JPH01313442A - 塩化ビニルの製造方法 - Google Patents
塩化ビニルの製造方法Info
- Publication number
- JPH01313442A JPH01313442A JP1104818A JP10481889A JPH01313442A JP H01313442 A JPH01313442 A JP H01313442A JP 1104818 A JP1104818 A JP 1104818A JP 10481889 A JP10481889 A JP 10481889A JP H01313442 A JPH01313442 A JP H01313442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acetylene
- catalyst
- chloride
- solvent
- vinyl chloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims abstract description 32
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 17
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical group CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- -1 alicyclic carboxylic acid Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OTUXCLKRSRDYPV-UHFFFAOYSA-N acetylene hydrochloride Chemical compound Cl.C#C OTUXCLKRSRDYPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000013040 bath agent Substances 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910002666 PdCl2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- ATADHKWKHYVBTJ-UHFFFAOYSA-N hydron;4-[1-hydroxy-2-(methylamino)ethyl]benzene-1,2-diol;chloride Chemical compound Cl.CNCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 ATADHKWKHYVBTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- VURFVHCLMJOLKN-UHFFFAOYSA-N diphosphane Chemical compound PP VURFVHCLMJOLKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanol Chemical compound OCCCl SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001617 alkaline earth metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- WXNOJTUTEXAZLD-UHFFFAOYSA-L benzonitrile;dichloropalladium Chemical compound Cl[Pd]Cl.N#CC1=CC=CC=C1.N#CC1=CC=CC=C1 WXNOJTUTEXAZLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- RNFNDJAIBTYOQL-UHFFFAOYSA-N chloral hydrate Chemical compound OC(O)C(Cl)(Cl)Cl RNFNDJAIBTYOQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002327 chloral hydrate Drugs 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- RCTYPNKXASFOBE-UHFFFAOYSA-M chloromercury Chemical compound [Hg]Cl RCTYPNKXASFOBE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M gold monochloride Chemical compound [Cl-].[Au+] FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- SAWKFRBJGLMMES-UHFFFAOYSA-N methylphosphine Chemical compound PC SAWKFRBJGLMMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L palladium(ii) acetylacetonate Chemical compound [Pd+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- 101150030454 paoA gene Proteins 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 description 1
- 229910021381 transition metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/07—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides
- C07C17/08—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides to unsaturated hydrocarbons
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、アセチレンを、室温よシも高い温度で溶剤中
の′Q金属触媒の存在で塩化水素と反応させることによ
って塩化ビニルを製造する方法に関する。
の′Q金属触媒の存在で塩化水素と反応させることによ
って塩化ビニルを製造する方法に関する。
従来の技術
アセチレンを塩化水素との反応による塩化ビニルの大工
業的製造は、通常は気相でHg072を含有する不均質
接触によシ実施する。経済的理由から塩化水銀を含まな
い触媒を使用すると大きな利益がある。気相法に対する
他の提案は実施することはできないであろう。
業的製造は、通常は気相でHg072を含有する不均質
接触によシ実施する。経済的理由から塩化水銀を含まな
い触媒を使用すると大きな利益がある。気相法に対する
他の提案は実施することはできないであろう。
同様に液相でアセチレンの塩化水素処理の実施に関して
も文献には若干の例があるが、これらは大工業的に実施
することはできない。すなわち米国特許第1.812.
542号、同第1.954.324号および同第3.1
13,158号によれば、アセチレンを、触媒として銅
化合物、好ましくは塩化銅がその中に溶解している水性
塩酸と反応させて塩化ビニルを生成させることは公知で
ある。触媒溶液は米国特許第1.812.542号によ
ればさらに付加的に塩化アンモニウムを含有し、米国特
許 第1.934,324号によれはアルカリ金属塩化物ま
たはアルカリ土類金属塩化物を営有し、米国特許第3.
113,158号によれはホスフィンおよび/ま九はジ
ホスフィンおよび/またはメチルホスフィンを3有する
。
も文献には若干の例があるが、これらは大工業的に実施
することはできない。すなわち米国特許第1.812.
542号、同第1.954.324号および同第3.1
13,158号によれば、アセチレンを、触媒として銅
化合物、好ましくは塩化銅がその中に溶解している水性
塩酸と反応させて塩化ビニルを生成させることは公知で
ある。触媒溶液は米国特許第1.812.542号によ
ればさらに付加的に塩化アンモニウムを含有し、米国特
許 第1.934,324号によれはアルカリ金属塩化物ま
たはアルカリ土類金属塩化物を営有し、米国特許第3.
