JPH11202336A - 光の照射方法及びその装置、高分子配向膜の製造方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 照射領域に対する照射源からの距離をほぼ均
等とし、照射強度を一様となすことによって、ポリイミ
ド等の光感光性配向膜の光化学反応の程度（即ち、液晶
分子の配向特性）を基板面内で一様にすること。 【解決手段】 直線偏光１Ｃの照射方向に対し高分子膜
５を斜め方向Ａに移動させながら、この移動方向と交差
する（特に直交する）方向に直線偏光１Ｃを幅細パター
ン９に高分子膜５に対し照射する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光の照射方法及び
その装置、高分子配向膜の製造方法及びその装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子において、液晶を一方向に
所定のチルト角で配向させるために、現在一般的に用い
られている技術は、基板表面に高分子材料を製膜してか
ら、その表面をレーヨンなどの布で一方向に擦るラビン
グ方法である。その他に、水面に単分子膜を形成し、そ
の膜を基板に移しとることにより、配向膜の機能をなす
ラングミュア・ブロジェット方法（ＬＢ法）や、ＳｉＯ
₂ やＡｕ、Ａｌ等をガラス基板に対して斜めに蒸着する
ことにより、液晶を配向させる方法がある。

【０００３】ところが、ＬＢ法では、製膜に大幅に時間
を費やすことが避けられないし、配向規制力も十分でな
い。蒸着法では、装置が大がかりであり、配向膜の作製
に多くのエネルギーを消費することになるし、時間もラ
ビング法に比べて大幅に費やすことになる。そこで、ラ
ビング法が液晶配向技術として現在、主として用いられ
ている。

【０００４】しかし、ラビング法では、配向膜表面を直
接布が接触して擦るために、配向膜表面に静電気が生じ
て、ほこりを付着したり、パネルとして組んだ時に液晶
中のイオンを吸着したりして、液晶表示素子の品質に悪
影響を与える。また、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）
素子を備える液晶表示素子にラビング法を適用すると、
摩擦により生じる静電気がＴＦＴを破壊して歩留りを下
げる要因ともなる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】そこで昨今、このラビ
ング法に変わる液晶配向技術として、偏光した紫外線を
有機物に照射して、液晶を配向させる光配向技術が開発
されている（特開平９−５７４７号公報等）。

【０００６】このような光配向技術により、液晶分子に
プレティルト角を与えるためには、偏光紫外線を基板の
法線方向から斜めに照射することが必要となる（T. Has
himoto et. al “SID 95 Digest ”1995, PP877 等）。

【０００７】しかし、基板への偏光紫外線の斜め照射
は、その基板の傾斜角が大きくなると、基板内で照射源
からの距離が変わり、照射強度に分布が生じてしまう。
そのため、ポリイミド等の光感光性配向膜の光化学反応
の程度が基板面内で一様にならず、分布を持つことにな
る。この結果、液晶パネル内で液晶分子と配向膜界面の
アンカリング強度の分布や、プレティルト角の分布が生
じて、液晶表示素子の表示品質が低くなってしまう。

【０００８】本発明の目的は、斜めに光照射しても均一
な処理が可能であり、これによって液晶配向性の良好な
高分子液晶配向膜を作製できる方法及び装置を提供する
ことにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、直線偏
光等の光（無偏光も含む概念である：以下、同様）の照
射方向に対し被照射体を斜め方向に相対的に移動させな
がら、この移動方向と交差する方向に前記光を幅細パタ
ーンに前記被照射体に対し照射する、光の照射方法に係
るものである。

【００１０】また、本発明は、直線偏光等の光の照射手
段と、この照射手段による照射方向に対し被照射体を斜
め方向に相対的に移動させる移動手段と、この移動手段
による移動方向と交差する方向に前記光を幅細パターン
に前記被照射体に対し照射する照射パターン形成手段と
を有する、光の照射装置も提供するものである。

【００１１】また、本発明は、直線偏光等の光の照射方
向に対し高分子膜を斜め方向に相対的に移動させなが
ら、この移動方向と交差する方向に前記光を幅細パター
ンに前記高分子膜に対し照射する、高分子配向膜の製造
方法も提供するものである。

