JP7141935B2 - 合成シリカガラス製造装置 - Google Patents
合成シリカガラス製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7141935B2 JP7141935B2 JP2018227131A JP2018227131A JP7141935B2 JP 7141935 B2 JP7141935 B2 JP 7141935B2 JP 2018227131 A JP2018227131 A JP 2018227131A JP 2018227131 A JP2018227131 A JP 2018227131A JP 7141935 B2 JP7141935 B2 JP 7141935B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hole
- silica glass
- small
- burner
- stepped portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 88
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 claims description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 241000209094 Oryza Species 0.000 description 3
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 3
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
図1に示す合成シリカガラス製造装置1は、炉体2を炉の側壁部3と天井部4を備え、前記天井部4にはインゴット合成用のバーナ5が設置されている。また、炉体2の内部にはターゲット6が設置されている。
そして、合成シリカガラスインゴット製造装置1はバーナ5によって生成されるシリカガラス微粒子をターゲット6に堆積させることにより、インゴットXを形成する。尚、炉体2の下部には、排気ポート7が設けられている。
しかしながら、浮遊シリカガラス微粒子の一部が、シリカガラス合成用バーナ5の先端の外周部に付着し、その付着したシリカガラス微粒子が合成中のインゴットXに落下、混入し、その結果、異物や泡となってインゴットXの品質の低下を生じせることがあった。即ち、インゴットXに脈理、内部欠陥が生じ、高品質な合成シリカガラスを得ることができないという課題があった。
その結果、浮遊シリカガラス微粒子のインゴット合成面(溶融シリカ付着面)への付着が抑制され、脈理や内部欠陥が抑制された、高品質な合成シリカガラスを製造できる。
その際、炉内で発生する上昇流を抑え、炉下部に向けたガス流れを形成するために、炉内における可燃性あるいは支燃性ガスのガス流速を速くすること、言い換えれば、大量の可燃性あるいは支燃性ガスを必要するという課題があった。
また、多量の可燃性あるいは支燃性ガスを使用することから、コストアップにつながるという課題があった。更に、第1の火炎流及び第2の火炎流を生じさせるために、シリカガラス合成用のバーナや天井部の構成が複雑になり、合成シリカガラスの製造装置が高価になるという課題があった。
またバーナが石英ガラス製である場合には、バーナ先端に付着したシリカガラス微粒子がガラス化して冷却過程で、熱伝導性の不均一化によって、バーナ先端部に細かなクラックが発生し、更にバーナ先端に多量のシリカガラス微粒子が付着した場合には、バーナを取り外す際にバーナが貫通孔から抜けなくなって破損する、という課題があった。
その結果、バーナの先端を炉内に露出させないという全く新たな発想に基づき、本発明を完成するに至った。
このように、前記段差部を小貫通穴と大貫通穴の直径の差によって形成でき、簡易な構造で、外筒管の先端に浮遊シリカガラス微粒子が付着し難い合成シリカガラス製造装置を得ることができる。
更に、前記小貫通穴と前記大貫通穴の半径の長さ寸法差によって生じる、大貫通穴の側壁から径方向に向う前記段差部の先端までの長さは、前記外筒管端面部における管肉厚の80~100%である。
図2に示すように、合成シリカガラス製造装置10は、耐火物製の炉体11と、炉体11内部に設置されたインゴット形成用のターゲット12と、炉体11内に原料ガスと支燃性ガスと可燃性ガスを導出して火炎流を形成するシリカガラス(インゴット)合成用のバーナ13と、を備えている。尚、図2のバーナ13の詳細は、図3に示す。
この貫通穴16の直径は、天井部15の炉内側が小さく、天井部15の炉外側が大きく形成されている。
即ち、天井部14の炉内側に小貫通穴16aが形成され、また天井部14の炉外側に大貫通穴16bが形成されることにより、天井部14の内部に小貫通穴16aと大貫通穴16bの直径の差による、段差部Aが形成される。
