JP7170433B2 - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 113
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 41
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 18
- 101100365087 Arabidopsis thaliana SCRA gene Proteins 0.000 description 9
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005533 two-dimensional electron gas Effects 0.000 description 2
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/43—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/49—Metal-insulator-semiconductor electrodes, e.g. gates of MOSFET
- H01L29/4966—Metal-insulator-semiconductor electrodes, e.g. gates of MOSFET the conductor material next to the insulator being a composite material, e.g. organic material, TiN, MoSi2
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/28—Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
- H01L21/283—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current
- H01L21/285—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a gas or vapour, e.g. condensation
- H01L21/28506—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a gas or vapour, e.g. condensation of conductive layers
- H01L21/28575—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a gas or vapour, e.g. condensation of conductive layers on semiconductor bodies comprising AIIIBV compounds
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- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
- H01L29/4232—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/42356—Disposition, e.g. buried gate electrode
- H01L29/4236—Disposition, e.g. buried gate electrode within a trench, e.g. trench gate electrode, groove gate electrode
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- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/43—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/49—Metal-insulator-semiconductor electrodes, e.g. gates of MOSFET
- H01L29/495—Metal-insulator-semiconductor electrodes, e.g. gates of MOSFET the conductor material next to the insulator being a simple metal, e.g. W, Mo
- H01L29/4958—Metal-insulator-semiconductor electrodes, e.g. gates of MOSFET the conductor material next to the insulator being a simple metal, e.g. W, Mo with a multiple layer structure
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- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66446—Unipolar field-effect transistors with an active layer made of a group 13/15 material, e.g. group 13/15 velocity modulation transistor [VMT], group 13/15 negative resistance FET [NERFET]
- H01L29/66462—Unipolar field-effect transistors with an active layer made of a group 13/15 material, e.g. group 13/15 velocity modulation transistor [VMT], group 13/15 negative resistance FET [NERFET] with a heterojunction interface channel or gate, e.g. HFET, HIGFET, SISFET, HJFET, HEMT