【００１２】更に、本発明は、直線偏光等の光の照射手
段と、この照射手段による照射方向に対し高分子膜を斜
め方向に相対的に移動させる移動手段と、この移動手段
による移動方向と交差する方向に前記光を幅細パターン
に前記高分子膜に対し照射する照射パターン形成手段と
を有する、高分子配向膜の製造装置も提供するものであ
る。

【００１３】本発明の光の照射方法及びその装置、高分
子配向膜の製造方法及びその装置によれば、光の照射方
向に対し高分子膜等の被照射体を斜め方向に相対的に移
動させながら、この移動方向と交差する方向に前記光を
幅細パターンに前記被照射体に対し照射しているので、
斜め照射であっても上記幅細パターンに照射されるため
に照射領域に対する照射源からの距離はほぼ均等とな
り、照射強度に分布が生じない。このため、ポリイミド
等の光感光性配向膜の光化学反応の程度が面内で一様に
なり、液晶分子の配向特性が面内で一様になり、特に、
高精細でかつ小型パネルのような、液晶配向の均一性が
要求されるデバイスにおいては有効である。

【００１４】そして、上記の照射処理で得られた高分子
配向膜は、ラビング処理を施さずに、液晶分子を一方向
に、均一なプレティルト角で配向させることが可能とな
る。これにより、ラビング処理で問題となる、静電気の
発生、ＴＦＴ破壊が防止され、歩留りが向上して生産性
が向上することは勿論である。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明の光の照射方法及びその装
置、高分子配向膜の製造方法及びその装置においては、
高分子膜を設けた基板を紫外線の直線偏光の照射方向に
対し斜めに移動させながら、この移動方向と交差する方
向にスリット状開口を有するマスクの前記スリット状開
口を通して前記直線偏光を前記高分子膜にスリット状に
照射することが望ましい。

【００１６】また、無偏光の光を直線偏光素子によって
前記直線偏光とするのがよく、例えば、互いに所定の間
隙を置いて複数の透光板を配置し、一方の透光板の側か
らブリュースター角若しくはほぼブリュースター角で前
記光を入射させ、他方の透光板の側から前記直線偏光を
得ることがよい。

【００１７】この場合、前記複数の透光板の間にスペー
サを設け、前記間隙を少なくとも光入射領域及び光出射
領域において一定若しくはほぼ一定に保持することが望
ましい。例えば、紫外線を透過する石英板を平行若しく
はほぼ平行に配置し、前記光として無偏光の紫外線を入
射させ、紫外線の直線偏光を得る。

【００１８】次に、本発明の好ましい実施の形態を説明
する。

【００１９】まず、本実施の形態において特徴となる偏
光紫外線の照射方法及びその装置を説明する。

【００２０】図１及び図２には、２種類の偏光紫外線照
射装置をそれぞれ示すが、紫外線光源としては、図１で
は水銀ランプ１、図２では紫外線レーザー８を用いる。
これら光源からの出射光１Ａ、１ａをコリメーターレン
ズ２等で平行光１Ｂ、１ｂにする。平行光１Ａは、偏光
プリズムや誘電体多層膜からなる偏光子３を通過させる
ことにより、直線偏光１Ｃに変換する。紫外線レーザー
光１Ａの場合は、元々偏光なので、偏光子を通過させる
必要性はない。しかし、偏光度をさらに向上させる場合
には、偏光子を通過させる場合もある。

【００２１】そして、偏光子３を通過した光１Ｃ、偏光
紫外線レーザー光１ｂをそれぞれ、配向膜５の幅方向
（即ち、その移動方向Ａと直交する方向）にスリット状
開口１０を有する直線状のマスク４を通過させ、偏光の
一部のみを通過させる。このような線状のマスクを用い
ることにより、ポリイミド等の配向膜５が成膜された基
板６に照射される面積Ｂが幅細パターンに限定される。

【００２２】偏光１Ｃ、１ｂが照射される基板６（実際
には高分子配向膜５）は、基板移動装置（ここではコン
ベヤなどの基板平行移動手段７）により一定速度で図面
斜め上方に移動される。

【００２３】この場合、基板６が一定速度で移動して、
マスク４により限定された面積Ｂだけ偏光１Ｃ、１ｂが
照射されるために（即ち、基板６に対する偏光の照射源
からの距離は、面積Ｂの領域９においては殆ど差はない
ために）、基板６がマスク４下を通過した後に基板６に
照射される偏光紫外線のエネルギーは、基板面内で一様
となる。

