JPH01241093A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH01241093A
JPH01241093A JP63067882A JP6788288A JPH01241093A JP H01241093 A JPH01241093 A JP H01241093A JP 63067882 A JP63067882 A JP 63067882A JP 6788288 A JP6788288 A JP 6788288A JP H01241093 A JPH01241093 A JP H01241093A
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JP
Japan
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bit line
sense amplifier
divided
amplifier
common bit
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JP63067882A
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English (en)
Inventor
Masao Taguchi
眞男 田口
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体記憶装置、特に階層構造ビット線を有する高集積
DRAM(ダイナミックランダムアクセスメモリ)の読
出し書き込み動作に関し、共1通ビット線の電圧振幅を
小さくして、該共通ビット線の消費電力を減少させたり
、メモリセルアレイの再書き込みを効率良くすることを
目的とし、 少なくとも複数のメモリセルアレイと、ロウデコーダと
、カラムデコーダと、共通ビット線と、分割ビット線と
、メモリセルアレイのビット線と、センスアンプと、カ
ラムアンプと、選択ゲートトランジスタとを具備し、 前記共通ビット線が選択ゲートトランジスタを介して分
割ビット線に接続され、 前記分割ビット線がセンスアンプとメモリセルアレイの
ビット線に接続され、 前記分割ビット線がデコーダのアドレスに従ってメモリ
セルアレイのビット線を共通ビット線に共通に接続する
階II!構造ビット線を有する半導体記憶装置であって
、 前記メモリセルアレイの出力電圧を分割ビット線上のセ
ンスアンプにより増幅した後、該センスアンプの増幅機
能を停止し、 その後前記分割ビット線を共通ビット線に接続し、 前記共通ビット線の電位をカラムアンプにより増幅する
ことを含み構成し、 分割ビット線と共通ビット線とを切り離した状態で、セ
ンスアンプを駆動し、メモリセルアレイの電荷を再生す
ることを含み構成する。
【産業上の利用分野〕
本発明は、半導体記憶装置に関するものであり、更に詳
しく言えば、階層構造ビット線を有する高集積DRAM
 (ダイナミックランダムアクセスメモリ)の読出し書
き込み動作に関するものである。
〔従来の技術〕
第5図は従来例に係る半導体記憶装置の説明図であり、
本発明者が以前特許出II(特願昭59−169262
号)したDRAMセルアレーを示している。
図において、1はメモリセルアレイ、2はロウデコーダ
、3.3aはカラムデコーダ、4は共通ビット線、5は
分割ビット線、6はセンスアンプ、7はデータバス、8
はデータ出力アンプ、9はデータ入力アンプである。ま
たB I、+ 、 B L!はメモリセルアレイlの出
力電圧、MBLI 、MBL、は共通ビット線の電位、
φ1〜φ、はクロックパルス、D、Dはセルデータ、C
LSはカラムセレクト信号、D4.、D、□は入力デー
タである。
これ等により従来例のDRAMを構成する。なお、従来
のDRAMは、集積度を増大させたためにメモリセルア
