JPS58103337A - 無水酢酸および／または酢酸および／またはエチリデンジアセテ−トの製法 - Google Patents
無水酢酸および／または酢酸および／またはエチリデンジアセテ−トの製法Info
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- JPS58103337A JPS58103337A JP57208741A JP20874182A JPS58103337A JP S58103337 A JPS58103337 A JP S58103337A JP 57208741 A JP57208741 A JP 57208741A JP 20874182 A JP20874182 A JP 20874182A JP S58103337 A JPS58103337 A JP S58103337A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/10—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide
- C07C51/12—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide on an oxygen-containing group in organic compounds, e.g. alcohols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/54—Preparation of carboxylic acid anhydrides
- C07C51/56—Preparation of carboxylic acid anhydrides from organic acids, their salts, their esters or their halides, e.g. by carboxylation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、酢酸メチルおよび／またはりメチルエーテル
を一酸化炭素または一酸化炭素および水素の混合物とを
温度５０〜３００℃および反応圧力１〜５００パール１
触媒系の存在１反応させることζ；より無水酢酸および
／または酢酸および／またはエチリデンジアセテートを
製造する方法に関する（例えば西ドイツ国特許出願公開
＄２４５０９６５号・四＠２８３’６０８４号、同第２
９３９８３９号または同第２９４１２３２号明細書）。
を一酸化炭素または一酸化炭素および水素の混合物とを
温度５０〜３００℃および反応圧力１〜５００パール１
触媒系の存在１反応させることζ；より無水酢酸および
／または酢酸および／またはエチリデンジアセテートを
製造する方法に関する（例えば西ドイツ国特許出願公開
＄２４５０９６５号・四＠２８３’６０８４号、同第２
９３９８３９号または同第２９４１２３２号明細書）。
その際触媒系の重要成分として周期律の第■族の貴金属
、有利にロジウム、ノぞラジウム、イリジウムまたはル
テニウムまたはこれらの化合物が使用された。
、有利にロジウム、ノぞラジウム、イリジウムまたはル
テニウムまたはこれらの化合物が使用された。
ところ１意想外にもこれらのきわめて高価な貴金属をレ
ニウムによって代えることに成功した。
ニウムによって代えることに成功した。
したがって詳細には本発明による方法は触媒系としてレ
ニウムまたはその化合物；有機ハロゲン化合物、ハロゲ
ンまたはハロゲン化水素；場合により他のカル／ニル形
成卑金属またはその化合物；場合により第３または第４
有機窒素、リン、砒素またはアンチモン化合物；および
場合によりアルカリアセテートまたは反応条件下ｆアル
カリアセテートに変わるアルカリ化合物を使用すること
より成る。
ニウムまたはその化合物；有機ハロゲン化合物、ハロゲ