【００２４】例えば、図３に示すように、マスク透過後
の基板近辺の偏光の照射エネルギー密度が１０ｍＷ／ｃ
ｍ² であり、基板斜め方向（傾斜角３０度）の移動速度
が０．１ｍｍ／ｓｅｃであるとする。そして、基板の大
きさが１０ｍｍ×１０ｍｍであり、マスクの短辺（即
ち、開口１０の幅）が１ｍｍのときには、基板がマスク
下をすべて通過するには１００秒かかり、通り抜けた時
には、基板全域に１０秒間、偏光紫外線が照射されたこ
とになる。従って、およそ８６．６ｍＷ／ｃｍ²のエネ
ルギーの偏光紫外線が基板全域で均一に照射されること
になる（基板上での有効照射面積が２／√３倍となり、
照射エネルギー密度は√３／２倍となるため）。

【００２５】このように、感光性の配向膜５が成膜され
た基板６に基板法線方向に対し斜めに偏光紫外線１Ｃ、
１ｂを照射する際に、上記したマスク４と基板移動装置
７を併用することにより、基板面内に一様なエネルギー
の紫外線１Ｃ（１ｂ）を照射可能となる。この結果、液
晶分子の極角、方位角方向の配向秩序を著しく向上させ
ることが可能となり、ミニチュアディスプレイやプロジ
ェクター等に有用となり、高精細液晶表示素子の配向制
御方法及び装置として有効となる。

【００２６】上記の偏光１Ｃは、大面積に亘って偏光度
が高いことが望ましいが、これは、図４に示す偏光素子
３を使用すれば、実現可能である。

【００２７】この偏光素子３は、図１に示した偏光子３
として使用可能であるが、その偏光の原理をまず説明す
る。

【００２８】紫外線の偏光の原理は、光の性質の一つで
あるブリュースターの法則を用いるものである。ブリュ
ースター角で光入射させる材料は、紫外線でも透過する
人工石英板を用いる。

【００２９】この石英板にブリュースター角の分だけ傾
けて紫外線を入射すると、Ｓ波は反射されて、Ｐ波は透
過するので、無偏光の紫外線を入射させて偏光を取り出
すことが可能となる。ブリュースター角は、次式で得る
ことができる。ここで、ｉがブリュースター角で、ｎが
媒質の屈折率である。 tanｉ＝ｎ・・・・・（式１）

【００３０】人工石英の屈折率は、２３７ｎｍで１．５
１であり、４０４ｎｍで１．４７であるから、式（１）
からブリュースター角は５５．７度〜５６．５度であ
る。よって、紫外線領域の偏光に石英板を用いる場合に
は、入射角度としておよそ５６度傾斜させて紫外線を入
射させるのが好ましい。

【００３１】人工石英は、２００ｎｍ付近の紫外線領域
でも屈折率の虚部が小さく、光を吸収することはないの
で、透過率が５０％程度の高い透過特性をもつ偏光素子
を作製できる。また、偏光度を上げるためには、石英板
の枚数を多くして、空気層を介して積層することが有効
である。これは、複数の石英板を通過するごとに、入射
光のＳ波成分をより多く反射させて透過成分を小さく
し、Ｐ波のみを透過させることで、Ｐ波成分に対するＳ
波成分を小さくする効果があるからである。

【００３２】そのときに高い偏光度を得るには、石英板
間の平行度を保つことが要求される。このことは、図４
及び図５から、容易に理解できる。

【００３３】一枚目の石英板１８のみがブリュースター
角θ₁ で入射するように配置され、空気層１９を介して
一枚目１８と対向（積層）された二枚目の石英板２０が
一枚目に対して平行でない場合をまず考える。

【００３４】図５に示すように、●で示すＳ波と───
で示すＰ波を含む無偏光の紫外線１８が石英板に入射す
ると、一枚目の石英板１８では若干のＳ波（これは、よ
り小さい●で示す：以下、同様）を含むＰ波が透過す
る。その透過した紫外線１Ｂ”は、二枚目の石英板２０
に入射するときには、二枚目の石英板２０が平行ではな
いために、入射角θ₂ がブリュースター角と異なる。こ
れによって、Ｓ波が二枚目の石英板２０を透過してしま
う。また、二枚目の石英板２０の表面で反射して、一枚
目の石英板１８の裏側でさらに反射して二枚目の石英板
２０の表面に進入する紫外線１Ｂ”を考えた場合には、
その入射角θ₃ もブリュースター角と異なるために、Ｓ
波が透過してしまう。