レイlの出力電圧BL11BL。
が減少し、これを防止するためビット線6を所要区間に
分割して、分割ビット線5を構成し、この分割した各区
間にセンスアンプ7を設けている。
また、共通ビット線4の電位MBL11MBL。
はセンスアンプ7で増幅された分割ビット線5の”電圧
BLt、BLtである。なお読出動作は、この分割ビッ
ト線5を共通に接続する共通ビット線4をカラムデコー
ダ3aにより選択するものであなお、共通ビア!414
は分割ビット線5の上層に形成される二層構造を有して
いる。
これにより従来のDRAMはビット線6の分割数に依ら
ず、カラムデコーダ3aを共通ビット線4に対して1箇
所設け、大容量メモリを構成している。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで従来例によれば、ビット線6を所要区間に分割
して、分割ビット線5毎にセンスアンプ7を設けている
。このため分割数を多くすると、カラムデコーダ3の設
置数が増加し、そのチップ占有面積が多くなったり、ま
た、カラムデコーダ3にアドレスを与えるアドレスバッ
ファの負荷が重くなり動作速度の劣化、消費電力が増大
するという第1の課題がある。
ここで、カラムデコーダ3の数やアドレスバッファの負
担を軽減させるため、2階層構造の分割ビット線5と共
通ビットl114とを設けている。このため共通ビット
線4は、例えば1チツプ(5mX10mm)の端から端
まで長く存在し、直接メモリセル1を接続する分割ビッ
ト線6に比較して、単位長さ当たりの寄生容量が少なく
なるものの、線路長(10+a+s)による大きな充電
容量が形成される。
これにより、メモリセルアレイlの出力電圧BL11B
L、を大きくし、かつカラムデコーダ3の重複を避ける
という利点を得られるものの、共通ビット線4の充放電
に伴う消費電力が増大するという第2の課題がある。
本発明はかかる従来例の!!II!Iに鑑み創作された
ものであり、共通ビット線の電圧振幅を小さくして、該
共通ビット線の消費電力を減少させたり、メモリセルア
レイを効率良く再書き込みすることを可能とする半導体
記憶装置の堤供を目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体記憶装置は、その一実施例を第1〜4図
に示すように少なくとも複数のメモリセルアレイ11と
、ロウデコーダ12と、カラムデコーダ13と、共it
nビット)!14と、分割ビット線15と、メモリセル
アレイ11のビット線16と、センスアンプ17と、カ
ラムアンプ21と、選択ゲートトランジスタTとを具備
し、前記共通ビット線14が選択ゲートトランジスタT
を介して分割ビット線15に接続され、前記分割ビット
線15がセンスアンプ17とメモリセルアレイ11のビ
ットf%m 16に接続され、前記分割ビット線15が
ロウデコーダ12のアドレスに従ってメモリセルアレイ
11のビット線16を共通ビット線14に共通に接続す
る階層構造ビット線を有する半導体記憶装置であって、
前記メモリセルアレイ11の出力電圧BL11。
BL□を分割ビット線15上のセンスアンプ17により
増幅した後、該センスアンプ17の増幅機能を停止し、 その後前記分割ビット線15を共通ビット線14に接続
し、゛ 前記共通ビット線14の電位MBL11又はMB、Ll
lをカラムアンプ21により増幅することを特徴とし、 分割ビット線15と共通ビット線15とを切り離した杖
態で、センスアンプ!7を駆動し、メモリセルアレイ1
1の電荷を再生することを特徴とし、上記目的を達成す
る。
〔作用〕
本発明によれば、ロウアドレスによって選択されたメモ
リセルアレイの出力電圧を共通ビット線に転送する前に
、分割ビット線上のセンスアンプにより増幅し、その後
センスアンプの増幅機能を停止してから分割ビット線を
共通ビット線に接続している。
