JPH01199396A - 半導体メモリ - Google Patents
半導体メモリInfo
- Publication number
- JPH01199396A JPH01199396A JP63023384A JP2338488A JPH01199396A JP H01199396 A JPH01199396 A JP H01199396A JP 63023384 A JP63023384 A JP 63023384A JP 2338488 A JP2338488 A JP 2338488A JP H01199396 A JPH01199396 A JP H01199396A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- current
- mode
- bit line
- setting signal
- mode setting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 8
- 230000015654 memory Effects 0.000 abstract description 7
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 241000272814 Anser sp. Species 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体メモリに関し、時に読出専用メモリに関
する。
する。
従来、読出専用メモリの続出回路としてカレントミラー
型センス増幅回路が多く用いられている。
型センス増幅回路が多く用いられている。
fas図にカレントミラー型センス轡幅回路の例を示す
6図においてPl、P2は9MO8)ランジスタ、Nl
、N2はnMO8)ランジスタである。PlとP2の
ゲート長が等しく、N1とN2のゲート長が等しいもの
とし、Pi、P2.N1.N2のゲート幅をそれぞれw
px 、 wp鵞、 WF2. 、 w)f、とする、
P2のゲート電位Voの値はPlとN1の導通抵抗の比
によって決定され、Plには一定の電流11が流れる。
6図においてPl、P2は9MO8)ランジスタ、Nl
、N2はnMO8)ランジスタである。PlとP2の
ゲート長が等しく、N1とN2のゲート長が等しいもの
とし、Pi、P2.N1.N2のゲート幅をそれぞれw
px 、 wp鵞、 WF2. 、 w)f、とする、
P2のゲート電位Voの値はPlとN1の導通抵抗の比
によって決定され、Plには一定の電流11が流れる。
半導体メモリのアドレスが決定されると列デコーダ(図
示しない)の出力が制御信号端子1に供給され、P2に
はWpx/WNt :Wps /Ww、の比を比例定
数とする11に比例した電流i!が流れビット#!3に
供給する。このとき、ワード線2にメモリセルΦトラン
ジスタN2が接続されていると(コンタクトコードマス
ク方式の場合)ビット線3の電位は 1Lmレベルとな
る。
示しない)の出力が制御信号端子1に供給され、P2に
はWpx/WNt :Wps /Ww、の比を比例定
数とする11に比例した電流i!が流れビット#!3に
供給する。このとき、ワード線2にメモリセルΦトラン
ジスタN2が接続されていると(コンタクトコードマス
ク方式の場合)ビット線3の電位は 1Lmレベルとな
る。
又、メモリセル・トランジスタが接続されていないとV
DDレベルへ移行する。従って、この読出時間はisが
大きいと小さくなり、高速読出しが可能であるが、消費
電力が大きくなる。
DDレベルへ移行する。従って、この読出時間はisが
大きいと小さくなり、高速読出しが可能であるが、消費
電力が大きくなる。
上述した従来の半導体メモリは、ビット線への電流供給
手段が固定されているので、センス増幅回路の高速動作
を要求すると消費電力が大きくなってしまい、低消費電
力化を要求すると高速動作することができず、融通性が
ないといり欠点がある。
手段が固定されているので、センス増幅回路の高速動作
を要求すると消費電力が大きくなってしまい、低消費電
力化を要求すると高速動作することができず、融通性が
ないといり欠点がある。
本発明の半導体メモリは、高速モードと低速モードの切
替を行う信号を供給するモード設定信号供給手段と、ア
ドレス入力信号に伴なってアクティブとなる制御信号を
受け、前記モード設定信号に応じた電流をビット線に供
給する電流発生回路とを有するというものである。
替を行う信号を供給するモード設定信号供給手段と、ア
ドレス入力信号に伴なってアクティブとなる制御信号を
受け、前記モード設定信号に応じた電流をビット線に供
給する電流発生回路とを有するというものである。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第1図は本発明の第1の実施例の主要部を示す回路図
である。外部端子(図示せず)又はマイクロプロセッサ
(図示せず)からモード設定信号線5に信号が供給され
るものとする。F4はオン抵抗が小さい−r)MOSト
ランジスタとする。
。第1図は本発明の第1の実施例の主要部を示す回路図
である。外部端子(図示せず)又はマイクロプロセッサ
(図示せず)からモード設定信号線5に信号が供給され
るものとする。F4はオン抵抗が小さい−r)MOSト
ランジスタとする。
電流ミラー回路の一次側の電流11は、制御信号端子l
に加わる制御信号(例えば列デコーダの出力信号)が“
11になると、Pl、Nlの特性で定まるよって定常の
値とな妙、nMO8)ランジスタN1とNsのゲート長
・ゲート幅を等しくすると、モード設定信号が″0”の
場合は、9MO8)ランジスタP4がオフし、i *
=Wps /Wpt・11なる電流がビット線3に供給
される。モード設定信号が@1”の場合はF4がオンし
、F3のオン抵抗=P2のオン抵抗とすると2Wp!/
Wp!・11なる電流がビット線に流れ、従ってメモリ
セルからの読み出しはF3がオフの場合に比べて高速に
なる。
に加わる制御信号(例えば列デコーダの出力信号)が“
11になると、Pl、Nlの特性で定まるよって定常の
値とな妙、nMO8)ランジスタN1とNsのゲート長
・ゲート幅を等しくすると、モード設定信号が″0”の
場合は、9MO8)ランジスタP4がオフし、i *
=Wps /Wpt・11なる電流がビット線3に供給
される。モード設定信号が@1”の場合はF4がオンし
、F3のオン抵抗=P2のオン抵抗とすると2Wp!/
Wp!・11なる電流がビット線に流れ、従ってメモリ
セルからの読み出しはF3がオフの場合に比べて高速に
なる。
このように、ユーザの希望に従って、高速モード、低消
費′成カモードのいずれか一方を選択して使用できる。
費′成カモードのいずれか一方を選択して使用できる。
第2図は本発明の第2の実施例の主要部を示す回路図で
ある。モード設定1g号線5をVDD端子及びGND?