【００３５】このように、石英板２０が１８に対して平
行ではない場合においては、Ｓ波が透過してしまう可能
性が高くなり、得られる出射紫外線１Ｄ、１Ｄ’の偏光
度が著しく小さくなってしまう。

【００３６】これと比較して、石英板間にスペーサを配
置した偏光素子の場合を考えてみる。

【００３７】図４に示すように、二枚の石英板１８、２
０が同じ大きさのスペーサ１４で支えられているため
に、その間隙が一定に（即ち、石英板１８と２０が平行
に）保たれる。そして、二枚目の石英板２０の表面に直
接入射する紫外線１Ｂ’も、多重反射で入射する紫外線
１Ｂ’も、その入射角度θ₁ はブリュースター角である
ので、理想的にＳ波は全く透過できなくなり、得られた
出射紫外線１Ｃ、１Ｃ’の偏光度は著しく高くなる。

【００３８】このように、多層の石英板１８、２０を平
行に配置することにより、偏光度の高い紫外線偏光素子
を作製できることが理解できる。

【００３９】そこで、複数の石英板を等間隔で保持する
ために、石英板間に、スペーサ１４を散布してから両石
英板を重ね合わせ、これらの石英板を組み合わせること
により、偏光度の高い偏光素子３を作製することが可能
となる。

【００４０】この偏光素子の作製例を述べると、まず、
面積１０ｃｍ×１０ｃｍ、厚さ１ｍｍの石英板（例えば
２０）に液晶ディスプレイ作製用の乾式スペーサ散布装
置で、１０μｍ径のスペーサ１４を散布する。このとき
の散布されるスペーサの量は、二枚の石英板を一定間隔
で保持するのに最低限の散布量でよい。散布量が多い
と、紫外線の透過率が低くなってしまうからである。

【００４１】次に、石英板の周辺に、１０μｍ径のスペ
ーサ入りの紫外線硬化樹脂をディスペンサで配置する。
次に、スペーサが散布された石英板の上に、二枚目の石
英板を配置し、二枚の石英板を加圧して、そのギャップ
を一様にしてから、紫外線を照射して接着する。このプ
ロセスは、液晶表示素子の基板の重ね合わせ技術と同様
なものである。

【００４２】その後、次々に、石英板を積層していき、
２０枚重ね終え、石英偏光素子を完成する。この偏光素
子の有効面積の短辺は、１０ｃｍに５６度の余弦をかけ
たものであるから、およそ５．６ｃｍとなる。よって、
この偏光素子は、１０ｃｍ×５．６ｃｍの面積の領域を
偏光する素子となる。

【００４３】次に、この偏光素子３と、これを用いた偏
光照射方法及びその装置の具体例を図６で説明する。

【００４４】図６に示すように、光源としては高圧水銀
ランプ１を用いる。このランプから発光する紫外線１Ａ
をコリメーターレンズ２で平行光に変換する。このとき
紫外線は平行光ではあるが、偏光されてはいない。この
平行光の平行度が高いほど、石英板通過後の偏光度が高
くなるので、理想的には完全な平行光が得られれば最も
好ましい。この平行光を上記した石英板１８、２０（こ
こでは符号１３で各石英板を示す。）を一定間隔で積層
した偏光素子３を通過させることにより偏光を得る。そ
の偏光度は高く、また２００ｎｍの低波長の紫外線から
４００ｎｍの高波長の紫外線を透過する。

【００４５】従って、この範囲のバンドパスフィルタ
や、カットフィルタと併用することで、任意の波長の偏
光紫外線のみを上記した液晶基板６上のポリイミド等の
高分子膜５に斜めに照射し、液晶配向膜を得ることがで
きる。また、任意の波長以上の偏光紫外線を配向膜に照
射することが可能である。このように、石英偏光素子３
を用いることで、自由度の高い紫外線偏光が可能とな
る。

