JP2007109401A - モードレジスタおよび不揮発性半導体メモリ装置 - Google Patents

モードレジスタおよび不揮発性半導体メモリ装置 Download PDF

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Abstract

【課題】多様なデフォルト値が追加工程の負担なしでユーザの要求に応じて設定できるモードレジスタおよび不揮発性半導体メモリ装置を提供すること。
【解決手段】電源電圧VCCに接続されたPMOSトランジスタMP100とノードN10間に第1プログラム可能な素子が接続される。接地VSSに接続されたNMOSトランジスタMN100とノードN10間に第2プログラム可能な素子が接続される。プログラム可能な素子の各々はマスクROM装置のメモリセルと同一の空乏型トランジスタD100,D101で構成され、空乏型トランジスタはマスクROM装置のメモリセルに対するイオン注入工程で導通状態の第1プログラム状態又は非導通状態の第2プログラム状態にプログラムされる。
【選択図】 図4

Description

本発明は半導体集積回路装置に関するものであり、より詳しくは同期型メモリ装置のプログラム可能なモードレジスタに関する。さらに本発明は、プログラム可能なモードレジスタを有する不揮発性半導体メモリ装置に関する。
この分野でよく知られたように、同期型メモリ装置がクロック信号に同期して動作するためには、同期型メモリ装置に備えられたモードレジスタのデフォルト値は同期型メモリ装置が定常的な動作モードへ進入する前に設定されなければならない。モードレジスタのデフォルト値が設定されなければ、同期型メモリ装置は定常的な動作ができない。
メモリ装置の定常的な動作を確保するために、先ず、ユーザはパワーアップ以後にそして定常的な動作モードの動作以前にモード情報を有するアドレスをモードレジスタに供給する。モードレジスタには、一般に、RAS待ち時間(latency)、CAS待ち時間、バーストタイプ、バースト長さ等がプログラムされる。だが、一般に、パワーアップ以後に設定されたモードレジスタの値は続けて使用される。
図1を参照すると、従来の一般的なモードレジスタ10を示す回路図が示されている。図1で信号PVCCHはパワーレベルを示す。信号PVCCHは電源電圧が所定のレベルより低い時ロジックローレベルを有し、所定のレベルより高い時ロジックハイレベルを有する。信号nPVCCHは信号PVCCHの相補信号である。
信号PVCCHがロジックローレベルの時、PMOS及びNMOSトランジスタMP1及びMN1はターンオンされ、その結果ノードN1がロジックハイレベルになり、ノードN2がロジックローレベルになる。ノードN1及びN2のロジックレベルはラッチ12及び14により各々保持され、各ラッチ12,14は2個のインバータINV1,INV2またはINV3,INV4で構成される。ゆえに、信号MDST1のデフォルト値はローに設定され、信号MDST2のデフォルト値はハイに設定される。信号MDST1及びMDST2のデフォルト値は対応するモードレジスタアドレス信号MRA1及びMRA2により変化させることができる。信号PVCCHがロジックハイレベルで設定される時、PMOS及びNMOSトランジスタMP1及びMN1はターンオフされる。
図2を参照すると、従来の他の一般的なモードレジスタ10を示す回路図が示されている。図2で、図1の構成要素と同一の構成要素は同一の参照番号で表記される。図2のモードレジスタ10はダイオード形態で接続されたNMOS及びPMOSトランジスタMN2及びMP2が追加されたという点で図1と異なる。NMOS及びPMOSトランジスタMN2及びMP2はメタルオプションで機能する。即ち、トランジスタMN2及びMP2は選択的に形成されるということである。ゆえに、各ノードN1及びN2はトランジスタMN2及びMP2が形成されるか否かによりロー又はハイに設定できる。
しかし、上述した従来の一般的なモードレジスタ構造は、ユーザの多様な要求を満足することはできない。異なるデフォルト値で設定されるモードレジスタセットを含む同期型半導体メモリ装置は別個に製造しなければならない。結果的に、各メモリ装置の多様なモードレジスタデフォルト構成は追加的な工程負担の原因になる。
本発明の目的は、多様なデフォルト値が追加工程の負担なしでユーザの要求に応じて設定できるプログラム可能なモードレジスタ、およびそれを使用した不揮発性半導体メモリ装置を提供することにある。