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- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/778—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface
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Description
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1は、第1実施形態に係る半導体装置を例示する模式的断面図である。
図1に示すように、実施形態に係る半導体装置110は、第1電極51、第2電極52、第3電極53、第1半導体領域10、第2半導体領域20、及び、第1絶縁膜41を含む。
図2の横軸は、ゲート電圧Vg(V)である。縦軸はドレイン電流Id(mA)である。図2には、第1測定試料SPa及び第2測定試料SPbの特性が示されている。これらの試料において、第3電極53は、TiN膜である。TiN膜は、Tiのターゲットを用いたスパッタで形成される。スパッタにおけるガスがこれらの試料の間で変更される。第1測定試料SPaにおいては、Ar(アルゴン)ガスの流量/N(窒素)ガスの流量の比は、48/8である。第2測定試料SPbにおいては、Arガスの流量/Nガスの流量の比は、8/48である。
試料SP02においては、Arガスの流量は48sccmであり、N2ガスの流量は8sccmである。
試料SP03においては、Arガスの流量は19sccmであり、N2ガスの流量は37sccmである。
試料SP04においては、Arガスの流量は8sccmであり、N2ガスの流量は48sccmである。
試料SP05においては、Arガスの流量は37sccmであり、N2ガスの流量は19sccmである。
上記の第1測定試料SPaは、試料SP02に対応する。上記の第2測定試料SPbは、試料SP04に対応する。
図3(a)~図3(e)、及び、図4(a)~図4(e)は、試料のX線回折測定の結果を例示するグラフ図である。
図3(a)~図3(e)は、試料SP01~SP05に対応し、図4(a)~図4(e)は、試料SP11~SP15に対応する。これらの図の横軸は、角度2θ(度)である。これらの図の縦軸は、信号の強度Intである。
図5(a)及び図5(b)は、試料の特性を例示するグラフ図である。
これらの図の横軸は、試料SP11~SP15、及び、試料SP01~SP05に対応する。図5(a)の縦軸は、試料の膜(TiN膜)の密度d1(g/cm3)である。密度d1は、X線反射率測定法(XRR:X-ray Reflection)により測定される。図5(b)の縦軸は、試料の膜(TiN膜)の表面ラフネスs1(nm)である。表面ラフネスs1は、XRRの測定結果からフィッティングにより得られる表面粗さに対応する。
これらの図の横軸は、パラメータR1である。縦軸は、密度d1(g/cm3)である。図6(a)は、試料SP01~SP05に対応する。図6(b)は、試料SP11~SP15に対応する。これらの図から分かるように、パラメータR1が大きくなると、密度d1が低下する。
これらの図の横軸は、パラメータR1である。縦軸は、表面ラフネスs1(nm)である。図7(a)は、試料SP01~SP05に対応する。図7(b)は、試料SP11~SP15に対応する。これらの図から分かるように、パラメータR1が大きくなると、表面ラフネスs1が大きくなる。
図8(a)は、シミュレーションのモデルM01を例示している。第1半導体領域10は、GaN層であり、第2半導体領域20は、A0.25Ga0.75N層である。この例では、第3電極53は、-156MPaの応力(圧縮応力)を有する。第1絶縁膜41及び第2絶縁膜42は、-500MPaの応力(圧縮応力)を有する。これらの応力により、第2半導体領域20の側面20sの部分(リセス端部)に、剪断応力が加わる。
図9に示すように、実施形態に係る半導体装置120は、第1~第3電極51~53、第1半導体領域10、第2半導体領域20及び第1絶縁膜41に加えて、中間膜55をさらに含む。中間膜55は、第3電極53と第1絶縁膜41との間に設けられる。中間膜55は、Pt、Ir、Ni、Pd、Ge、Co、Au、及びRhよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。中間膜55における仕事関数は、第3電極53の仕事関数よりも高い。中間膜55を設けることで、例えば、第3電極53を第1絶縁膜41(例えばSiO2)上に成膜する際に、第1絶縁膜41と第3電極53との化合物形成を抑制することができる。例えば、酸化を抑制することができる。
図10は、実施形態に係るTiN膜を含む試料の断面TEM(Transmission Electron Microscope)像である。この試料においては、Si基板の上に設けられたSiO2膜の上に、TiN膜がスパッタにより形成されている。SiO2膜は、第1絶縁膜41に対応する。TiN膜は、第3電極53に対応する。図10に示すように、SiO2膜と、TiN膜と、の間において、中間膜領域53Mが観察される。中間膜領域53Mは、例えば、Ti及び酸素を含む。このようなTiN膜が第3電極53に使用されても良い。
図11は、実施形態に係るTiN膜を含む試料の断面TEM像である。この試料においては、Si基板の上に設けられたSiO2膜の上に、Ptを含む中間膜55が形成され、その上に、TiN膜がスパッタにより形成されている。
本実施形態は、半導体装置の製造方法に係る。
図12は、第2実施形態に係る半導体装置の製造方法を例示するフローチャート図である。
図12に示すように、積層体18(図1参照)に凹部18dを形成する(ステップS110)。積層体18は、Alx1Ga1-x1N(0≦x1<1)を含む第1半導体領域10と、Alx2Ga1-x2N(0<x2≦1、x1<x2)を含む第2半導体領域20と、を含む。例えば、積層体18の一部を除去して、第2半導体領域20から第1半導体領域10に届く凹部18dが形成される。
Claims (17)
- 第1電極と、
第2電極と、
