向処理を施したもの）に上
記の液晶組成物を封入し、等方性液体からカイラルＳｍ
Ｃ相まで徐冷して、液晶素子を作製した。

【０１５４】この液晶素子を２枚の偏光板に挟み、電圧
（２００Ｈｚ、±５Ｖ／μｍの矩形波）を印加して、透
過光強度の変化から応答時間を測定した。また、ソーヤ
ー・タワー法にて自発分極を測定した（５０Ｈｚ、±５
Ｖ／μｍの三角波を印加）。さらに、印加電圧（直流５
Ｖ／μｍ）の極性反転時の消光位の移動角度よりチルト
角を測定した。その結果を表２に示す。

【０１５５】実施例２７ 実施例２６で調製したピリミジン系液晶組成物に対し、
実施例５で得られた（Ｒ）−２−〔（Ｓ）−１−メチル
プロピル〕−６−（４′−オクチルオキシフェニル）−
１，４−ベンゾジオキサン−３−オンを５重量％添加し
て液晶組成物を調製した。その相転移温度は

【外３】 であった。

【０１５６】ＥＨＣ社製セル厚２μｍの液晶セル（配向
膜にポリイミドを用い、平行配向処理を施したもの）に
上記の液晶組成物を封入し、等方性液体からカイラルＳ
ｍＣ相まで徐冷して、液晶素子を作製した。

【０１５７】この液晶素子を２枚の偏光板に挟み、電圧
（２００Ｈｚ、±５Ｖ／μｍの矩形波）を印加して、透
過光強度の変化から応答時間を測定した。また、ソーヤ
ー・タワー法にて自発分極を測定した（５０Ｈｚ、±５
Ｖ／μｍの三角波を印加）。さらに、印加電圧（直流５
Ｖ／μｍ）の極性反転時の消光位の移動角度よりチルト
角を測定した。その結果を表２に示す。

【０１５８】実施例２８ 実施例２６で調製したピリミジン系液晶組成物に対し、
実施例６で得られた（Ｒ）−２−メチル−６−〔４′−
｛（Ｓ）−１−メチルヘプチル｝オキシフェニル〕−
１，４−ベンゾジオキサン−３−オンを５重量％添加し
て液晶組成物を調製した。その相転移温度は

【外４】 であった。

【０１５９】ＥＨＣ社製セル厚２μｍの液晶セル（配向
膜にポリイミドを用い、平行配向処理を施したもの）に
上記の液晶組成物を封入し、等方性液体からカイラルＳ
ｍＣ相まで徐冷して、液晶素子を作製した。

【０１６０】この液晶素子を２枚の偏光板に挟み、電圧
（２００Ｈｚ、±５Ｖ／μｍの矩形波）を印加して、透
過光強度の変化から応答時間を測定した。また、ソーヤ
ー・タワー法にて自発分極を測定した（５０Ｈｚ、±５
Ｖ／μｍの三角波を印加）。さらに、印加電圧（直流５
Ｖ／μｍ）の極性反転時の消光位の移動角度よりチルト
角を測定した。その結果を表２に示す。

【０１６１】実施例２９ 実施例２６で調製したピリミジン系液晶組成物に対し、
実施例９で得られた（Ｒ）−３−ブチル−６−（４′−
オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサン
−２−オンを５重量％添加して液晶組成物を調製した。
その相転移温度は

【外５】 であった。

【０１６２】ＥＨＣ社製セル厚２μｍの液晶セル（配向
膜にポリイミドを用い、平行配向処理を施したもの）に
上記の液晶組成物を封入し、等方性液体からカイラルＳ
ｍＣ相まで徐冷して、液晶素子を作製した。

【０１６３】この液晶素子を２枚の偏光板に挟み、電圧
（２００Ｈｚ、±５Ｖ／μｍの矩形波）を印加して、透
過光強度の変化から応答時間を測定した。また、ソーヤ
ー・タワー法にて自発分極を測定した（５０Ｈｚ、±５
Ｖ／μｍの三角波を印加）。さらに、印加電圧（直流５
Ｖ／μｍ）の極性反転時の消光位の移動角度よりチルト
角を測定した。その結果を表２に示す。

【０１６４】実施例３０ 実施例２６で調製したピリミジン系液晶組成物に対し、
実施例１０で得られた（Ｓ）−３−ブチル−６−（４′
−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサ
ン−２−オンを５重量％添加して液晶組成物を調製し
た。その相転移温度は

【外６】 であった。

【０１６５】ＥＨＣ社製セル厚２μｍの液晶セル（配向
膜にポリイミドを用い、平行配向処理を施したもの）に
上記の液晶組成物を封入し、等方性液体からカイラルＳ
ｍＣ相まで徐冷して、液晶素子を作製した。

【０１６６】この液晶素子を２枚の偏光板に挟み、電圧
（２００Ｈｚ、±５Ｖ／μｍの矩形波）を印加して、透
過光強度の変化から応答時間を測定した。また、ソーヤ
ー・タワー法にて自発分極を測定した（５０Ｈｚ、±５
Ｖ／μｍの三角波を印加）。さらに、印加電圧（直流５
Ｖ／μｍ）の極性反転時の消光位の移動角度よりチルト
角を測定した。その結果を表２に示す。

【０１６７】実施例３１ 実施例２６で調製したピリミジン系液晶組成物に対し、
実施例１２で得られた（Ｓ）−３−メチル−６−（４′
−オクチルオキシフェニル）−１，４−ベンゾジオキサ
ン−２−オンを５重量％添加して液晶組成物を調製し
た。その相転移温度は

【外７】 であった。

【０１６８】ＥＨＣ社製セル厚２μｍの液晶セル（配向
膜にポリイミドを用い、平行配向処理を施したもの）に
上記の液晶組成物を封入し、等方性液体からカイラルＳ
ｍＣ相まで徐冷して、液晶素子を作製した。

【０１６９】この液晶素子を２枚の偏光板に挟み、電圧
（２００Ｈｚ、±５Ｖ／μｍの矩形波）を印加して、透
過光強度の変化から応答時間を測定した。また、ソーヤ
ー・タワー法にて自発分極を測定した（５０Ｈｚ、±５
Ｖ／μｍの三角波を印加）。さらに、印加電圧（直流５
Ｖ／μｍ）の極性反転時の消光位の移動角度よりチルト
角を測定した。その結果を表２に示す。

【０１７０】実施例３２ 実施例２６で調製したピリミジン系液晶組成物に対し、
実施例２２で得られた（Ｓ）−３−メチル−６−（３″
−フルオロ−４″−オクチルオキシビフェニル−４′−
イル）−１，４−ベンゾジオキサン−２−オンを５重量
％添加して液晶組成物を調製した。その相転移温度は

【外８】 であった。

【０１７１】ＥＨＣ社製セル厚２μｍの液晶セル（配向
膜にポリイミドを用い、平行配向処理を施したもの）に
上記の液晶組成物を封入し、等方性液体からカイラルＳ
ｍＣ相まで徐冷して、液晶素子を作製した。

【０１７２】この液晶素子を２枚の偏光板に挟み、電圧
（２００Ｈｚ、±５Ｖ／μｍの矩形波）を印加して、透
過光強度の変化から応答時間を測定した。また、ソーヤ
ー・タワー法にて自発分極を測定した（５０Ｈｚ、±５
Ｖ／μｍの三角波を印加）。さらに、印加電圧（直流５
Ｖ／μｍ）の極性反転時の消光位の移動角度よりチルト
角を測定した。その結果を表２に示す。

【０１７３】実施例３３ 実施例２６で調製したピリミジン系液晶組成物に対し、
実施例２３で得られた（Ｒ）−２−オキソ−３−メチル
−１，４−ベンゾジオキサン−６−イル４−オクチルオ
キシベンゾエートを５重量％添加して液晶組成物を調製
した。その相転移温度は

【外９】 であった。

【０１７４】ＥＨＣ社製セル厚２μｍの液晶セル（配向
膜にポリイミドを用い、平行配向処理を施したもの）に
上記の液晶組成物を封入し、等方性液体からカイラルＳ
ｍＣ相まで徐冷して、液晶素子を作製した。

【０１７５】この液晶素子を２枚の偏光板に挟み、電圧
（２００Ｈｚ、±５Ｖ／μｍの矩形波）を印加して、透
過光強度の変化から応答時間を測定した。また、ソーヤ
ー・タワー法にて自発分極を測定した（５０Ｈｚ、±５
Ｖ／μｍの三角波を印加）。さらに、印加電圧（直流５
Ｖ／μｍ）の極性反転時の消光位の移動角度よりチルト
角を測定した。その結果を表２に示す。

【０１７６】

【表２】

【０１７７】このように、本発明に係わる光学活性化合
物は、ＳｍＣ相を有する液晶組成物に添加することによ
り強誘電性を誘起し、極めて応答速度の速い液晶組成物
が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤井 恒宣 埼玉県草加市稲荷１−７−１ 関東化学株 式会社中央研究所内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式、（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒは、炭素原子数１〜１４の直鎖状または分岐
   鎖状のアルキル基、あるいは、炭素原子数１〜１４の直
   鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基を表し、Ｙは、単結
   合、−ＣＯ−Ｏ−、または−ＣＨ_２−Ｏ−を表し、 【化２】 （式中、Ｒ′は、炭素原子数１〜１４の直鎖状または分
   岐鎖状のアルキル基を表し、＊は、不斉部位を表す）を
   表す〕で表される光学活性ベンゾジオキサン化合物。
2. 【請求項２】 一般式、（Ｉ）におけるＹが、単結合で
   あり、 【化３】 請求項１記載の光学活性ベンゾジオキサン化合物。
3. 【請求項３】 一般式、（Ｉ）におけるＹが、−ＣＯ−
   Ｏ−、または−ＣＨ_２−Ｏ−である請求項１に記載の光
   学活性ベンゾジオキサン化合物。
4. 【請求項４】 一般式、（Ｉ） 【化４】 〔式中、Ｒは、炭素原子数１〜１４の直鎖状または分岐
   鎖状のアルキル基、あるいは、炭素原子数１〜１４の直
   鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基を表し、Ｙは、単結
   合、−ＣＯ−Ｏ−、または−ＣＨ_２−Ｏ−を表し、 【化５】 【化６】 （式中、Ｒ′は、炭素原子数１〜１４の直鎖状または分
   岐鎖状のアルキル基を表し、＊は、不斉部位を表す）を
   表す〕で表される光学活性ベンゾジオキサン化合物の少
   なくとも１種を含有することを特徴とする液晶組成物。
5. 【請求項５】 一般式、（Ｉ）におけるＹが、単結合で
   あり、 【化７】 請求項４記載の液晶組成物。
6. 【請求項６】 一般式、（Ｉ）におけるＹが、−ＣＯ−
   Ｏ−、または−ＣＨ_２−Ｏ−である請求項４記載の液晶
   組成物。