JPH05232472A - 電気光学装置の製造方法 - Google Patents
電気光学装置の製造方法Info
- Publication number
- JPH05232472A JPH05232472A JP3359692A JP3359692A JPH05232472A JP H05232472 A JPH05232472 A JP H05232472A JP 3359692 A JP3359692 A JP 3359692A JP 3359692 A JP3359692 A JP 3359692A JP H05232472 A JPH05232472 A JP H05232472A
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- Japan
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- oriented film
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 透明基板１１、１６の相互に対向する表面
に、液晶層を支持するためのスペーサを混入させた配向
膜１３を形成した後に、配向膜にレーザを照射して配向
処理を行う。 【効果】 ラビング法で発生していた繊維クズによる配
向不良やギャップ不良の問題を解決できると共に、静電
気によるアクティブ素子の破壊を皆無にできる。
に、液晶層を支持するためのスペーサを混入させた配向
膜１３を形成した後に、配向膜にレーザを照射して配向
処理を行う。 【効果】 ラビング法で発生していた繊維クズによる配
向不良やギャップ不良の問題を解決できると共に、静電
気によるアクティブ素子の破壊を皆無にできる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、パーソナルコンピュー
タ用ディスプレイ、ハンドヘルドコンピュータ用ディス
プレイ、各種計測機のディスプレイテレビ、プリンタ用
シャッターなどに使用される電気光学装置の製造方法に
関する。
タ用ディスプレイ、ハンドヘルドコンピュータ用ディス
プレイ、各種計測機のディスプレイテレビ、プリンタ用
シャッターなどに使用される電気光学装置の製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶を用いた電気光学装置では、液晶の
電気光学的特性を制御するために液晶分子を特定の方向
に配向させる必要がある。図２（ａ）、（ｂ）に従来の
配向処理の一例を示す。図２（ａ）において、たとえば
ポリイミドなどの高分子樹脂１３を透明電極１２をパタ
ーニングした透明基板１１上に塗布して硬化させた後
に、図２（ｂ）のようにナイロン系またはビニル系の繊
維１９を巻きつけたロール１８を特定の方向に擦りつけ
るラビング方式がある。また他の配向処理としては、た
とえば酸化シリコン（ＳｉＯｘ）などの無機材料を斜め
の方向から蒸着する斜方蒸着と呼ばれるものがある。
電気光学的特性を制御するために液晶分子を特定の方向
に配向させる必要がある。図２（ａ）、（ｂ）に従来の
配向処理の一例を示す。図２（ａ）において、たとえば
ポリイミドなどの高分子樹脂１３を透明電極１２をパタ
ーニングした透明基板１１上に塗布して硬化させた後
に、図２（ｂ）のようにナイロン系またはビニル系の繊
維１９を巻きつけたロール１８を特定の方向に擦りつけ
るラビング方式がある。また他の配向処理としては、た
とえば酸化シリコン（ＳｉＯｘ）などの無機材料を斜め
の方向から蒸着する斜方蒸着と呼ばれるものがある。
【０００３】さらに、液晶層のギャップを制御するため
には、図２（ｃ）、（ｄ）のようにプラスチックボール
や、ファイバー等のスペーサ１４を基板上に均一に散布
し、図２（ｅ）のように上側透明基板１６を貼り合わせ
なければならない。また、スペーサを混入させた配向膜
を形成した後にラビング配向する方法も考えられてい
る。
には、図２（ｃ）、（ｄ）のようにプラスチックボール
や、ファイバー等のスペーサ１４を基板上に均一に散布
し、図２（ｅ）のように上側透明基板１６を貼り合わせ
なければならない。また、スペーサを混入させた配向膜
を形成した後にラビング配向する方法も考えられてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述したラビング処理
では、ラビング布を配向膜に機械的に擦り付けるため
に、ラビング布から繊維クズが発生する。これによって
透明基板が汚れたり、また配向膜の表面に異常なスクラ
ッチが生じたりすることがある。さらにこの繊維クズに
よって２枚の基板間のギャップ不良を引き起こすことも