113,158号によれはホスフィンおよび/ま九はジ
ホスフィンおよび/またはメチルホスフィンを3有する
。
ソ連国特許第165 446号明細書には溶剤としての
7メチルホルムアミド中の塩化銅によるアセチレンの塩
化水素処理が記載されておシ、ソ連国特許第232 9
56号明−書には塩酸性トリエタノールアミン溶液中の
塩化銅による同様な反応が記載されている。アセチレン
変換率の値は26%から99%までの範囲にある。空時
収率 10〜130g/l−hが報告されている。これらの場
合には、使用された溶剤中の塩化銅が最高60重量%の
高い濃度を有するのが欠点である。
7メチルホルムアミド中の塩化銅によるアセチレンの塩
化水素処理が記載されておシ、ソ連国特許第232 9
56号明−書には塩酸性トリエタノールアミン溶液中の
塩化銅による同様な反応が記載されている。アセチレン
変換率の値は26%から99%までの範囲にある。空時
収率 10〜130g/l−hが報告されている。これらの場
合には、使用された溶剤中の塩化銅が最高60重量%の
高い濃度を有するのが欠点である。
また、上記のような触媒系が大抵なお付加的な成分を含
有することは不満足である。
有することは不満足である。
特開昭第136 103号には、触媒としての塩化金お
よび塩化白金および/または塩化パラジウムの存在でア
セチレンおよび塩化水素から塩化ビニルを本造する方法
が開示されている。
よび塩化白金および/または塩化パラジウムの存在でア
セチレンおよび塩化水素から塩化ビニルを本造する方法
が開示されている。
溶剤または懸濁剤としては水または有機溶剤、例えばパ
ラフィン、塩化炭化水素、クイソプロぎルベンゾール、
クロラール水和物およびエチレンクロルヒドリンを使用
する。また触媒的に活性な金属塩化物は相体物質として
の活性炭と一緒に懸濁してもよい。さらに付加的な触媒
成分として遷移金属塩化物も使用する。54〜74%の
変換率は99%の選択率で達成される。
ラフィン、塩化炭化水素、クイソプロぎルベンゾール、
クロラール水和物およびエチレンクロルヒドリンを使用
する。また触媒的に活性な金属塩化物は相体物質として
の活性炭と一緒に懸濁してもよい。さらに付加的な触媒
成分として遷移金属塩化物も使用する。54〜74%の
変換率は99%の選択率で達成される。
空時収率は塩化ビニル約100g/ihである。
少なくとも21類の貴金属塩化物が存在しなければなら
ずおよび小さい変換率しか得られないのが欠点である。
ずおよび小さい変換率しか得られないのが欠点である。
発明が解決しようとする問題点
本発明の基礎には、触媒濃度の小さい均質な触媒溶液中
で高い変換率および高い選択率で、同時に高い空時収率
でアセチレンの塩化水素処理によって塩化ビニルを容易
に段進するというl!題がある。
で高い変換率および高い選択率で、同時に高い空時収率
でアセチレンの塩化水素処理によって塩化ビニルを容易
に段進するというl!題がある。
間辿点を解決するための手段
意外にも溶剤としてカルボン酸アミド中で触媒としてパ
ラジウム化合物を使用すると、従来の技術よシも10乗
だけ大きい空時収率を得ることができ、しかもアセチレ
ン変換率はほとんど完全であシ、選択率は99%以上で
あった。
ラジウム化合物を使用すると、従来の技術よシも10乗
だけ大きい空時収率を得ることができ、しかもアセチレ
ン変換率はほとんど完全であシ、選択率は99%以上で
あった。
従って本発明の対象は、室温よυも高い温度で有機溶剤
中の貴金属触媒の存在でアセチレンを塩化水素と反応さ
せることによって塩化ピ・ニルを段進する方法において
、触媒として有機溶剤としての脂肪族および/または脂
環式カルボン酸アミド中のパラジウム化合物を使用する
ことを特徴とする前記方法である。
中の貴金属触媒の存在でアセチレンを塩化水素と反応さ
せることによって塩化ピ・ニルを段進する方法において
、触媒として有機溶剤としての脂肪族および/または脂
環式カルボン酸アミド中のパラジウム化合物を使用する
ことを特徴とする前記方法である。
触媒としては、パラジウム化合物、例えは/?ランウム
(11塩化物、アルカリ−およびアルカリ土類金属四塩
化バラシ”ラム酸塩〔例えばNa 2 (Pd014
)、K2(PdOA4) s Lt2(paO14)お
よび(Nも)s+(PaOJ?a) ]、水累四地化パ
ランウム酸壌、パラジウム(1)酢酸塩、パラジウムア
セチルアセトネート、ビス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(13m化物、ビス(アセトニトリル)パラ
ジウム(1壌化物およびビス(ベンゾニトリル)パラジ
ウム(II)塩化物が適当である。好1しくは触媒とし
てパランラム(IJ塩化物を使用する。
(11塩化物、アルカリ−およびアルカリ土類金属四塩
化バラシ”ラム酸塩〔例えばNa 2 (Pd014
)、K2(PdOA4) s Lt2(paO14)お
よび(Nも)s+(PaOJ?a) ]、水累四地化パ
ランウム酸壌、パラジウム(1)酢酸塩、パラジウムア
セチルアセトネート、ビス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(13m化物、ビス(アセトニトリル)パラ
ジウム(1壌化物およびビス(ベンゾニトリル)パラジ
ウム(II)塩化物が適当である。好1しくは触媒とし
てパランラム(IJ塩化物を使用する。
アセチレンと塩化水素との反応は、液相で溶剤としての
脂肪族カルボン酸アミド中で行なう。
脂肪族カルボン酸アミド中で行なう。
で
カルボン酸アミドは環状または非環状構造lおつてよい
。例えは a)一般式:RICONR2R3で示されるカルボン酸
アミド〔式中R1およびR2は水素またはC原子1〜5
個を有するアルキル基を表わし、R3はC原子1〜5個
を有するアルキル基を表わす〕、例えは@Mツメチルア
ミド、酢酸ンメテルアミドおよび b)一般式RICONR2113で水式れるカルボン酸
アミド〔式中R3は水素またはC原子1〜5個を有する
アルキル基を衣わし、R1、R2はC原子2〜5(ti
!if、特にC原子3〜4個と一緒に閉環を形成する〕
溶剤としては好ましくはN−メチルピロリドンを使用す
る。
。例えは a)一般式:RICONR2R3で示されるカルボン酸
アミド〔式中R1およびR2は水素またはC原子1〜5
個を有するアルキル基を表わし、R3はC原子1〜5個
を有するアルキル基を表わす〕、例えは@Mツメチルア
ミド、酢酸ンメテルアミドおよび b)一般式RICONR2113で水式れるカルボン酸
アミド〔式中R3は水素またはC原子1〜5個を有する
アルキル基を衣わし、R1、R2はC原子2〜5(ti
!if、特にC原子3〜4個と一緒に閉環を形成する〕
溶剤としては好ましくはN−メチルピロリドンを使用す
る。
本発明により使用される触媒を本発明によシ使用される
溶剤中で溶解させるには、溶剤を、場合によっては加熱
下に、例えば塩化水素を導大して予め増量させることが
推奨される。溶剤を塩化水素で飽和させることは一般に
必要ない。
溶剤中で溶解させるには、溶剤を、場合によっては加熱
下に、例えば塩化水素を導大して予め増量させることが
推奨される。溶剤を塩化水素で飽和させることは一般に
必要ない。
本発明による方法は、成分たるアセチレンと塩化水素を
、有利にはモル比1:1〜1:3で、極めて有利には1
:1〜1 : 1.5で触媒の存在で反応させることに
よって行なう。
、有利にはモル比1:1〜1:3で、極めて有利には1
:1〜1 : 1.5で触媒の存在で反応させることに
よって行なう。
好ましくは、使用された溶剤量に対して0.1〜1.0
重量%、極めて有利には0.3〜0.8M量%の触媒を
使用する。
重量%、極めて有利には0.3〜0.8M量%の触媒を
使用する。
アセチレンと塩化水素とは室温よシも高い温度で反応さ
れ、いかなる場合にも温度は本発明によシ使用されるカ
ルボン酸アミドのヒドロクロリドの融点を越えていなけ
ればならない。
れ、いかなる場合にも温度は本発明によシ使用されるカ
ルボン酸アミドのヒドロクロリドの融点を越えていなけ
ればならない。
好ましくは反応は、100〜200’Oの温度、極めて
有利には140〜170℃で行なう。
有利には140〜170℃で行なう。
両原料たるアセチレンおよび塩化水素は、同時的に、好
ましくは前混合して触媒溶液中に導入する、つまり反応
系は気泡塔(Blaseneiiule)である。この
場合反応は大気圧でまたは少し高められた圧力で行なわ
れる。
ましくは前混合して触媒溶液中に導入する、つまり反応
系は気泡塔(Blaseneiiule)である。この
場合反応は大気圧でまたは少し高められた圧力で行なわ
れる。
次に本発明を実施例によシ詳述する。
例1
アセチレンと塩化水素との反応を次のように実施する:
垂直な二重壁から成シ、内管の内径2.2 mの、ガラ
ス管に、N−メチルピロリドン45−中のNa2PaO
A!4175 ”9を溶液を光填する。7.2NJ7
h(N/ −Normalliter )の容lの塩化
水素流ト5.9L Nl / hの容量のアセチレン流
を反応器前で合流させ、混合し、150℃に謂節した触
媒溶液を下から供給する(外部ジャケット中に伝熱体が
存在する)。反応器から流出するガス状の混合生成物を
ガスクロマトグラフィーによυ分析し、塩化ビニルへの
選択率98.6%でアセチレンの変換率99.7%が測
定された。空時収率は塩化ビニル358g/A!−hで
ある。
ス管に、N−メチルピロリドン45−中のNa2PaO
A!4175 ”9を溶液を光填する。7.2NJ7
h(N/ −Normalliter )の容lの塩化
水素流ト5.9L Nl / hの容量のアセチレン流
を反応器前で合流させ、混合し、150℃に謂節した触
媒溶液を下から供給する(外部ジャケット中に伝熱体が
存在する)。反応器から流出するガス状の混合生成物を
ガスクロマトグラフィーによυ分析し、塩化ビニルへの
選択率98.6%でアセチレンの変換率99.7%が測
定された。空時収率は塩化ビニル358g/A!−hで
ある。
例2
N、N−ツメチルホルムアミド68−中に溶かしたpa
aJ2150■の存在で120℃の温度で例1と同様に
反応を行なうと、アセチレン11.25Nl/hおよび
塩化水素11.25 Nl/hの使用下でアセチレン変
換率80%および選択率98.7%が得られる。
aJ2150■の存在で120℃の温度で例1と同様に
反応を行なうと、アセチレン11.25Nl/hおよび
塩化水素11.25 Nl/hの使用下でアセチレン変
換率80%および選択率98.7%が得られる。
空時収率は塩化ビニル652g/A!−hである。
例6
アセチレン5.9 NA / hおよび塩化水素7,2
Nl / hを使用して例2と同様に行なうと変換率9
4.7%および選択率98.9%が得られる。
Nl / hを使用して例2と同様に行なうと変換率9
4.7%および選択率98.9%が得られる。
空時収率は塩化ビニル405II/l−hでおる。
例4
paoA!24.79/ Itを含有するN−メチルピ
ロリドン溶i21+wJの存在で、アセチレン13NJ
/hと塩化水素14.3 Nl / hとから成る混合
ガスをして例1と同様に行なうと、アセチレン変換率9
6.0および塩化ビニルへの選択率98.8%が得られ
る。
ロリドン溶i21+wJの存在で、アセチレン13NJ
/hと塩化水素14.3 Nl / hとから成る混合
ガスをして例1と同様に行なうと、アセチレン変換率9
6.0および塩化ビニルへの選択率98.8%が得られ
る。
空時収率は塩化ビニル1638g/A!−hである。
例5
paR2311/ノの存在でアセチレン12.5Nl
/ hおよび塩化水素15NA!/hを用いて反応を例
4で記載したように行なうと、アセチレン変換率は89
.5%でおシおよび塩化ビニルへの選択率は98.7%
である。
/ hおよび塩化水素15NA!/hを用いて反応を例
4で記載したように行なうと、アセチレン変換率は89
.5%でおシおよび塩化ビニルへの選択率は98.7%
である。
空時収率は塩化ビニル146711/111hである。
例6
p(1aJ24 g / lを含有するN−メチルピロ
リドン溶液30−の存在で、148℃の温度で、アセチ
レン13N)/hおよび塩化水素15.2Ml/hの使
用下に例1と同様に行なうと、959%のアセチレン変
換率が得られる。塩化ビニルへの選択率は99.2%で
あシ、空時収率は塩化ビニル1150g/ノ・hである
。
リドン溶液30−の存在で、148℃の温度で、アセチ
レン13N)/hおよび塩化水素15.2Ml/hの使
用下に例1と同様に行なうと、959%のアセチレン変
換率が得られる。塩化ビニルへの選択率は99.2%で
あシ、空時収率は塩化ビニル1150g/ノ・hである
。
例7
paOA!24.91 / lの存在で、160℃の温
度で、アセチレン12NJ/hおよび塩化水素14.4
NA!/hの使用下に反応を例6と同様に行なうと、ア
セチレン変換率は99.6%であ本選択率は99.3%
でらシ、空時収率は塩化ビニル1104g//−hであ
る。
度で、アセチレン12NJ/hおよび塩化水素14.4
NA!/hの使用下に反応を例6と同様に行なうと、ア
セチレン変換率は99.6%であ本選択率は99.3%
でらシ、空時収率は塩化ビニル1104g//−hであ
る。
代理人 弁理士 矢 野 敏 雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、アセチレンを、室温よりも高い温度で有機溶剤中の
貴金属触媒の存在で塩化水素と反応させることによつて
塩化ビニルを製造するに当り、触媒として溶剤としての
脂肪族および/または脂環式カルボン酸アミド中のパラ
ジウム化合物を使用することを特徴とする塩化ビニルの
製造方法。 2、触媒として塩化パラジウム(II)を使用する請求項
1記載の方法。 3、溶剤としてN−メチルピロリドンを使用する請求項
1または請求項2記載の方法。 4、使用した溶剤量に対して0.1〜1.0重量%の触
媒を使用する請求項1から請求項3までのいづれか1項
記載の方法。 5、使用した浴剤量に対して0.3〜0.8重量%の触
媒を使用する請求項4記載の方法。 6、反応を100〜200℃の温度で行なう請求項1か
ら請求項5までのいづれか1項記載の方法。 7、反応を140〜170℃の温度で行なう請求項6記
載の方法。 8、アセチレンと塩素水素とをモル比1:1〜1:3で
反応させる請求項1から請求項7までのいづれか1項記
載の方法。 9、アセチレンと塩化アセチレンとをモル比1:1〜1
:1.5で反応させる請求項8記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3814785.8 | 1988-04-30 | ||
DE3814785 | 1988-04-30 | ||
DE3824634.1 | 1988-07-20 | ||
DE3824634A DE3824634A1 (de) | 1988-04-30 | 1988-07-20 | Verfahren zur herstellung von vinylchlorid durch umsetzung von acetylen mit chlorwasserstoff |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01313442A true JPH01313442A (ja) | 1989-12-18 |
Family
ID=25867625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1104818A Pending JPH01313442A (ja) | 1988-04-30 | 1989-04-26 | 塩化ビニルの製造方法 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4912271A (ja) |