【００４６】図７は、上記のようにして作製された液晶
配向膜付きの液晶基板を用いて製造された液晶表示素子
（セル）の構成例を示す。

【００４７】この液晶表示素子によれば、透明ガラス基
板６Ａ、６Ｂ（上記の６に相当）上に透明電極（例えば
ＩＴＯ（Indium Tin Oxide））２０Ａ、２０Ｂを設け、
その上に、液晶配向膜としてポリイミド膜５Ａ、５Ｂ
（上記の５に相当）を形成し、これらの膜を上記した方
法により偏光紫外線で照射処理し、液晶配向（制御）膜
とする。

【００４８】このようにして作製した配向膜付きの基板
を、その配向処理方向が対向面で反平行となるように組
み、そのスペーサとして、目的ギャップ長に応じたガラ
スビーズ（真糸球）２１を用いる。スペーサは、透明基
板の大きさにより、小さい面積の場合は周囲を接着する
シール材（ＵＶ硬化型の接着材）２２中に分散させるこ
とにより、基板間のギャップを制御する。基板面積が大
きい場合には、上記真糸球を基板上に散布したのち、ギ
ャップをとり、セルの周囲に液晶の注入孔を確保して上
記シール材でセル周囲を接着する。

【００４９】その後、例えば強誘電性液晶２３を等方相
温度あるいはカイラルネマチック相温度の流動性を示す
状態で減圧下で注入する。液晶注入後、徐冷し、注入孔
周囲のガラス基板上の液晶を除去したのち、接着剤で封
止し、液晶素子２４を作製する。

【００５０】上記した説明から明らかなように、上記の
偏光素子３によれば、複数の人工石英板１８、２０をス
ペーサ１４を介して一定間隙に保持して平行に配置し、
一方の石英板１８の側からブリュースター角θ₁ で無偏
光の紫外線１Ｂを入射させ、他方の石英板２０の側から
偏光された紫外線１Ｃ、１Ｃ’を得ているので、入射光
の透過及び反射を複数の石英板によって繰り返す間に目
的とする偏光成分の割合を増加させることができる。従
って、入射光を効率良く偏光させることができ、大面積
であっても十分な偏光度の出射光を得ることができ、こ
の偏光出射光の照射を図１に示した装置に適用すること
によって、大面積の高分子膜を液晶配向に十分な状態と
なるように処理することが可能となる。

【００５１】このように液晶の配向を十分に制御できる
ことにより、大面積において、特には２００ｎｍ程度か
ら４００ｎｍ程度の広い紫外線波長領域の紫外線に偏光
をかけ、配向膜材料に照射することが可能となる。ま
た、石英板１８、２０間のスペーサ１４が石英板間の距
離を一定に保つために、高い偏光度の紫外線を配向膜材
料に照射することが可能となる。石英板は紫外線をほと
んど吸収しないので、透過率が大きく、偏光による照射
強度の損失が理想的な５０％に近い。これらの特性によ
り、液晶配向処理の紫外線偏光装置として、この偏光素
子を用いることにより、短時間で液晶配向に必要な照射
エネルギーを得ることができ、液晶の配向秩序も高くで
きる。

【００５２】以上に述べた本発明の実施の形態は、本発
明の技術的思想に基づいて更に変形が可能である。

【００５３】例えば、上記において、基板６の移動方向
及び移動速度、又はその傾斜角は種々変更できるし、マ
スク４による照射面積や照射幅、スリット状開口の形状
や配置などは上記したものに限定されることはない。基
板６を固定し、偏光照射源の側を移動させることもでき
る。

【００５４】また、使用する石英板１８、２０の積層数
や厚み、サイズ、形状等や、スペーサの形状、サイズ、
紫外線の波長、配向膜の材質等は種々変更してよいし、
偏光素子又は装置のその他の構成要素についても同様に
変更してよい。石英板に代えて他の透光板も使用可能で
ある。

【００５５】また、本発明が適用可能な液晶素子は、上
述したもの（例えば、単純マトリクス方式）に限らず、
ＴＦＴを用いるアクティブマトリクス方式等であってよ
く、いずれもラビングを要しない配向制御膜を設けるこ
との利点を有している。

