JPS6253940A - 4−クロルアセト酢酸クロライドの製法 - Google Patents

4−クロルアセト酢酸クロライドの製法

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JPS6253940A
JPS6253940A JP19357085A JP19357085A JPS6253940A JP S6253940 A JPS6253940 A JP S6253940A JP 19357085 A JP19357085 A JP 19357085A JP 19357085 A JP19357085 A JP 19357085A JP S6253940 A JPS6253940 A JP S6253940A
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JP
Japan
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chlorine
diketene
gas
solvent
inert gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP19357085A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayuki Okada
正之 岡田
Shuichi Yamagiwa
秀一 山際
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明は4−クロルアセト酢酸エステル、4−クロルア
セト酢酸アミド、4−クロルアセト酢酸アニリド等、医
薬品中間体の原料として有用な、4−クロルアセト酢酸
クロライドの製法に関する。
(従来技術および問題点) 従来、4−クロルアセト酢酸クロライドの製造法として
は、有機溶媒中にジケテン及び塩素を導入して、両者を
反応させる回分反応が一般的である。しかしながらこの
方法では、目的物以外に、2−クロルアセト酢酸クロラ
イド 2,4−ジクロルアセト酢酸クロライド 2,2
,4−トリクロルアセト酢酸クロライド等の不純物を生
成し、目的物の純度を下げることが知られている。
また、その対策としてジケテンelO〜20倍の溶媒で
希釈することによシ、不純物を大巾に抑制できることも
知られているが、これは、工業的規模で実施するにあた
っては不利である。
上記問題を解決するものとして、濡壁塔式反応器を用い
て、ジケテンと塩素ガスを反応させる方法(、特公昭5
8−23373 )が知られており、さらに、との濡壁
塔方式を行うよシも、高収率で目的物を得られる方法と
して、強制薄膜式反応器を用いてジケテンを塩素化する
方法(特開昭60−25951 )が知られている。
しかしこの特開昭60−25951では、強制薄膜式方
法で反応を実施するに当たり、塩素を不活性溶媒に溶解
し、供給しているが、この方法を工業的規模で実施する
に際しては、多量の不活性溶媒を使用しなければならな
い。また、塩素を溶媒に溶解するためには、通常、溶媒
に塩素を吹き込む方法が用いられるが、ガスを、溶媒に
正確に特定の濃度に溶解させることは難しく、そのうえ
、一般に塩素は溶媒に対して溶解度が小さいので、仕込
系で気化する等、塩素のロスが生じやすい。
したがって、ジケテンに対する塩素のモル比の正確なコ
ントロールが困難になる。そしてこのモル比のバランス
がくずれると、2−クロルアセト酢酸クロライド及び高
次塩素化物等、目的物以外の不純物が生じやすくなる。
本発明は、上記問題点を解決するものであシ。
多量の溶媒を用いずに、純度の高い、4−クロルアセト
酢酸クロライドを高収率で得ることを目的とするもので
ある。
(問題を解決するための手段) 本発明者らは、前述の問題点を解決するため、鋭意検討
した結果、強制薄膜式反応器でジケテンと塩素とを反応
させるに当たシ、塩素を溶媒で希釈せずに、塩素ガスを
不活性ガスで希釈し、反応器に導入すればよいことを見
い出し、本発明に至った。! 即ち1本発明は強制薄膜式反応器を用いてジケテンを塩
素化し、4−クロルアセト酢酸クロライドを製造する方
法において、塩素ガスを不活性ガスで希釈しながら反応
することを特徴とする4−りaルアセト酢酸クロライド
の製法である。
本発明における反応器は、例えば、2重管の内部に回転
羽根を挿入したもので、垂直な反応器の上部より原料を
導入しながら羽根の回転によシ管壁に薄膜を形成し、管
壁にそって原料が流下する間に反応が進行する反応器で
あって、2重管の外部は冷媒を通し反応熱を除去できる