ある。またスペーサを混入させた配向膜にラビング処理
を施すと、配向膜に混入していたスペーサで配向膜でラ
ビング布がキズつくことになる。
では、ラビング布を配向膜に機械的に擦り付けるため
に、ラビング布から繊維クズが発生する。これによって
透明基板が汚れたり、また配向膜の表面に異常なスクラ
ッチが生じたりすることがある。さらにこの繊維クズに
よって２枚の基板間のギャップ不良を引き起こすことも
ある。またスペーサを混入させた配向膜にラビング処理
を施すと、配向膜に混入していたスペーサで配向膜でラ
ビング布がキズつくことになる。
【０００５】さらに、表示画素毎に薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）や、薄膜ダイオード（ＭＩＭ等）を付加した
アクティブ・マトリックス型の透明基板にラビング法を
用いると、擦った時に発生する静電気によってそれらの
素子を静電破壊させてしまうことがある。斜方蒸着によ
る配向処理では、前述したラビング法による配向処理よ
りも比較的良好な配向性能を得ることができるが、配向
均一性が悪く大型基板に対応できないと共に、基板の温
度、蒸着温度などの最適条件の範囲が比較的狭いなどの
問題点がある。
（ＴＦＴ）や、薄膜ダイオード（ＭＩＭ等）を付加した
アクティブ・マトリックス型の透明基板にラビング法を
用いると、擦った時に発生する静電気によってそれらの
素子を静電破壊させてしまうことがある。斜方蒸着によ
る配向処理では、前述したラビング法による配向処理よ
りも比較的良好な配向性能を得ることができるが、配向
均一性が悪く大型基板に対応できないと共に、基板の温
度、蒸着温度などの最適条件の範囲が比較的狭いなどの
問題点がある。
【０００６】また、液晶層のギャップを制御するため
に、上下基板を貼り合わせる前にプラスチックボールや
ファイバー等のスペーサを基板上に均一に散布しなけれ
ばならないが、散布時にギャップ材が相互に擦れあって
生じる静電気や基板上に不均一に帯電している静電気に
よって、スペーサが固まり合ったりして均一に散布され
ないことがある。このことによって、２枚の基板間のギ
ャップ不良や表示不良を引き起こすこともある。
に、上下基板を貼り合わせる前にプラスチックボールや
ファイバー等のスペーサを基板上に均一に散布しなけれ
ばならないが、散布時にギャップ材が相互に擦れあって
生じる静電気や基板上に不均一に帯電している静電気に
よって、スペーサが固まり合ったりして均一に散布され
ないことがある。このことによって、２枚の基板間のギ
ャップ不良や表示不良を引き起こすこともある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の製造方法は上記
課題を解決するものであり、一対の透明基板の相互に対
向する表面に配向膜を形成し、その間に液晶を封入して
なる電気光学装置の製造方法において、前記各透明基板
の相互に対向する表面に、液晶層を支持するためのスペ
ーサを混入させた配向膜を形成した後に、前記配向膜に
レーザ、特にエキシマレーザを照射して配向処理してい
くこととした。
課題を解決するものであり、一対の透明基板の相互に対
向する表面に配向膜を形成し、その間に液晶を封入して
なる電気光学装置の製造方法において、前記各透明基板
の相互に対向する表面に、液晶層を支持するためのスペ
ーサを混入させた配向膜を形成した後に、前記配向膜に
レーザ、特にエキシマレーザを照射して配向処理してい
くこととした。
【０００８】
【作用】上記のようにレーザ、特にエキシマレーザを配
向膜表面に照射すると光化学反応によって高分子樹脂内
の結合がある周期をもって切断され、切断された原子も
しくは分子は酸化されて気化する。このため配向膜表面
はある周期をもって凹凸が生じる。このように本発明で
は、光化学反応を利用して非接触で配向膜表面に凹凸を
設けるため、従来のラビング法で発生していた繊維クズ
による配向膜不良やギャップ不良の問題を解決できると
共に、光化学反応を利用しているので静電気によるアク
ティブ素子の破壊を皆無にできる。
向膜表面に照射すると光化学反応によって高分子樹脂内
の結合がある周期をもって切断され、切断された原子も
しくは分子は酸化されて気化する。このため配向膜表面
はある周期をもって凹凸が生じる。このように本発明で
は、光化学反応を利用して非接触で配向膜表面に凹凸を
設けるため、従来のラビング法で発生していた繊維クズ
による配向膜不良やギャップ不良の問題を解決できると
共に、光化学反応を利用しているので静電気によるアク
ティブ素子の破壊を皆無にできる。
【０００９】さらに、液晶層を支持するためのスペーサ
を混入させた配向膜を使用できるので、従来のスペーサ