【００５６】

【発明の効果】本発明は、上述した如く、直線偏光等の
光の照射方向に対し高分子膜等の被照射体を斜め方向に
相対的に移動させながら、この移動方向と交差する方向
に前記光を幅細パターンに前記被照射体に対し照射して
いるので、斜め照射であっても上記幅細パターンに照射
されるために照射領域に対する照射源からの距離はほぼ
均等となり、照射強度に分布が生じない。このため、ポ
リイミド等の光感光性配向膜の光化学反応の程度が面内
で一様になり、液晶分子の配向特性が面内で一様にな
り、特に、高精細でかつ小型パネルのような、液晶配向
の均一性が要求されるデバイスにおいては有効である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に基づく偏光の照射方法と高分子配向膜
の製造方法、及びそれらの装置を説明する概略図であ
る。

【図２】本発明に基づく他の偏光の照射方法と高分子配
向膜の製造方法、及びそれらの装置を説明する概略図で
ある。

【図３】本発明に基づく上記の各方法及びその装置に適
用されるマスク及び基板の配置を示す概略図である。

【図４】本発明に基づく上記の各方法及びその装置に使
用可能な偏光方法及び偏光素子を説明する概略図であ
る。

【図５】他の偏光素子の概略図である。

【図６】本発明に基づく液晶配向膜の製造方法及びその
装置に使用可能な偏光素子及び偏光方法の具体例の概略
図である。

【図７】本発明に基づいて製造された液晶素子の一例の
概略断面図である。

【符号の説明】

１…水銀ランプ、１Ａ、１Ｂ…無偏光の紫外線、１Ｃ、
１ｂ…偏光紫外線、２…レンズ、３…偏光素子、５…配
向膜、６…基板、７…基板移動手段、８…紫外線レーザ
ー、９…偏光照射領域、１０…スリット状開口、Ａ…基
板移動方向、Ｂ…偏光照射面積