構造となっている。
通常は反応器の上部よシジケテンと塩素を並流で導入し
、生成した4−クロルアセト酢酸クロライドを下部より
抜取シながら反応するが、この反応は反応速度が非常に
早く、反応熱が約4 Q Keel/fmolと高いた
め、無希釈では併発的に2,4−ジクロルアセト酢酸ク
ロライド及び2,2,4−トリクロルアセト酢酸クロラ
イド金生゛成する。そのためジケテン及び塩素は希釈し
て反応に供される。
本発明において供給されるジケテンは、四環fヒ炭素、
クロロホルム、ジクロルエタン、ジクロルメタン等のジ
ケテンに不活性な溶媒に溶解して使用される。ジケテン
濃度が低い子側生物の生成を抑制できるが、反応終了後
の溶剤回収の点等から、ジケテン濃度は10〜20重量
%で使用するのが好ましい。
又塩素は不活性ガスで希釈し反応に供されるが、本発明
に用いられる不活性ガスは窒素、炭酸ガス。
ヘリウム、アルゴン等であシ、通常はコスト面から窒素
を用いるのが有利である。塩素ガスに対する不活性ガス
の容量比は0.2〜6倍、好ましくは1〜3倍が適して
いる。
原料モル比、すなわちジケテンに対する塩素のモル比は
、0,95〜1.10.好ましくは1.0〜1.05で
ある。
反応温度は一30〜30℃の範囲から選ばれるが、好ま
しくは一30〜θ℃である。
羽根の回転数は設備の形状によシー概に規定できないが
、通常100〜500rpmの範囲である。
また−原料の滞留時間は10〜150秒、好ましくは4
0〜80秒の範囲から選ばれる。
かくの如く反応を行うと、反応器底部より4−クロルア
セト酢酸クロライドが得られる。しかし、このものは不
安定なため、゛この反応液をアルコール、アミン及びア
ニリン等に連続的に加えて反応し、安定な4−クロルア
セト、酢酸エステル、4−クロルアセト酢酸アミド及び
4−クロルアセト酢酸アニIJド等の形で取シ出すこと
が有利である。
(発明の効果) 本発明では、供給される塩素ガスを不活性ガスで希釈す
ることによシ、多量の溶媒を用いなくてよくなシ、また
原料モル比の正確なコントロールがしやすくなる。これ
によって、モル比がくずれると2−クロルアセト酢酸ク
ロライド及び高次塩素化物等の副生物が生成しやすくな
る、という欠点を補うことができる。
(実施例) 以下に実施例をあげて、本発明を説明する。
実施例−1 内径35 ffi+11.長さ900闘の回転薄膜式反
応器のジャケットに一20℃の冷媒を通し、回転羽根e
300rpmで回転させながら10チジケテン含有1,
2−ジクロルエタン420f/Hrと、塩素:窒素=1
:1の混合ガス22.4 NL/ Hr f上部よシ連
続的に供給し、2時間反応した。この時供液部の温度は
7〜11℃、底部留出液の温度は一2〜+3℃であった
底部から留出した4−クロルアセト酢酸クロライド溶液
はあらかじめメタノール31?を含む12−ジクロルエ
タン124を中に連続的に滴下し、30〜35℃でエス
テル化を行った。
得うした4−クロルアセト酢酸メチル反応液を減圧下に
50℃以下で1,2−ジクロルエタンを留去し、粗4−
クロルアセト酢酸メチル1542を得た。GC分析の結
果%4−クロルアセト酢酸メチルの収率は96.2%で
あった。
実施例−2 実施例−1においてジャケットの冷媒温度のみ一10℃
に変更し、他の条件を同一にして反応し、粗4−クロル
アセト酢酸メチル152.5Pi得た。
GC分析の結果、4−クロルアセト酢酸クロライドの収
率は95.1%であった。
実施例−3 実施例−1と同一条件で、塩素:窒素=1:2の混合ガ
スに34NZ/Hrで導入しながら2時間反応し、粗4
−クロルアセト酢酸メチル153りを得た。GC分析の
結果、4−クロルアセト酢酸メチルの収率は95.3%
であった。
実施例−4 ゛実施例−1の条件で溶媒のみ四塩化炭素に替えて反応
し、粗4−クロルアセト酢酸メチル1512を得た。 
゛ GC分析の結果、4−クロルアセト酢酸メチルの収率は
95.4チであった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 強制薄膜式反応器を用いてジケテンを塩素化し、4−ク
    ロルアセト酢酸クロライドを製造する方法において、塩
    素ガスを不活性ガスで希釈しながら反応することを特徴
    とする4−クロルアセト酢酸クロライドの製法。
JP19357085A 1985-09-02 1985-09-02 4−クロルアセト酢酸クロライドの製法 Pending JPS6253940A (ja)

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