JP7027165B2 - 軟質電気光学セルを生成する方法 - Google Patents
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Description
図4に示す製造方法の別の実施形態では、いかなる境界シールもロールフィル工程の前に塗布されない。むしろ、一定量のEOM270が基板272上へ塗布され、次に、要望により予め被覆された2つの基板272、274が一緒にされEOMでロールフィルされ、それらの分離性は一方または両方の基板上でスペーサにより維持される。ロールフィルの工程は単一または二重ローラにより行われ得る。
●ITOとアライメント層PIにより予め被覆された2つの基板が、一方が上部基板を形成し他方は下部基板を形成する一組のローラ上に配置される、
●下部基板は非パターン化スペーサで噴霧される、
●境界封止剤が下部基板上へ印刷される、
●液晶/染料混合物の線が境界封止剤の周囲外に蒸着される、
●ローラは、上部および下部基板を一緒にし、境界封止剤の周囲の内部の活性領域を液晶/染料混合物でロールフィルするために使用される、
●境界封止剤はエッジシールを形成するためにUV硬化される。
図6に示す別の実施例では、下部基板は、セル120をロールフィルするために使用される移動プレート150および単一ローラ(110’)上に配置され、それへ固定され得る。この実施例では、移動ローラ110’がプレートおよび/または下部基板の方向Aの運動を引き起こし得るか、または移動プレート150が下部基板を移動し、ローラを方向Bに転回させ、基板同士を対にし、セルをロールフィルするかのいずれかである。
この実施例では(図7)、一組の上部および下部ローラ200、202が、上部軟質基板204を下部軟質基板206へ嵌合するまたはこれらを対にするために使用される。境界封止剤208が下部基板206へ塗布される。ローラ200、202はローラ自身を介し軟質基板をウェブ方向Aに引っ張る。転回中、蒸着された電気光学混合物210は、2つの基板204、206が対にされている間に、2つの基板204、206間に生成された制御ギャップを同時に満たす。
この実施例では、一組の左右ローラ250、252が、基板を垂直下方向に移動させながら軟質基板254と軟質基板256とを対にするために使用される(図8)。
別の実施例では、基板の2つのロールがそれぞれローラ上に配置される。各ロールは三菱プラスチック社の0.076mm(3mil)PETである。基板ロールはMaterion社による導電層(ITO)で予め被覆される。次に、ITO被覆基板はポリイミドアライメント層(Nissan Chemicals社の5661)で被覆される。直径6マイクロメートルのShinshikyuEWプラスチック球(Hiko Industrial社、香港)が被覆処理中にポリイミド内に混合され、基板ロールの少なくとも一方内に存在する。ローラはロールツーロールプロセス中に基板のロールを巻き戻す。1つの巻き戻されたロールが上部基板になり、第2番目は下部基板になる。基板はロールツーロールプロセス中約1.27cm(0.5インチ)/秒から約2.54cm(10インチ)/秒のウェブ速度で移動する。各基板は当該境界封止剤印刷機を有する。この場合、これらの印刷機は回転スクリーン印刷機である。回転スクリーン印刷機は境界封止剤(Loctite3108)を上部および下部基板の活性面のそれぞれの上に印刷する。活性面は完成セル内のEOMに接することになる面である。回転印刷機は境界封止剤を約5マイクロメートル~約100マイクロメートル(好適には約5マイクロメートル~約40マイクロメートル)の高さで印刷するだろう。回転印刷後、EOMは注射器および針分注器により下部基板の活性面上に蒸着される。EOMはゲスト-ホスト二色性染料-液晶混合物(AMI577)である。一組の上部および下部積層化ローラは、上部境界封止剤が下部境界封止剤とアライメントされ、EOMが上部および下部活性面の両方と接触しロールフィルプロセス中に全内部境界封止剤領域を満たすように、上部および下部基板同士を嵌合する。積層化ローラは、積層化中に基板両端に定圧を印加する加圧ローラとなるように構成される、または、上部積層化ローラが下部積層化ローラからある設定距離で離間され、上部および下部基板の間の制御ギャップおよびスペーサを加圧することなく上部および下部基板を嵌合できるようにするギャップ設定ローラとなるように構成される。嵌合された基板は、紫外線、熱、またはUVおよび熱硬化の組み合わせにより、積層化後に硬化される。次に、硬化基板は、追加処理のためにロールから切断されシートにされる。
Claims (23)
- 光学装置のための軟質セルユニットを生成する方法であって、前記軟質セルユニットが、境界シールにより取り囲まれ電気光学材料により満たされ、前記軟質セルユニットが、制御距離だけ分離された第1の基板と第2の基板を有する、方法において、前記方法は、
前記第1の基板と前記第2の基板を形成するために軟質プラスチックの2つの連続シートを設ける工程と、
前記境界シールを画定するために前記第1の基板と前記第2の基板のうちの少なくとも一つの基板上に境界封止剤を堆積する工程であって、前記境界シールが、連続境界シールである、工程と、
非離散的であり、かつ、非カプセル化・非重合体状態であり1%未満の重合可能材料を含む電気光学材料を前記少なくとも一方の基板上に堆積する工程であって、前記電気光学材料が概して重合可能ではない、工程と、