そして、外筒管13の先端部は大貫通穴16bの内周側壁によって保持されると共に、外筒管13の先端の端面部が前記段差部Aに当接し、外筒管13の先端が炉内部に露出しないようになされる。
しかも、シリカガラス合成用のバーナ13が天井部15の下面から炉の内部に突出しないため、前記バーナ13からのガス流に、好ましくない気流の乱れが発生するのを抑制できる。
但し、設計上の誤差の範囲で僅かに下方に突出する程度であれば、問題にならない。この場合の誤差は、外筒管13Aの直径によるが、例えば、図4に示す小貫通穴16aの長さ寸法D1の2%以内であることが望ましい。
シリカガラス合成用のバーナ13は、バーナ内筒管13B内に、原料ガスを供給するソースノズル13aと、前記ソースノズル13aを中心部に収容し、可燃性ガスを供給する可燃性ガスノズル13bと、前記可燃性ガスノズル13b内に前記ソースガスノズル13aを囲うように配置され、支燃性ガスを供給する複数の支燃性ガスノズル13cを形成し、シリカガラス合成用のバーナ13のバーナ内筒管13Bから原料ガス、可燃性ガス、支燃性ガスを供給するように形成されている。
尚、本発明にかかる合成シリカガラス製造装置に用いられるシリカガラス合成用のバーナは、図3に示したバーナの限定されるものではなく、例えば、バーナを二重管とし、バーナ内筒管13Bから原料ガスを供給し,バーナ外筒管13Aから可燃性ガス、支燃性ガスを供給する、シリカガラス合成用のバーナであっても良い。
図4は、本発明の第1の態様に係る段差部Aの模式図である。
図4に示すように、大貫通孔16bの側壁から径方向に向って段差部Aの先端までの長さ寸法D3が、外筒管13Aの端面部13A1における管の肉厚寸法D2の100%に形成されており、また、前記小貫通孔16aは、その軸方向における長さ寸法D1が0.5mmを超え、3mm以下となるように形成されている。
前記小貫通孔16aの長さ寸法D1が0.5mm以下では、バーナ13の外筒管13Aを保持するのに必要な強度が十分確保できなくなり、段差部Aに欠けの発生が懸念される。
一方、前記小貫通孔16aの長さ寸法D1が3mmを超えると、バーナ13の火炎流が段差部Aと接触することがあり、段差部Aがバーナ13の火炎流により溶出する虞があるため、好ましくない。
大貫通孔16bの側壁から径方向に向って段差部Aの先端までの長さ寸法D3が、外筒管13Aの端面部13A1における管の肉厚寸法D2の80%以上に形成されている。
大貫通孔16bの側壁から径方向に向って段差部Aの先端までの長さ寸法D3が、外筒管13Aの端面部13A1の管の肉厚寸法D2を超えて径方向に突出すると、この段差部Aの突出部A1がバーナ13のガス流れに干渉し、当該ガス流れに乱れが生じ、インゴット17の品質に影響を与えるため、好ましくない。
しかしながら、段差部Aにおける、バーナ13の火炎流に直接晒される小貫通孔16aの側壁面に、わずかながらシリカガラス微粒子が付着する。また、小貫通孔16aの側壁面の熱的負荷が他の箇所より大きく、小貫通孔16aの側壁面の劣化が速く進行する、という懸念がある。
一方、上記段差部Aにおける、大貫通孔16bの側壁から径方向に向って段差部Aの先端までの長さ寸法D3が、外筒管13Aの端面部13A1における管の肉厚寸法D2の99%を超える場合には、バーナ13の火炎流と段差部Aが干渉して、段差部Aが溶出し、外筒管13Aと段差部分が溶着する、あるいは、溶けた部分にシリカが付着して氷柱状のガラスが形成され、これがインゴット17上に落下する等の不具合が懸念されるため、好ましくない。
この第3の態様にあっては、段差部Aの小貫通孔16aの上部が、外筒管13Aの内径(厚さ)と同じ径を有し、外筒管13Aと当接するように形成され、更に小貫通孔16aの上部から下部が、炉の内部に向かうにつれて(バーナ13の下方に向かうにつれて)、拡径するような形状(直径が徐々に大きくなる形状)に形成されている。
この第4の態様に係る段差部Aは、第2の態様と第3の態様を組み合わせた段差部である。即ち、この第4の態様の段差部Aは、大貫通孔16bの側壁から径方向に向って段差部Aの先端までの距離D3を、外筒管13Aの端面部13A1の肉厚寸法D2の80~99%とし、更に小貫通孔16aを、炉の内部に向かうにつれて(バーナ13の下方に向かうにつれて)、拡径するような形状(直径が徐々に大きくなる形状)にしたものである。
このように、図7に示す第4の態様に係る段差部Aにあっては、段差部Aの形状がより最適化されるので、耐久性のさらなる向上が図れる。
これにより、付着したシリカガラス微粒子が剥離してインゴット上に落下することによって生じる、インゴット中に異物や泡が混入することを抑制でき、高品質のシリカガラスインゴットを製造できる。
限されるものではない。
図2に示すように、アルミナ材料からなる天板に、貫通穴16を形成することにより、以下に示す各種形状の段差部Aを形成した、合成シリカガラス製造装置を用いて実験した。
このとき貫通穴16の大貫通穴16bは、外筒管13Aの外径に合わせてφ80mmとした。