本発明のモードレジスタは、データを貯えるメモリセルアレイを有する半導体メモリ装置に使用され、前記メモリ装置の多様な動作モードを制御するためのデータを貯えるモードレジスタにおいて、電源電圧に接続された第1電流電極及び第1制御信号を受け入れるゲート電極を有する第1トランジスタと、この第1トランジスタの第2電流電極とノードとの間に接続された第1プログラム可能な素子と、接地された第1電流電極及び前記第1制御信号に相補的な第2制御信号を受け入れるゲート電極を有する第2トランジスタと、
前記ノードと前記第2トランジスタの第2電流電極の間に接続された第2プログラム可能な素子とを具備し、前記第1及び第2プログラム可能な素子の各々はマスクROM装置のメモリセルと同一の空乏型トランジスタで構成され、空乏型トランジスタはマスクROM装置のメモリセルに対するイオン注入工程で導通状態の第1プログラム状態又は非導通状態の第2プログラム状態にプログラムされることを特徴とする。
このようなモードレジスタにおいて、より具体的な例として、前記ノードに接続されたラッチを付加的に含むことができる。また、前記半導体メモリ装置はクロック信号に同期して動作するマスクROM装置を含むことができる。さらに、前記ノードは外部から印加されるモードレジスタアドレス信号に応答してロジックローレベル及びロジックハイレベルのうちいずれか一つに設定される。さらに、前記第1制御信号は前記電源電圧が所定のレベルより低い時ロジックローレベルを有し、前記電源電圧が前記所定のレベルより高い時ロジックハイレベルを有する。
本発明の不揮発性半導体メモリ装置は、複数のメモリセルを有し、メモリセルの各々はデータ貯蔵素子を有するメモリセルアレイ及び、前記メモリ装置の複数の動作モードを制御するためのデータを貯えるモードレジスタを含み、前記モードレジスタは複数のプログラム可能な素子を有し、前記モードレジスタのデフォルト値は前記プログラム可能な素子が第1又は第2プログラム状態にプログラムされたかに応じて設定され、前記プログラム可能な素子はマスクROM装置のメモリセルと同一の空乏型トランジスタで構成され、空乏型トランジスタはマスクROM装置のメモリセルに対するイオン注入工程で導通状態の第1プログラム状態又は非導通状態の第2プログラム状態にプログラムされることを特徴とする。
より具体的な例として、前記不揮発性半導体メモリ装置はクロック信号に同期して動作する。また、前記不揮発性半導体メモリ装置はマスクROM装置で構成される。さらに、前記モードレジスタは、電源電圧に接続された第1電流電極及び第1制御信号を受け入れるゲート電極を有するPMOSトランジスタと、このPMOSトランジスタの第2電流電極とノードとの間に接続された前記プログラム可能な素子のうち第1プログラム可能な素子と、接地された第1電流電極及び前記第1制御信号に相補的な第2制御信号を受け入れるゲート電極を有するNMOSトランジスタと、前記ノード及び前記NMOSトランジスタの第2電流電極の間に接続された前記プログラム可能な素子のうち第2プログラム可能な素子と、前記ノードに接続されたラッチとを含む。
このような本発明によれば、複数のプログラム可能な素子を有するとともに、該プログラム可能な素子はマスクROM装置のメモリセルと同一の空乏型トランジスタで構成され、空乏型トランジスタはマスクROM装置のメモリセルに対するイオン注入工程で導通状態の第1プログラム状態又は非導通状態の第2プログラム状態にプログラムされるので、従来の一般的なモードレジスタ構成とは違って、モードレジスタに対する多様なデフォルト値が追加的な工程負担なしでユーザの要求に応じて設定できる。
以下、本発明の望ましい実施の形態を参照図面に基づき詳細に説明する。
実施の形態において、不揮発性半導体メモリ装置はクロック信号に同期して動作する。詳しくは、メモリ装置は同期型マスクROM装置である。同期型マスクROM装置のモードレジスタは多様な動作モードを制御するためのデータを貯える。例えば、RAS待ち時間、CAS待ち時間、バースト長さ、そしてバーストタイプがプログラムされる。ユーザがそのような値を変えたいときは、パワーダウンモードから抜け出て定常的な動作モードへ進入する前にモードレジスタを設定する。同期型マスクROM装置は”KM23V32205T”という題目で三星電子の仕様書に掲載されている。
KM23V32205Tに掲載されるように、モードレジスタは7ビットアドレス(例えば、A0〜A7)を使用してプログラムされる。アドレス信号A0及びA1はバースト長さを設定するために、アドレス信号A2はバーストタイプを設定するために、アドレス信号A3〜A5はCAS待ち時間を設定するために、そしてアドレス信号A6はRAS待ち時間を設定するために使用される。