ンまたはハロゲン化水素；場合により他のカル／ニル形
成卑金属またはその化合物；場合により第３または第４
有機窒素、リン、砒素またはアンチモン化合物；および
場合によりアルカリアセテートまたは反応条件下ｆアル
カリアセテートに変わるアルカリ化合物を使用すること
より成る。
他のカル／ニル形成卑金属とは特にＯｒ、 ＭＯｌＷ、
Ｆｅ、ＣｏまたはＮ１ と理解すべき１ある。
Ｆｅ、ＣｏまたはＮ１ と理解すべき１ある。
本発明の本性は更に選択的にかつ有利に、ａ）ハロゲン
化メチルまたはハロゲン化水素を用いた触媒系中を四級
化有機窒素またはリン化合物を使用する； ｂ）酢酸メチルまたはジメチルエーテル／レニウム（−
化合物）／ハロゲン（−化合物）／窒素、リン、砒素ま
たはアンチモン化合物／アルカリ化合物をモル比ｌ：
（０，０００１〜０．１ ） ： （０，０１〜１）＝
（０〜１）：（０〜０．１）″＋４使用する。
化メチルまたはハロゲン化水素を用いた触媒系中を四級
化有機窒素またはリン化合物を使用する； ｂ）酢酸メチルまたはジメチルエーテル／レニウム（−
化合物）／ハロゲン（−化合物）／窒素、リン、砒素ま
たはアンチモン化合物／アルカリ化合物をモル比ｌ：
（０，０００１〜０．１ ） ： （０，０１〜１）＝
（０〜１）：（０〜０．１）″＋４使用する。
本発明の範囲内で使用されるレニウム化合物は例えば塩
化レニウム、オキシ塩化レニウムまたはジレニウムデカ
カルＩニルｆある。
化レニウム、オキシ塩化レニウムまたはジレニウムデカ
カルＩニルｆある。
ハロゲンは元素の形１塩素、臭素、ヨウ素として、また
はハロゲン化合物、有利Ｃ；塩化メチル、臭化メチル、
ヨウ化メチル、Ｈｅｊｌ！、ＨＢｒ 。
はハロゲン化合物、有利Ｃ；塩化メチル、臭化メチル、
ヨウ化メチル、Ｈｅｊｌ！、ＨＢｒ 。
Ｈ工 として使用することができる。しかし他のアルキ
ルハロゲン化物およびハロゲン化アシルも該当する。そ
れというのも出発物質の性質は重要ｆはないからｆある
。
ルハロゲン化物およびハロゲン化アシルも該当する。そ
れというのも出発物質の性質は重要ｆはないからｆある
。
場合により使用される第３または第４有機窒素、リン、
砒素またはアンチモン化合物はレニウムと錯体を形成す
る。第３有機窒素または有機リン化合物としてアミン、
ホスフィンまたはアミノホスフィン、特にトリアルキル
アミン、Ｎ、ＩＪ−ジアルキルアニリン、ピリジン、ピ
ロリドン、トリアルキル−またはトリアリールホスフィ
ン、特にＮ−メチルイミダゾール、３−ピコリン、２，
４−ルチジン、ａ、４−ルチジン、キノリン、トリブチ
ルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリラウリル
ホスフィンまたはトリフェニルホスフィンが挙げられる
。しかしまた有機窒素または有機リン化合物は四級化し
て例えばＮ−メチルピリジニウムノーロゲニド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルイミダゾリウムハロゲニド、Ｎ−メチル−３
−ピコリニウムノ１０ゲニド、Ｎ−メチル−２，４−ル
チジニウムハロゲニド、Ｎ−メチル−３，４−ルチジニ
ウムノ）ロゲニド、Ｎ−メチルーキノリニウムノーロゲ
ニド、トリブチルーメチルホスホニウムハロゲニド、ト
リオクチルーメチルーホスホニウムハロゲニド、トリラ
ウリルーメチルーホスホニウムハロゲニｒ、トリフェニ
ルーメチルーホスホニウムハロゲニドとしてハロゲン化
メチルまたはハロゲン化水素と一緒に使用してもよく、
その酸ノ・ロゲニドとはそれぞれクロリド、プロミドま
たはヨーシトである。有機砒素およびアンチモン化合物
としてはアルシン類およびステイビンを有利（二使用す
ることが１きる。
砒素またはアンチモン化合物はレニウムと錯体を形成す
る。第３有機窒素または有機リン化合物としてアミン、
ホスフィンまたはアミノホスフィン、特にトリアルキル