また、バーナとして、図3に示すバーナを用いた。このバーナ13の外筒管13Aからは可燃性ガスを供給し、内筒管13B内のソースノズル13aから原料ガスと支燃性ガスを供給し、内筒管13B内の支燃性ガスノズル13cから支燃性ガスを供給した。
尚、内筒管13B内の可燃性ガスノズル13bは、外筒管13Aから可燃性ガスを供給することとし、可燃性ガスノズル13bは使用しなかった。
またソースノズル13aの外径はφ7mm、内径はφ3mm、支燃性ガスノズル13cの外径はφ6mm、内径はφ2mmとした。
また、ガス条件は、ソースノズル13aからSiCl4を50g/min+O2ガスを10リットル/minを、支燃性ガスノズル13cからO2ガスを150リットル/minを、外筒管13AからH2ガスを300リットル/minを、それぞれ炉内に導入した。O2ガス/H2ガス比は0.5とした。
そして、外径φ500mm、重量1000kgの合成シリカガラスからなるインゴットを製造した。
段差部Aの小貫通孔16aの軸方向における長さ寸法D1を3mm、小貫通孔16aと大貫通穴16bの半径の差であるD2を、外筒管13Aの端面部の厚さ(肉厚)に対して100%とした。
実験の結果、外筒管13Aの先端部にシリカガラス微粒子の付着は確認できず、合成されたインゴットにも、異物や泡の混入は無かった。
段差部Aの小貫通孔16aの軸方向における長さ寸法D1を3mm、小貫通孔16aと大貫通穴16bの半径の差であるD2を、外筒管13Aの端面部の厚さ(肉厚)に対して99%とした。
実験の結果、外筒管13Aの先端部にシリカガラス微粒子の付着は確認できず、合成されたインゴットにも、異物や泡の混入は無かった。
段差部Aの小貫通孔16aの軸方向における長さ寸法D1を3mm、小貫通孔16aと大貫通穴16bの半径の差であるD2を、外筒管13Aの端面部の厚さ(肉厚)に対して90%とした。
実験の結果、実施例1と同様に、外筒管13Aの先端部にシリカガラス微粒子の付着は確認できず、合成されたインゴットにも、異物や泡の混入は無かった。
段差部Aの小貫通孔16aの軸方向における長さ寸法D1を3mm、小貫通孔16aと大貫通穴16bの半径の差であるD2を、外筒管13Aの端面部の厚さ(肉厚)に対して80%とした。
実験の結果、実施例1と同様に、外筒管13Aの先端部にシリカガラス微粒子の付着は確認できず、合成されたインゴットにも、異物や泡の混入は無かった。
図1に示すような、外筒管13Aの先端部が炉内に露出している、従来の炉体構造にて、インゴットの合成を行った。
その結果、外筒管13Aの先端部にシリカガラス微粒子が大量に付着し、これが落下して、合成されたインゴットに異物と泡が多量に混入した。
段差部Aの小貫通孔16aの軸方向における長さ寸法D1を3mm、小貫通孔16aと大貫通穴16bの半径の差であるD2を、外筒管13Aの端面部の厚さ(肉厚)に対して75%とした。
実験の結果、比較例1ほどではないものの、外筒管13Aの先端部にシリカガラス微粒子の付着がみられ、これが落下して、合成されたインゴットに異物が混入した。
段差部Aの小貫通孔16aの軸方向における長さ寸法D1を3mm、小貫通孔16aと大貫通穴16bの半径の差であるD2を、外筒管13Aの端面部の厚さ(肉厚)に対して110%とした。
実験の結果、バーナ13の火炎流により段差部Aが溶け出し、外筒管13Aと段差部Aが大きく溶着した個所が見られた。この溶着は、実施例1の場合より顕著なもので、かつ、実施例1と異なり、バーナ13の再利用が不可であった。
段差部Aの小貫通孔16aの軸方向における長さ寸法D1を0.5mm、小貫通孔16aと大貫通穴16bの半径の差であるD2を、外筒管13Aの端面部の厚さ(肉厚)に対して100%とした。
実験の結果、実施例1と同様に、外筒管13Aの先端部にシリカガラス微粒子の付着は無かったが、100時間操業後、段差部Aの一部が大きく欠損していた。これは、段差部Aの強度不足により、熱負荷に長時間耐えられなかったものとみられる。
11 炉体
12 ターゲット
13 シリカガラス合成用のバーナ
13A 外筒管
13B 内筒管
14 側壁部
15 天井部
16 貫通穴
16a 小貫通穴
16b 大貫通穴
17 インゴット
A 段差部
D1 小貫通穴の軸方向の長さ寸法
D2 外筒管の端面部における管の肉厚寸法
D3 段差部における先端部までの長さ寸法
Claims (1)
- 耐火物製の炉体と、前記炉体内部に設置されたインゴット形成用のターゲットと、前記炉体内に原料ガスと支燃性ガスと可燃性ガスを導出して火炎流を形成するシリカガラス合成用のバーナと、を備えた合成シリカガラス製造装置であって、
前記バーナは、少なくとも原料ガスを導出する内筒管と、前記可燃性ガスと前記支燃性ガスの少なくとも、いずれか1つのガスを導出する外筒管を備え、
前記炉体は、筒状の側壁部と、前記側壁部の上部を閉塞する天井部とから構成され、前記天井部には前記外筒管が挿入される貫通孔が設けられており、
前記貫通孔の内周側壁に、前記外筒管の先端の端面部と当接して前記バーナを保持する段差部が設けられており、