散布工程が不要になって工程が簡略化され、かつ、スペ
ーサの固まりによるギャップ不良も皆無にできる。
を混入させた配向膜を使用できるので、従来のスペーサ
散布工程が不要になって工程が簡略化され、かつ、スペ
ーサの固まりによるギャップ不良も皆無にできる。
【００１０】
【実施例】以下に、この発明の実施例を図面に基づいて
説明する。図１は、本発明による実施例の配向膜印刷か
ら上下ガラス貼り合わせまでの工程図である。図１
（ａ）は、配向膜の塗布および硬化の工程を示す。１
１、１６は透明基板であり、ソーダガラス、パイレック
スガラスなど通常のガラスで作られている。１２は透明
電極であり、インジウムスズ酸化膜（ＩＴＯ）をマグネ
トロンスパッタリング、蒸着等の手段によって透明基板
の全面に約１００から２０００Å堆積し、次にフォトエ
ッチングによって所定形状にパターニングしたものであ
る。１３は、スペーサ１４を混入させた配向膜であり、
ポリイミドを凸版印刷もしくはスピンナー等で塗布して
おり、厚みは５００〜２０００Åにした。スペーサ１４
としてはアルミナ粒子を使用した。
説明する。図１は、本発明による実施例の配向膜印刷か
ら上下ガラス貼り合わせまでの工程図である。図１
（ａ）は、配向膜の塗布および硬化の工程を示す。１
１、１６は透明基板であり、ソーダガラス、パイレック
スガラスなど通常のガラスで作られている。１２は透明
電極であり、インジウムスズ酸化膜（ＩＴＯ）をマグネ
トロンスパッタリング、蒸着等の手段によって透明基板
の全面に約１００から２０００Å堆積し、次にフォトエ
ッチングによって所定形状にパターニングしたものであ
る。１３は、スペーサ１４を混入させた配向膜であり、
ポリイミドを凸版印刷もしくはスピンナー等で塗布して
おり、厚みは５００〜２０００Åにした。スペーサ１４
としてはアルミナ粒子を使用した。
【００１１】図１（ｂ）は、配向処理工程を示す。１７
は本実施例で使用したエキシマレーザ光を示しており、
配向膜１３を多少削りながら配向処理した。図１
（ｃ）、（ｄ）はシール材の印刷と上下透明基板を貼り
合わせる工程を示す。１５は透明基板１１および１６を
貼り合わせるためのシール材であり、スクリーン印刷も
しくはディスペンサー等で塗布する。この時のエキシマ
レーザ光の照射法としては、図３に示すように配向膜２
７を有する透明基板２８に一括照射する方法がある。
は本実施例で使用したエキシマレーザ光を示しており、
配向膜１３を多少削りながら配向処理した。図１
（ｃ）、（ｄ）はシール材の印刷と上下透明基板を貼り
合わせる工程を示す。１５は透明基板１１および１６を
貼り合わせるためのシール材であり、スクリーン印刷も
しくはディスペンサー等で塗布する。この時のエキシマ
レーザ光の照射法としては、図３に示すように配向膜２
７を有する透明基板２８に一括照射する方法がある。
【００１２】図３において、エキシマレーザ発生装置２
１から出力されるエキシマレーザ２２は光学系２３、２
４により絞られて平行なスポット状のレーザ光となり、
ミラー２６で反射される。レーザ光は透明基板２８を一
括で照射できるようにスポット３０のように大きめに絞
る。そして一定時間一括で照射すれば、配向膜２７は光
化学反応により凹凸が形成され配向処理が行われる。
１から出力されるエキシマレーザ２２は光学系２３、２
４により絞られて平行なスポット状のレーザ光となり、
ミラー２６で反射される。レーザ光は透明基板２８を一
括で照射できるようにスポット３０のように大きめに絞
る。そして一定時間一括で照射すれば、配向膜２７は光
化学反応により凹凸が形成され配向処理が行われる。
【００１３】また、上記の方法以外にマスクを用いてス
キャン照射する方法、マスクなしでスキャンする方法等
も同様に適用できる。
キャン照射する方法、マスクなしでスキャンする方法等
も同様に適用できる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるエキ
シマレーザを用いた配向処理では、光化学反応を利用し
て非接触で配向膜表面に凹凸を設けるため、従来のラビ
ング法で発生していた繊維クズによる配向膜不良やギャ
ップ不良の問題を解決できると共に、光化学反応を利用
しているので静電気によるアクティブ素子の破壊を皆無
にできるようになった。
シマレーザを用いた配向処理では、光化学反応を利用し
て非接触で配向膜表面に凹凸を設けるため、従来のラビ
ング法で発生していた繊維クズによる配向膜不良やギャ
ップ不良の問題を解決できると共に、光化学反応を利用
しているので静電気によるアクティブ素子の破壊を皆無
にできるようになった。
【００１５】また、従来のスペーサ散布工程が不要とな
り、それによる基板間ギャップ不良が皆無となった。