Alx1Ga1-x1N(0≦x1<1)を含む第1半導体領域であって、前記第1半導体領域は、第1部分領域、第2部分領域、前記第1部分領域と前記第2部分領域との間の第3部分領域、前記第1部分領域と前記第3部分領域との間の第4部分領域、及び、前記第3部分領域と前記第2部分領域との間の第5部分領域を含み、前記第1部分領域から前記第1電極への第1方向は、前記第1電極から前記第2電極への第2方向と交差し、前記第2部分領域から前記第2電極への方向は前記第1方向に沿う、前記第1半導体領域と、
Alx2Ga1-x2N(0<x2≦1、x1<x2)を含む第2半導体領域であって、前記第2半導体領域は、第6部分領域及び第7部分領域を含み、前記第4部分領域から前記第6部分領域への方向は前記第1方向に沿い、前記第5部分領域から前記第7部分領域への方向は前記第1方向に沿う、前記第2半導体領域と、
第3電極であって、前記第3部分領域から前記第3電極への方向は前記第1方向に沿い、前記第3電極は前記第2方向において前記第6部分領域及び前記第7部分領域と重なる、前記第3電極と、
前記第3電極と前記第3部分領域との間、前記第3電極と前記第4部分領域との間、前記第3電極と前記第5部分領域との間、前記第3電極と前記第6部分領域との間、及び、前記第3電極と前記第7部分領域との間に設けられた部分を含む第1絶縁膜と、
を備え、
X線回折測定において、前記第3電極における(111)配向に対応する第1ピーク強度に対する、前記第3電極における(220)配向に対応する第2ピーク強度の比は、1.5以上である、半導体装置。 - 前記第3電極は、NaCl型の結晶構造を有する、請求項1記載の半導体装置。
- 前記第3電極は、チタン及び窒素を含む、請求項1または2に記載の半導体装置。
- 第1電極と、
第2電極と、
Alx1Ga1-x1N(0≦x1<1)を含む第1半導体領域であって、前記第1半導体領域は、第1部分領域、第2部分領域、前記第1部分領域と前記第2部分領域との間の第3部分領域、前記第1部分領域と前記第3部分領域との間の第4部分領域、及び、前記第3部分領域と前記第2部分領域との間の第5部分領域を含み、前記第1部分領域から前記第1電極への第1方向は、前記第1電極から前記第2電極への第2方向と交差し、前記第2部分領域から前記第2電極への方向は前記第1方向に沿う、前記第1半導体領域と、
Alx2Ga1-x2N(0<x2≦1、x1<x2)を含む第2半導体領域であって、前記第2半導体領域は、第6部分領域及び第7部分領域を含み、前記第4部分領域から前記第6部分領域への方向は前記第1方向に沿い、前記第5部分領域から前記第7部分領域への方向は前記第1方向に沿う、前記第2半導体領域と、
チタン及び窒素を含む第3電極であって、前記第3部分領域から前記第3電極への方向は前記第1方向に沿い、前記第3電極は前記第2方向において前記第6部分領域及び前記第7部分領域と重なり、前記第3電極の密度は3.93g/cm3以下である、前記第3電極と、
前記第3電極と前記第3部分領域との間、前記第3電極と前記第4部分領域との間、前記第3電極と前記第5部分領域との間、前記第3電極と前記第6部分領域との間、及び、前記第3電極と前記第7部分領域との間に設けられた部分を含む第1絶縁膜と、
を備えた半導体装置。 - 前記第3電極は、前記第2方向において、前記第4部分領域及び前記第5部分領域と重なる、請求項1~4のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 第2絶縁膜をさらに備え、
前記第6部分領域は、前記第2絶縁膜の一部と前記第4部分領域との間に設けられ、
前記第7部分領域は、前記第2絶縁膜の別の一部と前記第5部分領域との間に設けられ、
前記第2絶縁膜の組成は、前記第1絶縁膜の組成とは異なる、請求項1~5のいずれか1つに記載の半導体装置。 - 前記第2絶縁膜は窒素を含み前記第1絶縁膜は、窒素を含まない、または、
前記第1絶縁膜における窒素の濃度は、前記第2絶縁膜における窒素の濃度よりも低い、請求項6記載の半導体装置。 - 前記第1絶縁膜の一部と前記第6部分領域との間に、前記第2絶縁膜の前記一部が設けられ、
前記第1絶縁膜の別の一部と前記第7部分領域との間に、前記第2絶縁膜の前記別の一部が設けられた、請求項6または7に記載の半導体装置。 - 前記第3電極と前記第1絶縁膜との間に設けられ、Pt、Ir、Ni、Pd、Ge、Co、Au、及びRhよりなる群から選択された少なくとも1つを含む中間膜をさらに備えた請求項1~8のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 前記中間膜の、前記第3電極と前記第3部分領域との間における、前記第1方向に沿う厚さは、0.25nm以上4nm以下である、請求項9記載の半導体装置。
- 前記第3電極は、前記第1方向において前記第3部分領域と重なる部分を含み、
前記重なる部分の前記第1方向に沿う厚さは、10nm以上100nm以下である、請求項1~10のいずれか1つに記載の半導体装置。 - 前記第1絶縁膜は、前記第1方向において、前記第3電極の一部と前記第4部分領域との間、及び、前記第3電極の別の一部と前記第5部分領域との間に設けられた、請求項1~11のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 前記第1絶縁膜は、前記第1方向において前記第3電極と前記第3部分領域との間の第1絶縁部分を含み、
前記第1絶縁部分と前記第3電極との境界の前記第1方向における位置と、前記第4部分領域と前記第6部分領域との境界の前記第1方向における位置と、の間の前記第1方向に沿った距離は、0.1nm以上15nm以下である、請求項1~12のいずれか1つに記載の半導体装置。 - 前記第1絶縁膜は、前記第1方向において前記第3電極と前記第3部分領域との間の第1絶縁部分を含み、
前記第1絶縁部分の前記第1方向に沿う厚さは、0.1nm以上50nm以下である、請求項1~13のいずれか1つに記載の半導体装置。 - Alx1Ga1-x1N(0≦x1<1)を含む第1半導体領域と、Alx2Ga1-x2N(0<x2≦1、x1<x2)を含む第2半導体領域と、を含む積層体の一部を除去して、前記第2半導体領域から前記第1半導体領域に届く凹部を形成し、
前記凹部に第1絶縁膜を形成し、