図3は、本発明による不揮発性半導体メモリ装置のモードレジスタの実施の形態を示す回路図であり、図4は、図3に示されたモードレジスタの望ましい実施例である。図3には、モードレジスタ100の一部分が示されている。前述した条件によると、モードレジスタアドレス信号MRAは7ビットアドレス信号A0〜A7中の一つに対応する。ゆえに、図3に示されたものと同一の回路構成が他の6ビットアドレス信号に各々対応して図3のモードレジスタ100に付加される。
図3を参照すると、モードレジスタ100はPMOS及びNMOSトランジスタMP100及びMN100、第1及び第2プログラム可能な素子110及び120、および逆向き並列接続された2個のインバータINV100及びINV101を有するラッチ130を含む。PMOSトランジスタMP100は電源電圧VCCに接続されたソースと信号PVCCHを受け入れるゲート電極を有する。第1プログラム可能な素子110はトランジスタMP100のドレインとノードN10との間に接続され、ノードN10は外部から印加されるモードレジスタアドレス信号MRAを受け入れるための入力端子として使用される。第2プログラム可能な素子120はノードN10とNMOSトランジスタMN100のドレインとの間に接続され、トランジスタMN100は接地されたソース及び信号nPVCCHを受け入れるゲート電極を有する。ノードN10には、ラッチ130が接続される。
この実施の形態において、信号PVCCHは電源電圧レベルを示す。信号PVCCHは電源電圧が所定のレベルより低い時ロジックローレベルを有し、所定のレベルより高い時ロジックハイレベルを有する。信号nPVCCHは信号PVCCHに相補的である。
図4に示されるように、第1及び第2プログラム可能な素子110及び120は空乏型トランジスタ(depletion transistor)を用いて各々実現される。即ち、第1プログラム可能な素子110として使用される空乏型トランジスタD100は接地されたゲート電極、トランジスタMP100のドレインに接続された第1電流電極、およびノードN10に接続された第2電流電極を有する。第2プログラム可能な素子120として使用される空乏型トランジスタD101は接地されたゲート電極及びノードN10とトランジスタMN100のドレインとの間に接続されたチャンネルを有する。
モードレジスタ100が同期型マスクROM装置に形成されるので、空乏型トランジスタD100,D101はマスクROM装置のメモリセルと同一の工程により形成される。メモリセルがイオン注入によりプログラムされる時、トランジスタD100及びD101をプログラムできる。結果的に、トランジスタD100,D101はイオン注入によりプログラムされるか否かによりオン状態又はオフ状態を有する。トランジスタD100又はD101がプログラムされる時、それのスレッショルド電圧はゲート電圧より高く、ターンオフされる。プログラムされないトランジスタはゲート電圧より低いスレッショルド電圧を有し、ターンオンされる。
本発明のモードレジスタ100によると、レジスタ出力信号MDSTの電圧レベルは空乏型トランジスタD100又はD101をプログラムすることにより設定できる。例えば、空乏型トランジスタD100がプログラムされる時、トランジスタD100はオフ状態に保たれる一方、トランジスタD101はオン状態を有する。逆に、空乏型トランジスタD101がプログラムされる時、それはオフ状態に保たれる一方、トランジスタD100はオン状態を有する。前者の場合、信号PVCCH及びnPVCCHが各々ロー及びハイでトランジスタMP100およびMN100がオンする時、ノードN10は接地され、信号MDSTのデフォルト値はロジックハイレベルに設定される。後者の場合、信号PVCCH及びnPVCCHが各々ロー及びハイでトランジスタMP100およびMN100がオンする時、ノードN10は電源電圧VCCまで充電され、信号MDSTのデフォルト値はロジックローレベルに設定される。
一方、信号PVCCH及びnPVCCHが各々ハイ及びローでトランジスタMP100およびMN100がオフする時、ノードN10の値はモードレジスタアドレス信号MRAにより異なる値に設定され、対応する値がラッチ130出力にレジスタ出力信号MDSTとして出力される。
従来の一般的なモードレジスタを示す回路図。 従来の他の一般的なモードレジスタを示す回路図。 本発明によるモードレジスタの実施の形態を示す回路図。 図3に示されたモードレジスタの望ましい実施例を示す回路図。
符号の説明
100 モードレジスタ
110 第1プログラム可能な素子
120 第2プログラム可能な素子
130 ラッチ
MP100 PMOSトランジスタ
MN100 NMOSトランジスタ
D100,D101 空乏型トランジスタ