り、それによる基板間ギャップ不良が皆無となった。
【図１】本発明による実施例の配向膜印刷から上下ガラ
ス貼り合わせまでの工程図である。
ス貼り合わせまでの工程図である。
【図２】従来の配向膜印刷から上下ガラス貼り合わせま
での工程図である。
での工程図である。
【図３】本発明による実施例のレーザ照射装置である。
１１、１６、２８ 透明基板 １２ 透明電極 １３、２７ 配向膜 １４ スペーサ １５ シール材 １７、２２ レーザ光 １８ ロール １９ 繊維 ２１ レーザ発生装置 ２３、２４ レンズ ２６ ミラー ３０ スポット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安藤 和徳 東京都江東区亀戸６丁目31番１号 セイコ ー電子工業株式会社内 (72)発明者 石島 博史 東京都江東区亀戸６丁目31番１号 セイコ ー電子工業株式会社内 (72)発明者 新荻 正隆 東京都江東区亀戸６丁目31番１号 セイコ ー電子工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 一対の透明基板の相互に対向する表面に
配向膜を形成し、その間に液晶を封入してなる電気光学
装置の製造方法において、前記各透明基板の相互に対向
する表面に、液晶層を支持するためのスペーサを混入さ
せた配向膜を形成した後に、前記配向膜にレーザ光を照
射して配向処理していくことを特徴とする電気光学装置
の製造方法。 - 【請求項２】 前記レーザ光としてエキシマレーザ光を
用いたことを特徴とする請求項１記載の電気光学装置の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3359692A JPH05232472A (ja) | 1992-02-20 | 1992-02-20 | 電気光学装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3359692A JPH05232472A (ja) | 1992-02-20 | 1992-02-20 | 電気光学装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05232472A true JPH05232472A (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=12390874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3359692A Pending JPH05232472A (ja) | 1992-02-20 | 1992-02-20 | 電気光学装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05232472A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6312769B1 (en) | 1997-04-30 | 2001-11-06 | Jsr Corporation | Liquid crystal alignment layer, production method for the same, and liquid crystal display device comprising the same |
| JP2017534083A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | アルファミクロン・インコーポレイテッドＡｌｐｈａＭｉｃｒｏｎ，Ｉｎｃ． | 軟質電気光学セルを生成する方法 |
-
1992
- 1992-02-20 JP JP3359692A patent/JPH05232472A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6312769B1 (en) | 1997-04-30 | 2001-11-06 | Jsr Corporation | Liquid crystal alignment layer, production method for the same, and liquid crystal display device comprising the same |
| JP2017534083A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | アルファミクロン・インコーポレイテッドＡｌｐｈａＭｉｃｒｏｎ，Ｉｎｃ． | 軟質電気光学セルを生成する方法 |
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