前記電気光学材料が前記第1の基板と前記第2の基板の間の前記制御距離を完全に満たすように、1つまたは複数の積層化ローラを使用することにより前記軟質セルユニットを前記電気光学材料でロールフィル工程を行う間に前記第1の基板と前記第2の基板を対にする工程であって、前記軟質セルユニットの前記制御距離は非パターン化スペーサにより維持される、工程と、を含み、
前記光学装置が、透過性装置であり、
前記電気光学材料が、電流又は電界の印加によって様替わりでき、
前記非パターン化スペーサが、球状、または、10/1未満のアスペクト比(長さ/幅)を有し、
スペーサ数は、80個/平方mm(mm2)より大きい、方法。 - 前記ロールフィル工程前に前記少なくとも一つの基板上に前記境界封止剤及び前記電気光学材料を塗布し、前記ロールフィル工程後に前記境界シールを形成するために前記境界封止剤を硬化する工程をさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記電気光学材料は前記境界封止剤の周囲外の領域、前記境界封止剤の周囲内の領域、または前記境界封止剤の周囲内および周囲外両方の1つまたは複数の領域上に堆積される、請求項2に記載の方法。
- 前記電気光学材料の粘度に対する境界封止剤粘度の比は10を越える、請求項2に記載の方法。
- 前記第1、前記第2、または両方の基板上に複数の境界封止剤を塗布する工程を含む、請求項1または2に記載の方法。
- 機械的ダイ切断機、レーザ切断機、またはそれらの組み合せを使用することにより前記軟質プラスチックの2つの連続シートから前記軟質セルユニットを切断する工程をさらに含む請求項1乃至5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ロールフィル工程後に、境界シールを形成し、前記軟質プラスチックの2つの連続シートから前記軟質セルユニットを分離するための形状を切断または溶着する工程をさらに含む請求項1乃至5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の基板上に、前記第2の基板上に、前記電気光学材料内に、またはこれらの組み合せに、前記非パターン化スペーサを堆積する工程をさらに含む請求項1乃至7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記非パターン化スペーサは、前記第1の基板および前記第2の基板の少なくとも一方に塗布される、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の基板、前記第2の基板、または両方上にアライメント層を塗布する工程をさらに含む請求項1乃至9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記アライメント層が、前記非パターン化スペーサを含む、請求項10に記載の方法。
- 一方または両方の基板へ隔壁を追加する工程をさらに含む請求項1乃至11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記アライメント層は前記第1の基板と前記第2の基板の一方または両方の基板の選択された活性領域および全活性領域から選択された領域上に前記アライメント層を印刷することにより堆積される、請求項10に記載の方法。
- 前記軟質セルユニットは8%未満の曇価度を有する光学装置である、請求項1乃至13のいずれか一項に記載の方法。
- 真空を用いることなく実施される、請求項1乃至14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記非パターン化スペーサは球状であり、3~100μmのサイズである、請求項1乃至15のいずれか一項に記載の方法。
- 前記電気光学材料はゲスト-ホスト二色性染料-液晶混合物である、請求項1乃至16のいずれか一項に記載の方法。
- 前記軟質セルユニットは、10cmを越える長さを有するか、または、30cm2より大きな面積を有する、請求項1乃至17のいずれか一項に記載の方法。
- 前記軟質セルユニットは、50cm2より大きな面積を有する、請求項1乃至18のいずれか一項に記載の方法。
- 前記境界封止剤を硬化する工程が、UV光、圧力、化学的相互作用、湿気、またはそれらの組み合せを用いる、請求項2に記載の方法。
- 請求項1乃至20のいずれか一項に記載の方法により製造された、軟質セルユニットであって、真空を用いることなく製造された、軟質セルユニット。
- 境界シールにより取り囲まれる、光学装置のための非回折の軟質セルユニットであって、
制御距離だけ分離された第1の基板と第2の基板と、
非離散的であり、かつ、非カプセル化・非重合体状態であり、1%未満の重合可能材料を含む、電気光学材料と、
非パターン化スペーサと、
を含み、
前記光学装置が、透過性装置であり、
前記第1の基板と前記第2の基板が、軟質プラスチックを含み、
前記電気光学材料及び前記非パターン化スペーサが、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配され、
電気光学材料が、前記第1の基板と前記第2の基板の間の前記制御距離を完全に満たし、
前記制御距離が、非パターン化スペーサにより維持され、
前記電気光学材料が、電流又は電界の印加によって様替わりでき、
前記非パターン化スペーサが、10/1未満のアスペクト比(長さ/幅)を有し、
スペーサ数は、80個/平方mm(mm2)より大きい、軟質セルユニット。 - 前記非パターン化スペーサが、非回折生成パターンで配される、請求項1乃至20のいずれか一項に記載の方法。
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