m子とヒエーズ型のPROM素子F 1゜F2で接続す
る0図示の場合、FlはオフなのでF5.N3はオフ、
F6はオンとなりF3のゲート電圧がVDDレベルとな
り、F3はオフとなる。
ある。モード設定1g号線5をVDD端子及びGND?
m子とヒエーズ型のPROM素子F 1゜F2で接続す
る0図示の場合、FlはオフなのでF5.N3はオフ、
F6はオンとなりF3のゲート電圧がVDDレベルとな
り、F3はオフとなる。
従ってF2のみがオンとなって低速モードとなる。
逆に、F2をオフとし、Flをオン和すると、F2゜F
3がオンとなり高速モードとなる。Fl、F2はマスク
ROMにしてもよい。
3がオンとなり高速モードとなる。Fl、F2はマスク
ROMにしてもよい。
この実施例は、ユーザの要求に応じて短いTAT(ター
ンアラウンドタイム)で高速モードあるいは低消費電力
モードいずれか一方の半導体記憶装置を供給できる。
ンアラウンドタイム)で高速モードあるいは低消費電力
モードいずれか一方の半導体記憶装置を供給できる。
以上説明したように不発明は、モード設定信号でビット
線に供給する電流を制御することにより、簡単かつ効率
的に半導体メモリの高速動作モードあるいは低消費電力
モードのいずれか一方を選択できるという効率がある。
線に供給する電流を制御することにより、簡単かつ効率
的に半導体メモリの高速動作モードあるいは低消費電力
モードのいずれか一方を選択できるという効率がある。
第1図及び第2図はそれぞれ不発明の第1の実施例及び
第2の実施例の主要部を示す回路図、第31図は従来例
の主要部を示す回路図である。 l・・・・・・制御信号端子、2・・・・・・ワード線
、3・・・・・・ビット線、4・・・・・・センス増幅
回路、5・・・・・・モード。 設定信号線、6・・・・・・インバータ、Fl、F2・
・・・・・ヒエーズ型のFROM素子、N1−N3・・
・・・・nMOSトランジスタ、P1〜P6・・・・・
・9MO8)ランジスタ。 代理人 弁理± l’l 原 晋牛 l
図 第2T2] 第3図
第2の実施例の主要部を示す回路図、第31図は従来例
の主要部を示す回路図である。 l・・・・・・制御信号端子、2・・・・・・ワード線
、3・・・・・・ビット線、4・・・・・・センス増幅
回路、5・・・・・・モード。 設定信号線、6・・・・・・インバータ、Fl、F2・
・・・・・ヒエーズ型のFROM素子、N1−N3・・
・・・・nMOSトランジスタ、P1〜P6・・・・・
・9MO8)ランジスタ。 代理人 弁理± l’l 原 晋牛 l
図 第2T2] 第3図
Claims (1)
- 高速モードと低速モードの切替を行う信号を供給する
モード設定信号供給手段と、アドレス入力信号に伴なっ
てアクティブとなる制御信号を受け前記モード設定信号
に応じた電流をビット線に供給する電流発生回路とを有
することを特徴とする半導体メモリ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2338488A JP3071434B2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 半導体メモリ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2338488A JP3071434B2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 半導体メモリ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01199396A true JPH01199396A (ja) | 1989-08-10 |
JP3071434B2 JP3071434B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=12109028
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2338488A Expired - Lifetime JP3071434B2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 半導体メモリ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3071434B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05307894A (ja) * | 1992-04-28 | 1993-11-19 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
JP2009181599A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Nec Electronics Corp | センスアンプ回路、及びそれを用いた半導体記憶装置 |
JP2019180145A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置、および半導体装置の制御方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6132300A (ja) * | 1984-07-24 | 1986-02-14 | Seiko Epson Corp | 半導体記憶装置 |
JPS6155197A (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 潤滑剤 |
JPS6155197U (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | ||
JPS61208699A (ja) * | 1985-03-12 | 1986-09-17 | Matsushita Electronics Corp | 半導体集積回路 |
JPS61233499A (ja) * | 1985-04-04 | 1986-10-17 | アメリカン・マイクロシステムズ・インコ−ポレイテツド | 基準電圧発生回路及びその制御方法 |
-
1988
- 1988-02-02 JP JP2338488A patent/JP3071434B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6132300A (ja) * | 1984-07-24 | 1986-02-14 | Seiko Epson Corp | 半導体記憶装置 |
JPS6155197A (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 潤滑剤 |
JPS6155197U (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | ||
JPS61208699A (ja) * | 1985-03-12 | 1986-09-17 | Matsushita Electronics Corp | 半導体集積回路 |
JPS61233499A (ja) * | 1985-04-04 | 1986-10-17 | アメリカン・マイクロシステムズ・インコ−ポレイテツド | 基準電圧発生回路及びその制御方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05307894A (ja) * | 1992-04-28 | 1993-11-19 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
JP2009181599A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Nec Electronics Corp | センスアンプ回路、及びそれを用いた半導体記憶装置 |
JP2019180145A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置、および半導体装置の制御方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3071434B2 (ja) | 2000-07-31 |
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