アミン、Ｎ、ＩＪ−ジアルキルアニリン、ピリジン、ピ
ロリドン、トリアルキル−またはトリアリールホスフィ
ン、特にＮ−メチルイミダゾール、３−ピコリン、２，
４−ルチジン、ａ、４−ルチジン、キノリン、トリブチ
ルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリラウリル
ホスフィンまたはトリフェニルホスフィンが挙げられる
。しかしまた有機窒素または有機リン化合物は四級化し
て例えばＮ−メチルピリジニウムノーロゲニド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルイミダゾリウムハロゲニド、Ｎ−メチル−３
−ピコリニウムノ１０ゲニド、Ｎ−メチル−２，４−ル
チジニウムハロゲニド、Ｎ−メチル−３，４−ルチジニ
ウムノ）ロゲニド、Ｎ−メチルーキノリニウムノーロゲ
ニド、トリブチルーメチルホスホニウムハロゲニド、ト
リオクチルーメチルーホスホニウムハロゲニド、トリラ
ウリルーメチルーホスホニウムハロゲニｒ、トリフェニ
ルーメチルーホスホニウムハロゲニドとしてハロゲン化
メチルまたはハロゲン化水素と一緒に使用してもよく、
その酸ノ・ロゲニドとはそれぞれクロリド、プロミドま
たはヨーシトである。有機砒素およびアンチモン化合物
としてはアルシン類およびステイビンを有利（二使用す
ることが１きる。
アルカリ化合物としては有利にカリウム、ルビジウムま
たはセシウムのアセテートを使用する。
たはセシウムのアセテートを使用する。
出発ガスの組成はｃｏｔｏｏ容量チ〜ｃｏ ２０容量
％＋Ｈ２８０容量％ｆ変化してよい。ＣＯ：Ｈ２の容量
化９０：１０〜５０：５０が優れている。
％＋Ｈ２８０容量％ｆ変化してよい。ＣＯ：Ｈ２の容量
化９０：１０〜５０：５０が優れている。
有利に温度１２０〜２５０℃および反応圧力１０〜３０
０パールで操作・される。
０パールで操作・される。
反応は耐食性材料、例えば特殊鋼（ハステロイ）または
ほうろう引き鋼から成るオートクレーブ中１実施し、か
つ滞留時間１〜１０時間を必要とするが、更に短かい反
応時間を調節することも〒き、そのために反応を連続的
に流動反応器中を実施することができる。
ほうろう引き鋼から成るオートクレーブ中１実施し、か
つ滞留時間１〜１０時間を必要とするが、更に短かい反
応時間を調節することも〒き、そのために反応を連続的
に流動反応器中を実施することができる。
例１
容量１２の耐食性特殊鋼攪拌オートクレーブ中ｆ酢酸メ
チル２５０ノ、ヨウ化メチル５０ｐ、Ｎ、Ｎ−ジメチル
イミダゾリウムヨーシト６０ｙおよびジレニウムデカカ
ル？ニルＲｅ２（ｃｏ ）１ｏ２ Ｆを充填した。００
８０パールおよび水素２０パールの圧力をかけた後オー
トクレーブを２００℃に加熱した。調節される最大圧力
は１５０／ζ−ル１あった。反応条件下！約１００分の
滞留時間の後オートクレーブ中の圧力が７０・々−ルま
で低下した。蒸溜による後処理の後無水酢酸１２６．６
ｐ、エチリデンジアセテー） ３２．５９および酢酸５
４．２ ｐが得られた。
チル２５０ノ、ヨウ化メチル５０ｐ、Ｎ、Ｎ−ジメチル
イミダゾリウムヨーシト６０ｙおよびジレニウムデカカ
ル？ニルＲｅ２（ｃｏ ）１ｏ２ Ｆを充填した。００
８０パールおよび水素２０パールの圧力をかけた後オー
トクレーブを２００℃に加熱した。調節される最大圧力
は１５０／ζ−ル１あった。反応条件下！約１００分の
滞留時間の後オートクレーブ中の圧力が７０・々−ルま
で低下した。蒸溜による後処理の後無水酢酸１２６．６
ｐ、エチリデンジアセテー） ３２．５９および酢酸５
４．２ ｐが得られた。
例２
オートクレーブ中ｆ酢酸メチル２５０９、Ｎ−メチルイ
ミダゾール５０ｙ５ヨウ化メチル５０２、塩化メチル５
０２およびＲｅ２（ＣＯ）、。
ミダゾール５０ｙ５ヨウ化メチル５０２、塩化メチル５
０２およびＲｅ２（ＣＯ）、。
１．５２の混合物を使用した。Ｃｏ ９．０パールお