Claims (9)

  1. データを貯えるメモリセルアレイを有する半導体メモリ装置に使用され、前記メモリ装置の多様な動作モードを制御するためのデータを貯えるモードレジスタにおいて、
    電源電圧に接続された第1電流電極及び第1制御信号を受け入れるゲート電極を有する第1トランジスタと、
    この第1トランジスタの第2電流電極とノードとの間に接続された第1プログラム可能な素子と、
    接地された第1電流電極及び前記第1制御信号に相補的な第2制御信号を受け入れるゲート電極を有する第2トランジスタと、
    前記ノードと前記第2トランジスタの第2電流電極の間に接続された第2プログラム可能な素子とを具備し、
    前記第1及び第2プログラム可能な素子の各々はマスクROM装置のメモリセルと同一の空乏型トランジスタで構成され、空乏型トランジスタはマスクROM装置のメモリセルに対するイオン注入工程で導通状態の第1プログラム状態又は非導通状態の第2プログラム状態にプログラムされることを特徴とするモードレジスタ。
  2. 前記ノードに接続されたラッチを付加的に含むことを特徴とする請求項1に記載のモードレジスタ。
  3. 前記半導体メモリ装置はクロック信号に同期して動作するマスクROM装置を含むことを特徴とする請求項1に記載のモードレジスタ。
  4. 前記ノードは外部から印加されるモードレジスタアドレス信号に応答してロジックローレベル及びロジックハイレベルのうちいずれか一つに設定されることを特徴とする請求項1に記載のモードレジスタ。
  5. 前記第1制御信号は前記電源電圧が所定のレベルより低い時ロジックローレベルを有し、前記電源電圧が前記所定のレベルより高い時ロジックハイレベルを有することを特徴とする請求項1に記載のモードレジスタ。
  6. 不揮発性半導体メモリ装置において、
    複数のメモリセルを有し、メモリセルの各々はデータ貯蔵素子を有するメモリセルアレイ及び、
    前記メモリ装置の複数の動作モードを制御するためのデータを貯えるモードレジスタを含み、
    前記モードレジスタは複数のプログラム可能な素子を有し、
    前記モードレジスタのデフォルト値は前記プログラム可能な素子が第1又は第2プログラム状態にプログラムされたかに応じて設定され、
    前記プログラム可能な素子はマスクROM装置のメモリセルと同一の空乏型トランジスタで構成され、空乏型トランジスタはマスクROM装置のメモリセルに対するイオン注入工程で導通状態の第1プログラム状態又は非導通状態の第2プログラム状態にプログラムされることを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置。
  7. 前記不揮発性半導体メモリ装置はクロック信号に同期して動作することを特徴とする請求項6に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
  8. 前記不揮発性半導体メモリ装置はマスクROM装置で構成されることを特徴とする請求項7に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
  9. 前記モードレジスタは、
    電源電圧に接続された第1電流電極及び第1制御信号を受け入れるゲート電極を有するPMOSトランジスタと、
    このPMOSトランジスタの第2電流電極とノードとの間に接続された前記プログラム可能な素子のうち第1プログラム可能な素子と、
    接地された第1電流電極及び前記第1制御信号に相補的な第2制御信号を受け入れるゲート電極を有するNMOSトランジスタと、
    前記ノード及び前記NMOSトランジスタの第2電流電極の間に接続された前記プログラム可能な素子のうち第2プログラム可能な素子と、
    前記ノードに接続されたラッチと
    を含むことを特徴とする請求項6に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
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