Claims (28)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光の照射方向に対し被照射体を斜め方向
   に相対的に移動させながら、この移動方向と交差する方
   向に前記光を幅細パターンに前記被照射体に対し照射す
   る、光の照射方法。
2. 【請求項２】 前記光として直線偏光を用いる、請求項
   １に記載した光の照射方法。
3. 【請求項３】 高分子膜を設けた基板を紫外線の直線偏
   光の照射方向に対し斜めに移動させながら、この移動方
   向と交差する方向にスリット状開口を有するマスクの前
   記スリット状開口を通して前記直線偏光を前記高分子膜
   にスリット状に照射する、請求項１に記載した光の照射
   方法。
4. 【請求項４】 無偏光の光を直線偏光素子によって前記
   直線偏光とする、請求項２に記載した光の照射方法。
5. 【請求項５】 互いに所定の間隙を置いて複数の透光板
   を配置し、一方の透光板の側からブリュースター角若し
   くはほぼブリュースター角で前記光を入射させ、他方の
   透光板の側から前記直線偏光を得る、請求項４に記載し
   た光の照射方法。
6. 【請求項６】 前記複数の透光板の間にスペーサを設
   け、前記間隙を少なくとも光入射領域及び光出射領域に
   おいて一定若しくはほぼ一定に保持する、請求項５に記
   載した光の照射方法。
7. 【請求項７】 紫外線を透過する石英板を平行若しくは
   ほぼ平行に配置し、前記光として無偏光の紫外線を入射
   させ、紫外線の直線偏光を得る、請求項５に記載した光
   の照射方法。
8. 【請求項８】 光の照射手段と、この照射手段による照
   射方向に対し被照射体を斜め方向に相対的に移動させる
   移動手段と、この移動手段による移動方向と交差する方
   向に前記光を幅細パターンに前記被照射体に対し照射す
   る照射パターン形成手段とを有する、光の照射装置。
9. 【請求項９】 前記光が直線偏光である、請求項８に記
   載した光の照射装置。
10. 【請求項１０】 高分子膜を設けた基板を紫外線の直線
    偏光の照射方向に対し斜めに移動させながら、この移動
    方向と交差する方向にスリット状開口を有するマスクの
    前記スリット状開口を通して前記直線偏光を前記高分子
    膜にスリット状に照射するように構成した、請求項８に
    記載した光の照射装置。
11. 【請求項１１】 無偏光の光が直線偏光素子によって前
    記直線偏光とされる、請求項９に記載した光の照射装
    置。
12. 【請求項１２】 互いに所定の間隙を置いて複数の透光
    板が配置され、一方の透光板の側からブリュースター角
    若しくはほぼブリュースター角で前記光を入射させ、他
    方の透光板の側から前記直線偏光を得るように構成し
    た、請求項１１に記載した光の照射装置。
13. 【請求項１３】 前記複数の透光板の間にスペーサが設
    けられ、前記間隙が少なくとも光入射領域及び光出射領
    域において一定若しくはほぼ一定に保持される、請求項
    １２に記載した光の照射装置。
14. 【請求項１４】 紫外線を透過する石英板が平行若しく
    はほぼ平行に配置され、前記光として無偏光の紫外線を
    入射させ、紫外線の直線偏光を得るように構成した、請
    求項１２に記載した光の照射装置。
15. 【請求項１５】 光の照射方向に対し高分子膜を斜め方
    向に相対的に移動させながら、この移動方向と交差する
    方向に前記光を幅細パターンに前記高分子膜に対し照射
    する、高分子配向膜の製造方法。
16. 【請求項１６】 前記光として直線偏光を用いる、請求
    項１５に記載した高分子配向膜の製造方法。
17. 【請求項１７】 前記高分子膜を設けた基板を紫外線の
    直線偏光の照射方向に対し斜めに移動させながら、この
    移動方向と交差する方向にスリット状開口を有するマス
    クの前記スリット状開口を通して前記直線偏光を前記高
    分子膜にスリット状に照射する、請求項１５に記載した
    高分子配向膜の製造方法。
18. 【請求項１８】 無偏光の光を直線偏光素子によって前
    記直線偏光とする、請求項１６に記載した高分子配向膜
    の製造方法。
19. 【請求項１９】 互いに所定の間隙を置いて複数の透光
    板を配置し、一方の透光板の側からブリュースター角若
    しくはほぼブリュースター角で前記光を入射させ、他方
    の透光板の側から前記直線偏光を得る、請求項１８に記
    載した高分子配向膜の製造方法。
20. 【請求項２０】 前記複数の透光板の間にスペーサを設
    け、前記間隙を少なくとも光入射領域及び光出射領域に
    おいて一定若しくはほぼ一定に保持する、請求項１９に
    記載した高分子配向膜の製造方法。
21. 【請求項２１】 紫外線を透過する石英板を平行若しく
    はほぼ平行に配置し、前記光として無偏光の紫外線を入
    射させ、紫外線の直線偏光を得る、請求項１９に記載し
    た高分子配向膜の製造方法。
22. 【請求項２２】 光の照射手段と、この照射手段による
    照射方向に対し高分子膜を斜め方向に相対的に移動させ
    る移動手段と、この移動手段による移動方向と交差する
    方向に前記光を幅細パターンに前記高分子膜に対し照射
    する照射パターン形成手段とを有する、高分子配向膜の
    製造装置。
23. 【請求項２３】 前記光が直線偏光である、請求項２２
    に記載した高分子配向膜の製造装置。
24. 【請求項２４】 前記高分子膜を設けた基板を紫外線の
    直線偏光の照射方向に対し斜めに移動させながら、この
    移動方向と交差する方向にスリット状開口を有するマス
    クの前記スリット状開口を通して前記直線偏光を前記高
    分子膜にスリット状に照射するように構成した、請求項
    ２２に記載した高分子配向膜の製造装置。
25. 【請求項２５】 無偏光の光が直線偏光素子によって前
    記直線偏光とされる、請求項２３に記載した高分子配向
    膜の製造装置。
26. 【請求項２６】 互いに所定の間隙を置いて複数の透光
    板が配置され、一方の透光板の側からブリュースター角
    若しくはほぼブリュースター角で前記光を入射させ、他
    方の透光板の側から前記直線偏光を得るように構成し
    た、請求項２５に記載した高分子配向膜の製造装置。
27. 【請求項２７】 前記複数の透光板の間にスペーサが設
    けられ、前記間隙が少なくとも光入射領域及び光出射領
    域において一定若しくはほぼ一定に保持される、請求項
    ２６に記載した高分子配向膜の製造装置。
28. 【請求項２８】 紫外線を透過する石英板が平行若しく
    はほぼ平行に配置され、前記光として無偏光の紫外線を
    入射させ、紫外線の直線偏光を得るように構成した、請
    求項２６に記載した高分子配向膜の製造装置。