よびＨ２２０パールの圧力をかけ、かつ反応温度を２１
０℃に調節した後オートクレーブ内に圧力１７５パール
が形成された。反応時間１時間後圧力は７０ノ々−ルま
ｆ低下した。反応混合物を蒸溜により後処理した。不変
のヨウ化メチルおよび未反応の酢酸メチルの他に無水酢
酸１３５２、エチリデンジアセテート２８ｙおよび酢酸
３２ノが得られた。
よびＨ２２０パールの圧力をかけ、かつ反応温度を２１
０℃に調節した後オートクレーブ内に圧力１７５パール
が形成された。反応時間１時間後圧力は７０ノ々−ルま
ｆ低下した。反応混合物を蒸溜により後処理した。不変
のヨウ化メチルおよび未反応の酢酸メチルの他に無水酢
酸１３５２、エチリデンジアセテート２８ｙおよび酢酸
３２ノが得られた。
例３
例２１蒸溜による後処理の後得られた残分を酢酸メチル
２５０ノおよびヨウ化メチル５０ｆＩの添加後改めて触
媒として使用した。ＣＯ圧：８０パール、Ｈ２圧＝２０
ノ々−ル。温度２００℃ｔオートクレーブ圧は３０分以
内−Ｌ’１５０から６５７９−ルに低下した。引続きＣ
Ｏ−吸収がもはや起らなくなるま１１３０パールにＣＯ
を後圧入した。全部で１００分後反応は終了した。蒸溜
による後処理の後無水酢酸２９０ノ、エチリデンジアセ
テー） ５．５９および酢酸４（１’が不変のヨウ化メ
チルとともに得られた。酢酸メチルは少量のみ検出可能
１あった。
２５０ノおよびヨウ化メチル５０ｆＩの添加後改めて触
媒として使用した。ＣＯ圧：８０パール、Ｈ２圧＝２０
ノ々−ル。温度２００℃ｔオートクレーブ圧は３０分以
内−Ｌ’１５０から６５７９−ルに低下した。引続きＣ
Ｏ−吸収がもはや起らなくなるま１１３０パールにＣＯ
を後圧入した。全部で１００分後反応は終了した。蒸溜
による後処理の後無水酢酸２９０ノ、エチリデンジアセ
テー） ５．５９および酢酸４（１’が不変のヨウ化メ
チルとともに得られた。酢酸メチルは少量のみ検出可能
１あった。
例４
使用量：酢酸メチル ２５０ｖ
ヨウ化メチル ５０ｆ！
Ｒｅ２（ＣＯ）、。 １．５９オートクレー
ブをアルＪンｆ洗浄後２０パールのＨ２および８０パー
ルのＣＯを圧入した。温度２００℃１オートクレーブ内
の圧力は２時間以内−１’１６０から７０パールに低下
した。無水酢酸１１８ｐ、エチリデンジアセテート２３
ｙおよび酢酸１２ｐが得られた。
ブをアルＪンｆ洗浄後２０パールのＨ２および８０パー
ルのＣＯを圧入した。温度２００℃１オートクレーブ内
の圧力は２時間以内−１’１６０から７０パールに低下
した。無水酢酸１１８ｐ、エチリデンジアセテート２３
ｙおよび酢酸１２ｐが得られた。
例５
使用量：酢酸メチル ２５０２
ヨウ化メチル ５０２
酢酸セシウム ５グ
Ｒｅ （ｃｏ ）ｔｏ １．５９ｃｏ圧：
ｓ ｏ Ａ−ル、Ｈ２−圧：２５パ一ル／２０℃。反
応温度を２０５℃に調節した。反応時間ζ時間後オート
クレーブ圧は反応条件下ｆ最大１６０ノ々−ルから６０
ノ々−ルに低下した。
ｓ ｏ Ａ−ル、Ｈ２−圧：２５パ一ル／２０℃。反
応温度を２０５℃に調節した。反応時間ζ時間後オート
クレーブ圧は反応条件下ｆ最大１６０ノ々−ルから６０
ノ々−ルに低下した。
蒸溜により分離後未反応酢酸メチルの他に無水酢酸１０
２ノ、酢酸２５２およびエチリデンジアセテート２８．
８９が得られた。
２ノ、酢酸２５２およびエチリデンジアセテート２８．
８９が得られた。
例６
使用量：酢酸メチル ２５０２
ヨウ化メチル ５（１’
Ｒｅ２（００）１６１．５ Ｆ
メチル−トリブチル−
ホスホニウムヨーシト １０ノ
２０℃？ Ｃｏ Ｂ ｏパールおよびＨ２２０ノ々−ル
を圧入した。反応温度２０５℃１オートクレーブ圧は１
８０パールま１上昇した。ｌ一時間後反応が終了した。
を圧入した。反応温度２０５℃１オートクレーブ圧は１
８０パールま１上昇した。ｌ一時間後反応が終了した。
反応生成物から無水酢酸１６７．７２エチリデンジアセ
テート１．５９、酢酸３４ノが得られた。