EP (1) | EP0340416B1 (ja) |
JP (1) | JPH01313442A (ja) |
CN (1) | CN1037501A (ja) |
AT (1) | ATE76051T1 (ja) |
AU (1) | AU611557B2 (ja) |
BR (1) | BR8902039A (ja) |
DE (2) | DE3824634A1 (ja) |
HU (1) | HUT53856A (ja) |
NO (1) | NO167279C (ja) |
PL (1) | PL279182A1 (ja) |
RO (1) | RO103749B1 (ja) |
YU (1) | YU84989A (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE1004984A3 (fr) * | 1991-06-20 | 1993-03-09 | Solvay | Systeme catalytique d'hydrochloration et procede de fabrication de chlorure de vinyle au depart d'acetylene et de chlorure d'hydrogene en presence de ce systeme catalytique. |
BE1004983A3 (fr) * | 1991-06-20 | 1993-03-09 | Solvay | Systeme catalytique d'hydrochloration et procede de fabrication de chlorure de vinyle au depart d'acetylene et de chlorure d'hydrogene en presence de ce systeme catalytique. |
KR101320387B1 (ko) * | 2005-01-25 | 2013-10-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | Co 제거 촉매 시스템 및 이를 채용한 연료처리장치 |
FR2910350B1 (fr) * | 2006-12-22 | 2009-01-30 | Solvay | Systeme catalytique d'hydrochloration et procede de fabrication de chlorure de vinyle au depart d'acetylene et de chlorure d'hydrogene en presence de ce systeme catalytique. |
CN101716528B (zh) * | 2009-10-30 | 2012-10-31 | 于志勇 | 乙炔氢氯化制备氯乙烯的催化剂体系及其制备和应用 |
CN101879464B (zh) * | 2010-05-28 | 2012-06-27 | 于志勇 | 乙炔氢氯化制备氯乙烯的催化剂体系及其制备和应用 |
CN103269796B (zh) | 2010-12-22 | 2016-08-10 | 索维公司 | 催化系统及其用于通过乙炔的氢氯化反应制造氯乙烯的用途 |
EA024478B1 (ru) | 2010-12-22 | 2016-09-30 | Солвей Са | Каталитическая система и ее использование для производства винилхлорида гидрохлорированием ацетилена |
WO2012084642A1 (en) | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Solvay Sa | Manufacture of vinyl chloride by hydrochlorination of acetylene in the presence of a catalytic system consisting of at least one ionic liquid |
WO2012113778A1 (en) | 2011-02-24 | 2012-08-30 | Solvay Sa | Process for the hydrohalogenation of an alkyne and for the manufacture of vinyl chloride by hydrochlorination of acetylene |
EP2617698A1 (en) | 2012-06-27 | 2013-07-24 | Solvay Sa | Process for the hydrohalogenation of an unsaturated hydrocarbon and for the manufacture of vinyl chloride by hydrochlorination of acetylene |
US8877988B2 (en) * | 2012-12-21 | 2014-11-04 | Honeywell International Inc. | Synthesis of 1-BROM0-3,3,3-trifluoropropene |
GB201509019D0 (en) | 2015-05-27 | 2015-07-08 | Johnson Matthey Plc | Process and catalyst |
CN105001040B (zh) * | 2015-06-05 | 2017-04-12 | 浙江大学 | 利用金属纳米粒子/离子液体体系催化乙炔氢氯化反应的方法 |
US9687837B1 (en) | 2016-08-31 | 2017-06-27 | Eastman Chemical Company | Stable hydroformylation catalyst for preparation of high N/Iso ratio aldehyde product |
US9975833B2 (en) | 2016-08-31 | 2018-05-22 | Eastman Chemical Company | Efficient catalyst for the formation of polyaryl hydrocarbons suitable as precursors for polydentate organophosphorus catalyst ligands |
CN106944151B (zh) * | 2017-03-22 | 2019-08-30 | 厦门中科易工化学科技有限公司 | 一种用于乙炔氢氯化合成氯乙烯的无汞催化剂及其制备方法和应用 |
CN108358744A (zh) * | 2018-02-05 | 2018-08-03 | 陕西北元化工集团股份有限公司 | 一种非汞催化剂乙炔法氯乙烯合成工艺 |
CN109158126B (zh) * | 2018-07-12 | 2021-10-29 | 天津大学 | 一种用于催化乙炔氢氯化反应的金属卤酸根离子液体及其应用方法 |
CN110548458B (zh) * | 2019-09-30 | 2021-12-24 | 河北美邦工程科技股份有限公司 | 一种气液相催化反应系统及其使用方法 |
CN112121809B (zh) * | 2020-09-30 | 2023-06-23 | 宁夏新龙蓝天科技股份有限公司 | 一种用于电石法制氯乙烯的催化剂及其制备方法 |
CN113663740A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-11-19 | 新疆至臻化工工程研究中心有限公司 | 一种钝化型超低含量金催化剂 |
CN115501895B (zh) * | 2022-09-19 | 2024-02-20 | 石河子大学 | 一种乙炔氢氯化反应催化剂及其制备方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1431352A (fr) * | 1964-04-04 | 1966-03-11 | Hoechst Ag | Procédé de préparation du chlorure de vinyle |
DE3009520C2 (de) * | 1980-03-12 | 1986-09-04 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zur Entfernung von Acetylen aus dem Reaktionsprodukt der thermischen 1,2-Dichlorethan-Spaltung |
US4482770A (en) * | 1981-03-06 | 1984-11-13 | Wacker Chemie Gmbh | Removal of acetylene from products of 1,2-dichloroethane pyrolysis |
-
1988
- 1988-07-20 DE DE3824634A patent/DE3824634A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-03-08 AT AT89104051T patent/ATE76051T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-03-08 EP EP89104051A patent/EP0340416B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-08 DE DE8989104051T patent/DE58901375D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-18 US US07/339,721 patent/US4912271A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-24 RO RO139406A patent/RO103749B1/ro unknown
- 1989-04-24 YU YU00849/89A patent/YU84989A/xx unknown
- 1989-04-26 JP JP1104818A patent/JPH01313442A/ja active Pending
- 1989-04-28 HU HU892045A patent/HUT53856A/hu unknown
- 1989-04-28 BR BR898902039A patent/BR8902039A/pt unknown
- 1989-04-28 PL PL27918289A patent/PL279182A1/xx unknown
- 1989-04-28 AU AU33845/89A patent/AU611557B2/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-29 CN CN89102887A patent/CN1037501A/zh active Pending
- 1989-05-02 NO NO891809A patent/NO167279C/no unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR8902039A (pt) | 1989-12-05 |
AU611557B2 (en) | 1991-06-13 |
CN1037501A (zh) | 1989-11-29 |
EP0340416A1 (de) | 1989-11-08 |
EP0340416B1 (de) | 1992-05-13 |
AU3384589A (en) | 1989-11-02 |
ATE76051T1 (de) | 1992-05-15 |
HUT53856A (en) | 1990-12-28 |
US4912271A (en) | 1990-03-27 |
NO891809D0 (no) | 1989-05-02 |
RO103749B1 (ro) | 1992-03-25 |
YU84989A (en) | 1990-10-31 |
DE3824634A1 (de) | 1989-11-09 |
PL279182A1 (en) | 1989-11-27 |
NO167279B (no) | 1991-07-15 |
RO103749A2 (en) | 1991-12-02 |
NO891809L (no) | 1989-10-31 |
NO167279C (no) | 1991-10-23 |
DE58901375D1 (de) | 1992-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH01313442A (ja) | 塩化ビニルの製造方法 | |
JPS632939B2 (ja) | ||
JPS58103337A (ja) | 無水酢酸および/または酢酸および/またはエチリデンジアセテ−トの製法 | |
JPH07112989B2 (ja) | 高塩素化メタンの脱塩素化方法 | |
US3996274A (en) | Method for producing chlorobenzoyl chloride | |
JPH01193246A (ja) | 2,3―ジクロロピリジンの製造法 | |
US5072062A (en) | Bromination method | |
KR930004510B1 (ko) | 1,1,1-트리플루오로-2,2-디클로로에탄의 제조방법 | |
JPH01207249A (ja) | 含フツ素オレフインの製造方法 | |
JPH01121268A (ja) | 3,5−ジクロロピリジンの製造法 | |
US4849523A (en) | Preparation of 2,3,4,6-tetrachloropyridine | |
JPH04164063A (ja) | クロロスルホニルイソシアナートの製造方法 | |
JP2543669B2 (ja) | 臭化パ―フルオロアルキルの製造方法 | |
JPS6391336A (ja) | ヨウ素化ビフエニルの製造方法 | |
JPS6260377B2 (ja) | ||
JPH01261344A (ja) | 2,2,6,6‐テトラクロロシクロヘキサノンの製造法 | |
JPH03275656A (ja) | N,n―ジメチルアセトアミドの製造法 | |
EP0310255A1 (en) | Production of carbonyl difluoride | |
RU1795963C (ru) | Способ получени винилхлорида | |
JPS6377855A (ja) | クロロスルホニルイソシアネ−トの製造方法 | |
JPS6253940A (ja) | 4−クロルアセト酢酸クロライドの製法 | |
KR960001909B1 (ko) | 2-메틸-6-아실나프탈렌의 제조방법 | |
JPS62185082A (ja) | テトラクロロ無水フタル酸の製造方法 | |
JPS6157532A (ja) | ギ酸ベンジルおよびその誘導体の接触的転位によるフエニル酢酸およびその誘導体の製造方法 | |
JPH09227440A (ja) | 3,3−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロプロパン−2−オンの製造法 |