前記貫通孔が、天井部の炉内側に形成された直径の小さい小貫通穴と、天井部の炉外側に形成された、前記小貫通穴よりも直径が大きい大貫通穴を備え、
前記段差部は、小貫通穴と大貫通穴の直径の差に形成され、
前記小貫通穴と前記大貫通穴の半径の長さ寸法差によって生じる、大貫通穴の壁から径方向に向う前記段差部の先端までの長さは、前記外筒管端面部における管肉厚の80~100%であり、
前記段差部を形成する小貫通穴の軸方向における長さ寸法が、0.5mmを超える寸法である ことを特徴とする合成シリカガラス製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018227131A JP7141935B2 (ja) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | 合成シリカガラス製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018227131A JP7141935B2 (ja) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | 合成シリカガラス製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020090405A JP2020090405A (ja) | 2020-06-11 |
JP7141935B2 true JP7141935B2 (ja) | 2022-09-26 |
Family
ID=71012323
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018227131A Active JP7141935B2 (ja) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | 合成シリカガラス製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7141935B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112624579B (zh) * | 2020-12-03 | 2021-09-17 | 东海县奥兰石英科技有限公司 | 一种一体集成法生产大直径透明石英坨的制备方法及装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003073131A (ja) | 2001-06-19 | 2003-03-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス微粒子堆積体の製造方法 |
JP2009067660A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成シリカガラスの製造装置及びこれを用いた合成シリカガラスの製造方法 |
JP2012041231A (ja) | 2010-08-19 | 2012-03-01 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成シリカガラス製造装置 |
JP2012232868A (ja) | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス溶融炉、溶融ガラスの製造方法、ガラスビーズの製造方法およびガラス物品の製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10236835A (ja) * | 1997-02-24 | 1998-09-08 | Nikon Corp | 合成石英ガラス製造用バーナー、合成石英ガラス製造装置および合成石英ガラス |
-
2018
- 2018-12-04 JP JP2018227131A patent/JP7141935B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003073131A (ja) | 2001-06-19 | 2003-03-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス微粒子堆積体の製造方法 |
JP2009067660A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成シリカガラスの製造装置及びこれを用いた合成シリカガラスの製造方法 |
JP2012041231A (ja) | 2010-08-19 | 2012-03-01 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成シリカガラス製造装置 |