テート１．５９、酢酸３４ノが得られた。
例７
例４で蒸溜により後処理の後得られた残分を王水を用い
て蒸溜フラスコから吸収し、かつ濃縮乾固した。この残
分を酢酸メチル２５０５２゜ヨウ化メチル５０りおよび
Ｎ、Ｎ−ジメチルイミダゾリウムヨーシト１０ｙを添加
後触媒として使用した。
て蒸溜フラスコから吸収し、かつ濃縮乾固した。この残
分を酢酸メチル２５０５２゜ヨウ化メチル５０りおよび
Ｎ、Ｎ−ジメチルイミダゾリウムヨーシト１０ｙを添加
後触媒として使用した。
２０℃−１％（３０圧：８５パール、２０℃−ＦＨ２圧
：２０ Ａ −ル。反応温度２１０℃−？’オートクレ
ーブ内の反応圧力が１１０分以内′ｔ％７０）々−ルに
低下した。
：２０ Ａ −ル。反応温度２１０℃−？’オートクレ
ーブ内の反応圧力が１１０分以内′ｔ％７０）々−ルに
低下した。
無水酢酸１９７．７ ｙ、エチリデンジアセテート１７
ｙおよび酢酸３３りが得られた。
ｙおよび酢酸３３りが得られた。
例８
例５′ｔ％蒸溜による後処理の後得られた残分を例７の
ようにして後処理した。酢酸メチル２５０２、ヨウ化メ
チル５０ｐおよびＮ 、 Ｎ−・ジメチルイミダゾリウ
ムヨーシト１０ｙ添加後Ｃ０１００ノ々−ル（水素なし
〕の圧力をかけ、かつ２１０℃に加熱した。その際オー
トクレーブ圧は１８５ノｚ−ル１：上昇した。３一時間
後圧力は７０パールにま１落ちた。蒸溜による後処理に
より無水酢酸２４６．７ ｐが得られた。同時に酢酸２
０７が生成した。
ようにして後処理した。酢酸メチル２５０２、ヨウ化メ
チル５０ｐおよびＮ 、 Ｎ−・ジメチルイミダゾリウ
ムヨーシト１０ｙ添加後Ｃ０１００ノ々−ル（水素なし
〕の圧力をかけ、かつ２１０℃に加熱した。その際オー
トクレーブ圧は１８５ノｚ−ル１：上昇した。３一時間
後圧力は７０パールにま１落ちた。蒸溜による後処理に
より無水酢酸２４６．７ ｐが得られた。同時に酢酸２
０７が生成した。
例９
オートクレーブ中に酢酸メチル２５０９、臭化メチル１
００ｙ、Ｎ−メチルイミダゾール３０ノおよびＲｅ２（
Ｃｏ ）１ｏ１．５ ｆｌを充填した。
００ｙ、Ｎ−メチルイミダゾール３０ノおよびＲｅ２（
Ｃｏ ）１ｏ１．５ ｆｌを充填した。
オートクレーブをアルゴンを洗浄後００８０ノ々−ルお
よびＨ２２０パールを圧入した。温度２１５℃１圧力は
６時間以内′ｔ％１８０パールから９０パールに低下し
た。冷却および蒸溜による後処理の後無水酢酸７０ｐお
よび酢酸４６ｙが得られた。エチリデンジアセテートは
この試験の間生じなかった。
よびＨ２２０パールを圧入した。温度２１５℃１圧力は
６時間以内′ｔ％１８０パールから９０パールに低下し
た。冷却および蒸溜による後処理の後無水酢酸７０ｐお
よび酢酸４６ｙが得られた。エチリデンジアセテートは
この試験の間生じなかった。
例１０
オートクレーブ内充填量：酢酸メチル２５０ノ、ヨウ化
メチル５Ｑｙ、Ｎ、Ｎ−ジメチルイミダゾリウムヨーシ
ト６０ｙ−１Ｒｅ２（Ｃｏ ）、。
メチル５Ｑｙ、Ｎ、Ｎ−ジメチルイミダゾリウムヨーシ
ト６０ｙ−１Ｒｅ２（Ｃｏ ）、。
１．５２、工 １２、Ｃ０８０パール、Ｈ２２０ノ々−
ル０ オートクレーブを２２０℃に加熱後圧力は１３０分以内
１ユ１６５パールから７０ ／？−ルに低下した。反応
生成物は蒸溜による後処理の後無水酢酸１２２ノ、酢酸
４８ノおよびエチリデンジアセテート１２ｆＩを含ん１
いた。
ル０ オートクレーブを２２０℃に加熱後圧力は１３０分以内
１ユ１６５パールから７０ ／？−ルに低下した。反応
生成物は蒸溜による後処理の後無水酢酸１２２ノ、酢酸
４８ノおよびエチリデンジアセテート１２ｆＩを含ん１
いた。
例１１
オートクレーブ中で酢酸メチル２５０９、ヨウ化メチル
５Ｑｙ、Ｎ、Ｎ−ジメチルイミダゾリウムヨーシト６０
ｙ、Ｒｅ（Ｊ５１．７９＋レニウム金属０．８７ ｆ１
％００８０パール、Ｈ２２０ノマールを使用して１８５
℃−１！１８時間の反応時間後無水酢酸１３５）および