このため、分割ビット線の寄生容量を一つのDRAMセ
ル容量とし、分割ビット線と共通ビット線間の選択ゲー
トトランジスタをDRAMセルのトランスファーゲート
の如く擬制した場合に相当し、両ビット線の容量比に応
じた電圧を電荷再配分することになる。この電位を共通
ビット線の電圧振幅とすることが可能となる。
これにより共通ビット線の電圧振幅を従来に比べて圧縮
することができるので、半導体記憶装置(DRAM)の
消費電力を減少させることが可能となる。
また、メモリセルアレイの再書き込み(再生)は、分割
ビット線と共通ビット線とを切り離してからセンスアン
プにより増幅している。
コツタめ、共通ビット線の充電容量に係るセンスアンプ
の負担を減少することができ、DRAMの消費電力を減
少させることが可能となる。
〔実施例〕
次に図を参照しながら本発明の実施例について説明をす
る。
第1〜4図は、本発明の実施例に係る説明図であり、第
1図は本発明の実施例に係る半導体記憶装置の構成図を
示している。
図において、11は書込み読出しデータを格納するメモ
リセルアレイである。また、12はロウアドレス入力し
て、ワード線を選択するクロックパルスφII〜φ14
を出力するロウデコーダであり、13はカラムアドレス
を入力してカラムセレクト信号CLS出力するカラムデ
コーダである。なお、14は分割ビット線15を共通に
接続する共通ビット線、15は複数のセンスアンプ17
と、メモリセルアレイ11のビット線16とを接続する
分割ビット線である。
16は、メモリセルアレイ11の各セルに接続されるビ
ット線であり、複数のビット線16を束ねて、分割ビッ
トvA15となる。なお、ビット線16と分割ビット線
15と共通ビット線14とは順次下層から積層する階層
構造を有している。
17は複数のセンスアンプA−D等であり、メモリセル
アレイ11の出力電圧BL11やBL11を増幅するも
のである。
18はセルデータD、Dを伝播するデータバス、19は
データD1を増幅するデータ入力アンプ、20はデータ
D0□を増幅するデータ出力アンプである。
なお、21はカラムアンプであり、共通ビット線14の
電位を増幅する閉じ込め型アンプである。
T、Ql−、Qzoはスイッチング動作をする選択ゲー
トトランジスタである。
また、B L 、+、 B L 11はメモリセルアレ
イの出力電圧、MBL11、MBL11は共通ビット線
の電位、φ11〜φ、4は分割ビット線15を選択する
クロックパルス、CLSはカラムセレクト信号、D、5
″はセルデータ、Dlは入力データ、D outは出力
データである。なお、RAS、CASはクロック信号で
ある。
これ等により半導体記憶装置を構成する。
第2図は本発明の実施例のセンスアンプに係る図であり
、同図(a)はセンスアンプ17Aの回路図を示してい
る。
図において、Ql、Qi 、Q、はnチャンネル型MO
3)ランジスタ、Q3.Q11Q、はρチャンネル型M
O3)ランジスタである。またφ5、7.はセンスアン
プ17Aの駆動パルス(5v)、BL11、BL11は
メモリセルアレイ11の出力電圧、VCCは電源電圧(
VCC=3V)である。
同図(b)はセンスアンプ17Aの動作に係るタイミン
グクロック波形図である。
図において縦軸は各部の電圧、横軸は時間を示している
。また、t、は不図示のワード線を駆動し、メモリセル
アレイ11の出力電圧BL11。
BL11を分割ビット線15に転送する転送開始時刻、
L2はセンスアンプ17Aの駆動開始時刻、t、はクロ
ックパルスφ、により分割ビット線15と共通ビット線
14とを接続する接続時刻、t4はセンスアンプ17A
の駆動終了時刻、t。
は分割ビット線15と共通ビット線14とを切り放す開
放時刻、t、はセンスアンプ17Aの再駆動時刻、ho
は同センスアンプ17Aの駆動終了時刻である。
第3図は本発明の実施例のカラムアンプに係わる説明図
であり、同図(a)はカラムアンプ21の回路図を示し
ている。
図において、Q II〜Q+41  Ql9.  Ql
0はnチャンネル型MO3)ランジスタ、Q + s 
+  Q + b +  Q + sはpチャンネル型
MO5)ランジスタである。またφ。、φ。はカラムア
ンプの駆動パルス、φ6はカラムアンプの入力選択パル
ス、CLSはカラムセレクト信号、D、Dはセルデータ
バス18を伝播するデータ、N11N、はカラムアンプ
の信号、MBL11、MBL11は共通ビット線の電位
、VCCは電源電圧(Vcc=sv)である。
このカラムアンプ21は通常のセンスアンプと異なり、
共通ビット線14例の入力端子にカラムアンプ21の出
力端子側の電圧が現れない閉じ込め型のセンスアンプと
同様である。このため、共通ビット線14に大きな振幅
が伝送されないため、チップ消費電力を抑制することが
できる。
なお、従来の閉じ込み型センスアンプと異なるのは、ト
ランジスタQ + + +  Q + zをセンスアン
プ17Aの動作初期のみカントオフさせて、センスアン
プ17Aが実質的にメモリセルアレイ11の出力電圧B
L+1.BL11を増幅した時に導通させる方法と異な
り、センスアンプ17Aの増幅動作以後の読出しサイク
ルの終了まで、カントさせている点である。
すなわちこれは、同図(b)の波形図において、開放時
刻む、でトランジスタQ11、Q、□をカットさせた後
は、サイクル終了時までカット状態を継続するものであ
る。
同図(b)はカラムアンプ21の動作に係るタイミング
クロック波形図である。
図において縦軸は各部の電圧、横軸は時間を示している
。またも、は共通ビット線14とカラムセンスアンプ2
1とを切り離す開放時刻、1.はカラムアンプ21の駆
動開始時刻、t、はカラムアンプ21とデータバス18
との接続時刻、ム、1はリセット時刻である。
第4図は′本発明の実施例の半導体記憶装置の駆動タイ
ミングチャートである。
図において、RASはロウデコーダ12を駆動するクロ
ックパルス、WLはメモリセルアレイ11のワード線を
選択する選択パルス、φ1、φ1はセンスアンプ17A
の駆動パルス、φ、は分割ビット線15を選択する選択
ゲートトランジスタTに入力するクロックパルス、φ0
はカラムアンプの入力選択パルス、φC1,φcsはカ
ラムアンプ駆動パルス、CASはカラムデコーダ駆動パ
ルス、CLSはカラムアンプセレクト信号を示している
これ等の関係を用いて本発明の半導体記憶装置の動作を
説明する。
まず、ビット線16に接続されるメモリセルアレイ11
の一つのメモリセルを選択してそのデータを読み出す読
出動作について説明する。
第4図の駆動タイミングチャートのクロックパルスRA
Sに同期してロウアドレスが取り込まれるとロウデコー
ダ12は、目的のセルに接続されたワード線を選択し、
これを駆動する。
これによりメモリセルアレイ11の出力電圧BL11、
BL11は転送開始時刻むから分割ビット線15上に現
れる。
次にセンスアンプ17Aは駆動開始時刻t2のセンスア
ンプ17Aの駆動パルスφSの立ち上りにより、分割ビ
ット線15の差電圧を増幅する。
これにより、分割ビット&?!15の電圧BL11。
丁L 11ハ共i1ヒッ) L%ノTi位M B L 
11、 M B L 11にほぼ電源電圧又はMOS)
ランジスタの闇値電圧骨を差し引いた電圧程度になる。
ここで、例えばメモリセルアレイ11の出力電圧BL1
1、BL、。
の最大電圧を3V、最小電圧をOvと仮定する。
また、センスアンプ17Aが増幅動作をする初期の間、
選択ゲートトランジスタTはカットオフしている。
次いで、センスアンプ17Aがメモリセルアレイ11の
出力電圧BL11、BL11をある程度(例えば最大振
幅の50%)増幅した駆動終了時刻t、のセンスアンプ
17Aの駆動パルスφ5の立ち上りにより、センスアン
プ17Aの動作を止める。
なお、センスアンプ17Aの動作の停止はm’JJ]パ
ルスφ%+Lを制御卸して、センスアンプ17Aの電流
をカットすることにより行う。
この状態において、分割ビット線15の電圧BL11、
BL11は、BL、+=2.5 V、下ゴ:=0.5■
となる。なお、分割ビット線15と共通ビット線14と
は読出し動作前には1.5vにプリチャージされている
ものとする。
また、分割ビット線15、共通ビット線14の寄生容量
を、それぞれCIL+ C□、とする。次に接続時刻t
3のクロックパルスφ、の立ち上りにより分割ビット線
15と共通ビット線14とを選択ゲートトランジスタT
を介して接続する。
これにより共通ビット線14の電位MBL11はの電圧
になり、同様に共通ビットFIR14の電位MBL11
は、 の電圧となる。
これは、あたかも分割ビット線15の寄生容量C1Lを
蓄積容量とし、共通ビット線14の寄生容量C1Lをビ
ット線容量とするDRAMセルの読み出し動作と同様な
電荷再配分によって得られるものである。
ここで仮に分割ビット線15の寄生容量CILと共通ビ
ット線14の寄生容量C7,Lとが等しいとすると、(
1)、(2)の関係式から共通ビ・ント線14の電位M
BL11、MBL11はそれぞれ、2゜OV、 1.O
Vとなり、センスアンプ17Aが増幅した電圧2.5 
V、 0.5 Vよりも振幅を抑制することができる。
次に駆動開始時刻Lhのカラムアンプの駆動パルスφc
mの立ち上りによりカラムアンプ21は共通ビット線1
4の電位を増幅し、接続時刻む、のカラムセレクト信号
CLSの立ち上りによりこれをデータバス18に供給す
る。
なお、デー゛タバス18にセルデータD、Dが転送され
た後は、従来のDRAMと同様にしてデータ出力アンプ
20を介して出力データD05.となる。
一方、この間に本発明の半導体記憶装置によれば、メモ
リセルアレイ11の蓄積電荷の再生いわゆるリフレシュ
のための動作を行う。
これは、データ続出時において分割ビット線15の電圧
BL11、BL11はセンスアンプ17Aによって増幅
された後、共通ビット線14と分割ビット線15の接続
によって低下しているためである。
すなわち、分割ビット線15の電圧BL11。
BL、をそのままメモリセルアレイ11に残留させると
、当初蓄えていた電荷(電圧)よりも低く、再生状態と
ならないためである。
そこで本発明の実施例では第3図(b)に示すようにメ
モリセルアレイ11の再書込み動作について、分割ビッ
ト線15の電圧BL11、BL11を再駆動時刻t、で
センスアンプ17Aを再び増幅し、メモリセルアレイ1
1内に電荷を格納するものである。
なお、第2図(b)に示すように再書込み動作をする前
に、分割ビット線15を開放時刻t9のクロックパルス
φ目の立ち下りにより共通ビット線14から切り離して
いる。その後駆動時刻む。
センスアンプ17Aの駆動パルスφ、の立ち上りにより
センスアンプ17Aを駆動する。
これにより、共通ビット線14の電圧振幅を抑制し、セ
ンスアンプ17Aの負担を軽減させて、その消費電力を
抑制することができる。
これにより読出し動作を終了する。
次に書込み動作について説明する。
書込みは、第3図に示すトランジスタQ11゜Q+l+
をオフしてカラムアンプ21を切った状態で行う。
これは、書込みアンプの駆動によりカラムアンプ21の
ランチを容易に反転させるためである。
また、書込みの場合、カラムアンプ21の駆動パルスφ
5を高しヘルにしてカラムアンプ21と共通ビット線1
4とを切り離す場合、カラムアンプ21を切った状態に
なっていれば共通ビット線14にカラムアンプ21の電
圧振幅の伝播を抑えられる。これにより、消費電力を減
少させることができる。
また、書込みサイクルの後半では読み出し動作と同様に
センスアンプ17Aを駆動して分割ビット線15の電圧
BL11、BL11を引き上げ、メモリセルアレイll
内の蓄積電圧レベルを再生する。
これにより書込み動作を終了する。
このようにして、ロウアドレスによって選ばれたメモリ
セルアレイ11の出力電圧B L11、 B L11を
共通ビット線14に転送する前に、分割ビット、線15
上のセンスアンプ17Aにより増幅し、その後センスア
ンプ17Aの増幅機能を停止し、次いで、分割ビット線
15を共通ビット線14に接続している。
このため分割ビット線15の寄生容IC5tを一つのD
RAMセル容量とし、分割ビット線15と共通ビット線
14間の選択ゲートトランジスタTをDRAMセルのト
ランスファーゲートの如く擬制した場合に相当し、両ビ
°ット線14.15の容量比に応じた電圧を電荷再配分
することになる。
この電位を共通ビット線14の電圧振幅とすることが可
能となる。
これにより共通ビット線14の電圧振幅を従来に比べて
圧縮することができるので、半導体記憶袋W (DRA
M)の消費電力を減少させることが可能となる。
またメモリセルアレイ11の再書込み(再生)は分割ビ
ット線15と共通ビット線14とを切り離してからセン
スアンプ17Aにより増幅している。
このため、共通ビット線14の充電容量に係るセンスア
ンプ17Aの負担を軽減することができ、DRAMの消
費電力を減少させることが可能となる。
〔発明の効果〕 以上説明したように本発明によれば、分割ビット線と共
通′ビット線とを切り離した状態で、常にセンスアンプ
を増幅しているので、該共通ビット線の電圧振幅を小さ
くすることができる。
このため共通ビット線に供給する電流を少なくすること
ができ、これにより半導体記憶装置の消費電力を減少さ
せることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例に係る半導体記憶装置の構成
図、 第2図は、本発明の実施例のセンスアンプに係る説明図
、 第3回は、本発明の実施例のカラムアンプに係る説明図
、 第4図は、本発明の実施例の半導体記憶装置の駆動タイ
ミングチャート、 第5図は、従来例に係る半導体記憶装置の説明図である
。 (符号の説明) 1.11・・・メモリセルアレイ、 2.12・・・ロウデコーダ、 3.3a、13.13a−・・カラムデコーダ、4.1
4・・・共通ビット線、 5.15・・・分割ビット線、 6.16・・・ビット線、 7.17(A〜B)・・・センスアンプ、8.18・・
・データバス、 9.19・・・データ入力アンプ、 10.20・・・データ出力アンプ、 21・・・カラムアンプ、 φIA+φ4.φIA+φ目−1 oツクノ々ルス、B
L+ 、BL+ 、BLz 、BLz 、BL11。 B L11、 B Ltd、  B L+i・・・メモ
リセルアレイの出力電圧、 MBL11MBL、 、MBL11、MBL11・・・
共通ビット線の電位 り、D・・・セルデータ、 CLS・・・カラムセレクト信号、 D、o・・・入力データ、 Do。、・・・出力データ、 φ11φ、・・・センスアンプ17Aの駆動パルス、φ
。、7π・・・カラムアンプ21の駆動パルス、N+、
Nt・・・カラムアンプの信号、WL・・・選択パルス
、 φ。・・・入力選択パルス、 tl・・・転送開始時刻、 t2.む、・・・駆動開始時刻、 Ls、Lq・・・接続時刻、 t、・・・再駆動時刻、 tl。・・・終了時刻、 t、・・・リセット時刻、 ”CC+ VCC・・・電源電圧、 CAS、RAS・・・クロック信号、 Q11Q11Qs、Q11〜Q11、Q11、Q、。・
・・nチャンネル型MO3)ランジスタ、 (選択ゲートトランジスタ) Qs 、Q11Q11Q+s+  Q11、Q11−・
・pチャンネル型MO3)ランジスタ、 (選択ゲートトランジスタ) T・・・選択ゲートトランジスタ。 代理人弁理士 井桁 貞−・〆;r11、)7”、’ 
l(a) t7.−転送開始時刻   t81.−開放時刻t2.
−町1開姑時刻   t9.−再駆動時刻< b > 
    t3−  接続時刻     tlO−・、終
了時Ellt4− 駆動終了時刻 ″:発明(′)夷7.J例のセンスアンプに係るr月図
第2図 t6−’ Q動開始時刻

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも複数のメモリセルアレイ(11)と、
    ロウデコーダ(12)と、カラムデコーダ(13)と、
    共通ビット線(14)と、分割ビット線(15)と、メ
    モリセルアレイ(11)のビット線(16)と、センス
    アンプ(17)と、カラムアンプ(21)と、選択ゲー
    トトランジスタ(T)とを具備し、 前記共通ビット線(14)が選択ゲートトランジスタ(
    T)を介して分割ビット線(15)に接続され、 前記分割ビット線(15)がセンスアンプ(17)とメ
    モリセルアレイ(11)のビット線(16)に接続され
    、 前記分割ビット線(15)がデコーダ(12)のアドレ
    スに従ってメモリセルアレイ(11)のビット線(16
    )を共通ビット線(14)に共通に接続する階層構造ビ
    ット線を有する半導体記憶装置であって、 前記メモリセルアレイ(11)の出力電圧(BL_1_
    1、@BL_1_1@)を分割ビット線(15)上のセ
    ンスアンプ(17)により増幅した後、該センスアンプ
    (17)の増幅機能を停止し、 その後前記分割ビット線(15)を共通ビット線(14
    )に接続し、 前記共通ビット線(14)の電位(MBL_1_1又は
    @MBL_1_1@)をカラムアンプ(21)により増
    幅することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. (2)分割ビット線(15)と共通ビット線(15)と
    を切り離した状態で、センスアンプ(17)を駆動し、
    メモリセルアレイ(11)の電荷を再生することを特徴
    とする請求項1記載の半導体記憶装置。
JP63067882A 1988-03-22 1988-03-22 半導体記憶装置 Pending JPH01241093A (ja)

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JP (1) JPH01241093A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0430385A (ja) * 1990-05-25 1992-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
US5249165A (en) * 1991-03-07 1993-09-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Memory cell array divided type multi-port semiconductor memory device
JPH0836885A (ja) * 1994-04-11 1996-02-06 Mosaid Technol Inc ダイナミックランダムアクセスメモリ
US5499215A (en) * 1993-11-01 1996-03-12 Matsushita Electronics Corporation Semiconductor memory
US8797786B2 (en) 2010-11-22 2014-08-05 Fujitsu Semiconductor Limited Static RAM
US8824197B2 (en) 2011-08-09 2014-09-02 Fujitsu Semiconductor Limited Static RAM

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6142794A (ja) * 1984-08-03 1986-03-01 Toshiba Corp 半導体記憶装置のセンスアンプ系
JPS6346696A (ja) * 1986-04-24 1988-02-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
JPH01138685A (ja) * 1987-11-25 1989-05-31 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6142794A (ja) * 1984-08-03 1986-03-01 Toshiba Corp 半導体記憶装置のセンスアンプ系
JPS6346696A (ja) * 1986-04-24 1988-02-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
JPH01138685A (ja) * 1987-11-25 1989-05-31 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0430385A (ja) * 1990-05-25 1992-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
US5249165A (en) * 1991-03-07 1993-09-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Memory cell array divided type multi-port semiconductor memory device
US5499215A (en) * 1993-11-01 1996-03-12 Matsushita Electronics Corporation Semiconductor memory
US6661723B2 (en) 1994-04-11 2003-12-09 Mosaid Technologies, Inc. Wide databus architecture
US6195282B1 (en) 1994-04-11 2001-02-27 Mosaid Technologies, Incorporated Wide database architecture
US6366491B1 (en) 1994-04-11 2002-04-02 Mosaid Technologies Incorporated Wide databus architecture
JPH0836885A (ja) * 1994-04-11 1996-02-06 Mosaid Technol Inc ダイナミックランダムアクセスメモリ
US7095666B2 (en) 1994-04-11 2006-08-22 Mosaid Technologies, Inc. Wide databus architecture
US7486580B2 (en) 1994-04-11 2009-02-03 Mosaid Technologies, Inc. Wide databus architecture
US7609573B2 (en) 1994-04-11 2009-10-27 Mosaid Technologies, Inc. Embedded memory databus architecture
US7859930B2 (en) 1994-04-11 2010-12-28 Mosaid Technologies Incorporated Embedded memory databus architecture
US8218386B2 (en) 1994-04-11 2012-07-10 Mosaid Technologies Incorporated Embedded memory databus architecture
US8441878B2 (en) 1994-04-11 2013-05-14 Mosaid Technologies Incorporated Embedded memory databus architecture
US8797786B2 (en) 2010-11-22 2014-08-05 Fujitsu Semiconductor Limited Static RAM
US8824197B2 (en) 2011-08-09 2014-09-02 Fujitsu Semiconductor Limited Static RAM

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