前記第1絶縁膜の前記形成の後に前記凹部の残余の空間に、Tiを含むターゲットを用いて、アルゴン及び窒素を含みアルゴンの流量に対する窒素の流量の比が0.077以上0.513以下である雰囲気中でのスパッタにより、TiNを含む導電膜を形成する、半導体装置の製造方法。 - 前記第1絶縁膜の前記形成と、前記導電膜の前記形成と、の間に、前記凹部に、Pt、Ir、Ni及びPrよりなる群から選択された少なくとも1つを含む中間膜をさら形成する、請求項15記載の半導体装置の製造方法。
- 前記積層体の第1部分領域と電気的に接続される第1電極と、前記積層体の第2部分領域と電気的に接続される第2電極と、をさらに形成し、
前記第1部分領域と前記第2部分領域との間に、前記凹部が位置する、請求項15または16に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018116257A JP7170433B2 (ja) | 2018-06-19 | 2018-06-19 | 半導体装置及びその製造方法 |
US16/297,776 US10916646B2 (en) | 2018-06-19 | 2019-03-11 | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018116257A JP7170433B2 (ja) | 2018-06-19 | 2018-06-19 | 半導体装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019220557A JP2019220557A (ja) | 2019-12-26 |
JP7170433B2 true JP7170433B2 (ja) | 2022-11-14 |
Family
ID=68840542
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018116257A Active JP7170433B2 (ja) | 2018-06-19 | 2018-06-19 | 半導体装置及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10916646B2 (ja) |
JP (1) | JP7170433B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7262379B2 (ja) * | 2019-12-16 | 2023-04-21 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP7280206B2 (ja) * | 2020-01-09 | 2023-05-23 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
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Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5348364B2 (ja) | 2007-08-27 | 2013-11-20 | サンケン電気株式会社 | ヘテロ接合型電界効果半導体装置 |
JP5697012B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2015-04-08 | 古河電気工業株式会社 | 溝の形成方法、および電界効果トランジスタの製造方法 |
JP2014045146A (ja) | 2012-08-28 | 2014-03-13 | Advanced Power Device Research Association | 半導体素子およびその製造方法 |
JP6093190B2 (ja) | 2013-01-18 | 2017-03-08 | 住友電気工業株式会社 | Mis構造トランジスタ、及びmis構造トランジスタを作製する方法 |
JP6214978B2 (ja) * | 2013-09-17 | 2017-10-18 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP6167928B2 (ja) | 2014-02-12 | 2017-07-26 | 豊田合成株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2016039327A (ja) | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 古河電気工業株式会社 | 窒化物半導体装置、ダイオード、および電界効果トランジスタ |
JP2017054923A (ja) * | 2015-09-09 | 2017-03-16 | 株式会社東芝 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP6560112B2 (ja) | 2015-12-09 | 2019-08-14 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
CN108321198B (zh) | 2017-01-17 | 2021-06-08 | 株式会社东芝 | 半导体装置、电源电路、计算机和半导体装置的制造方法 |
-
2018
- 2018-06-19 JP JP2018116257A patent/JP7170433B2/ja active Active
-
2019
- 2019-03-11 US US16/297,776 patent/US10916646B2/en active Active
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JP2015103780A (ja) | 2013-11-28 | 2015-06-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190386127A1 (en) | 2019-12-19 |
US10916646B2 (en) | 2021-02-09 |
JP2019220557A (ja) | 2019-12-26 |
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