酢酸２０りが生成した。
５Ｑｙ、Ｎ、Ｎ−ジメチルイミダゾリウムヨーシト６０
ｙ、Ｒｅ（Ｊ５１．７９＋レニウム金属０．８７ ｆ１
％００８０パール、Ｈ２２０ノマールを使用して１８５
℃−１！１８時間の反応時間後無水酢酸１３５）および
酢酸２０りが生成した。
エチリデンジアセテートの形成は確認ｆきなかった。
例１２
オートクレーブ中に存在する、酢酸メチル２５０ｙ５ヨ
ウ化メチル５０ｆＩ、メチル−トリブチルホスホニウム
ヨーシト６０ノおよびＲｅ２（ｃｏ ）１ｏ１．５ ｙ
の混合物に対して００９ＱパールおよびＨ，，２ｏノｚ
−ルを圧入した。反応温度２１５〜２２０℃１５時間以
内で無、氷酢酸１５５２、酢酸２３ノおよびエチリデン
ジアセテート６９が形成された。
ウ化メチル５０ｆＩ、メチル−トリブチルホスホニウム
ヨーシト６０ノおよびＲｅ２（ｃｏ ）１ｏ１．５ ｙ
の混合物に対して００９ＱパールおよびＨ，，２ｏノｚ
−ルを圧入した。反応温度２１５〜２２０℃１５時間以
内で無、氷酢酸１５５２、酢酸２３ノおよびエチリデン
ジアセテート６９が形成された。
第１頁の続き
０発 明 者 ヘルマン・グラーザー
ドイツ連邦共和国エルフトシュ
タット・マグダレネンヴ工−り
６
（ｌ 明 者 ユルゲン・コツホ
ドイツ連邦共和国ブリュール・
アム・レーメルカナール１０アー
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 酢酸メチルおよび／ｉたはジメチルエーテルと一
酸化炭素または一酸化炭素と水素の混合物と温度５０〜
３００℃１かつ反応圧力１〜５０ ＯＡ−ル！触媒系の
存在１反応させることにより無水酢酸および／または酢
酸および／またはエチリデンジアセテートを製造するた
めの方法において、触媒系としてレニウムまたはその化
合物；有機ハロゲン化合物、ハロゲンまたはハロゲン化
水素；場合により他のカル／ニル形成卑金属またはその
化合物；場合により第３または第４有機窒素、リン、砒
素またはアンチモン化合物；および場合によりアルカリ
アセテートまたは反応条件下でアルカリアセテートに変
わるアルカリ化合物を使用することを特徴とする、無水
酢酸および／または酢酸および／″！たはエチリデンジ
アセテートの製法。 ２、 ハロゲン化メチルまたはノ・ロゲン化水素を用い
た触媒系に四級化有機窒素またはリン化合物を特徴する
特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、 酢酸メチルまたはりメチルエーテル／レニウム（
−化合物）／ハロゲン（−化合物）／窒素、リン、砒素
またはアンチモン化合物／アルカリ化合物をモル比ｉ
： （ｏ、ｏ ｏ ｏ ｉ〜０．１ ） ： （０，０
１〜１）：（０〜１）：（０〜０．１）で使用する、特
許請求の範囲第１項または２項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813148006 DE3148006A1 (de) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | Verfahren zur herstellung von essigsaeureanhydrid und/oder essigsaeure und/oder ethylidendiacetat |
| DE31480063 | 1981-12-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58103337A true JPS58103337A (ja) | 1983-06-20 |
Family
ID=6147874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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