JP2012232868A (ja) | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス溶融炉、溶融ガラスの製造方法、ガラスビーズの製造方法およびガラス物品の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020090405A (ja) | 2020-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2002102729A1 (en) | Device and method for producing stack of fine glass particles | |
JP7141935B2 (ja) | 合成シリカガラス製造装置 | |
WO2002102724A1 (fr) | Procede de production d'un corps de particules de verre deposees | |
JP2009132550A (ja) | 合成シリカガラスの製造装置及び合成シリカガラスの製造方法 | |
JP5150365B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造装置及び製造方法 | |
JP7128156B2 (ja) | 合成シリカガラス製造装置、及びこの装置を用いた合成シリカガラスの製造方法 | |
JP2010042940A (ja) | ガラス母材の製造装置及び製造方法 | |
JP4861939B2 (ja) | 合成シリカガラスの製造装置及びこれを用いた合成シリカガラスの製造方法 | |
JP2003073131A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
JP5012042B2 (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
JP2006228782A (ja) | 枚葉式エピタキシャルウェーハ製造装置およびその保守方法 | |
JP2007022871A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
JP3734420B2 (ja) | 石英ガラスの製造装置 | |
JP2010285330A (ja) | ガラス多孔質体の製造方法及びガラス多孔質体の製造装置 | |
JP4449272B2 (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
JPH1192154A (ja) | 合成石英ガラス製造装置および合成石英ガラス製造方法 | |
JP2004307246A (ja) | 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置 | |
JPH10236835A (ja) | 合成石英ガラス製造用バーナー、合成石英ガラス製造装置および合成石英ガラス | |
JP2003160342A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法及び製造装置 | |
JP2011256069A (ja) | ターゲット棒、多孔質ガラス母材の製造装置、多孔質ガラス母材の製造方法及びガラス部材の製造方法 | |
JP2014062006A (ja) | 多孔質ガラス母材の製造装置 | |
JP2007204329A (ja) | 光ガラス母材の製造方法 | |
JP2003040626A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
JP2006219309A (ja) | 多孔質石英ガラス母材の製造方法及び装置 | |
JP2003321241A (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法および製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210607 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220304 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220428 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220721 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220808 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220908 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220912 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7141935 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |