JP6932000B2 - 基板処理装置、基板処理装置の制御方法およびプログラム - Google Patents

基板処理装置、基板処理装置の制御方法およびプログラム Download PDF

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Description

本発明は、基板処理装置、基板処理装置の制御方法およびプログラムに関する。処理対象となる基板には、例えば、半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板等が含まれる。
基板処理装置では、ノズルにつながっている配管の途中に設けられた吐出バルブによってノズルへの処理液の供給経路が開閉される。これにより、ノズルから基板に対する処理液の吐出が開始および停止される。
このような基板処理装置では、ノズルから基板に対する処理液の吐出が停止された後に、ノズルの先端部から基板上に処理液が落下する現象（ボタ落ちとも言う）が生じる場合がある。
このため、ノズルの先端部から基板へのボタ落ちを防止するために、ダイヤフラムの変形によってノズルの先端部から処理液を吸い戻す動作（ダイヤフラム方式のサックバックともいう）が行われている（例えば、特許文献１等）。
特開平５−８２４３１号公報
上記ダイヤフラム方式のサックバックの速度の調整は、例えば、ダイヤフラムを用いたエアオペレート式のサックバック用のバルブ（吸い戻しバルブともいう）における制御ガスの供給または排出の速度が、速度制御弁（スピードコントローラ）等によって制御されることで、実現される。
ところが、例えば、速度制御弁からの制御ガスの供給速度、供給源から供給される制御ガスの圧力、および吸い戻しバルブにおける摺動抵抗等といった吸い戻しバルブの動作環境に変化が生じる場合があった。この場合、例えば、吸い戻しバルブの動作速度が変動して、サックバックの不良が生じ得る。
例えば、吸い戻しバルブの動作速度が早くなり過ぎると、図２４で示されるように、ノズルＮｚ０内に処理液Ｌｑ０の液滴Ｄｒ０が取り残され、該液滴Ｄｒ０が基板Ｗ０の上面Ｕｓ０に落下するボタ落ちが発生する場合がある。一方、例えば、吸い戻しバルブの動作速度が遅くなり過ぎると、サックバックに要する時間が長くなり、基板Ｗ０に対する処理に要する時間（タクトタイム）が長くなるため、基板処理装置における生産効率が低下する。これらの問題は、例えば、ノズルから吐出される処理液を交換する際に、吐出バルブからノズルに至る経路に存在している処理液を吸い戻して排出する場合にも生じ得る。このような処理液の吸い戻しには、例えば、サイフォン方式のサックバックおよびコンバム方式のサックバックがある。
そこで、サックバックを適正に行うために、例えば、上記特許文献１で示されるように、ノズルの先端におけるサックバックの状態をカメラシステム等によって監視することが考えられる。
しかしながら、例えば、監視用のカメラシステムの設置に伴って基板処理装置の複雑化および大型化を招くおそれがある。さらに、例えば、監視用のカメラシステムには処理液の付着による汚れおよび腐食等が生じることも考えられる。このため、サックバックの不良の発生を防止することは容易でない。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を比較的簡易な構成で抑制することが可能な基板処理装置、基板処理装置の制御方法およびプログラムを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、第１の態様に係る基板処理装置は、ノズルと、配管部と、複数のバルブと、発動部と、制御部と、検知部と、を備えている。前記ノズルは、基板に向けて処理液を吐出する。前記配管部は、前記ノズルにつながっている前記処理液の流路を形成する。前記複数のバルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させる。前記発動部は、前記複数のバルブを動作させる駆動力を前記複数のバルブに付与する。前記制御部は、トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記複数のバルブを動作させる。前記検知部は、特定状態を検知する。前記複数のバルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、を含む。前記特定状態は、前記吸い戻しバルブの一部の領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態を含む。前記制御部は、前記トリガ信号を出力した第１タイミングから前記検知部が前記特定状態を検知した第２タイミングまでの前記吸い戻しバルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の動作速度に係る設定の変更量を算出する。
第２の態様に係る基板処理装置は、ノズルと、配管部と、複数のバルブと、発動部と、制御部と、検知部と、を備えている。前記ノズルは、基板に向けて処理液を吐出する。前記配管部は、前記ノズルにつながっている前記処理液の流路を形成する。前記複数のバルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させる。前記発動部は、前記複数のバルブを動作させる駆動力を前記複数のバルブに付与する。前記制御部は、トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記複数のバルブを動作させる。前記検知部は、特定状態を検知する。前記複数のバルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、を含む。前記特定状態は、前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態、前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態、または前記分岐配管部分の特定位置における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含む。前記制御部は、前記トリガ信号を出力した第１タイミングから前記検知部が前記特定状態を検知した第２タイミングまでの前記吸い戻しバルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の動作速度に係る設定の変更量を算出する。
第３の態様に係る基板処理装置は、ノズルと、配管部と、バルブと、発動部と、制御部と、検知部と、を備えている。前記ノズルは、基板に向けて処理液を吐出する。前記配管部は、前記ノズルにつながっている前記処理液の流路を形成する。前記バルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させる。前記発動部は、前記バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する。前記制御部は、トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記バルブを動作させる。前記検知部は、特定状態を検知する。前記バルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含む。前記特定状態は、前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、特定位置まで前記処理液が到達した特定給液状態または前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、あるいは前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、を含む。前記制御部は、前記トリガ信号を出力した第１タイミングから前記検知部が前記特定状態を検知した第２タイミングまでの前記吐出バルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の動作速度に係る設定の変更量を算出する。
第４の態様に係る基板処理装置は、ノズルと、配管部と、バルブと、発動部と、制御部と、検知部と、を備えている。前記ノズルは、基板に向けて処理液を吐出する。前記配管部は、前記ノズルにつながっている前記処理液の流路を形成する。前記バルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させる。前記発動部は、前記バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する。前記制御部は、トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記バルブを動作させる。前記検知部は、特定状態を検知する。前記バルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含む。前記特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、あるいは前記配管部における前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、を含む。前記制御部は、前記トリガ信号を出力した第１タイミングから前記検知部が前記特定状態を検知した第２タイミングまでの前記吐出バルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の動作速度に係る設定の変更量を算出する。
第５の態様に係る基板処理装置は、第１または第２の態様に係る基板処理装置であって、前記制御部は、前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の前記動作速度に係る設定を変更する。
第６の態様に係る基板処理装置は、第３または第４の態様に係る基板処理装置であって、前記制御部は、前記変更量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の前記動作速度に係る設定を変更する。
第７の態様に係る基板処理装置は、第１、第２および第５の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記発動部は、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させる。
第８の態様に係る基板処理装置は、第１の態様に係る基板処理装置であって、前記発動部は、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させ、前記吸い戻しバルブは、前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、容器部と、前記容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、前記発動部は、前記第１領域へ気体を供給して前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が縮小するように前記弁体部を動作させるとともに、前記第１領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を実行させ、前記制御部は、前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記第１領域からの気体の排出を開始させ、前記一部の領域は、前記第１領域を含み、前記動作速度に係る設定は、前記発動部による前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む。
第９の態様に係る基板処理装置は、第２の態様に係る基板処理装置であって、前記発動部は、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させ、前記吸い戻しバルブは、前記特定部分または前記分岐配管部分の途中部分に設けられ、前記ノズルおよび前記配管部のうちの前記ノズルから前記吐出バルブにかけた領域に存在している前記処理液を吸い戻す液吸い戻し経路を開閉し、前記動作速度は、前記吸い戻しバルブによって前記液吸い戻し経路を開放する速度を含む。
第１０の態様に係る基板処理装置は、第９の態様に係る基板処理装置であって、前記吸い戻しバルブは、前記液吸い戻し経路を開閉する弁体部と、前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、容器部と、前記容器内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、前記発動部は、前記第１領域への気体の供給および前記第１領域からの気体の排出によって前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記弁体部を動作させ、前記制御部は、前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記弁体部の動作による液吸い戻し経路の開放を開始させることで前記吸い戻しを開始させ、前記動作速度に係る設定は、前記発動部による前記第１領域への気体の供給の速度または前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む。
第１１の態様に係る基板処理装置は、第９の態様に係る基板処理装置であって、前記吸い戻しバルブは、前記液吸い戻し経路を開閉する弁体部を有し、前記発動部は、前記吸い戻しバルブに駆動力を付与するモータを含み、前記制御部は、前記トリガ信号を出力することで前記モータによって前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し経路の開放を開始させることで前記吸い戻しを開始させ、前記動作速度に係る設定は、前記モータによる前記吸い戻しバルブの開放の速度を調整する設定を含む。
第１２の態様に係る基板処理装置は、第３の態様に係る基板処理装置であって、前記発動部は、前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、前記制御部は、前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、前記動作速度は、前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放の速度を含む。
第１３の態様に係る基板処理装置は、第１２の態様に係る基板処理装置であって、前記発動部は、前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与するモータを含み、前記制御部は、前記トリガ信号を出力することで前記モータによって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、前記動作速度に係る設定は、前記モータによる前記吐出バルブの開放の速度を調整する設定を含む。
第１４の態様に係る基板処理装置は、第１２の態様に係る基板処理装置であって、前記吐出バルブは、前記液供給経路を開閉する弁体部と、前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、容器部と、前記容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、前記発動部は、前記第１領域への気体の供給および前記第１領域からの気体の排出によって前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記弁体部を動作させ、前記制御部は、前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記弁体部による前記液供給経路の開放を開始させ、前記動作速度に係る設定は、前記発動部による前記第１領域への気体の供給の速度または前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む。
第１５の態様に係る基板処理装置は、第４の態様に係る基板処理装置であって、前記発動部は、前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、前記制御部は、前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させ、前記動作速度に係る設定は、前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖の速度を調整する設定を含む。
第１６の態様に係る基板処理装置は、第１５の態様に係る基板処理装置であって、前記吐出バルブは、前記液供給経路を開閉する弁体部と、前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、容器部と、前記容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、前記発動部は、前記第１領域への気体の供給および前記第１領域からの気体の排出によって前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記弁体部を動作させ、前記制御部は、前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記弁体部による前記液供給経路の閉鎖を開始させ、前記動作速度に係る設定は、前記発動部による前記第１領域への気体の供給の速度または前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む。
第１７の態様に係る基板処理装置は、第１２から第１４の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記制御部は、第１トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、第２トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させ、前記検知部は、前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、前記処理液の到達または流速、あるいは前記吐出バルブの開度に係る第１特定状態を検知するとともに、前記吐出バルブの開度または前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速に係る第２特定状態を検知し、前記制御部は、前記第１トリガ信号を出力した第１開放タイミングから前記検知部が前記第１特定状態を検知した第２開放タイミングまでの実開放動作時間と、予め設定された基準開放動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの開放の速度に係る設定の変更量を算出するとともに、前記第２トリガ信号を出力した第１閉鎖タイミングから前記検知部が前記第２特定状態を検知した第２閉鎖タイミングまでの実閉鎖動作時間と、予め設定された基準閉鎖動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの閉鎖の速度に係る設定の変更量を算出する。
第１８の態様に係る基板処理装置は、第１、第２、第５および第７から第１１の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係を示す基準関係情報を記憶する記憶部、をさらに備え、前記制御部は、前記基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第１９の態様に係る基板処理装置は、第３、第４、第６および第１２から第１７の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係を示す基準関係情報を記憶する記憶部、をさらに備え、前記制御部は、前記基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第２０の態様に係る基板処理装置は、第１、第２、第５および第７から第１１の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係を示す情報を記憶する記憶部、をさらに備え、前記制御部は、前記比例または前記反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第２１の態様に係る基板処理装置は、第３、第４、第６および第１２から第１７の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係を示す情報を記憶する記憶部、をさらに備え、前記制御部は、前記比例または前記反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第２２の態様に係る基板処理装置は、第１、第２、第５および第７から第１１の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記制御部は、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する。
第２３の態様に係る基板処理装置は、第３、第４、第６および第１２から第１７の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記制御部は、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する。
第２４の態様に係る基板処理装置は、基板に向けて処理液を吐出するノズルと、前記ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブに付与する発動部と、トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる制御部と、第１特定状態を検知する第１検知部と、第２特定状態を検知する第２検知部と、を備え、前記制御部は、前記第１検知部が前記第１特定状態を検知した第１タイミングから前記第２検知部が前記第２特定状態を検知した第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出し、前記第１特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定状態、または前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含み、前記第２特定状態は、前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態、前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態、または前記分岐配管部分の特定位置における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含む。
第２５の態様に係る基板処理装置は、基板に向けて処理液を吐出するノズルと、前記ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブに付与する発動部と、トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる制御部と、第１特定状態を検知する第１検知部と、第２特定状態を検知する第２検知部と、を備え、前記制御部は、前記第１検知部が前記第１特定状態を検知した第１タイミングから前記第２検知部が前記第２特定状態を検知した第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出し、前記第１特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定状態、または前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含み、前記第２特定状態は、前記吸い戻しバルブの一部の領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態、を含む。
第２６の態様に係る基板処理装置は、第２４または第２５の態様に係る基板処理装置であって、前記制御部は、前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定を変更する。
第２７の態様に係る基板処理装置は、第２５の態様に係る基板処理装置であって、前記吸い戻しバルブは、前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、容器部と、前記容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、前記発動部は、前記第１領域へ気体を供給して前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が縮小するように前記弁体部を動作させるとともに、前記第１領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を実行させ、前記一部の領域は、前記第１領域を含み、前記制御部は、前記第１タイミングから前記検知部が前記基準圧到達状態を検知した前記第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定の変更量を算出する。
第２８の態様に係る基板処理装置は、第２４から第２７の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記第１特定状態が実現されるタイミングから前記第２特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係を示す基準関係情報を記憶する記憶部、をさらに備え、前記制御部は、前記基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第２９の態様に係る基板処理装置は、第２４から第２７の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記第１特定状態が実現されるタイミングから前記第２特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値と、の間における比例または反比例の関係を示す情報を記憶する記憶部、をさらに備え、前記制御部は、前記比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第３０の態様に係る基板処理装置は、第２４から第２７の何れか１つの態様に係る基板処理装置であって、前記制御部は、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する。
第３１の態様に係る基板処理装置の制御方法は、基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられた複数のバルブと、該複数のバルブを動作させる駆動力を前記複数のバルブに付与する発動部と、制御部と、を備える基板処理装置の制御方法であって、前記複数のバルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、を含み、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記発動部によって前記複数のバルブを動作させ始めることで、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させ始める第１工程と、特定状態を検知する第２工程と、前記制御部によって、前記第１工程において前記トリガ信号が出力された第１タイミングから前記第２工程において前記特定状態が検知された第２タイミングまでの前記吸い戻しバルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第３工程と、を有し、前記特定状態は、前記吸い戻しバルブの一部の領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態を含む。
第３２の態様に係る基板処理装置の制御方法は、基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられた複数のバルブと、該複数のバルブを動作させる駆動力を前記複数のバルブに付与する発動部と、制御部と、を備える基板処理装置の制御方法であって、前記複数のバルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、を含み、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記発動部によって前記複数のバルブを動作させ始めることで、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させ始める第１工程と、特定状態を検知する第２工程と、前記制御部によって、前記第１工程において前記トリガ信号が出力された第１タイミングから前記第２工程において前記特定状態が検知された第２タイミングまでの前記吸い戻しバルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第３工程と、を有し、前記特定状態は、前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態、前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態、または前記分岐配管部分の特定位置における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含む。
第３３の態様に係る基板処理装置の制御方法は、基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられたバルブと、該バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する発動部と、制御部と、を備える基板処理装置の制御方法であって、前記バルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記発動部によって前記吐出バルブを動作させ始めることで、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させ始める第１工程と、特定状態を検知する第２工程と、前記制御部によって、前記第１工程において前記トリガ信号が出力された第１タイミングから前記第２工程において前記特定状態が検知された第２タイミングまでの前記吐出バルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第３工程と、を有し、前記特定状態は、前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、特定位置まで前記処理液が到達した特定給液状態または前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、あるいは前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、を含む。
第３４の態様に係る基板処理装置の制御方法は、基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられたバルブと、該バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する発動部と、制御部と、を備える基板処理装置の制御方法であって、前記バルブは、前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記発動部によって前記吐出バルブを動作させ始めることで、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させ始める第１工程と、特定状態を検知する第２工程と、前記制御部によって、前記第１工程において前記トリガ信号が出力された第１タイミングから前記第２工程において前記特定状態が検知された第２タイミングまでの前記吐出バルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第３工程と、を有し、前記特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、あるいは前記配管部における前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、を含む。
第３５の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３１または第３２の態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第３工程で算出された前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定を変更する第４工程、をさらに有する。
第３６の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３３または第３４の態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第３工程で算出された前記変更量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定を変更する第４工程、をさらに有する。
第３７の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３１、第３２および第３５の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第１工程において、前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させる。
第３８の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３１の態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第１工程において、前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させ、前記吸い戻しバルブは、前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、該弁体部を動作させる駆動機構と、を含み、前記駆動機構は、容器部と、該容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、該仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を含み、前記第１工程において、前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記第１領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を開始させ、前記一部の領域は、前記第１領域を含み、前記第３工程において、前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定の変更量を算出する。
第３９の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３２の態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第１工程において、前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させ、前記吸い戻しバルブは、前記特定部分または前記分岐配管部分の途中部分に設けられており、前記第１工程において、前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吸い戻しバルブに、前記ノズルおよび前記配管部のうちの前記ノズルから前記吐出バルブにかけた領域に存在している前記処理液を吸い戻す液吸い戻し経路を開放させ始め、前記第３工程において、前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し経路の開放の速度に係る設定の変更量を算出する。
第４０の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３３の態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記発動部は、前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、前記第１工程において、前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、前記第３工程において、前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放の速度を調整する設定の変更量を算出する。
第４１の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３４の態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記発動部は、前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、前記第１工程において、前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させ、前記第３工程において、前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖の速度を調整する設定の変更量を算出する。
第４２の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第４０の態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第１工程において、前記制御部が第１トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、前記第２工程において、前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、前記処理液の到達または流速、あるいは前記吐出バルブの開度に係る第１特定状態を検知し、前記第３工程において、前記制御部によって、前記第１工程において前記制御部が前記第１トリガ信号を出力した第１開放タイミングから、前記第２工程において前記第１特定状態を検知した第２開放タイミングまでの実開放動作時間と、予め設定された基準開放動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの開放の速度に係る設定の変更量を算出し、前記基板処理装置の制御方法は、さらに、前記制御部が第２トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させる第５工程と、前記吐出バルブの開度あるいは前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速に係る第２特定状態を検知する第６工程と、前記制御部によって、前記第５工程において前記制御部が前記第２トリガ信号を出力した第１閉鎖タイミングから前記第６工程において前記第２特定状態を検知した第２閉鎖タイミングまでの実閉鎖動作時間と、予め設定された基準閉鎖動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの閉鎖の速度に係る設定の変更量を算出する第７工程と、を有する。
第４３の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３１、第３２、第３５および第３７から第３９の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第３工程において、前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第４４の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３３、第３４、第３６および第４０から第４２の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第３工程において、前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第４５の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３１、第３２、第３５および第３７から第３９の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第３工程において、前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第４６の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３３、第３４、第３６および第４０から第４２の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第３工程において、前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第４７の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３１、第３２、第３５および第３７から第３９の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第３工程において、前記制御部によって、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する。
第４８の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第３３、第３４、第３６および第４０から第４２の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第３工程において、前記制御部によって、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する。
第４９の態様に係る基板処理装置の制御方法は、基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれに付与する発動部と、制御部と、を有する基板処理装置の制御方法であって、前記発動部によって、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させ始める第１工程と、第１特定状態を検知する第２工程と、第２特定状態を検知する第３工程と、前記制御部によって、前記第２工程で前記第１特定状態を検知した第１タイミングから前記第３工程で前記第２特定状態を検知した第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第４工程と、を有し、前記第１特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定状態、または前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含み、前記第２特定状態は、前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態、前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態、または前記分岐配管部分の特定位置における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含む。
第５０の態様に係る基板処理装置の制御方法は、基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれに付与する発動部と、制御部と、を有する基板処理装置の制御方法であって、前記発動部によって、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させ始める第１工程と、第１特定状態を検知する第２工程と、第２特定状態を検知する第３工程と、前記制御部によって、前記第２工程で前記第１特定状態を検知した第１タイミングから前記第３工程で前記第２特定状態を検知した第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第４工程と、を有し、前記第１特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定状態、または前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含み、前記第２特定状態は、前記吸い戻しバルブの一部の領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態、を含む。
第５１の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第４９または第５０の態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記制御部によって、前記第４工程において算出された前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定を変更する第５工程、をさらに有する。
第５２の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第５０の態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記吸い戻しバルブは、前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、該弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、容器部と、該容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、該仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、前記第１工程において、前記発動部によって、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記第１領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させ始めることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させ始めて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を実行させ始め、前記一部の領域は、前記第１領域を含み、前記第４工程において、前記制御部によって、前記実動作時間と予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定の変更量を算出する。
第５３の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第４９から第５２の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第４工程において、前記制御部によって、前記第１特定状態が実現されるタイミングから第２特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間についての基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第５４の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第４９から第５２の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第４工程において、前記制御部によって、前記第１特定状態が実現されるタイミングから第２特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値と、の間についての比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する。
第５５の態様に係る基板処理装置の制御方法は、第４９から第５２の何れか１つの態様に係る基板処理装置の制御方法であって、前記第４工程において、前記制御部によって、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記バルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する。
第５６の態様に係るプログラムは、基板処理装置に含まれる演算処理部によって実行されることで、該基板処理装置を、第１から第３０の何れか１つの態様に係る基板処理装置として機能させる。
第１から第２３の態様に係る基板処理装置および第３１から第４８の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、ノズルにつながっている配管部の途中に設けられたバルブを動作させる信号が出力されたタイミングから、特定状態が検知された第２タイミングまでの実動作時間と、基準動作時間との関係に応じて、バルブの動作速度に係る設定の変更量が算出される。これにより、例えば、バルブの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
第７から第１１の態様に係る基板処理装置および第３７から第３９の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、吸い戻しバルブの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルから基板に対する処理液のボタ落ちの発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
第１２から第１４の態様に係る基板処理装置および第４０の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、吐出バルブの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルから基板に対する処理液の吐出におけるスプラッシュの発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
第１５および第１６の態様に係る基板処理装置ならびに第４１の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、吐出バルブの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルから基板に対するウォーターハンマーによる処理液のボタ落ちの発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
第１７の態様に係る基板処理装置および第４２の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、吐出バルブの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルから基板に対する処理液の吐出におけるスプラッシュおよびウォーターハンマーによる処理液のボタ落ちの発生の両方を比較的簡易な構成で抑制することができる。
第１８および第１９の態様に係る基板処理装置ならびに第４３および第４４の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、バルブの動作時間とバルブの動作速度に係る設定値との間における基準の関係と、実測されたバルブの実動作時間とに基づいて、バルブの動作速度に係る設定の変更量が算出されるため、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を容易に抑制することができる。
第２０および第２１の態様に係る基板処理装置ならびに第４５および第４６の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、バルブの動作時間とバルブの動作速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係と、実測されたバルブの実動作時間とに基づいて、バルブの動作速度に係る設定の変更量が算出されるため、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を容易に抑制することができる。
第２２および第２３の態様に係る基板処理装置ならびに第４７および第４８の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、基準動作時間よりも実動作時間が短ければ、発動部によるバルブの動作の速度が小さくなるような変更量が算出され、基準動作時間よりも実動作時間が長ければ、発動部によるバルブの動作の速度が大きくなるような変更量が算出されるため、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を容易に抑制することができる。
第２４から第３０の態様に係る基板処理装置および第４９から第５５の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、吐出バルブの開度に係る第１特定状態が検知されたタイミングから、第２特定状態が検知されたタイミングまでの吸い戻しバルブの実動作時間と、基準動作時間との関係に応じて、吸い戻しバルブの動作速度に係る設定の変更量が算出される。これにより、例えば、吸い戻しバルブの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
第２７の態様に係る基板処理装置および第５２の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、吸い戻しバルブの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルから基板に対する処理液のボタ落ちの発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
第２８の態様に係る基板処理装置および第５３の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、吸い戻しバルブの動作時間と吸い戻しバルブの動作速度に係る設定値との間における基準の関係と、実測された吸い戻しバルブの実動作時間とに基づいて、吸い戻しバルブの動作速度に係る設定の変更量が算出されるため、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を容易に抑制することができる。
第２９の態様に係る基板処理装置および第５４の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、吸い戻しバルブの動作時間と吸い戻しバルブの動作速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係と、実測された吸い戻しバルブの実動作時間とに基づいて、吸い戻しバルブの動作速度に係る設定の変更量が算出されるため、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を容易に抑制することができる。
第３０の態様に係る基板処理装置および第５５の態様に係る基板処理装置の制御方法の何れによっても、例えば、基準動作時間よりも実動作時間が短ければ、発動部による吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような変更量が算出され、基準動作時間よりも実動作時間が長ければ、発動部による吸い戻しバルブの動作の速度が大きくなるような変更量が算出される。このため、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を容易に抑制することができる。
第５６の態様に係るプログラムによれば、例えば、バルブの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルから基板に対する処理液の吐出における不具合の発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
各実施形態に係る基板処理装置の全体構成の一例を模式的に示す図である。 第１実施形態に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 エアオペレートバルブの一例を模式的に示す断面図である。 タイヤフラム型のサックバックバルブの一例を模式的に示す断面図である。 第１制御部および第２制御部の機能的な構成の一例を示すブロック図である。 制御対象のバルブの動作時間とスピードコントローラの流量制御弁の開度を変更するモータの位置との基準の関係の一例を示すグラフである。 制御対象のバルブの動作時間とスピードコントローラの流量制御弁の開度を変更するモータの位置との基準の関係の一例を示すテーブルである。 第１実施形態に係る処理ユニットの制御フローの一例を示す流れ図である。 第２実施形態に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 第１検知部の一例を模式的に示す断面図である。 第２実施形態に係る処理ユニットの制御フローの一例を示す流れ図である。 第３実施形態に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 第４実施形態に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 第５実施形態に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 モータニードルバルブの一例を模式的に示す断面図である。 第６実施形態に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 第６実施形態に係る処理ユニットの制御フローの一例を示す流れ図である。 第７実施形態に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 第８実施形態に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 第８実施形態に係る処理ユニットの制御フローの一例を示す流れ図である。 第９実施形態に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 第９実施形態に係る処理ユニットの制御フローの一例を示す流れ図である。 一変形例に係る処理ユニットの一構成例を模式的に示す図である。 サックバックの不良の一例を模式的に示す図である。 処理液の吐出停止時におけるウォーターハンマーによる処理液のボタ落ちの一例を模式的に示す図である。 処理液の吐出開始時におけるスプラッシュの一例を模式的に示す図である。
以下、本発明の各実施形態を図面に基づいて説明する。図面においては同様な構成および機能を有する部分については同じ符号が付されており、下記説明では重複説明が省略される。また、図面は模式的に示されたものであり、各図における各種構造のサイズおよび位置関係等は正確に図示されたものではない。
＜１．第１実施形態＞
＜１−１．基板処理装置の概略構成＞
図１は、第１実施形態に係る基板処理装置１の概略構成の一例を示す模式的な平面図である。基板処理装置１は、例えば、基板Ｗの一例としての半導体基板（ウエハ）の表面に対して処理液を供給することで各種処理を行うことができる枚葉式の装置である。各種処理には、例えば、薬液等でエッチングを施す薬液処理、液体で汚れを除去する洗浄処理、水で洗い流すリンス処理およびレジスト等を塗布する塗布処理等が含まれる。
基板処理装置１は、収容器としての複数のキャリアＣを保持する収容器保持機構としてのロードポートＬＰと、基板Ｗを処理する複数（この実施形態では、１２台）の処理ユニット１００と、を含む。具体的には、例えば、平面的に配置されている４台の処理ユニット１００でそれぞれ構成されている３組の処理ユニット１００が、上下方向に積層するように配置されている。
基板処理装置１は、さらに、例えば、インデクサロボットＩＲと、センターロボットＣＲと、第１制御部９１と、を含む。インデクサロボットＩＲは、例えば、ロードポートＬＰとセンターロボットＣＲとの間で基板Ｗを搬送することができる。センターロボットＣＲは、例えば、インデクサロボットＩＲと各処理ユニット１００との間で基板Ｗを搬送することができる。第１制御部９１は、例えば、基板処理装置１に備えられた各部の動作およびバルブの開閉等を制御することができる。
ここでは、図１で示されるように、ロードポートＬＰと各処理ユニット１００とは、水平方向に間隔を空けて配置されている。ロードポートＬＰにおいて、複数枚の基板Ｗを収容する複数のキャリアＣは、平面視したときに水平な配列方向Ｄに沿って配列されている。ここで、インデクサロボットＩＲは、例えば、キャリアＣからセンターロボットＣＲに複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送することができるとともに、センターロボットＣＲからキャリアＣに複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送することができる。同様に、センターロボットＣＲは、例えば、インデクサロボットＩＲから各処理ユニット１００に複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬入することができるとともに、各処理ユニット１００からインデクサロボットＩＲに複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送することができる。また、例えば、センターロボットＣＲは、必要に応じて複数の処理ユニット１００の間において基板Ｗを搬送することができる。
図１の例では、インデクサロボットＩＲは、平面視Ｕ字状の２つのハンドＨを有している。２つのハンドＨは、異なる高さに配置されている。各ハンドＨは、基板Ｗを水平な姿勢で支持することができる。インデクサロボットＩＲは、ハンドＨを水平方向および鉛直方向に移動させることができる。さらに、インデクサロボットＩＲは、鉛直方向に沿った軸を中心として回転（自転）することで、ハンドＨの向きを変更することができる。インデクサロボットＩＲは、受渡位置（図１でインデクサロボットＩＲが描かれている位置）を通る経路において配列方向Ｄに沿って移動する。受渡位置は、平面視したときにインデクサロボットＩＲとセンターロボットＣＲとが配列方向Ｄに直交する方向において対向する位置である。インデクサロボットＩＲは、任意のキャリアＣおよびセンターロボットＣＲにそれぞれハンドＨを対向させることができる。ここで、例えば、インデクサロボットＩＲは、ハンドＨを移動させることにより、キャリアＣに基板Ｗを搬入する搬入動作と、キャリアＣから基板Ｗを搬出する搬出動作と、を行うことができる。また、例えば、インデクサロボットＩＲは、センターロボットＣＲと協働して、インデクサロボットＩＲおよびセンターロボットＣＲの一方から他方に基板Ｗを移動させる受渡動作を受渡位置で行うことができる。
図１の例では、センターロボットＣＲは、インデクサロボットＩＲと同様に、平面視Ｕ字状の２つのハンドＨを有している。２つのハンドＨは、異なる高さに配置されている。各ハンドＨは、基板Ｗを水平な姿勢で支持することができる。センターロボットＣＲは、各ハンドＨを水平方向および鉛直方向に移動させることができる。さらに、センターロボットＣＲは、鉛直方向に沿った軸を中心として回転（自転）することで、ハンドＨの向きを変更することができる。センターロボットＣＲは、平面視したときに、複数台の処理ユニット１００に取り囲まれている。センターロボットＣＲは、任意の処理ユニット１００およびインデクサロボットＩＲの何れかにハンドＨを対向させることができる。ここで、例えば、センターロボットＣＲは、ハンドＨを移動させることにより、各処理ユニット１００に基板Ｗを搬入する搬入動作と、各処理ユニット１００から基板Ｗを搬出する搬出動作と、を行うことができる。また、例えば、センターロボットＣＲは、インデクサロボットＩＲと協働して、インデクサロボットＩＲおよびセンターロボットＣＲの一方から他方に基板Ｗを移動させる受渡動作を行うことができる。
＜１−２．処理ユニットの構成＞
図２は、第１実施形態に係る処理ユニット１００の一構成例を模式的に示す図である。処理ユニット１００は、例えば、平面内で回転している基板Ｗの一主面上（上面ともいう）Ｕｓ１に処理液Ｌｑ１を供給することで、基板Ｗの上面Ｕｓ１に対して各種処理を施すことができる。処理液Ｌｑ１には、例えば、粘度が比較的低い水または薬液あるいは粘度が比較的高い有機系のレジストまたはペースト等、流動性を有する液体一般が適用される。
図２で示されるように、処理ユニット１００は、例えば、保持部３と、回転機構４と、処理液供給系５と、第２制御部９２と、を備えている。第２制御部９２は、第１制御部９１とともに、制御部９を構成する。
＜１−２−１．保持部＞
保持部３は、例えば、基板Ｗを略水平姿勢で保持して回転させることができる。保持部３には、例えば、基板Ｗの上面Ｕｓ１の逆の他の一主面（下面ともいう）Ｂｓ１を真空吸着可能な上面３ｕｆを有する真空チャック、または基板Ｗの周縁部を挟持可能な複数個のチャックピンを有する挟持式のチャック等が適用される。
＜１−２−２．回転機構＞
回転機構４は、保持部３を回転させることができる。回転機構４には、例えば、上端部に保持部３が連結されて鉛直方向に沿って延在している回転支軸４ｓと、該回転支軸４ｓを鉛直方向に沿った仮想的な回転軸Ａｘ１を中心として回転させることが可能なモータ等を有する回転駆動部４ｍと、を有する構成が適用される。ここでは、例えば、回転駆動部４ｍによって回転支軸４ｓが回転軸Ａｘ１を中心として回転されることで、保持部３が略水平面内で回転される。これにより、例えば、保持部３上に保持されている基板Ｗが、回転軸Ａｘ１を中心として回転される。ここで、基板Ｗの上面Ｕｓ１および下面Ｂｓ１が略円形であれば、回転軸Ａｘ１は、例えば、基板Ｗの上面Ｕｓ１および下面Ｂｓ１の中心を通る。回転駆動部４ｍによる回転支軸４ｓの回転、すなわち保持部３および基板Ｗの回転の有無および速度は、例えば、第１制御部９１および第２制御部９２を含む制御部９によって制御される。
＜１−２−３．処理液供給系＞
処理液供給系５は、ノズルＮｚ１と、処理液用の配管部Ｐ１と、ガス用の配管部Ｐ２と、吐出バルブ５１と、吸い戻しバルブ５２と、発動部５３と、検知部５５と、を備えている。
＜１−２−３−１．ノズル＞
ノズルＮｚ１は、保持部３に保持された基板Ｗに向けて処理液Ｌｑ１を吐出することができる。例えば、処理液Ｌｑ１が、リンス水または薬液である場合には、ノズルＮｚ１としては、連続流の状態で処理液Ｌｑ１を吐出するストレートノズルが採用され得る。なお、処理ユニット１００の隔壁で区画された処理室（チャンバー）２（図１参照）内には、例えば、少なくともノズルＮｚ１と保持部３とが配置されていればよい。
＜１−２−３−２．処理液用の配管部＞
処理液用の配管部Ｐ１は、ノズルＮｚ１につながっており、処理液Ｌｑ１が流れる経路（流路ともいう）を形成している。図２の例では、配管部Ｐ１は、第１配管部分Ｐ１ａと、第２配管部分Ｐ１ｂと、第３配管部分Ｐ１ｃと、を含んでいる。第１配管部分Ｐ１ａは、処理ユニット１００に対して処理液Ｌｑ１を供給する液供給部７と吐出バルブ５１とをつないでいる。液供給部７は、例えば、基板処理装置１の外部に設けられ、処理液Ｌｑ１を貯留するタンクと、該タンクから処理液Ｌｑ１を基板処理装置１の第１配管部分Ｐ１ａに向けて送給するポンプと、を有する。第２配管部分Ｐ１ｂは、吐出バルブ５１と吸い戻しバルブ５２とをつないでいる。第３配管部分Ｐ１ｃは、吸い戻しバルブ５２とノズルＮｚ１とをつないでいる。
＜１−２−３−３．ガス用の配管部＞
ガス用の配管部Ｐ２は、発動部５３と吐出バルブ５１とをつないでいるとともに、発動部５３と吸い戻しバルブ５２とをつないでいる。そして、配管部Ｐ２は、発動部５３と吐出バルブ５１との間において、吐出バルブ５１の動作を制御するための制御ガスＧｓ１が導入または排出される経路を形成し、発動部５３と吸い戻しバルブ５２との間において、吸い戻しバルブ５２の動作を制御するための制御ガスＧｓ１が導入または排出される経路を形成している。図２の例では、配管部Ｐ２は、第１配管部分Ｐ２ａと、第２配管部分Ｐ２ｂと、第３配管部分Ｐ２ｃと、第４配管部分Ｐ２ｄと、第５配管部分Ｐ２ｅと、を含んでいる。
第１配管部分Ｐ２ａは、処理ユニット１００に対して制御ガスＧｓ１を供給する気体供給部６と発動部５３とをつないでいる。気体供給部６は、例えば、基板処理装置１の外部に設けられ、高圧の制御ガスＧｓ１を格納するボンベと、該ボンベから導出される制御ガスＧｓ１の圧力を一定値まで下げるバルブ（圧力レギュレーターともいう）と、を有する。第２配管部分Ｐ２ｂは、発動部５３内に位置している。第３配管部分Ｐ２ｃは、発動部５３と吐出バルブ５１とをつないでいる。第４配管部分Ｐ２ｄは、発動部５３と吸い戻しバルブ５２とをつないでいる。第５配管部分Ｐ２ｅは、発動部５３と処理ユニット１００の外部空間とをつないでいる。
＜１−２−３−４．吐出バルブ＞
吐出バルブ５１は、配管部Ｐ１の途中部分に設けられ、液供給部７からノズルＮｚ１に対して処理液Ｌｑ１を供給する経路（液供給経路ともいう）ＰＡ１を開閉することができる。これにより、配管部Ｐ１およびノズルＮｚ１における処理液の存在状態を変化させることができる。図２の例では、吐出バルブ５１として、制御ガスの供給および排出に応じて液供給経路ＰＡ１を開閉するエアオペレート方式のバルブ（エアオペレートバルブともいう）Ｖａｏが適用されている。より具体的には、エアオペレートバルブＶａｏとして、制御ガスが排出されている標準状態において液供給経路ＰＡ１を閉鎖するタイプ（ノーマル閉型ともいう）のエアオペレートバルブが採用されている。
図３は、ノーマル閉型のエアオペレートバルブＶａｏの一例を模式的に示す断面図である。図３で示されるように、エアオペレートバルブＶａｏは、本体部ＶＭ１と、駆動機構ＤＲ１と、を有している。
本体部ＶＭ１は、液供給経路ＰＡ１を形成する貫通孔（液通過孔ともいう）Ｌｈ１を開閉する弁体部Ｖｂ１を有している。図３の例では、本体部ＶＭ１は、弁箱部Ｖｘ１と、弁座部Ｖｓ１と、弁体部Ｖｂ１と、を有している。
弁箱部Ｖｘ１は、処理液Ｌｑ１が通過可能に貫通している液通過孔Ｌｈ１と、該液通過孔Ｌｈ１に交差し且つ弁体部Ｖｂ１が摺動可能な孔（弁摺動孔ともいう）Ｈｖ１と、を形成している。また、弁箱部Ｖｘ１は、液通過孔Ｌｈ１の外部に開口している一方の開口部（第１開口部ともいう）Ｐｉ１と、液通過孔Ｌｈ１の外部に開口している他方の開口部（第２開口部ともいう）Ｐｏ１と、を有している。図２の例では、第１開口部Ｐｉ１に第１配管部分Ｐ１ａが接続され、第２開口部Ｐｏ１に第２配管部分Ｐ１ｂが接続されている。
弁座部Ｖｓ１は、弁箱部Ｖｘ１のうちの液通過孔Ｌｈ１と弁摺動孔Ｈｖ１とが交差している部分に位置する環状の部分である。
弁体部Ｖｂ１は、弁摺動孔Ｈｖ１の内壁に嵌まった状態で、弁座部Ｖｓ１に対して離接可能に移動することができる。図３の例では、弁体部Ｖｂ１は、弁摺動孔Ｈｖ１の内壁に沿って上下に摺動することで、弁座部Ｖｓ１に対して離接する。これにより、弁体部Ｖｂ１は、液供給経路ＰＡ１を形成する液通過孔Ｌｈ１を開閉することができる。
駆動機構ＤＲ１は、弁体部Ｖｂ１を動作させることができる。図３の例では、駆動機構ＤＲ１は、例えば、容器部Ｂｘ１と、仕切り部Ｐｄ１と、弾性体Ｅｂ１と、連結部Ｖｈ１と、を有している。
容器部Ｂｘ１は、例えば、内部空間Ｉｓ１と、ガス通過孔Ｇｈ１と、挿通孔Ｈｈ１と、を形成している。内部空間Ｉｓ１は、容器部Ｂｘ１の内部に位置する中空の空間である。ガス通過孔Ｇｈ１は、該内部空間Ｉｓ１と外部空間とをつなぎ且つ制御ガスＧｓ１を通過させることができる。図２の例では、ガス通過孔Ｇｈ１にガス用の第３配管部分Ｐ２ｃが接続されている。挿通孔Ｈｈ１は、連結部Ｖｈ１が摺動可能に挿通されている貫通孔である。図３の例では、容器部Ｂｘ１の側壁部にガス通過孔Ｇｈ１が設けられ、容器部Ｂｘ１の底壁部に挿通孔Ｈｈ１が設けられている。
仕切り部Ｐｄ１は、例えば、容器部Ｂｘ１内の内部空間Ｉｓ１を第１領域Ａａ１と第２領域Ａｂ１とに仕切っている。図３の例では、第１領域Ａａ１は、容器部Ｂｘ１内の内部空間Ｉｓ１のうち、仕切り部Ｐｄ１よりも下方に位置している。第２領域Ａｂ１は、容器部Ｂｘ１内の内部空間Ｉｓ１のうち、仕切り部Ｐｄ１よりも上方に位置している。また、仕切り部Ｐｄ１は、容器部Ｂｘ１の内壁面に対して摺動可能に移動することができる。仕切り部Ｐｄ１としては、例えば、容器部Ｂｘ１の内壁部に対して摺動可能に設けられた板状の部材（仕切り板）が採用される。
弾性体Ｅｂ１は、例えば、仕切り部Ｐｄ１と容器部Ｂｘ１の内壁部との間に設けられている。弾性体Ｅｂ１は、例えば、仕切り部Ｐｄ１の移動に対する抵抗力としての弾性力を生じ得る。図３の例では、弾性体Ｅｂ１は、容器部Ｂｘ１の内部空間Ｉｓ１内の第２領域Ａｂ１に設けられており、容器部Ｂｘ１の上方の内壁面と仕切り部Ｐｄ１の上方の面とに接続するように位置している。弾性体Ｅｂ１としては、例えば、バネ等が採用される。
連結部Ｖｈ１は、仕切り部Ｐｄ１と弁体部Ｖｂ１とを連結している。連結部Ｖｈ１は、例えば、挿通孔Ｈｈ１の貫通方向に沿って摺動することができる。連結部Ｖｈ１としては、例えば、長手方向に垂直な断面が挿通孔Ｈｈ１の形状に合わせた形状を有する棒状の部材が採用される。例えば、挿通孔Ｈｈ１の貫通方向に垂直な断面が円形であれば、連結部Ｖｈ１の長手方向に垂直な断面も円形となる。これにより、連結部Ｖｈ１は、該連結部Ｖｈ１の長手方向に沿って、挿通孔Ｈｈ１の内壁面に対して摺動することができる。
上記構成を有するエアオペレートバルブＶａｏでは、例えば、ガス通過孔Ｇｈ１から第１領域Ａａ１に制御ガスＧｓ１が導入されると、弾性体Ｅｂ１の弾性力に抗して、第１領域Ａａ１が拡がる方向に仕切り部Ｐｄ１が、容器部Ｂｘ１の内壁面に沿って摺動する。このとき、仕切り部Ｐｄ１に連結部Ｖｈ１を介して連結されている弁体部Ｖｂ１が、弁摺動孔Ｈｖ１の内壁に沿って上方に摺動することができる。これにより、弁体部Ｖｂ１が弁座部Ｖｓ１から離れている状態となり、液供給経路ＰＡ１を形成する液通過孔Ｌｈ１が開放される。すなわち、エアオペレートバルブＶａｏの液供給経路ＰＡ１を形成する液通過孔Ｌｈ１を処理液Ｌｑ１が通過できる状態となる。
一方、例えば、第１領域Ａａ１からガス通過孔Ｇｈ１を介して制御ガスＧｓ１が外部空間に排出されると、弾性体Ｅｂ１の弾性力によって、第１領域Ａａ１が狭まる方向に仕切り部Ｐｄ１が、容器部Ｂｘ１の内壁面に沿って摺動する。このとき、仕切り部Ｐｄ１に連結部Ｖｈ１を介して連結されている弁体部Ｖｂ１が、弁摺動孔Ｈｖ１の内壁に沿って下方に摺動することができる。これにより、弁体部Ｖｂ１が弁座部Ｖｓ１に接している状態となり、液供給経路ＰＡ１を形成する液通過孔Ｌｈ１が閉鎖される。すなわち、エアオペレートバルブＶａｏの液供給経路ＰＡ１を形成する液通過孔Ｌｈ１を処理液Ｌｑ１が通過できない状態となる。
なお、駆動機構ＤＲ１では、例えば、第１領域Ａａ１と第２領域Ａｂ１とが入れ替えられる構成も考えられる。この場合、例えば、第１領域Ａａ１が、内部空間Ｉｓ１のうちの仕切り部Ｐｄ１よりも上方に位置し、第２領域Ａｂ１が、内部空間Ｉｓ１のうちの仕切り部Ｐｄ１よりも下方に位置しており、弾性体Ｅｂ１が、容器部Ｂｘ１の下方の内壁面と仕切り部Ｐｄ１の下方の面とに接続するように位置する形態が採用される。この形態では、例えば、第１領域Ａａ１に対して制御ガスＧｓ１が導入されれば、弾性体Ｅｂ１の弾性力に抗して仕切り部Ｐｄ１が第１領域Ａａ１を拡げるように容器部Ｂｘ１の内壁面に沿って摺動する。このとき、仕切り部Ｐｄ１に連結部Ｖｈ１を介して連結されている弁体部Ｖｂ１が、弁摺動孔Ｈｖ１の内壁に沿って下方に摺動することができる。これにより、弁体部Ｖｂ１が弁座部Ｖｓ１に接している状態となり、液供給経路ＰＡ１を形成する液通過孔Ｌｈ１が閉鎖される。また、例えば、第１領域Ａａ１から制御ガスＧｓ１が排出されれば、弾性体Ｅｂ１の弾性力によって仕切り部Ｐｄ１が第１領域Ａａ１を狭めるように容器部Ｂｘ１の内壁面に沿って摺動する。このとき、仕切り部Ｐｄ１に連結部Ｖｈ１を介して連結されている弁体部Ｖｂ１が、弁摺動孔Ｈｖ１の内壁に沿って上方に摺動することができる。これにより、弁体部Ｖｂ１が弁座部Ｖｓ１から離れた状態となり、液供給経路ＰＡ１を形成する液通過孔Ｌｈ１が開放される。
＜１−２−３−５．吸い戻しバルブ＞
吸い戻しバルブ５２は、配管部Ｐ１の途中部分に設けられ、第３配管部分Ｐ１ｃおよびノズルＮｚ１における処理液Ｌｑ１の存在状態を変化させることができる。図２の例では、吸い戻しバルブ５２は、配管部Ｐ１のうちの吐出バルブ５１とノズルＮｚ１との間の特定部分に設けられており、ノズルＮｚ１および第３配管部分Ｐ１ｃにおける処理液を吸い戻す動作（液吸い戻し動作ともいう）を行うことができる。これにより、配管部Ｐ１およびノズルＮｚ１における処理液の存在状態を変化させることができる。また、図２の例では、吸い戻しバルブ５２として、制御ガスの供給および排出に応じて、液吸い戻し動作と、第３配管部分Ｐ１ｃへ処理液Ｌｑ１を押し出す動作（液押し出し動作ともいう）と、を行う、エアオペレート方式の吸い戻しバルブ（エア制御吸い戻しバルブともいう）Ｖｓｂが適用されている。より具体的には、エア制御吸い戻しバルブＶｓｂとして、制御ガスＧｓ１が排出されている標準状態において処理液Ｌｑ１が吸い戻されている状態となるタイプ（ノーマル吸い戻し型ともいう）のエア制御吸い戻しバルブが採用されている。
図４は、ノーマル吸い戻し型のエア制御吸い戻しバルブＶｓｂの一例を模式的に示す断面図である。図４で示されるように、エア制御吸い戻しバルブＶｓｂは、本体部ＶＭ２と、駆動機構ＤＲ２と、を有している。
図４で示されるように、本体部ＶＭ２は、弁箱部Ｖｘ２と、弁体部Ｖｂ２と、を有している。
弁箱部Ｖｘ２は、処理液Ｌｑ１が通過可能に貫通している孔（液通過孔ともいう）Ｌｈ２と、該液通過孔Ｌｈ２に交差し且つ弁体部Ｖｂ２が設けられている孔（弁設置孔ともいう）Ｈｖ２と、を形成している。また、弁箱部Ｖｘ２は、液通過孔Ｌｈ１の外部に開口している一方の開口部（第３開口部ともいう）Ｐｉ２と、液通過孔Ｌｈ１の外部に開口している他方の開口部（第４開口部ともいう）Ｐｏ２と、を有している。図２の例では、第３開口部Ｐｉ２に第２配管部分Ｐ１ｂが接続され、第４開口部Ｐｏ２に第３配管部分Ｐ１ｃが接続されている。
弁体部Ｖｂ２は、弁設置孔Ｈｖ２を液通過孔Ｌｈ２側の領域と駆動機構ＤＲ２側の領域とに区切るように設けられている。図４の例では、弁体部Ｖｂ２として、弁設置孔Ｈｖ２の深さ方向における途中の部分において該弁設置孔Ｈｖ２を形成する内壁面ＩＷ２に固定されている、ダイヤフラムが採用されている。これにより、弁箱部Ｖｘ２は、弁設置孔Ｈｖ２内のうち、配管部Ｐ１内の液供給経路ＰＡ１を形成する液通過孔Ｌｈ２に連通している領域（液吸い戻し領域ともいう）ＡＳ２を形成している。このとき、弁体部Ｖｂ２は、液吸い戻し領域ＡＳ２に面している。また、例えば、ダイヤフラムが、弾性変形が可能なシート状あるいは膜状の部材によって構成されていれば、駆動機構ＤＲ２によって、液通過孔Ｌｈ２に近づく方向および液通過孔Ｌｈ２から遠ざかる方向に、弁体部Ｖｂ２を弾性変形させることができる。このため、例えば、弁体部Ｖｂ２は、液吸い戻し領域ＡＳ２の容積を変更可能に動作することができる。
駆動機構ＤＲ２は、弁体部Ｖｂ２を動作させることができる。図４の例では、駆動機構ＤＲ２は、例えば、容器部Ｂｘ２と、仕切り部Ｐｄ２と、弾性体Ｅｂ２と、連結部Ｖｈ２と、を有している。
容器部Ｂｘ２は、例えば、内部空間Ｉｓ２と、ガス通過孔Ｇｈ２と、挿通孔Ｈｈ２と、を形成している。内部空間Ｉｓ２は、容器部Ｂｘ２の内部に位置する中空の空間である。ガス通過孔Ｇｈ２は、内部空間Ｉｓ２と外部空間とをつなぎ且つ制御ガスＧｓ１を通過させることができる。図４の例では、ガス通過孔Ｇｈ２にガス用の第４配管部分Ｐ２ｄが接続されている。挿通孔Ｈｈ２は、連結部Ｖｈ２が摺動可能に挿通されている貫通孔である。図４の例では、容器部Ｂｘ２の側壁部にガス通過孔Ｇｈ２が設けられ、容器部Ｂｘ２の底壁部に挿通孔Ｈｈ２が設けられている。
仕切り部Ｐｄ２は、例えば、容器部Ｂｘ２内の内部空間Ｉｓ２を第１領域Ａａ２と第２領域Ａｂ２とに仕切っている。図４の例では、第１領域Ａａ２は、容器部Ｂｘ１内の内部空間Ｉｓ２のうち、仕切り部Ｐｄ２よりも上方に位置している。第２領域Ａｂ２は、容器部Ｂｘ２内の内部空間Ｉｓ２のうち、仕切り部Ｐｄ２よりも下方に位置している。また、仕切り部Ｐｄ２は、容器部Ｂｘ２の内壁面に対して摺動可能に移動することができる。仕切り部Ｐｄ２としては、例えば、容器部Ｂｘ２の内壁部に対して摺動可能に設けられた板状の部材（仕切り板）が採用される。
弾性体Ｅｂ２は、例えば、仕切り部Ｐｄ２と容器部Ｂｘ２の内壁部との間に設けられている。弾性体Ｅｂ２は、例えば、仕切り部Ｐｄ２の移動に対する抵抗力としての弾性力を生じ得る。図４の例では、弾性体Ｅｂ２は、容器部Ｂｘ２の内部空間Ｉｓ２内の第２領域Ａｂ２に設けられており、容器部Ｂｘ２の下方の内壁面と仕切り部Ｐｄ２の下方の面とに接続するように位置している。弾性体Ｅｂ２としては、例えば、バネ等が採用される。
連結部Ｖｈ２は、仕切り部Ｐｄ２と弁体部Ｖｂ２とを連結している。連結部Ｖｈ２は、例えば、挿通孔Ｈｈ２の貫通方向に沿って摺動することができる。連結部Ｖｈ２としては、例えば、長手方向に垂直な断面が挿通孔Ｈｈ２の形状に合わせた形状を有する棒状の部材が採用される。例えば、挿通孔Ｈｈ２の貫通方向に垂直な断面が円形であれば、連結部Ｖｈ２の長手方向に垂直な断面も円形となる。これにより、連結部Ｖｈ２は、該連結部Ｖｈ２の長手方向に沿って、挿通孔Ｈｈ２の内壁面に対して摺動することができる。
上記構成を有するエア制御吸い戻しバルブＶｓｂでは、例えば、ガス通過孔Ｇｈ２から第１領域Ａａ２に制御ガスＧｓ１が導入されると、弾性体Ｅｂ２の弾性力に抗して、第１領域Ａａ２が拡がる方向に仕切り部Ｐｄ２が、容器部Ｂｘ２の内壁面に沿って摺動する。このとき、仕切り部Ｐｄ２に連結部Ｖｈ２を介して連結されている弁体部Ｖｂ２が液通過孔Ｌｈ２側に向けて張り出す方向に弾性変形する。これにより、弁体部Ｖｂ２が、液吸い戻し領域ＡＳ２の容積を縮小させる。このとき、例えば、液吸い戻し領域ＡＳ２に処理液Ｌｑ１が存在していれば、該液吸い戻し領域ＡＳ２から液通過孔Ｌｈ２を介して配管部Ｐ１へ処理液Ｌｑ１を押し出す液押し出し動作が行われる。
一方、例えば、第１領域Ａａ２からガス通過孔Ｇｈ２を介して制御ガスＧｓ１が外部空間に排出されると、弾性体Ｅｂ２の弾性力によって、第１領域Ａａ２が狭まる方向に仕切り部Ｐｄ２が、容器部Ｂｘ２の内壁面に沿って摺動する。このとき、仕切り部Ｐｄ２に連結部Ｖｈ２を介して連結されている弁体部Ｖｂ２が、液通過孔Ｌｈ２から遠ざかる方向に弾性変形する。これにより、弁体部Ｖｂ２が、液吸い戻し領域ＡＳ２の容積を拡大させる。このとき、例えば、ノズルＮｚ１および第３配管部分Ｐ１ｃに処理液Ｌｑ１が存在していれば、ノズルＮｚ１および第３配管部分Ｐ１ｃに存在している処理液Ｌｑ１を吸い戻す液吸い戻し動作が行われる。
なお、駆動機構ＤＲ２でも、例えば、第１領域Ａａ２と第２領域Ａｂ２とが入れ替えられる構成が考えられる。この場合、例えば、第１領域Ａａ２が、内部空間Ｉｓ１のうちの仕切り部Ｐｄ２よりも下方に位置し、第２領域Ａｂ２が、内部空間Ｉｓ１のうちの仕切り部Ｐｄ２よりも上方に位置しており、弾性体Ｅｂ２が、容器部Ｂｘ２の上方の内壁面と仕切り部Ｐｄ２の上方の面とに接続するように位置する形態が採用される。この形態では、例えば、第１領域Ａａ１に対して制御ガスＧｓ１が導入されれば、弾性体Ｅｂ２の弾性力に抗して仕切り部Ｐｄ２が第１領域Ａａ２を拡げるように容器部Ｂｘ２の内壁面に沿って摺動する。このとき、仕切り部Ｐｄ２に連結部Ｖｈ２を介して連結されている弁体部Ｖｂ２が、液吸い戻し領域ＡＳ２の容積が拡大するように弾性変形する。これにより、液吸い戻し動作が行われ得る。一方、例えば、第１領域Ａａ２から制御ガスＧｓ１が排出されれば、弾性体Ｅｂ２の弾性力によって仕切り部Ｐｄ２が第１領域Ａａ２を狭めるように容器部Ｂｘ２の内壁面に沿って摺動する。このとき、仕切り部Ｐｄ２に連結部Ｖｈ２を介して連結されている弁体部Ｖｂ２が、液吸い戻し領域ＡＳ２の容積が縮小するように弾性変形する。これにより、液押し出し動作が行われ得る。
また、ここで、例えば、弁体部Ｖｂ２は、弾性変形を行わず、弁設置孔Ｈｖ２に対して摺動することで、液吸い戻し領域ＡＳ２の容積を変更（拡大および縮小）することができるように動作する構成が採用されてもよい。
＜１−２−３−６．発動部＞
発動部５３は、吐出バルブ５１を動作させる駆動力を該吐出バルブ５１に付与するとともに、吸い戻しバルブ５２を動作させる駆動力を該吸い戻しバルブ５２に付与することができる。
図２の例では、発動部５３は、電磁弁５３ａと、スピードコントローラ５３ｂと、を有している。電磁弁５３ａには、例えば、第１配管部分Ｐ２ａが接続されており、気体供給部６から電磁弁５３ａに制御ガスＧｓ１が供給される。電磁弁５３ａには、外部空間への制御ガスＧｓ１の排出（排気）を行うための第５配管部分Ｐ２ｅが接続されている。電磁弁５３ａとスピードコントローラ５３ｂとが第２配管部分Ｐ２ｂによって接続されている。また、第２配管部分Ｐ２ｂは、該第２配管部分Ｐ２ｂから分岐されている第３配管部分Ｐ２ｃを介して吐出バルブ５１に接続されている。また、スピードコントローラ５３ｂは、第４配管部分Ｐ２ｄを介して吸い戻しバルブ５２に接続されている。
電磁弁５３ａは、例えば、制御部９からの信号に応答して、気体供給部６から第１配管部分Ｐ２ａを介して供給される制御ガスＧｓ１を通過させることができる。このとき、例えば、第２配管部分Ｐ２ｂおよび第３配管部分Ｐ２ｃを介して吐出バルブ５１に制御ガスＧｓ１が供給されるとともに、第２配管部分Ｐ２ｂとスピードコントローラ５３ｂと第４配管部分Ｐ２ｄとを介して吸い戻しバルブ５２に制御ガスＧｓ１が供給される。また、電磁弁５３ａは、例えば、制御部９からの信号に応答して、第５配管部分Ｐ２ｅに向けて制御ガスＧｓ１を通過させることができる。このため、電磁弁５３ａは、例えば、制御部９からのトリガ信号に応答して、気体供給部６から第１配管部分Ｐ２ａを介して供給される制御ガスＧｓ１を通過させる状態（ガス供給状態ともいう）と、第５配管部分Ｐ２ｅに向けて制御ガスＧｓ１を排出する状態（ガス排出状態ともいう）と、の間で状態が切り替えられる。
スピードコントローラ５３ｂは、例えば、流量制御弁としての絞り弁と、逆止め弁とが並列に配置された構造を有している。スピードコントローラ５３ｂでは、例えば、流量制御弁の絞り度合い（開度ともいう）によって、吸い戻しバルブ５２から電磁弁５３ａに向けた制御ガスＧｓ１の排出速度の制御（メータアウト制御とも言う）が行われる。スピードコントローラ５３ｂでは、流量制御弁の開度は、例えば、制御部９（図２の例では第２制御部９２）からの信号に応じて調整され得る。
上記構成を有する発動部５３は、例えば、制御部９によるトリガ信号の出力に応答して、吐出バルブ５１において液供給経路ＰＡ１を開放する動作（開放動作ともいう）と、吸い戻しバルブ５２による液押し出し動作と、を開始させることができる。具体的には、例えば、制御部９からの第１トリガ信号に応答して、電磁弁５３ａがガス供給状態となる。このとき、気体供給部６から第１配管部分Ｐ２ａを介して供給される制御ガスＧｓ１が、吐出バルブ５１に供給されるとともに、スピードコントローラ５３ｂを介して吸い戻しバルブ５２に供給される。
具体的には、例えば、発動部５３は、駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給によって仕切り部Ｐｄ１を動作させることで、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｖｂ１を動作させる。また、例えば、発動部５３は、駆動機構ＤＲ２の第１領域Ａａ２への制御ガスＧｓ１の供給によって仕切り部Ｐｄ２を動作させることで、連結部Ｖｈ２を介して液吸い戻し領域ＡＳ２の容積が縮小するように弁体部Ｖｂ２を動作させる。
これにより、例えば、吐出バルブ５１は、駆動機構ＤＲ１によって、液供給経路ＰＡ１の開放動作を開始するとともに、吸い戻しバルブ５２は、駆動機構ＤＲ２によって、液押し出し動作を開始する。ここで、例えば、スピードコントローラ５３ｂは、メータアウト制御を行うものであるため、吐出バルブ５１への制御ガスＧｓ１の供給による吐出バルブ５１の開放動作と、吸い戻しバルブ５２への制御ガスＧｓ１の供給による液押し出し動作と、が比較的短時間の間に並行して実行される。
また、例えば、発動部５３は、制御部９によるトリガ信号の出力に応答して、吐出バルブ５１において液供給経路ＰＡ１を閉鎖する動作（閉鎖動作ともいう）と、吸い戻しバルブ５２による液吸い戻し動作と、を開始させることができる。具体的には、例えば、制御部９からの第２トリガ信号に応答して、電磁弁５３ａがガス排出状態となる。このとき、吐出バルブ５１から第３配管部分Ｐ２ｃと第２配管部分Ｐ２ｂと第５配管部分Ｐ２ｅとを介して制御ガスＧｓ１が排出される。また、例えば、吸い戻しバルブ５２から第４配管部分Ｐ２ｄとスピードコントローラ５３ｂと第２配管部分Ｐ２ｂと第５配管部分Ｐ２ｅとを介して制御ガスＧｓ１が排出される。
具体的には、例えば、発動部５３は、駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出によって仕切り部Ｐｄ１を動作させることで、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｖｂ１を動作させる。また、例えば、発動部５３は、駆動機構ＤＲ２の第１領域Ａａ２から制御ガスＧｓ１を排出させて仕切り部Ｐｄ２を動作させることで、連結部Ｖｈ２を介して液吸い出し領域ＡＳ２の容積が拡大するように弁体部Ｖｂ２を動作させる。
これにより、例えば、吐出バルブ５１は、駆動機構ＤＲ１によって、液供給経路ＰＡ１の閉鎖動作を開始するとともに、吸い戻しバルブ５２は、駆動機構ＤＲ２によって、液吸い戻し動作を開始する。ここで、例えば、スピードコントローラ５３ｂは、メータアウト制御を行うことができるため、吐出バルブ５１からの制御ガスＧｓ１の排出による吐出バルブ５１の閉鎖動作よりも、吸い戻しバルブ５２からの制御ガスＧｓ１の排出による液吸い戻し動作の方が、比較的ゆっくりと進行する。その結果、例えば、制御部９から第２トリガ信号が出力されるタイミングを基準として、閉鎖動作が比較的速やかに完了し、その後、若干遅れて液吸い戻し動作が完了する。
＜１−２−３−７．検知部＞
検知部５５は、吸い戻しバルブ５２の動作に係る特定状態を検知することができる。ここで、特定状態として、例えば、吸い戻しバルブ５２における駆動機構ＤＲ２の第１領域Ａａ２の気圧が基準の圧力（基準圧ともいう）に到達した状態（基準圧到達状態ともいう）が採用される。図２の例では、検知部５５として、駆動機構ＤＲ２の第１領域Ａａ２に接続された第４配管部分Ｐ２ｄにおける制御ガスＧｓ１の圧力を計測可能な圧力計が採用されている。この圧力計で計測される計測結果を示す信号は、例えば、第２制御部９２に出力される。
ここで、吐出バルブ５１の閉鎖動作が行われる際には、吸い戻しバルブ５２では、スピードコントローラ５３ｂによるメータアウト制御によって、駆動機構ＤＲ２の第１領域Ａａ２から制御ガスＧｓ１がある程度の時間（例えば、１秒間程度）において排出される。これにより、吐出バルブ５１によって配管部Ｐ１のうちの第２配管部分Ｐ１ｂからノズルＮｚ１にかけた領域に対する処理液Ｌｑ１の供給が完全に停止された後に、吸い戻しバルブ５２による液吸い戻し動作が行われ得る。また、このとき、駆動機構ＤＲ２では、第１領域Ａａ２から制御ガスＧｓ１が排出されるにしたがって、第１領域Ａａ２における制御ガスＧｓ１の圧力が低下し、吸い戻しバルブ５２による液吸い戻し動作が進行する。ここで、第１領域Ａａ２の制御ガスＧｓ１の圧力の変化は、検知部５５によって第４配管部分Ｐ２ｄにおける制御ガスＧｓ１の圧力を計測することで検知され得る。
ここでは、例えば、検知部５５において、制御ガスＧｓ１の圧力が基準圧まで低下したタイミングを、吸い戻しバルブ５２による液吸い戻し動作が完了あるいはある程度進行したタイミングとみなすことができる。このとき、制御部９から第２トリガ信号が出力された第１タイミングから、検知部５５において基準圧が検知された第２タイミングに至るまでの時間に基づいて、液吸い戻し動作の速度が認識され得る。
検知部５５では、例えば、吸い戻しバルブ５２の第１領域Ａａ２における制御ガスＧｓ１の圧力が時間的に連続的に計測される。そして、検知部５５では、例えば、計測結果としての全ての圧力を示す信号が即時に第２制御部９２に出力され続けてもよいし、計測結果としての圧力が基準圧に到達したことに応答して特定の信号を第２制御部９２に出力してもよい。
＜１−２−４．制御部＞
制御部９は、処理ユニット１００の動作を統括的に制御することができる。制御部９は、基板処理装置１の全体の制御を行う第１制御部９１と、各処理ユニット１００のスピードコントローラ５３ｂの制御用に設けられた第２制御部９２と、を有している。
図５は、第１制御部９１および第２制御部９２の機能的な構成の一例を示すブロック図である。
図５で示されるように、第１制御部９１は、例えば、演算処理部９１ａと、メモリ９１ｂと、記憶部９１ｃと、を含む。演算処理部９１ａは、プロセッサーとして働くことができる。演算処理部９１ａとしては、例えば、中央演算部（ＣＰＵ）等の電子回路が採用される。メモリ９１ｂは、情報を一時的に記憶することができる。メモリ９１ｂとしては、例えば、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）等が採用される。記憶部９１ｃは、プログラムＰｇ１および各種のデータＤ１等を記憶することができる。記憶部９１ｃとしては、例えば、フラッシュメモリあるいはハードディスク等の記憶媒体が採用される。第１制御部９１では、例えば、記憶部９１ｃに記憶されているプログラムＰｇ１が演算処理部９１ａに読み込まれて実行されることで、基板処理装置１における各種基板処理および各種動作が統括的に制御される。図２の例では、第１制御部９１には、電磁弁５３ａが制御対象として接続されているとともに、第２制御部９２が信号の送受信が可能な状態で接続されている。
また、第２制御部９２は、例えば、第１制御部９１と同様に、演算処理部９２ａと、メモリ９２ｂと、記憶部９２ｃと、を含む。演算処理部９２ａは、プロセッサーとして働くことができる。演算処理部９２ａとしては、例えば、中央演算部（ＣＰＵ）等の電子回路が採用される。メモリ９２ｂは、情報を一時的に記憶することができる。メモリ９２ｂとしては、例えば、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）等が採用される。記憶部９２ｃは、プログラムＰｇ２および各種のデータＤ２等を記憶することができる。記憶部９２ｃとしては、例えば、フラッシュメモリあるいはハードディスク等の記憶媒体が採用される。第２制御部９２では、例えば、記憶部９２ｃに記憶されているプログラムＰｇ２が演算処理部９２ａに読み込まれて実行されることで、処理ユニット１００の処理液供給系５における各種動作が制御される。図２の例では、第２制御部９２には、スピードコントローラ５３ｂが制御対象として接続されているとともに、検知部５５および第１制御部９１に対して信号の送受信が可能な状態で接続されている。なお、第２制御部９２の各種機能は、例えば、専用の電子回路で実現されてもよい。
制御部９は、例えば、各種のトリガ信号を出力することで発動部５３によって吐出バルブ５１および吸い戻しバルブ５２を動作させることができる。例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ａに第１トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ａがガス供給状態となり、吐出バルブ５１における開放動作、および吸い戻しバルブ５２における液押し出し動作が行われる。このとき、例えば、第１トリガ信号は、第１制御部９１から電磁弁５３ａとともに第２制御部９２にも出力される。また、例えば、第１制御部９１から第２トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ａがガス排出状態となり、吐出バルブ５１における閉鎖動作、および吸い戻しバルブ５２における液吸い戻し動作が行われる。このとき、例えば、第２トリガ信号は、第１制御部９１から電磁弁５３ａとともに第２制御部９２にも出力される。ここでは、例えば、制御部９によって、第２トリガ信号が出力されることで、発動部５３によって吸い戻しバルブ５２の第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出が開始される。
また、制御部９は、例えば、第２トリガ信号を出力した第１タイミングから検知部５５が特定状態としての基準圧に到達した状態を検知した第２タイミングまでの吸い戻しバルブ５２の実際の動作時間（実動作時間ともいう）Ｔ１と、予め設定された基準の動作時間（基準動作時間ともいう）Ｔ０と、の関係に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定を変更することができる。
ここで、例えば、第２制御部９２では、第１制御部９１から第２トリガ信号が入力されることで、第１タイミングが認識される。また、特定状態としては、例えば、検知部５５において計測される吸い戻しバルブ５２の第１領域Ａａ２における制御ガスＧｓ１の圧力が基準圧に到達した状態（基準圧到達状態）が採用される。この場合、例えば、検知部５５が、計測結果としての全ての圧力を示す信号を即時に第２制御部９２に対して出力し続ける場合には、第２制御部９２において、計測結果としての圧力が基準圧に到達したタイミングが、第２タイミングとして認識される。また、例えば、検知部５５が、計測結果としての圧力が基準圧に到達したことに応答して特定の信号を第２制御部９２に出力する場合には、第２制御部９２において、該特定の信号が受信されたタイミングが、第２タイミングとして認識される。これにより、例えば、第２制御部９２では、第１タイミングから第２タイミングに至るまでの吸い戻しバルブ５２の実動作時間Ｔ１が認識される。ここでは、実動作時間Ｔ１は、例えば、第１タイミングが発せられた時刻情報と、第２タイミングが認識された時刻情報と、に基づいて算出される。
また、ここで、基準動作時間Ｔ０は、例えば、基板処理装置１における単位時間当たりの処理数（処理効率ともいう）の向上と、液吸い戻し動作の不良の抑制と、がバランス良く達成される時間である。基準動作時間Ｔ０は、例えば、実験あるいはシミュレーションの結果等に基づいて予め設定され得る。該基準動作時間Ｔ０を示すデータは、例えば、予め記憶部９２ｃに記憶される。
また、ここで、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定としては、例えば、発動部５３による第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出速度を調整する設定が採用される。制御ガスＧｓ１の排出速度は、例えば、単位時間当たりに第１領域Ａａ２から排出される制御ガスＧｓ１の量（ガス排出量ともいう）で表される。この場合、制御ガスＧｓ１の排出速度を調整する設定としては、例えば、スピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の絞り度合い（開度）が採用される。流量制御弁がニードル弁である場合には、例えば、第２制御部９２の制御に応じて動作するステッピングモータ等のモータによってニードルの位置が調整されることで、流量制御弁における絞り度合いが変更される。流量制御弁における絞り度合い（開度）は、例えば、モータの位置を示すパルス数等によって示される。
ここで、例えば、ダイヤフラム型の吸い戻しバルブ５２では、液吸い戻し動作時における吸い戻しバルブ５２の動作時間Ｔは、吸い戻しバルブ５２からの制御ガスＧｓ１の排出速度（単位時間当たりのガス排出量）に比例する。このため、例えば、動作時間Ｔは、吸い戻しバルブ５２において処理液Ｌｑ１が吸い戻される量（サックバック量）が第１領域Ａａ２から排出される制御ガスＧｓ１の排出速度（単位時間当たりのガス排出量）で除されることで事前に算出され得る。また、吸い戻しバルブ５２の第１領域Ａａ２から排出される制御ガスＧｓ１の圧力が一定であれば、例えば、第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出速度（単位時間当たりのガス排出量）と、スピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の流路の断面積（開度）と、が比例関係を示す。このため、実動作時間Ｔ１と目標とする基準動作時間Ｔ０とのズレ量から、スピードコントローラ５３ｂの流量制御弁における絞り度合い（モータの位置）の補正すべき量が算出され得る。このとき、例えば、スピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の開度の調整をステッピングモータ等で行う場合には、モータのパルス数の制御によって、スピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の開度が変更され得る。したがって、例えば、制御部９から第２トリガ信号が出力される第１タイミングから特定状態が実現される第２タイミングまでの時間（動作時間）Ｔと、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定値と、の間における比例または反比例の関係を示す情報を、事前に準備して記憶部９２ｃ等に記憶しておくことができる。そして、例えば、制御部９では、比例または反比例の関係における、実測された実動作時間Ｔ１と基準動作時間Ｔ０との差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定の変更量が算出され得る。
ただし、実際には、初期設定において設定された吸い戻しバルブ５２の動作速度のズレを補正すべき場面では、動作速度のズレの要因に、吸い戻しバルブ５２の第１領域Ａａ２から排出される制御ガスＧｓ１の圧力の変動が含まれる場合がある。このため、例えば、第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出速度（単位時間当たりのガス排出量）と、スピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の流路の断面積（開度）と、が完全には比例関係にならない場合もある。
そこで、例えば、吸い戻しバルブ５２による吸い戻し動作が行われる度に、スピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の開度が変更されることで、徐々に基準動作時間Ｔ０と実動作時間Ｔ１とのズレ量が低減されてもよい。このとき、例えば、実動作時間Ｔ１と基準動作時間Ｔ０との関係に応じた、流量制御弁における絞り度合いの変更については、例えば、基準動作時間Ｔ０よりも実動作時間Ｔ１が短ければ、流量制御弁の絞り度合いを大きくし、基準動作時間Ｔ０よりも実動作時間Ｔ１が長ければ、流量制御弁の絞り度合いを低減する手法が採用される。すなわち、制御部９では、例えば、基準動作時間Ｔ０よりも実動作時間Ｔ１が短ければ、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度が小さくなるような、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定の変更量が算出され、基準動作時間Ｔ０よりも実動作時間Ｔ１が長ければ、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度が大きくなるような設定の変更量が算出さてもよい。
また、例えば、制御部９から第２トリガ信号が出力される第１タイミングから特定状態が実現される第２タイミングまでの時間（動作時間）Ｔと、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定値と、の間における基準の関係を示す情報（基準関係情報ともいう）が、予め準備されてもよい。基準関係情報を示すデータは、例えば、実験あるいはシミュレーションによって予め求められ、記憶部９２ｃに記憶される。この場合、例えば、制御部９では、基準関係情報の基準の関係における、実測された実動作時間Ｔ１と基準動作時間Ｔ０との差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定が変更されてもよい。但し、このとき、基準の関係のうち、第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出速度とスピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の開度とがある程度の比例関係を示す範囲での基準の関係を用いて、設定値（モータの位置）の補正すべき量が算出されてもよい。
図６は、制御対象としての吸い戻しバルブ５２の動作時間とスピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の開度を変更するモータの位置との基準の関係の一例を示すグラフである。図７は、制御対象としての吸い戻しバルブ５２の動作時間とスピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の開度を変更するモータの位置との基準の関係の一例を示すテーブルである。
図６および図７の例では、動作時間Ｔとモータの位置とが、動作時間Ｔに係る値域Ｒｃｃにおいて、ある程度の比例関係を示す。ここでは、例えば、基準動作時間Ｔ０が１秒間に設定され、値域Ｒｃｃが０．４秒間から１．６秒間の範囲に設定される。ここで、例えば、実測された実動作時間Ｔ１が０．５秒間であれば、実動作時間Ｔ１が短すぎて、液吸い戻し動作の速度が速すぎる。このため、例えば、基準動作時間Ｔ０としての１秒間に対応するモータの位置（１００２パルス）と、実測された実動作時間Ｔ１としての０．５秒間に対応するモータの位置（１９９９パルス）との差分（−９９７＝１００２−１９９９）が、補正すべき開度に対応するモータの位置の変更量として算出され得る。このとき、例えば、第２制御部９２によって、スピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の開度を変更するモータの位置が、９９７パルス減少するように変更される。これにより、例えば、次回の吸い戻しバルブ５２による液吸い戻し動作に係る実動作時間Ｔ１が、基準動作時間Ｔ０に近づけられ得る。
このようにして、例えば、吸い戻しバルブ５２についての動作時間Ｔと動作速度に係る設定値との間における基準の関係と、実測された吸い戻しバルブ５２の実動作時間Ｔ１とに基づいて、吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定が変更されれば、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１の吐出における不具合の発生を容易かつ簡単に抑制される。
＜１−３．処理ユニットの制御フロー＞
図８は、基板処理装置１における処理ユニット１００の制御フローの一例を示す流れ図である。ここでは、例えば、制御部９においてプログラムＰｇ１，Ｐｇ２が実行されることで制御フローが実現される。
まず、図８のステップＳｐ１では、インデクサロボットＩＲおよびセンターロボットＣＲによって、基板Ｗが処理室２内に搬入される。具体的には、基板Ｗは、一主面を上方に向けた状態で保持部３に受け渡される。このとき、基板Ｗは、例えば、保持部３の上面３ｕｆ上に保持される。
次に、ステップＳｐ２では、回転機構４によって、基板Ｗを水平に保持している保持部３を回転させ始める。これにより、例えば、保持部３上に保持されている基板Ｗが、回転軸Ａｘ１を中心として回転し始める。
次に、ステップＳｐ３では、第１制御部９１によって、第１トリガ信号が出力される。このとき、第１トリガ信号は、例えば、発動部５３の電磁弁５３ａと第２制御部９２とに出力される。
次に、ステップＳｐ４では、発動部５３によって、第１トリガ信号の入力に応答して、吐出バルブ５１における開放動作が開始される。このとき、例えば、電磁弁５３ａがガス供給状態となり、吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に制御ガスＧｓ１が導入され始めることで、吐出バルブ５１における開放動作が開始される。これにより、液供給部７からノズルＮｚ１に処理液Ｌｑ１が送給され始めることで、ノズルＮｚ１から基板Ｗの上面Ｕｓ１上に処理液Ｌｑ１が供給され始める。また、このとき、吸い戻しバルブ５２の駆動機構ＤＲ２の第１領域Ａａ２にも制御ガスＧｓ１が導入され始めることで、吸い戻しバルブ５２による液押し出し動作が開始される。
次に、ステップＳｐ５では、第１制御部９１によって、第２トリガ信号が出力される。このとき、第２トリガ信号は、例えば、発動部５３の電磁弁５３ａと第２制御部９２とに出力される。その後、ステップＳｐ６およびステップＳｐ１１に進み、ステップＳｐ６からステップＳｐ９の処理と、ステップＳｐ１０からステップＳｐ１３の処理と、が並行して実行される。
ステップＳｐ６では、ステップＳｐ５における第２トリガ信号の出力に応答して、発動部５３によって、吐出バルブ５１による閉鎖動作が開始される。ここでは、例えば、電磁弁５３ａがガス排出状態となり、吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から制御ガスＧｓ１が排出され始めることで、仕切り部Ｐｄ２が動作し始める。このとき、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｄｐ１が動作され始める。これにより、吐出バルブ５１による閉鎖動作が開始される。つまり、液供給部７からノズルＮｚ１への処理液Ｌｑ１の送給が停止され始める。その後、ノズルＮｚ１から基板Ｗの上面Ｕｓ１上に向けた処理液Ｌｑ１の供給が停止される。
ステップＳｐ７では、ステップＳｐ５における第２トリガ信号の出力に応答して、発動部５３によって、吸い戻しバルブ５２が動作されることで、液吸い戻し動作が開始される。つまり、配管部Ｐ１およびノズルＮｚ１における処理液Ｌｑ１の存在状態が変化され始める。ここでは、例えば、電磁弁５３ａがガス排出状態となり、吸い戻しバルブ５２の駆動機構ＤＲ２の第１領域Ａａ２から制御ガスＧｓ１が排出され始めることで、仕切り部Ｐｄ２が動作し始める。このとき、例えば、仕切り部Ｐｄ２と弁体部Ｄｐ２とが連結部Ｖｈ２によって連結されているため、領域ＡＳ２の容積が拡大するように弁体部Ｄｐ２が動作され始める。これにより、吸い戻しバルブ５２による液吸い戻し動作が開始される。
ステップＳｐ８では、回転機構４によって、基板Ｗを水平に保持している保持部３の回転が停止される。
ステップＳｐ９では、インデクサロボットＩＲおよびセンターロボットＣＲによって、基板Ｗが処理室２から搬出される。
ステップＳｐ１０では、検知部５５によって、吸い戻しバルブ５２の動作に係る特定状態が検知される。ここでは、特定状態として、例えば、吸い戻しバルブ５２の駆動機構ＤＲ２の第１領域Ａａ２における制御ガスＧｓ１の圧力が基準圧に到達した状態（基準圧到達状態ともいう）が検知される。このとき、例えば、検知部５５による検知結果が、第２制御部９２に出力される。
ステップＳｐ１１では、第２制御部９２によって、ステップＳｐ５において第２トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｐ１０において特定状態（例えば、基準圧到達状態）が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１が認識される。
ステップＳｐ１２では、第２制御部９２によって、ステップＳｐ１１で認識された実動作時間Ｔ１と、予め設定された基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定の変更量が算出される。吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定としては、例えば、発動部５３による第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出速度に係る設定が採用される。
ステップＳｐ１３では、第２制御部９２によって、ステップＳｐ１２で算出された変更量に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定が変更される。このとき、例えば、発動部５３による第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定が変更される。
つまり、ステップＳｐ１１からステップＳｐ１３では、第２制御部９２によって、ステップＳｐ５において第２トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｐ１０において特定状態が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１と、予め設定された基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定が変更される。ここでは、例えば、第２トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｐ１０で基準圧到達状態が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１と、基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、発動部５３による第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定が変更される。ここで、第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定として、例えば、スピードコントローラ５３ｂの流量制御弁の開度あるいは該開度に対応するニードル弁の位置の設定が採用される。
また、ステップＳｐ１１からステップＳｐ１３では、例えば、第２制御部９２によって、第１制御部９１から第２トリガ信号が出力される第１タイミングから特定状態が実現される第２タイミングまでの時間（動作時間）Ｔと、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度に係る設定値と、の間における基準の関係を示す情報（基準関係情報ともいう）における、実測された実動作時間Ｔ１と基準動作時間Ｔ０との差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度に係る設定について、変更量が算出され、該変更量に応じた変更がなされてもよい。なお、第２制御部９２では、例えば、動作時間Ｔと、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定値と、の間の比例または反比例の関係における、実動作時間Ｔ１と基準動作時間Ｔ０との差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度に係る設定の変更量が算出されてもよい。また、第２制御部９２では、例えば、基準動作時間Ｔ０よりも実動作時間Ｔ１が短ければ、吸い戻しバルブ５２の動作の速度が小さくなるような、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定の変更量が算出され、基準動作時間Ｔ０よりも実動作時間Ｔ１が長ければ、吸い戻しバルブ５２の動作の速度が大きくなるような設定の変更量が算出さてもよい。
このようにして、１枚の基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１を用いた処理が完了されるとともに、次回の吸い戻しバルブ５２による液吸い戻し動作に係る実動作時間Ｔ１が、基準動作時間Ｔ０に近づけられ得る。なお、実動作時間Ｔ１が基準動作時間Ｔ０に近づけられる処理は、例えば、複数枚の基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１を用いた処理が完了される毎に行われてもよいし、特定の時間毎に行われてもよいし、ユーザーの指定に応じて行われてもよいし、ランダムなタイミングで行われてもよいし、実動作時間Ｔ１と基準動作時間Ｔ０との差が予め設定された許容範囲から外れた場合に行われてもよい。
＜１−４．第１実施形態のまとめ＞
以上のように、第１実施形態に係る基板処理装置１では、例えば、ノズルＮｚ１につながっている配管部Ｐ１の途中に設けられた吸い戻しバルブ５２を動作させる第２トリガ信号が制御部９によって出力された第１タイミングから、配管部Ｐ１内における吸い戻しバルブ５２の動作に係る特定状態が検知された第２タイミングまでの吸い戻しバルブ５２の実動作時間Ｔ１と、基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定が変更される。これにより、例えば、吸い戻しバルブ５２の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１の先端における処理液Ｌｑ１の吸い戻し量を監視するカメラシステム等がなくても、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１の吐出における不具合の発生が比較的簡易な構成で抑制される。具体的には、例えば、吸い戻しバルブ５２の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１のボタ落ちの発生が比較的簡易な構成で抑制される。
＜２．他の実施形態＞
本発明は上述の第１実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
＜２−１．第２実施形態＞
上記第１実施形態において、例えば、実動作時間Ｔ１が開始する第１タイミングとして、吐出バルブ５１の動作に係る第１特定状態が検知されたタイミングが採用されてもよい。
図９は、第２実施形態に係る処理ユニット１００の一構成例を模式的に示す図である。図９で示されるように、第２実施形態に係る処理ユニット１００としては、例えば、上記第１実施形態に係る処理ユニット１００がベースとされて、処理液供給系５が、処理液供給系５Ａに置換されたものが採用される。ここで、処理液供給系５Ａとしては、例えば、上記第１実施形態に係る処理液供給系５がベースとされて、第１検知部５６Ａが追加されるとともに、検知部５５が、該検知部５５と同様な機能を有する第２検知部５５Ａに置換されたものが採用される。
第１検知部５６Ａは、吐出バルブ５１の動作に係る第１特定状態を検知することができる。第１特定状態としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１が完全に閉鎖されている状態、あるいは吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１がある程度閉鎖されている状態、が採用される。ここで、第１検知部５６Ａは、例えば、第１特定状態の検知に応答して、特定の信号（閉信号ともいう）を第２制御部９２に出力してもよい。
図１０は、第１検知部５６Ａの一例を模式的に示す断面図である。第１検知部５６Ａとしては、例えば、吐出バルブ５１に適用されるエアオペレートバルブＶａｏにおける液供給経路ＰＡ１を形成する液通過孔Ｌｈ１の開放度合い（開度）を検知可能なセンサが採用される。図１０の例では、第１検知部５６Ａとして、発光部Ｅｍ１と、受光部Ｄｔ１と、を有するファイバセンサ等が採用されている。該ファイバセンサでは、該発光部Ｅｍ１から出射される光を受光部Ｄｔ１が検知することが可能である。また、ここでは、例えば、仕切り部Ｐｄ１の上面側に立設されたピンＰｎ１が、容器部Ｂｘ１を貫通する挿通孔Ｈｈ１Ａに挿通されている。該ピンＰｎ１は、例えば、仕切り部Ｐｄ１の容器部Ｂｘ１の内壁部に対する摺動に伴って、該ピンＰｎ１のうちの容器部Ｂｘ１から外部に突出している部分の長さを変化させる。
この場合、例えば、吐出バルブ５１が開放動作を行う際には、駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に制御ガスＧｓ１が供給され、仕切り部Ｐｄ１が、弾性体Ｅｂ１の弾性力に抗して容器部Ｂｘ１の内壁部に対して摺動する。このとき、例えば、ピンＰｎ１の一部が、発光部Ｅｍ１と、受光部Ｄｔ１と、の間の領域に浸入する。これにより、例えば、第１検知部５６Ａによって、吐出バルブ５１が液供給経路ＰＡ１を開放している状態（開放状態ともいう）が検知される。また、例えば、吐出バルブ５１が閉鎖動作を行う際には、駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から制御ガスＧｓ１が排出され、仕切り部Ｐｄ１が、弾性体Ｅｂ１の弾性力によって容器部Ｂｘ１の内壁部に対して摺動する。このとき、例えば、ピンＰｎ１の一部が、発光部Ｅｍ１と、受光部Ｄｔ１と、の間の領域から退避する。これにより、例えば、第１検知部５６Ａによって、吐出バルブ５１が液供給経路ＰＡ１を閉鎖している状態（閉鎖状態ともいう）が検知される。ここでは、吐出バルブ５１の開放状態は、例えば、吐出バルブ５１が、液供給経路ＰＡ１を完全に開放している状態でなく、液供給経路ＰＡ１をある程度開放している状態であってもよい。また、ここでは、吐出バルブ５１の閉鎖状態は、例えば、吐出バルブ５１が、液供給経路ＰＡ１を完全に閉鎖している状態でなく、液供給経路ＰＡ１をある程度閉鎖している状態であってもよい。
また、例えば、制御部９は、第１検知部５６Ａが第１特定状態を検知した第１タイミングから第２検知部５５Ａが第２特定状態を検知した第２タイミングまでの時間を、実動作時間Ｔ１として認識してもよい。このとき、例えば、実動作時間Ｔ１と、予め設定された基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度に係る設定が変更されてもよい。第２特定状態としては、例えば、上記第１実施形態において、検知部５５によって検知される特定状態と同様な状態が採用される。より具体的には、第２特定状態として、例えば、吸い戻しバルブ５２の第１領域Ａａ２の制御ガスＧｓ１の気圧が基準圧に到達した状態（基準圧到達状態ともいう）が含まれる。また、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度に係る設定としては、例えば、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の第１領域Ａａ２からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定が採用される。これにより、例えば、吸い戻しバルブ５２の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１のボタ落ちの発生が比較的簡易な構成で抑制される。
上記構成が採用される場合にも、例えば、上記第１実施形態と同様に、例えば、第１特定状態が実現される第１タイミングから第２特定状態が実現される第２タイミングまでの時間と、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度に係る設定値と、の間における基準の関係を示す情報（基準関係情報）が、予め準備されてもよい。基準関係情報を示すデータは、例えば、記憶部９２ｃに記憶される。この場合、例えば、制御部９では、基準関係情報の基準の関係における、実測された実動作時間Ｔ１と基準動作時間Ｔ０との差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定について、変更量が算出されて、該変更量に応じた変更がなされてもよい。これにより、例えば、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１の吐出における不具合の発生が容易かつ簡単に抑制される。なお、制御部９では、例えば、第１特定状態が実現される第１タイミングから第２特定状態が実現される第２タイミングまでの時間と、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度に係る設定値と、の間の比例または反比例の関係における、実動作時間Ｔ１と基準動作時間Ｔ０との差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作の速度に係る設定の変更量が算出されてもよい。また、制御部９では、例えば、基準動作時間Ｔ０よりも実動作時間Ｔ１が短ければ、吸い戻しバルブ５２の動作の速度が小さくなるような、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定の変更量が算出され、基準動作時間Ｔ０よりも実動作時間Ｔ１が長ければ、吸い戻しバルブ５２の動作の速度が大きくなるような、発動部５３による吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定の変更量が算出さてもよい。
図１１は、第２実施形態に係る基板処理装置１における処理ユニット１００の制御フローの一例を示す流れ図である。
本制御フローは、図８で示された制御フローのうち、ステップＳｐ７ＡとステップＳｐ８との間にステップＳｐ７Ａが挿入され、ステップＳｐ１１がステップＳｐ１１Ａに置換されたものである。ここで、ステップＳｐ７Ａでは、例えば、第１検知部５６Ａによって、吐出バルブ５１の動作に係る第１特定状態が検知される。このとき、例えば、第１検知部５６Ａでは、特定の信号としての閉信号が第２制御部９２に対して出力される。これにより、例えば、第２制御部９２において第１タイミングが認識される。また、例えば、ステップＳｐ１１Ａでは、第２制御部９２によって、ステップＳｐ７Ａにおいて第１検知部５６Ａが第１特定状態を検知した第１タイミングからステップＳｐ１０において第２検知部５５Ａが第２特定状態を検知した第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１が認識される。
上述した第２実施形態に係る基板処理装置１では、例えば、ノズルＮｚ１につながっている配管部Ｐ１の途中に設けられた処理液Ｌｑ１の液供給経路ＰＡ１を開閉する吐出バルブ５１の開度に係る第１特定状態が検知された第１タイミングから、吸い戻しバルブ５２の動作に係る第２特定状態が検知された第２タイミングまでの吸い戻しバルブ５２の実動作時間Ｔ１と、基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、吸い戻しバルブ５２の動作速度に係る設定が変更される。これにより、例えば、吸い戻しバルブ５２の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１の先端における処理液Ｌｑ１の吸い戻し量を監視するカメラシステム等がなくても、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１の吐出における不具合の発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。具体的には、例えば、吸い戻しバルブ５２の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１のボタ落ちの発生が比較的簡易な構成で抑制される。
なお、第２実施形態では、例えば、第１検知部５６Ａで検知される第１特定状態としては、配管部Ｐ１内における処理液Ｌｑ１の流速に係る状態であってもよい。より具体的には、第１特定状態としては、例えば、配管部Ｐ１のうちの吐出バルブ５１とノズルＮｚ１との間における処理液Ｌｑ１の流速に係る状態が採用されてもよい。例えば、第１検知部５６Ａとして、第２配管部分Ｐ１ｂにおける処理液Ｌｑ１の流速が特定の流速に到達したことを検知可能な流量計が採用されてもよい。
＜２−２．第３実施形態＞
上記各実施形態において、例えば、液吸い戻し動作として、ダイヤフラム方式のサックバックの代わりに、サイフォン方式のサックバックまたはコンバム方式のサックバックが採用されてもよい。サイフォン方式のサックバックおよびコンバム方式のサックバックは、ノズルＮｚ１から吐出される処理液Ｌｑ１を交換する際に、配管部Ｐ１のうちの吐出バルブ５１からノズルＮｚ１に至るまでの部分に存在している処理液Ｌｑ１を吸い戻して排出する液吸い戻し動作である。
図１２は、第３実施形態に係る処理ユニット１００の一構成例を模式的に示す図である。図１２で示されるように、第３実施形態に係る処理ユニット１００としては、例えば、第１実施形態に係る処理ユニット１００がベースとされて、処理液供給系５が、処理液供給系５Ｂに置換されたものが採用される。
処理液供給系５Ｂとしては、例えば、上記第１実施形態に係る処理液供給系５がベースとされて、主に、処理液用の配管部Ｐ１が配管部Ｐ１Ｂに変更され、ガス用の配管部Ｐ２が配管部Ｐ２Ｂに変更され、吸い戻しバルブ５２が吸い戻しバルブ５２Ｂに置換され、発動部５３が発動部５３Ｂに変更され、検知部５５が検知部５５Ｂに置換されたものが採用される。
処理液用の配管部Ｐ１Ｂとしては、例えば、上記第１実施形態に係る処理液用の配管部Ｐ１がベースとされて、吐出バルブ５１とノズルＮｚ１との間の特定部分（分岐部分ともいう）Ｐｂ１から分岐した配管部分（分岐配管部分ともいう）Ｐ１ｄが追加されたものが採用される。図１２の例では、分岐部分Ｐｂ１は、第２配管部分Ｐ１ｂと第３配管部分Ｐ１ｃとが接続される部分に位置している。また、分岐配管部分Ｐ１ｄには、例えば、分岐部分Ｐｂ１と吸い戻しバルブ５２Ｂとをつなぐ第１分岐配管部分Ｐ１ｄ１と、吸い戻しバルブ５２Ｂと処理ユニット１００の外部に位置する排液部とをつなぐ第２分岐配管部分Ｐ１ｄ２と、が含まれる。排液部には、例えば、処理液Ｌｑ１を貯留する槽またはタンクが設けられていればよい。なお、例えば、コンバム方式のサックバックが行われる構成であれば、排液部には、例えば、圧縮空気を利用して負圧を発生させて、強制的に処理液Ｌｑ１を吸引するための真空エジェクタなどが設けられる。
ガス用の配管部Ｐ２Ｂとしては、例えば、上記第１実施形態に係るガス用の配管部Ｐ２がベースとされて、第３配管部分Ｐ２ｃが、第３配管部分Ｐ２ｃＢに変更され、第６配管部分Ｐ２ｆおよび第７配管部分Ｐ２ｇが追加されたものが採用される。
吸い戻しバルブ５２Ｂは、分岐配管部分Ｐ１ｄの途中部分に設けられている。分岐配管部分Ｐ１ｄは、例えば、ノズルＮｚ１、および配管部Ｐ１のうちのノズルＮｚ１から吐出バルブ５１にかけた領域に存在している処理液Ｌｑ１を吸い戻す経路（液吸い戻し経路ともいう）ＰＢ１を形成する。吸い戻しバルブ５２Ｂは、分岐配管部分Ｐ１ｄの液吸い戻し経路ＰＢ１を開閉することができる。図１２の例では、吸い戻しバルブ５２Ｂとしては、図３で示されたエアオペレートバルブＶａｏが採用されている。この場合、吸い戻しバルブ５２Ｂでは、第１開口部Ｐｉ１に第１分岐配管部分Ｐ１ｄ１が接続され、第２開口部Ｐｏ１に第２分岐配管部分Ｐ１ｄ２が接続され、ガス通過孔Ｇｈ１にガス用の第４配管部分Ｐ２ｄが接続されている。
発動部５３Ｂとしては、例えば、上記第１実施形態に係る発動部５３がベースとされて、上記第１実施形態に係るスピードコントローラ５３ｂが、スピードコントローラ５３ｂＢに置換され、電磁弁５３ｃが追加されたものが採用される。スピードコントローラ５３ｂＢは、例えば、流量制御弁の絞り度合い（開度）によって、電磁弁５３ａから吸い戻しバルブ５２Ｂに向けた制御ガスＧｓ１の供給速度の制御（メータイン制御とも言う）を行うことができる。スピードコントローラ５３ｂＢでは、流量制御弁の開度は、例えば、制御部９（図１２の例では第２制御部９２）からの信号に応じて調整され得る。電磁弁５３ｃには、例えば、第６配管部分Ｐ２ｆが接続されており、気体供給部６から電磁弁５３ｃに制御ガスＧｓ１が供給される。また、電磁弁５３ｃには、外部空間への制御ガスＧｓ１の排出（排気）を行うための第７配管部分Ｐ２ｇが接続されている。さらに、電磁弁５３ｃと、吐出バルブ５１とが、第３配管部分Ｐ２ｃＢによってつながれている。具体的には、第３配管部分Ｐ２ｃＢは、吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１のガス通過孔Ｇｈ１に接続されている。
ここで、例えば、電磁弁５３ａは、制御部９からの第１トリガ信号に応答して、ガス供給状態となり、気体供給部６から第１配管部分Ｐ２ａを介して供給される制御ガスＧｓ１を、スピードコントローラ５３ｂＢおよび第４配管部分Ｐ２ｄを介して、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に供給することができる。また、電磁弁５３ａは、例えば、制御部９からの第２トリガ信号に応答して、ガス排出状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から、第４配管部分Ｐ２ｄ、スピードコントローラ５３ｂＢおよび第５配管部分Ｐ２ｅを介して、制御ガスＧｓ１を外部空間へ排出することができる。このため、発動部５３Ｂは、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給、および吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出により、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１において、仕切り部Ｐｄ１を動作させて、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｖｂ１を動作させることができる。これにより、吸い戻しバルブ５２Ｂによって、分岐配管部分Ｐ１ｄの液吸い戻し経路ＰＢ１が開閉され得る。
また、電磁弁５３ｃは、例えば、制御部９からの第１トリガ信号に応答して、気体供給部６から第６配管部分Ｐ２ｆを介して供給される制御ガスＧｓ１を通過させる状態（ガス供給状態）と、第７配管部分Ｐ２ｇに向けて制御ガスＧｓ１を排出する状態（ガス排出状態）と、の間で状態が切り替えられる。ここで、電磁弁５３ｃは、例えば、制御部９からの第１トリガ信号に応答して、ガス供給状態となることで、気体供給部６から第６配管部分Ｐ２ｆを介して供給される制御ガスＧｓ１を、吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に供給することができる。また、電磁弁５３ｃは、例えば、制御部９からの第２トリガ信号に応答して、ガス排出状態となることで、吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から、第３配管部分Ｐ２ｃＢおよび第７配管部分Ｐ２ｇを介して、制御ガスＧｓ１を外部空間へ排出することができる。
検知部５５Ｂは、例えば、上記第２実施形態に係る第１検知部５６Ａと同様な構成を有しており、吸い戻しバルブ５２Ｂの動作に係る特定状態を検知することができる。特定状態としては、例えば、吸い戻しバルブ５２Ｂによって液吸い戻し経路ＰＢ１が完全に開放されている状態、あるいは吸い戻しバルブ５２Ｂによって液吸い戻し経路ＰＢ１がある程度開放されている状態、などの液吸い戻し経路ＰＢ１の特定の開放度合い（開度）に係る状態（特定開度状態ともいう）が採用される。ここで、検知部５５Ｂは、例えば、特定状態の検知に応答して、特定の信号（閉信号ともいう）を第２制御部９２に出力してもよい。
上記構成を有する処理ユニット１００では、制御部９は、例えば、各種のトリガ信号を出力することで、発動部５３Ｂによって吐出バルブ５１および吸い戻しバルブ５２Ｂを動作させることができる。例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ａに第１トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ａがガス排出状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂにおける弁体部Ｖｂ１による液吸い戻し経路ＰＢ１を閉鎖する動作（閉鎖動作ともいう）が行われる。このとき、第１制御部９１から電磁弁５３ａとともに電磁弁５３ｃにも第１トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ｃがガス供給状態となり、吐出バルブ５１における液供給経路ＰＡ１の開放動作が行われる。このとき、例えば、第１トリガ信号は、第１制御部９１から第２制御部９２にも出力されてもよい。また、例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ａに第２トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ａがガス供給状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂにおける弁体部Ｖｂ１による液吸い戻し経路ＰＢ１を開放する動作（開放動作ともいう）が開始される。このとき、第１制御部９１から電磁弁５３ｃにも第２トリガ信号が出力されることで、吐出バルブ５１における液供給経路ＰＡ１の閉鎖動作が行われる。このとき、例えば、第２トリガ信号は、第１制御部９１から電磁弁５３ａ，５３ｃとともに第２制御部９２にも出力される。ここでは、例えば、制御部９によって、第２トリガ信号が出力されることで、発動部５３Ｂによって吸い戻しバルブ５２Ｂの第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給が開始される。
また、制御部９は、例えば、第２トリガ信号を出力した第１タイミングから、検知部５５Ｂが特定状態としての、吸い戻しバルブ５２Ｂにおける液吸い戻し経路ＰＢ１の特定の開放度合い（開度）を検知した第２タイミングまでの吸い戻しバルブ５２Ｂの実動作時間Ｔ１と、予め設定された基準動作時間Ｔ０と、の関係に応じて、発動部５３Ｂによる吸い戻しバルブ５２Ｂの動作速度に係る設定を変更することができる。
ここで、吸い戻しバルブ５２Ｂの動作速度としては、例えば、吸い戻しバルブ５２Ｂによって液吸い戻し経路ＰＢ１を開放する速度（開放速度ともいう）が採用される。また、発動部５３Ｂによる吸い戻しバルブ５２Ｂの開放速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｂによる吸い戻しバルブ５２Ｂの第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定が採用される。制御ガスＧｓ１の供給速度は、例えば、単位時間当たりに第１領域Ａａ２に供給される制御ガスＧｓ１の量（ガス供給量ともいう）で表される。この場合、制御ガスＧｓ１の供給速度を調整する設定としては、例えば、スピードコントローラ５３ｂＢの流量制御弁の絞り度合い（開度）が採用される。流量制御弁がニードル弁である場合には、例えば、第２制御部９２の制御に応じて動作するステッピングモータ等のモータによってニードルの位置が調整されることで、流量制御弁における絞り度合いが変更される。流量制御弁における絞り度合い（開度）は、例えば、モータの位置を示すパルス数等によって示される。
上記構成を有する第３実施形態に係る基板処理装置１における処理ユニット１００の制御フローは、図８で示された上記第１実施形態に係る基板処理装置１における処理ユニット１００の制御フローと同様なものとなる。
但し、ステップＳｐ３では、例えば、第１制御部９１によって出力される第１トリガ信号は、例えば、発動部５３の電磁弁５３ａ，５３ｃおよび第２制御部９２に対して出力される。
また、ステップＳｐ４では、例えば、発動部５３Ｂによって、第１トリガ信号の入力に応答して、吐出バルブ５１における開放動作が開始される。このとき、例えば、電磁弁５３ｃがガス供給状態となり、吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に制御ガスＧｓ１が導入され始めることで、吐出バルブ５１による液供給経路ＰＡ１の開放動作が開始される。これにより、液供給部７からノズルＮｚ１に処理液Ｌｑ１が送給され始めることで、ノズルＮｚ１から基板Ｗの上面Ｕｓ１上に、処理液Ｌｑ１が供給され始める。また、このとき、例えば、電磁弁５３ａがガス排出状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から制御ガスＧｓ１が排出されることで、吸い戻しバルブ５２Ｂによる液吸い戻し経路ＰＢ１の閉鎖動作が行われる。これにより、液吸い戻し動作が行われない状態に設定される。
また、ステップＳｐ５では、例えば、第１制御部９１によって、第２トリガ信号が出力される。このとき、例えば、発動部５３の電磁弁５３ａ，５３ｃおよび第２制御部９２に対して第２トリガ信号が出力される。
また、ステップＳｐ６では、例えば、ステップＳｐ５で出力された第２トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｂによって、吐出バルブ５１による閉鎖動作が開始される。ここでは、例えば、電磁弁５３ｃがガス排出状態となり、吐出バルブ５１において、駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から制御ガスＧｓ１が排出され始めて、仕切り部Ｐｄ１が動作し始めることで、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｄｐ１が動作され始める。これにより、吐出バルブ５１による閉鎖動作が開始される。
また、ステップＳｐ７では、例えば、ステップＳｐ５で出力された第２トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｂによって、吸い戻しバルブ５２に、液吸い戻し経路ＰＢ１を開放させ始めることで、液吸い戻し動作が開始される。つまり、配管部Ｐ１およびノズルＮｚ１における処理液Ｌｑ１の存在状態が変化され始める。ここでは、例えば、電磁弁５３ａがガス供給状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に制御ガスＧｓ１が供給されて、仕切り部Ｐｄ１が動作し始める。このとき、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｖｂ１が動作され始める。これにより、吸い戻しバルブ５２Ｂによる液吸い戻し動作が開始される。
また、ステップＳｐ１０では、例えば、検知部５５Ｂによって、吸い戻しバルブ５２Ｂの動作に係る特定状態が検知される。ここでは、該特定状態として、吸い戻しバルブ５２Ｂによって液吸い戻し経路ＰＢ１が完全に開放されている状態、あるいは吸い戻しバルブ５２Ｂによって液吸い戻し経路ＰＢ１がある程度開放されている状態、などの液吸い戻し経路ＰＢ１の特定の開放度合い（開度）に係る特定開度状態が検知される。このとき、例えば、検知部５５Ｂにおける検知結果を示す特定の信号（閉信号）が第２制御部９２に出力される。
また、ステップＳｐ１２では、例えば、第２制御部９２によって、ステップＳｐ１１で認識された実動作時間Ｔ１と、予め設定された基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、発動部５３による吸い戻しバルブ５２Ｂの動作速度に係る設定の変更量が算出される。
また、ステップＳｐ１３では、例えば、第２制御部９２によって、ステップＳｐ１２で算出された変更量に応じて、発動部５３Ｂによる吸い戻しバルブ５２Ｂの第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給速度を調整する設定が変更される。
つまり、ステップＳｐ１１からステップＳｐ１３では、例えば、第２制御部９２によって、ステップＳｐ５において第２トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｐ１０において特定状態が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１と、予め設定された基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、発動部５３Ｂによる吸い戻しバルブ５２Ｂの開放速度に係る設定が変更される。ここでは、例えば、第２トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｐ１０で特定の開度が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１と、基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、発動部５３Ｂによる吸い戻しバルブ５２Ｂの第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給速度を調整する設定が変更される。ここで、第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給速度を調整する設定として、例えば、スピードコントローラ５３ｂＢの流量制御弁の開度あるいは該開度に対応するニードル弁の位置の設定が採用される。
このようにして、１枚の基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１を用いた処理が完了されるとともに、次回以降の吸い戻しバルブ５２Ｂによる液吸い戻し動作に係る実動作時間Ｔ１が、基準動作時間Ｔ０に近づけられ得る。
なお、ここで、エアオペレートバルブＶａｏとして、例えば、制御ガスＧｓ１が排出されている標準状態において液吸い戻し経路ＰＢ１を開放するタイプ（ノーマル開型ともいう）のエアオペレートバルブが採用されてもよい。この場合には、例えば、スピードコントローラ５３ｂＢが、メータアウト制御を行う上記第１実施形態に係るスピードコントローラ５３ｂに置換されればよい。そして、この場合、吸い戻しバルブ５２Ｂの動作速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｂにおける吸い戻しバルブ５２Ｂの第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出速度を調整する設定が採用されればよい。
＜２−３．第４実施形態＞
上記第３実施形態において、例えば、図１３で示されるように、検知部５５Ｂが、配管部Ｐ１Ｂ内における処理液Ｌｑ１の存在または流速に係る特定状態を検知する検知部５５Ｃに変更されてもよい。この変更に伴って、処理液供給系５Ｂは、処理液供給系５Ｃとされる。図１３は、第４実施形態に係る処理ユニット１００の一構成例を模式的に示す図である。
ここで、配管部Ｐ１Ｂ内における処理液Ｌｑ１の存在に係る特定状態としては、例えば、分岐配管部分Ｐ１ｄの特定位置まで処理液Ｌｑ１の液面が到達した状態（特定吸い戻し状態ともいう）が採用される。この場合、例えば、第１分岐配管部分Ｐ１ｄ１が透明あるいは半透明の管を用いて形成されていれば、検知部５５Ｃを、第１分岐配管部分Ｐ１ｄ１の特定位置に対向するように配置し、該検知部５５Ｃによって、処理液Ｌｑ１の液面の通過を検知してもよい。透明な管は、例えば、石英管等で構成され得る。半透明の管は、例えば、フッ素樹脂であるＰＦＡで構成され得る。処理液Ｌｑ１の液面の通過は、例えば、光の屈折の変化によって検出され得る。また、例えば、第１分岐配管部分Ｐ１ｄ１が透明あるいは半透明の管でない場合には、検知部５５Ｃは、例えば、静電容量の変化、超音波の反射の変化および電磁的な変化等を用いて、処理液Ｌｑ１の液面の通過を検知してもよい。
また、ここで、配管部Ｐ１Ｂ内における処理液Ｌｑ１の流速に係る特定状態としては、例えば、分岐配管部分Ｐ１ｄの特定位置における処理液Ｌｑ１の流速が特定の流速に到達した状態が採用される。この場合、例えば、検知部５５Ｃとして、第１分岐配管部分Ｐ１ｄ１の特定位置に対して配置された流量計が採用され得る。
＜２−４．第５実施形態＞
上記第４実施形態において、例えば、図１４および図１５で示されるように、エアオペレートバルブＶａｏが適用された吸い戻しバルブ５２Ｂの代わりに、モータ部５３ｄの駆動力によって弁体部Ｖｂ１を動作させる電動式モータバルブＶｍｏが適用された吸い戻しバルブ５２Ｄが採用されてもよい。図１４は、第５実施形態に係る処理ユニット１００の一構成例を模式的に示す図である。図１５は、電動式モータバルブＶｍｏの一構成例を模式的に示す図である。
図１４で示されるように、第５実施形態に係る処理ユニット１００としては、例えば、第４実施形態に係る処理ユニット１００がベースとされて、処理液供給系５Ｃが、処理液供給系５Ｄに置換されたものが採用される。
処理液供給系５Ｄとしては、例えば、上記第４実施形態に係る処理液供給系５Ｃがベースとされて、ガス用の配管部Ｐ２Ｂがガス用の配管部Ｐ２Ｄに変更され、吸い戻しバルブ５２Ｂが吸い戻しバルブ５２Ｄに置換され、発動部５３Ｂが発動部５３Ｄに変更されたものが採用される。
ガス用の配管部Ｐ２Ｄとしては、例えば、上記第４実施形態に係るガス用の配管部Ｐ２Ｂから第１配管部分Ｐ２ａ、第２配管部分Ｐ２ｂ、第４配管部分Ｐ２ｄおよび第５配管部分Ｐ２ｅが取り除かれた構成を有している。
吸い戻しバルブ５２Ｄは、例えば、モータ部５３ｄが付与する駆動力によって、弁体部Ｖｂ１を動作させて液吸い戻し経路ＰＢ１を開閉することができる。図１５で示されるように、吸い戻しバルブ５２Ｄに適用される電動式モータバルブＶｍｏとしては、例えば、エアオペレートバルブＶａｏのうちの駆動機構ＤＲ１が、モータ部５３ｄによって挿通孔Ｈｈ１に対して摺動される連結部Ｖｈ１を有する駆動機構ＤＲ１Ｄに変更されたものが採用される。このため、吸い戻しバルブ５２Ｄと、モータ部５３ｄと、によって、電動式モータバルブＶｍｏが構成される。電動式モータバルブＶｍｏには、例えば、モータニードルバルブが適用され得る。
発動部５３Ｄは、例えば、上記第４実施形態に係る発動部５３Ｄから電磁弁５３ａおよびスピードコントローラ５３ｂＢが取り除かれ、吸い戻しバルブ５２Ｄにおいて液吸い戻し経路ＰＢ１を開閉するために弁体部Ｖｂ１を移動させるモータ部５３ｄが加えられた構成を有している。ここで、モータ部５３ｄは、例えば、第２制御部９２からの信号に応じて、回転方向の駆動力を生じる。例えば、モータ部５３ｄは、エンコーダを有している。この場合、エンコーダから回転角の変化分に応じたパルスが第２制御部９２に出力されることで、第２制御部９２において、モータ部５３ｄの回転角の変化が認識され得る。
上記構成を有する処理ユニット１００では、制御部９は、例えば、各種トリガ信号を出力することで、発動部５３Ｄによって吸い戻しバルブ５２Ｄを動作させることができる。例えば、第２制御部９２からの信号に応じてモータ部５３ｄによって吸い戻しバルブ５２Ｄによる液吸い戻し経路が開閉される。ここでは、例えば、第１制御部９１から発動部５３Ｄの電磁弁５３ｃおよび第２制御部９２に第１トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ｃがガス供給状態となり、吐出バルブ５１における弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を開放する開放動作が開始される。このとき、第２制御部９２では、第１制御部９１からの第１トリガ信号の入力に応答して、モータ部５３ｄに対して駆動を制御するための信号が出力される。これにより、モータ部５３ｄによって吸い戻しバルブ５２Ｄによる液吸い戻し経路ＰＢ１の閉鎖が行われる。また、例えば、第１制御部９１から発動部５３Ｄの電磁弁５３ｃおよび第２制御部９２に第２トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ｃがガス排出状態となり、吐出バルブ５１における弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を閉鎖する閉鎖動作が開始される。このとき、第２制御部９２では、第１制御部９１からの第２トリガ信号の入力に応答して、モータ部５３ｄに対して駆動を制御するための信号が出力される。これにより、モータ部５３ｄによって吸い戻しバルブ５２Ｄにおける弁体部Ｖｂ１による液吸い戻し経路ＰＢ１を開放する開放動作が開始される。これにより、液吸い戻し動作が行われる。
また、制御部９は、例えば、第２トリガ信号を出力した第１タイミングから、検知部５５Ｃが特定状態を検知した第２タイミングまでの吸い戻しバルブ５２Ｄの実動作時間Ｔ１と、予め設定された基準動作時間Ｔ０と、の関係に応じて、発動部５３Ｄによる吸い戻しバルブ５２Ｄの動作速度に係る設定を変更することができる。ここでは、動作速度に係る設定として、例えば、モータ部５３ｄによる吸い戻しバルブ５２Ｄの開放の速度を調整する設定が含まれる。開放の速度を調整する設定としては、例えば、モータ部５３ｄにおける単位時間当たりの回転角度等が採用され得る。
＜２−５．第６実施形態＞
ところで、例えば、ノズルＮｚ０から基板Ｗ０に対する処理液Ｌｑ０の吐出の開始および停止を行う吐出バルブについても、吸い戻しバルブと同様に、吐出バルブによる処理液Ｌｑ０の供給経路の開閉が遅くなり過ぎると、基板Ｗ０に対する処理液Ｌｑ０の供給に要する時間が長くなる。このとき、基板Ｗ０に対する処理に要する時間（タクトタイム）が長くなり、基板処理装置における生産効率が低下する。また、例えば、基板Ｗ０としての半導体基板がフッ酸等の処理液で処理された後に過度なエッチングを防ぐためにリンス水等の他の処理液を素早く吐出したい場面等では、処理液の供給の停止および処理液の供給の開始を素早く実施したい場合もある。
ただし、例えば、吐出バルブによって処理液Ｌｑ０の供給経路が急に開放されると、図２６で示されるように、ノズルＮｚ０から基板Ｗの上面Ｕｓ０に対する処理液Ｌｑ０の吐出が急に開始される。このとき、例えば、ノズルＮｚ０の先端部から処理液Ｌｑ０が勢い良く飛散する現象（スプラッシュともいう）が生じる場合がある。そして、このスプラッシュは、吐出バルブの動作環境の変化に応じた吐出バルブの動作速度の変動によって生じ得る。
そこで、上記各実施形態において、例えば、図１６で示されるように、吐出バルブ５１が、液供給経路ＰＡ１の開放動作の速度（開放速度ともいう）が制御可能な吐出バルブ５１Ｅとされ、吐出バルブ５１Ｅにおける開放速度が調整されてもよい。すなわち、吐出バルブ５１が制御対象とされてもよい。これにより、例えば、吐出バルブ５１Ｅによって液供給経路ＰＡ１が開放される開放速度が制御されることで、ノズルＮｚ０の先端部から処理液Ｌｑ０が勢い良く飛散するスプラッシュの発生が抑制され得る。すなわち、例えば、吐出バルブ５１Ｅの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１の吐出における不具合の発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。図１６は、第６実施形態に係る処理ユニット１００の一構成例を模式的に示す図である。
第６実施形態に係る基板処理装置１としては、例えば、図１６で示されるように、第５実施形態に係る基板処理装置１がベースとされて、処理液供給系５Ｄが、処理液供給系５Ｅに変更されたものが採用される。
処理液供給系５Ｅとしては、例えば、処理液供給系５Ｄがベースとされて、ガス用の配管部Ｐ２Ｄが削除され、吐出バルブ５１が吐出バルブ５１Ｅに置換され、発動部５３Ｄが発動部５３Ｅに変更され、検知部５５Ｃが検知部５５Ｅに変更されたものが採用される。
吐出バルブ５１Ｅは、配管部Ｐ１Ｂの途中部分に設けられ、該配管部Ｐ１ＢおよびノズルＮｚ１における処理液Ｌｑ１の存在状態を変化させることができる。吐出バルブ５１Ｅには、例えば、上記第５実施形態に係る吸い戻しバルブ５２Ｄと同様に、電動式モータバルブＶｍｏ（図１５）の構成が適用される。ここでは、吐出バルブ５１Ｅは、例えば、本体部ＶＭ１と該本体部ＶＭ１に対して摺動する連結部Ｖｈ１を有する駆動機構ＤＲ１Ｄとを有している。そして、吐出バルブ５１Ｅには、モータ部５３ｅによって駆動力が付与される。このため、吐出バルブ５１Ｅと、モータ部５３ｅと、によって、電動式モータバルブＶｍｏが構成される。電動式モータバルブＶｍｏには、例えば、モータニードルバルブが適用され得る。
発動部５３Ｅは、例えば、上記第５実施形態に係る発動部５３Ｄから電磁弁５３ｃが取り除かれ、吐出バルブ５１Ｅにおいて液供給経路ＰＡ１を開閉するために弁体部Ｖｂ１を移動させるモータ部５３ｅが加えられた構成を有している。この場合、発動部５３Ｅは、吐出バルブ５１Ｅによって液供給経路ＰＡ１を開閉させる駆動力をモータ部５３ｅによって該吐出バルブ５１Ｅを付与することができる。ここで、モータ部５３ｅは、例えば、第２制御部９２からの信号に応じて、回転方向の駆動力を生じる。例えば、モータ部５３ｅでは、エンコーダから回転角の変化分に応じたパルスが第２制御部９２に出力され、第２制御部９２においてモータ部５３ｄの回転角の変化が認識され得る。
検知部５５Ｅは、例えば、配管部Ｐ１Ｂ内における処理液Ｌｑ１の存在または流速に係る特定状態を検知することができる。ここで、該特定状態としては、例えば、配管部Ｐ１Ｂのうちの吐出バルブ５１ＥからノズルＮｚ１にかけた部分における、特定位置まで処理液Ｌｑ１が到達した状態（特定給液状態ともいう）、または処理液Ｌｑ１の流速が基準流速に到達した状態（特定流れ状態ともいう）が採用される。
この場合、例えば、検知部５５Ｅには、上記第４実施形態に係る検知部５５Ｃと同様な構成が適用され得る。具体的には、例えば、吐出バルブ５１ＥとノズルＮｚ１とをつないでいる第２配管部分Ｐ１ｂが透明あるいは半透明の管を用いて形成されていれば、検知部５５Ｅを、第２配管部分Ｐ１ｂの特定位置に対向するように配置し、該検知部５５Ｅによって、処理液Ｌｑ１の液面の通過を検知してもよい。このとき、透明あるいは半透明の管は、石英管あるいはＰＦＡの管で構成され得る。処理液Ｌｑ１の液面の通過は、例えば、光の屈折の変化によって検出され得る。また、例えば、第２配管部分Ｐ１ｂが透明あるいは半透明でない場合は、検知部５５Ｅでは、例えば、静電容量の変化、超音波の反射の変化および電磁的な変化等を用いて、処理液Ｌｑ１の液面の通過が検知されてもよい。また、ここで、配管部Ｐ１Ｂ内における処理液Ｌｑ１の流速に係る特定状態として、例えば、特定流れ状態が採用される場合には、例えば、検知部５５Ｅとして、第２配管部分Ｐ１ｂの特定位置に対して配置された流量計が採用されてもよい。
上記構成を有する処理ユニット１００では、制御部９は、例えば、各種のトリガ信号を出力することで発動部５３Ｅによって吐出バルブ５１Ｅおよび吸い戻しバルブ５２Ｄを動作させることができる。例えば、第１制御部９１から第２制御部９２に対する第１トリガ信号の出力に応答して、第２制御部９２からの信号に応じてモータ部５３ｅが吐出バルブ５１Ｅによって液供給経路ＰＡ１を開閉させる。また、例えば、第２制御部９２からの信号に応じてモータ部５３ｄが吸い戻しバルブ５２Ｄによって液吸い戻し経路ＰＢ１を開閉させる。
ここでは、例えば、第１制御部９１から第２制御部９２に第１トリガ信号が出力されると、第２制御部９２が、モータ部５３ｄおよびモータ部５３ｅに対して、駆動を制御するための信号を出力する。これにより、例えば、モータ部５３ｄによる吸い戻しバルブ５２Ｄにおける液吸い戻し経路ＰＢ１の閉鎖動作と、モータ部５３ｅによる吐出バルブ５１Ｅにおける液供給経路ＰＡ１の開放動作と、が開始される。また、例えば、第１制御部９１から第２制御部９２に第２トリガ信号が出力されると、第２制御部９２が、モータ部５３ｄおよびモータ部５３ｅに対して、駆動を制御するための信号を出力する。これにより、例えば、モータ部５３ｅによる吐出バルブ５１Ｅにおける液供給経路ＰＡ１の閉鎖動作と、モータ部５３ｄによる吸い戻しバルブ５２Ｄにおける液吸い戻し経路ＰＢ１の開放動作と、が開始される。これにより、液吸い戻し動作が行われ始める。
また、制御部９は、例えば、第２トリガ信号を出力した第１タイミングから、検知部５５Ｅが特定状態を検知した第２タイミングまでの吐出バルブ５１Ｅの実動作時間Ｔ１Ｅと、予め設定された基準動作時間Ｔ０Ｅと、の関係に応じて、発動部５３Ｅによる吐出バルブ５１Ｅの動作の速度に係る設定を変更することができる。ここでは、動作の速度に係る設定として、例えば、モータ部５３ｅによる吐出バルブ５１Ｅの開放の速度を調整する設定が含まれる。開放の速度を調整する設定としては、例えば、モータ部５３ｅにおける単位時間当たりの回転角度等が採用され得る。これにより、例えば、吐出バルブ５１Ｅの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１の吐出におけるスプラッシュの発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
図１７は、第６実施形態に係る基板処理装置１における処理ユニット１００の制御フローの一例を示す流れ図である。ここでは、例えば、制御部９においてプログラムＰｇ１，Ｐｇ２が実行されることで制御フローが実現される。
まず、図１７のステップＳｔ１およびステップＳｔ２では、図８のステップＳｐ１およびステップＳｐ２と同様な処理が行われる。
次に、ステップＳｔ３では、第１制御部９１によって、第１トリガ信号が出力される。このとき、第１トリガ信号は、例えば、第２制御部９２に対して出力される。その後、ステップＳｔ４およびステップＳｔ１０に進み、ステップＳｔ４からステップＳｔ９の処理と、ステップＳｔ１０からステップＳｔ１３の処理と、が並行して実行される。
ステップＳｔ４では、第２制御部９２によって、ステップＳｔ３で出力された第１トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｅに吐出バルブ５１Ｅによる液供給経路ＰＡ１の開放動作を開始させる。このとき、例えば、第２制御部９２から出力される制御信号に応じて、モータ部５３ｅが駆動力を発することで、吐出バルブ５１Ｅによる液供給経路ＰＡ１の開放動作が開始される。また、ここでは、第２制御部９２によって、第１トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｅに吸い戻しバルブ５２Ｄによる液吸い戻し経路ＰＢ１の閉鎖動作を開始させる。このとき、例えば、第２制御部９２から出力される制御信号に応じて、モータ部５３ｄが駆動力を発することで、吸い戻しバルブ５２Ｄによる液吸い戻し経路ＰＢ１の閉鎖動作が開始される。これにより、液供給部７からノズルＮｚ１に処理液Ｌｑ１が送給され始め、ノズルＮｚ１から基板Ｗの上面Ｕｓ１に向けて処理液Ｌｑ１が供給され始める。
ステップＳｔ５では、第１制御部９１によって、第２トリガ信号が出力される。このとき、第２トリガ信号は、例えば、第２制御部９２に対して出力される。
ステップＳｔ６では、第２制御部９２によって、ステップＳｔ５で出力された第２トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｅに吐出バルブ５１Ｅによる液供給経路ＰＡ１の閉鎖動作を開始させる。このとき、例えば、第２制御部９２から出力される制御信号に応じて、モータ部５３ｅが駆動力を発することで、吐出バルブ５１Ｅによる液供給経路ＰＡ１の閉鎖動作が開始される。これにより、液供給部７からノズルＮｚ１への処理液Ｌｑ１の送給が停止され始める。その後、ノズルＮｚ１から基板Ｗの上面Ｕｓ１に向けた処理液Ｌｑ１の供給が停止される。
ステップＳｔ７では、第２制御部９２によって、ステップＳｔ５で出力された第２トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｅに吸い戻しバルブ５２Ｄによる液吸い戻し経路ＰＢ１の開放動作を開始させる。このとき、例えば、第２制御部９２から出力される制御信号に応じて、モータ部５３ｄが駆動力を発することで、吸い戻しバルブ５２Ｄによる液吸い戻し経路ＰＢ１の開放動作が開始される。これにより、液吸い戻し動作が行われ始める。
ステップＳｔ８およびステップＳｔ９では、図８のステップＳｐ８およびステップＳｐ９と同様な処理が行われる。
また、ステップＳｔ１０では、検知部５５Ｅによって、配管部Ｐ１Ｂ内における処理液Ｌｑ１の存在または流速に係る特定状態が検知される。ここでは、特定状態として、例えば、配管部Ｐ１Ｂのうちの吐出バルブ５１ＥからノズルＮｚ１にかけた部分における、特定位置まで処理液Ｌｑ１が到達した特定給液状態、または処理液Ｌｑ１の流速が基準流速に到達した特定流れ状態が検知される。このとき、例えば、検知部５５Ｅにおける検知結果が、第２制御部９２に出力される。
ステップＳｔ１１では、第２制御部９２によって、ステップＳｔ３において第１トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｔ１０において特定状態（例えば、特定給液状態または特定流れ状態）が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１Ｅが認識される。
ステップＳｔ１２では、第２制御部９２によって、ステップＳｔ１１で認識された実動作時間Ｔ１Ｅと、予め設定された基準動作時間Ｔ０Ｅとの関係に応じて、発動部５３Ｅによる吐出バルブ５１Ｅの動作の速度に係る設定の変更量が算出される。ここで、吐出バルブ５１Ｅの動作の速度に係る設定としては、例えば、吐出バルブ５１Ｅによって液供給経路ＰＡ１を開放する速度（開放速度）に係る設定が採用される。開放速度を調整する設定としては、例えば、モータ部５３ｅにおける単位時間当たりの回転角度等が採用され得る。
ステップＳｔ１３では、第２制御部９２によって、ステップＳｔ１２で算出された変更量に応じて、発動部５３Ｅのモータ部５３ｅが吐出バルブ５１Ｅにおいて液供給経路ＰＡ１を開放する速度に係る設定が変更される。
つまり、ステップＳｔ１１からステップＳｔ１３では、第２制御部９２によって、ステップＳｔ３において第１トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｔ１０において特定状態が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１Ｅと、予め設定された基準動作時間Ｔ０Ｅとの関係に応じて、発動部５３Ｅによる吐出バルブ５１Ｅの開放速度に係る設定が変更される。
また、ステップＳｔ１１からステップＳｔ１３では、例えば、第２制御部９２によって、第１トリガ信号が出力される第１タイミングから特定状態が実現される第２タイミングまでの時間（動作時間）ＴＥと、発動部５３Ｅによる吐出バルブ５１Ｅの動作速度に係る設定値と、の間における基準の関係を示す情報（基準関係情報）における、実測された実動作時間Ｔ１Ｅと基準動作時間Ｔ０Ｅとの差に対応する設定値のズレ量に応じて、モータ部５３ｅによる吐出バルブ５１Ｅの開放の速度に係る設定について、変更量が算出され、該変更量に応じた変更がなされてもよい。なお、第２制御部９２では、例えば、動作時間ＴＥと、発動部５３Ｅによる吐出バルブ５１Ｅの動作速度に係る設定値と、の間の比例または反比例の関係における、実動作時間Ｔ１Ｅと基準動作時間Ｔ０Ｅとの差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３による吐出バルブ５１Ｅの動作の速度に係る設定の変更量が算出されてもよい。また、第２制御部９２では、例えば、基準動作時間Ｔ０Ｅよりも実動作時間Ｔ１Ｅが短ければ、吐出バルブ５１Ｅの動作の速度が小さくなるような、発動部５３Ｅによる吐出バルブ５１Ｅの動作速度に係る設定の変更量が算出され、基準動作時間Ｔ０Ｅよりも実動作時間Ｔ１Ｅが長ければ、吐出バルブ５１Ｅの動作の速度が大きくなるような、発動部５３Ｅによる吐出バルブ５１Ｅの動作速度に係る設定の変更量が算出さてもよい。
このようにして、１枚の基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１を用いた処理が完了されるとともに、次回以降の吐出バルブ５１Ｅによる開放動作に係る実動作時間Ｔ１Ｅが、基準動作時間Ｔ０Ｅに近づけられ得る。ここでも、実動作時間Ｔ１Ｅが基準動作時間Ｔ０Ｅに近づけられる処理は、例えば、複数枚の基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１を用いた処理が完了される毎に行われてもよいし、特定の時間毎に行われてもよいし、ユーザーの指定に応じて行われてもよいし、ランダムなタイミングで行われてもよいし、実動作時間Ｔ１Ｅと基準動作時間Ｔ０Ｅとの差が予め設定された許容範囲から外れた場合に行われてもよい。
＜２−６．第７実施形態＞
上記第６実施形態において、例えば、図１８で示されるように、吐出バルブ５１Ｅが、エアオペレートバルブＶａｏが適用された吐出バルブ５１に変更されることで、吐出バルブ５１による液供給経路ＰＡ１の開放速度が制御されてもよい。これにより、例えば、吐出バルブ５１による液供給経路ＰＡ１が開放される開放速度が制御されることで、ノズルＮｚ０の先端部から処理液Ｌｑ０が勢い良く飛散するスプラッシュの発生が抑制され得る。また、例えば、図１８で示されるように、吸い戻しバルブ５２Ｄが、エアオペレートバルブＶａｏが適用された吸い戻しバルブ５２Ｂに変更されてもよい。図１８は、第７実施形態に係る処理ユニット１００の一構成例を模式的に示す図である。
第７実施形態に係る基板処理装置１としては、例えば、図１８で示されるように、第３実施形態に係る基板処理装置１（図１２）がベースとされて、処理液供給系５Ｂが、処理液供給系５Ｆに変更されたものが採用される。
処理液供給系５Ｆとしては、例えば、上記第３実施形態に係る処理液供給系５Ｂがベースとされて、主に、ガス用の配管部Ｐ２Ｂが配管部Ｐ２Ｆに変更され、発動部５３Ｂが発動部５３Ｆに変更され、検知部５５Ｆが追加されたものが採用される。
ガス用の配管部Ｐ２Ｆとしては、例えば、上記第３実施形態に係るガス用の配管部Ｐ２Ｂがベースとされ、第３配管部分Ｐ２ｃが、第３ａ配管部分Ｐ２ｃａと第３ｂ配管部分Ｐ２ｃｂとに分割されたものが採用される。
発動部５３Ｆとしては、例えば、上記第３実施形態に係る発動部５３Ｂがベースとされて、スピードコントローラ５３ｆが追加されたものが採用される。スピードコントローラ５３ｆは、例えば、第３ａ配管部分Ｐ２ｃａによって電磁弁５３ｃに接続されるとともに、第３ｂ配管部分Ｐ２ｃｂによって吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１に接続されている。スピードコントローラ５３ｆとしては、例えば、流量制御弁の絞り度合い（開度）によって、電磁弁５３ｃから吐出バルブ５１に向けた制御ガスＧｓ１の供給速度の制御（メータイン制御）を行うものが採用される。
検知部５５Ｆは、例えば、上記第３実施形態に係る検知部５５Ｂと同様な構成を有しており、吐出バルブ５１の動作に係る特定状態を検知することができる。特定状態としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１が完全に開放されている状態、あるいは吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１がある程度開放されている状態、などの液供給経路ＰＡ１の特定の開放度合い（開度）に係る状態（特定開度状態）が採用される。ここで、検知部５５Ｆは、例えば、特定状態の検知に応答して、特定の信号（開信号ともいう）を第２制御部９２に出力してもよい。
上記構成を有する処理ユニット１００では、制御部９は、例えば、各種のトリガ信号を出力することで、発動部５３Ｆによって吐出バルブ５１および吸い戻しバルブ５２Ｂを動作させることができる。例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ｃに第１トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ｃがガス供給状態となり、吐出バルブ５１における弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を開放する開放動作が開始される。このとき、例えば、発動部５３Ｆのうちの電磁弁５３ｃおよびスピードコントローラ５３ｆを介して吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１に制御ガスＧｓ１が供給され始め、弁体部Ｖｂ１が動作し始めることで、該弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を開放する動作（開放動作）が開始される。また、例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ａにも第１トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ａがガス排出状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂにおいて弁体部Ｖｂ１による液吸い戻し経路ＰＢ１を閉鎖する動作（閉鎖動作）が開始される。このとき、例えば、第１トリガ信号は、第１制御部９１から第２制御部９２にも出力されてよい。
また、制御部９は、例えば、第１トリガ信号を出力した第１タイミングから、検知部５５Ｆが特定状態を検知した第２タイミングまでの吐出バルブ５１の実動作時間Ｔ１Ｆと、予め設定された基準動作時間Ｔ０Ｆと、の関係に応じて、発動部５３Ｆによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定を変更することができる。ここで、特定状態としては、例えば、吐出バルブ５１における液供給経路ＰＡ１の特定の開放度合い（開度）に係る特定開度状態が採用される。
ここで、吐出バルブ５１の動作の速度としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１を開放する開放速度が採用される。また、発動部５３Ｆによる吐出バルブ５１の開放速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｆによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定が採用される。制御ガスＧｓ１の供給速度は、例えば、単位時間当たりに第１領域Ａａ１に供給される制御ガスＧｓ１の量（ガス供給量）で表される。制御ガスＧｓ１の供給速度を調整する設定としては、例えば、スピードコントローラ５３ｆの流量制御弁の絞り度合い（開度）が採用される。
上記構成を有する第７実施形態に係る基板処理装置１における処理ユニット１００の制御フローは、図１７で示された上記第６実施形態に係る基板処理装置１における処理ユニット１００の制御フローと同様なものとなる。
但し、ステップＳｔ３では、例えば、第１制御部９１によって出力される第１トリガ信号は、例えば、発動部５３Ｆの電磁弁５３ａ，５３ｃおよび第２制御部９２に対して出力される。
また、ステップＳｔ４では、例えば、発動部５３Ｆによって、第１トリガ信号の入力に応答して、吐出バルブ５１における開放動作が開始される。このとき、例えば、電磁弁５３ｃがガス供給状態となり、吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に制御ガスＧｓ１が導入され始めることで、吐出バルブ５１による液供給経路ＰＡ１の開放動作が開始される。これにより、液供給部７からノズルＮｚ１に処理液Ｌｑ１が送給され始めることで、ノズルＮｚ１から基板Ｗの上面Ｕｓ１に向けて処理液Ｌｑ１が供給され始める。また、このとき、例えば、電磁弁５３ａがガス排出状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から制御ガスＧｓ１が排出され始めることで、吸い戻しバルブ５２Ｂにおいて液吸い戻し経路ＰＢ１が閉鎖され始める。これにより、液吸い戻し動作が行われない状態に設定される。
また、ステップＳｔ５では、例えば、第１制御部９１によって出力される第２トリガ信号は、例えば、発動部５３Ｆの電磁弁５３ａ，５３ｃおよび第２制御部９２に対して出力される。
また、ステップＳｔ６では、例えば、ステップＳｔ５で出力された第２トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｆによって、吐出バルブ５１による閉鎖動作が開始される。ここでは、例えば、電磁弁５３ｃがガス排出状態となり、吐出バルブ５１において、駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から制御ガスＧｓ１が排出され始めて、仕切り部Ｐｄ１が動作し始めることで、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｄｐ１が動作され始める。これにより、吐出バルブ５１による閉鎖動作が開始される。
また、ステップＳｔ７では、例えば、ステップＳｔ５で出力された第２トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｆによって、吸い戻しバルブ５２Ｂに、液吸い戻し経路ＰＢ１を開放させ始めることで、液吸い戻し動作が開始される。つまり、配管部Ｐ１ＢおよびノズルＮｚ１における処理液Ｌｑ１の存在状態が変化され始める。ここでは、例えば、電磁弁５３ａがガス供給状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に制御ガスＧｓ１が供給され始めることで、仕切り部Ｐｄ１が動作し始める。このとき、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｖｂ１が動作され始める。これにより、吸い戻しバルブ５２Ｂによる液吸い戻し動作が開始される。
また、ステップＳｔ１０では、例えば、検知部５５Ｆによって、吐出バルブ５１の動作に係る特定状態が検知される。ここでは、特定状態として、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１が完全に開放されている状態、あるいは吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１がある程度開放されている状態、などの液供給経路ＰＡ１の特定の開放度合い（開度）に係る特定開度状態が検知される。このとき、例えば、検知部５５Ｆにおける検知結果を示す特定の信号（閉信号）が第２制御部９２に出力される。
また、ステップＳｔ１１では、例えば、第２制御部９２によって、ステップＳｔ３において第１トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｔ１０において特定状態が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１Ｆが認識される。
また、ステップＳｔ１２では、例えば、第２制御部９２によって、ステップＳｔ１１で認識された実動作時間Ｔ１Ｆと、予め設定された基準動作時間Ｔ０Ｆとの関係に応じて、発動部５３Ｆによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定の変更量が算出される。
また、ステップＳｔ１３では、例えば、第２制御部９２によって、ステップＳｔ１２で算出された変更量に応じて、発動部５３Ｆによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定が変更される。
つまり、ステップＳｔ１１からステップＳｔ１３では、例えば、第２制御部９２によって、ステップＳｔ３において第１トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｔ１０において特定状態が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１Ｆと、予め設定された基準動作時間Ｔ０Ｆとの関係に応じて、発動部５３Ｆによる吐出バルブ５１の開放の速度に係る設定が変更される。ここでは、例えば、第１トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｔ１０で特定の開度が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１Ｆと、基準動作時間Ｔ０Ｆとの関係に応じて、発動部５３Ｆによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定が変更される。ここで、第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定として、例えば、スピードコントローラ５３ｆの流量制御弁の開度あるいは該開度に対応するニードル弁の位置の設定が採用される。
このようにして、例えば、１枚の基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１を用いた処理が完了されるとともに、次回以降の吐出バルブ５１による液供給経路ＰＡ１の開放動作に係る実動作時間Ｔ１Ｆが、基準動作時間Ｔ０Ｆに近づけられ得る。これにより、例えば、吐出バルブ５１の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１の吐出におけるスプラッシュの発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
なお、上記第７実施形態においても、上記第３実施形態と同様に、吐出バルブ５１に適用されるエアオペレートバルブＶａｏとして、例えば、ノーマル開型のエアオペレートバルブが採用されてもよい。この場合には、例えば、スピードコントローラ５３ｆが、メータアウト制御を行う上記第１実施形態に係るスピードコントローラ５３ｂと同様なものに置換されてもよい。そして、例えば、吐出バルブ５１の動作速度（例えば開放速度）に係る設定として、例えば、発動部５３Ｆによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定が採用されてもよい。
また、上記第７実施形態において、例えば、検知部５５Ｆが上記第６実施形態に係る検知部５５Ｅと置換され、該検知部５５Ｅが、例えば、配管部Ｐ１内における処理液Ｌｑ１の存在または流速に係る特定状態を検知してもよい。このとき、特定状態としては、例えば、配管部Ｐ１のうちの吐出バルブ５１ＥからノズルＮｚ１にかけた部分における、特定位置まで処理液Ｌｑ１が到達した状態（特定給液状態）、または処理液Ｌｑ１の流速が基準流速に到達した状態（特定流れ状態）が採用される。なお、ここでは、基準流速に到達した状態とは、例えば、処理液Ｌｑ１の流速が基準流速よりも遅い状態から基準流速以上となった状態をいう。
＜２−７．第８実施形態＞
また、例えば、吐出バルブによって処理液Ｌｑ０の供給経路が急に閉鎖されると、ノズルＮｚ０から基板Ｗ０に向けた処理液Ｌｑ０の吐出が急に停止される。このとき、例えば、図２５で示されるように、いわゆるウォーターハンマーによってノズルＮｚ０の先端部から基板Ｗ０の上面Ｕｓ０に処理液Ｌｑ０の液滴Ｄｐ０が落下するボタ落ちが生じる場合がある。このウォーターハンマーによるボタ落ちも、上記スプラッシュ等と同様に、吐出バルブの動作環境の変化に応じた吐出バルブの動作速度の変動によって生じ得る。
そこで、上記第７実施形態において、例えば、図１９で示されるように、メータイン制御を行うことが可能なスピードコントローラ５３ｆが、メータアウト制御を行うことが可能なスピードコントローラ５３ｇに置換されてもよい。これにより、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１が閉鎖される速度（閉鎖速度）が制御されることで、ウォーターハンマーによる処理液Ｌｑ１のボタ落ちの発生が抑制され得る。図１９は、第８実施形態に係る処理ユニット１００の一構成例を模式的に示す図である。
第８実施形態に係る基板処理装置１としては、例えば、図１９で示されるように、第７実施形態に係る基板処理装置１の構成（図１８）がベースとされて、処理液供給系５Ｆが、処理液供給系５Ｇに変更されたものが採用される。処理液供給系５Ｇとしては、例えば、上記第７実施形態に係る処理液供給系５Ｆがベースとされて、発動部５３Ｆが発動部５３Ｇに変更されたものが採用される。
発動部５３Ｇとしては、例えば、上記第７実施形態に係る発動部５３Ｆがベースとされて、メータイン制御を行うことが可能なスピードコントローラ５３ｆが、メータアウト制御を行うことが可能なスピードコントローラ５３ｇに置換されたものが採用される。このような構成が採用されても、上記第７実施形態に係る発動部５３Ｆと同様に、例えば、発動部５３Ｇは、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１を開閉させる駆動力を該吐出バルブ５１に付与することができる。ここでは、発動部５３Ｇは、例えば、吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給および吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出によって仕切り部Ｐｄ１を動作させることで、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｖｂ１を動作させることができる。
上記構成を有する処理ユニット１００では、制御部９は、例えば、各種のトリガ信号を出力することで、発動部５３Ｇによって吐出バルブ５１および吸い戻しバルブ５２Ｂを動作させることができる。例えば、制御部９は、第２トリガ信号を出力することで、発動部５３Ｇによって吐出バルブ５１による液供給経路ＰＡ１の閉鎖を開始させることができる。ここでは、例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ｃに第２トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ｃがガス排出状態となり、吐出バルブ５１において弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を閉鎖する閉鎖動作が行われる。このとき、例えば、吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１から、発動部５３Ｇのうちのスピードコントローラ５３ｆおよび電磁弁５３ｃを介して制御ガスＧｓ１が排出されることで、弁体部Ｖｂ１が動作し、該弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を閉鎖する閉鎖動作が開始される。また、このとき、例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ａにも第２トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ａがガス供給状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂにおいて弁体部Ｖｂ１による液吸い戻し経路ＰＢ１を開放する開放動作が行われる。このとき、例えば、第２トリガ信号は、第１制御部９１から第２制御部９２にも出力されてよい。
また、制御部９は、例えば、第２トリガ信号を出力した第１タイミングから、検知部５５Ｆが特定状態を検知した第２タイミングまでの吐出バルブ５１の実動作時間Ｔ１Ｇと、予め設定された基準動作時間Ｔ０Ｇと、の関係に応じて、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定を変更することができる。特定状態としては、例えば、吐出バルブ５１における液供給経路ＰＡ１の特定の開放度合い（開度）に係る特定開度状態が採用される。
ここで、吐出バルブ５１の動作速度としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１を閉鎖する速度（閉鎖速度）が採用される。また、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の閉鎖速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定が採用される。制御ガスＧｓ１の排出速度は、例えば、単位時間当たりに第１領域Ａａ１から排出される制御ガスＧｓ１の量（ガス排出量ともいう）で表される。制御ガスＧｓ１の排出速度を調整する設定としては、例えば、スピードコントローラ５３ｇの流量制御弁の絞り度合い（開度）が採用される。
図２０は、第８実施形態に係る基板処理装置１における処理ユニット１００の制御フローの一例を示す流れ図である。ここでは、例えば、制御部９においてプログラムＰｇ１，Ｐｇ２が実行されることで制御フローが実現される。
まず、図２０のステップＳｓ１およびステップＳｓ２では、図８のステップＳｐ１およびステップＳｐ２と同様な処理が行われる。
次に、ステップＳｓ３では、第１制御部９１によって、第１トリガ信号が出力される。このとき、第１トリガ信号は、例えば、発動部５３の電磁弁５３ａ，５３ｃと、第２制御部９２と、に対して出力される。
次に、ステップＳｓ４では、発動部５３Ｇによって、第１トリガ信号の入力に応答して、吐出バルブ５１における開放動作が行われる。このとき、例えば、電磁弁５３ａがガス供給状態となり、吐出バルブ５１において駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に制御ガスＧｓ１が導入されることで液供給経路ＰＡ１が開放される。これにより、ノズルＮｚ１から基板Ｗの上面Ｕｓ１に向けて処理液Ｌｑ１が供給される。また、このとき、例えば、電磁弁５３ａがガス排出状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から制御ガスＧｓ１が排出されることで、吸い戻しバルブ５２Ｂにおいて液吸い戻し経路ＰＢ１が閉鎖される。
次に、ステップＳｓ５では、第１制御部９１によって、第２トリガ信号が出力される。このとき、第２トリガ信号は、例えば、発動部５３の電磁弁５３ａ，５３ｃと、第２制御部９２と、に対して出力される。その後、ステップＳｓ６およびステップＳｓ１０に進み、ステップＳｓ６からステップＳｓ９の処理と、ステップＳｓ１０からステップＳｓ１３の処理と、が並行して実行される。
ステップＳｓ６では、ステップＳｓ５で出力された第２トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｇによって、吐出バルブ５１において液供給経路ＰＡ１を閉鎖する動作（閉鎖動作）が開始される。ここでは、例えば、電磁弁５３ｃがガス排出状態となり、吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１から制御ガスＧｓ１が排出され始めて、仕切り部Ｐｄ１が動作し始める。このとき、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｖｂ１が動作され始める。これにより、吐出バルブ５１における閉鎖動作が開始される。これにより、液供給部７からノズルＮｚ１への処理液Ｌｑ１の送給が停止され始める。その後、ノズルＮｚ１から基板Ｗの上面Ｕｓ１に向けた処理液Ｌｑ１の供給が停止される。
ステップＳｓ７では、ステップＳｓ５で出力された第２トリガ信号の入力に応答して、発動部５３Ｇによって、吸い戻しバルブ５２Ｂが動作されることで、液吸い戻し動作が開始される。ここでは、例えば、電磁弁５３ａがガス供給状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂの駆動機構ＤＲ１の第１領域Ａａ１に制御ガスＧｓ１が供給され始めて、仕切り部Ｐｄ１が動作し始める。このとき、吸い戻しバルブ５２Ｂにおいて液吸い戻し経路ＰＢ１が開放され始める。これにより、その後、液吸い戻し経路ＰＢ１における液吸い戻し動作が実行される。
ステップＳｓ８およびステップＳｓ９では、図８のステップＳｐ８およびステップＳｐ９と同様な処理が行われる。
ステップＳｓ１０では、検知部５５Ｆによって、吐出バルブ５１の動作に係る特定状態が検知される。ここでは、特定状態として、例えば、吐出バルブ５１の開度に係る特定の状態（特定開度状態）が検知される。このとき、例えば、検知部５５Ｆにおける検知結果が、第２制御部９２に出力される。
ステップＳｓ１１では、第２制御部９２によって、ステップＳｓ５において第２トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｓ１０において特定状態（例えば、特定開度状態）が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１Ｇが認識される。
ステップＳｓ１２では、第２制御部９２によって、ステップＳｓ１１で認識された実動作時間Ｔ１Ｇと、予め設定された基準動作時間Ｔ０Ｇとの関係に応じて、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定の変更量が算出される。吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出の速度に係る設定が採用される。
ステップＳｓ１３では、第２制御部９２によって、ステップＳｓ１２で算出された変更量に応じて、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定が変更される。具体的には、例えば、発動部５３Ｇによる第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定が変更される。
つまり、ステップＳｓ１１からステップＳｓ１３では、第２制御部９２によって、ステップＳｓ５において第２トリガ信号が出力された第１タイミングからステップＳｓ１０において特定状態が検知された第２タイミングまでの実動作時間Ｔ１Ｇと、予め設定された基準動作時間Ｔ０Ｇとの関係に応じて、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定が変更される。吐出バルブ５１の動作の速度としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１を閉鎖する速度（閉鎖速度）が採用される。閉鎖速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｇによる第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出速度を調整する設定が採用される。この排出速度を調整する設定としては、例えば、スピードコントローラ５３ｆの流量制御弁の開度あるいは該開度に対応するニードル弁の位置の設定が採用される。
また、ステップＳｓ１１からステップＳｓ１３では、例えば、第２制御部９２によって、第１制御部９１から第２トリガ信号が出力される第１タイミングから特定状態が実現される第２タイミングまでの時間（動作時間）ＴＧと、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作速度に係る設定値と、の間における基準の関係を示す情報（基準関係情報ともいう）における、実測された実動作時間Ｔ１Ｇと基準動作時間Ｔ０Ｇとの差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作速度に係る設定について、変更量が算出され、該変更量に応じた変更がなされてもよい。なお、第２制御部９２では、例えば、動作時間ＴＧと、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作速度に係る設定値と、の間の比例または反比例の関係における、実動作時間Ｔ１Ｇと基準動作時間Ｔ０Ｇとの差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定の変更量が算出されてもよい。また、第２制御部９２では、例えば、基準動作時間Ｔ０Ｇよりも実動作時間Ｔ１Ｇが短ければ、吐出バルブ５１の動作の速度が小さくなるような、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作速度に係る設定の変更量が算出され、基準動作時間Ｔ０Ｇよりも実動作時間Ｔ１Ｇが長ければ、吐出バルブ５１の動作の速度が大きくなるような、発動部５３Ｇによる吐出バルブ５１の動作速度に係る設定の変更量が算出さてもよい。
このようにして、１枚の基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１を用いた処理が完了されるとともに、次回以降の吐出バルブ５１における液供給経路ＰＡ１の閉鎖動作に要する実動作時間Ｔ１Ｇが、基準動作時間Ｔ０Ｇに近づけられ得る。これにより、例えば、吐出バルブ５１の動作環境に変化が生じても、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対するウォーターハンマーによる処理液Ｌｑ１のボタ落ちの発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。ここでも、実動作時間Ｔ１Ｇが基準動作時間Ｔ０Ｇに近づけられる処理は、例えば、複数枚の基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１を用いた処理が完了される毎に行われてもよいし、特定の時間毎に行われてもよいし、ユーザーの指定に応じて行われてもよいし、ランダムなタイミングで行われてもよいし、実動作時間Ｔ１Ｇと基準動作時間Ｔ０Ｇとの差が予め設定された許容範囲から外れた場合に行われてもよい。
なお、上記第８実施形態においても、上記第３実施形態と同様に、吐出バルブ５１に適用されるエアオペレートバルブＶａｏとして、例えば、ノーマル開型のエアオペレートバルブが採用されてもよい。この場合には、例えば、スピードコントローラ５３ｇが、メータイン制御を行う上記第７実施形態に係るスピードコントローラ５３ｆと同様なものに置換されてもよい。そして、この場合、吐出バルブ５１の動作速度（例えば閉鎖速度）に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｇにおける吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給速度を調整する設定が採用され得る。
また、上記第８実施形態において、例えば、検知部５５Ｆが上記第６実施形態に係る検知部５５Ｅと同様なものと置換され、該検知部５５Ｅが、例えば、配管部Ｐ１内における処理液Ｌｑ１の流速に係る特定状態を検知してもよい。このとき、特定状態としては、例えば、配管部Ｐ１のうちの吐出バルブ５１からノズルＮｚ１にかけた部分における、処理液Ｌｑ１の流速が基準流速に到達した状態（特定流れ状態）が採用される。なお、ここでは、基準流速に到達した状態とは、例えば、処理液Ｌｑ１の流速が基準流速よりも速い状態から基準流速以下となった状態をいう。
＜２−８．第９実施形態＞
例えば、図２１で示されるように、上記第７実施形態に係る処理液Ｌｑ１のスプラッシュの発生を抑制するための構成と、上記第８実施形態に係るウォーターハンマーによる処理液Ｌｑ１のボタ落ちの発生を抑制するための構成と、は組み合わせることができる。図２１は、第９実施形態に係る処理ユニット１００の一構成例を模式的に示す図である。
第９実施形態に係る基板処理装置１としては、例えば、図２１で示されるように、第７実施形態に係る基板処理装置１の構成（図１８）がベースとされて、処理液供給系５Ｆが、処理液供給系５Ｈに変更されたものが採用される。処理液供給系５Ｈとしては、例えば、上記第７実施形態に係る処理液供給系５Ｆがベースとされて、ガス用の配管部Ｐ２Ｆが配管部Ｐ２Ｈに変更されるともに、発動部５３Ｆが発動部５３Ｈに変更されたものが採用される。ガス用の配管部Ｐ２Ｈとしては、例えば、上記第７実施形態に係るガス用の配管部Ｐ２Ｆがベースとされ、第３ａ配管部分Ｐ２ｃａと第３ｂ配管部分Ｐ２ｃｂとの間に第３ｃ配管部分Ｐ２ｃｃが加えられたものが採用される。
発動部５３Ｈとしては、例えば、上記第７実施形態に係る発動部５３Ｆがベースとされ、電磁弁５３ｃと吐出バルブ５１との間に、上記第７実施形態に係るメータイン制御を行うことが可能なスピードコントローラ５３ｆに加えて、上記第８実施形態に係るメータアウト制御を行うことが可能なスピードコントローラ５３ｇを設けたものが採用される。例えば、スピードコントローラ５３ｆとスピードコントローラ５３ｇとが直列に接続された構成が採用される。図２１の例では、電磁弁５３ｃとスピードコントローラ５３ｇとが第３ａ配管部分Ｐ２ｃａによって接続され、スピードコントローラ５３ｇとスピードコントローラ５３ｆとが第３ｃ配管部分Ｐ２ｃｃによって接続され、スピードコントローラ５３ｆと吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１とが第３ｂ配管部分Ｐ２ｃｂによって接続されている。
このような構成が採用されても、上記第７実施形態に係る発動部５３Ｆおよび上記第８実施形態に係る発動部５３Ｇと同様に、例えば、発動部５３Ｈは、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１を開閉させる駆動力を該吐出バルブ５１に付与することができる。ここでは、発動部５３Ｈは、例えば、吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給および吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出によって仕切り部Ｐｄ１を動作させることで、連結部Ｖｈ１を介して弁体部Ｖｂ１を動作させることができる。
検知部５５Ｆは、例えば、吐出バルブ５１の動作に係る第１特定状態と第２特定状態とを検知することができる。第１特定状態としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１が完全に開放されている状態、あるいは吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１がある程度開放されている状態、などの液供給経路ＰＡ１の特定の開放度合い（開度）に係る状態（第１特定開度状態ともいう）が採用される。第２特定状態としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１が完全に閉鎖されている状態、あるいは吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１がある程度閉鎖されている状態、などの液供給経路ＰＡ１の特定の閉鎖度合い（開度）に係る状態（第２特定開度状態ともいう）が採用される。
上記構成を有する処理ユニット１００では、制御部９は、例えば、各種のトリガ信号を出力することで、発動部５３Ｈによって吐出バルブ５１および吸い戻しバルブ５２Ｂを動作させることができる。例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ｃに第１トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ｃがガス供給状態となり、吐出バルブ５１における弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を開放する開放動作が開始される。このとき、例えば、発動部５３Ｈのうちの電磁弁５３ｃおよびスピードコントローラ５３ｆ，５３ｇを介して吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１に制御ガスＧｓ１が供給され始めることで、弁体部Ｖｂ１が動作して、該弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を開放する動作（開放動作）が開始される。また、例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ａにも第１トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ａがガス排出状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂにおいて弁体部Ｖｂ１による液吸い戻し経路ＰＢ１を閉鎖する閉鎖動作が行われる。このとき、例えば、第１トリガ信号は、第１制御部９１から第２制御部９２にも出力されてよい。
また、例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ｃに第２トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ｃがガス排出状態となり、吐出バルブ５１における弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を閉鎖する閉鎖動作が開始される。このとき、例えば、発動部５３Ｈのうちの電磁弁５３ｃおよびスピードコントローラ５３ｆ，５３ｇを介して吐出バルブ５１の駆動機構ＤＲ１から制御ガスＧｓ１が排出されることで、弁体部Ｖｂ１が動作して、該弁体部Ｖｂ１による液供給経路ＰＡ１を閉鎖する動作（閉鎖動作）が開始される。また、例えば、第１制御部９１から電磁弁５３ａにも第２トリガ信号が出力されることで、電磁弁５３ａがガス供給状態となり、吸い戻しバルブ５２Ｂにおいて弁体部Ｖｂ１が動作し始めることで、液吸い戻し経路ＰＢ１を開放する動作（開放動作）が開始される。このとき、例えば、第２トリガ信号は、第１制御部９１から第２制御部９２にも出力されてよい。
また、制御部９は、例えば、第１トリガ信号を出力したタイミング（第１開放タイミングともいう）から、検知部５５Ｆが第１特定状態を検知したタイミング（第２開放タイミングともいう）までの吐出バルブ５１の実動作時間（実開放動作時間ともいう）Ｔ１ｏＨと、予め設定された開放に係る基準動作時間（基準開放動作時間ともいう）Ｔ０ｏＨと、の関係に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定を変更することができる。ここで、吐出バルブ５１の動作の速度としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１を開放する開放速度が採用される。発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の開放速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定が採用される。制御ガスＧｓ１の供給の速度は、例えば、単位時間当たりに第１領域Ａａ１に供給される制御ガスＧｓ１の量（ガス供給量）で表される。
また、制御部９は、例えば、第２トリガ信号を出力したタイミング（第１閉鎖タイミングともいう）から、検知部５５Ｆが第２特定状態を検知したタイミング（第２閉鎖タイミングともいう）までの吐出バルブ５１の実動作時間（実閉鎖動作時間ともいう）Ｔ１ｃＨと、予め設定された基準の閉鎖動作時間（基準閉鎖動作時間ともいう）Ｔ０ｃＨと、の関係に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定を変更することができる。ここで、吐出バルブ５１の動作の速度としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１を閉鎖する閉鎖速度が採用される。発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の閉鎖速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定が採用される。制御ガスＧｓ１の排出の速度は、例えば、単位時間当たりに第１領域Ａａ１から排出される制御ガスＧｓ１の量（ガス排出量）で表される。制御ガスＧｓ１の供給速度および排出速度を調整する設定としては、例えば、スピードコントローラ５３ｆ，５３ｇの流量制御弁の絞り度合い（開度）が採用される。
図２２は、第９実施形態に係る基板処理装置１における処理ユニット１００の制御フローの一例を示す流れ図である。ここでは、例えば、制御部９においてプログラムＰｇ１，Ｐｇ２が実行されることで制御フローが実現される。
まず、図２２のステップＳｅ１およびステップＳｅ２では、図８のステップＳｐ１およびステップＳｐ２と同様な処理が行われる。
次に、ステップＳｅ３では、図２０のステップＳｓ３と同様に、第１制御部９１によって、第１トリガ信号が出力される。このとき、第１トリガ信号は、例えば、発動部５３の電磁弁５３ａ，５３ｃと、第２制御部９２と、に対して出力される。その後、ステップＳｅ４およびステップＳｅ６に進み、ステップＳｅ４、ステップＳｅ５およびステップＳｅ１０からステップＳｅ１７までの処理と、ステップＳｅ６からステップＳｅ９の処理と、が並行して実行される。
ステップＳｅ４では、図２０のステップＳｓ４と同様に、発動部５３Ｈによって、ステップＳｅ３における第１トリガ信号の出力に応答して、吐出バルブ５１における液供給経路ＰＡ１の開放を開始させる。
ステップＳｅ５では、図２０のステップＳｓ５と同様に、第１制御部９１によって、第２トリガ信号が出力される。第２トリガ信号は、例えば、発動部５３の電磁弁５３ａ，５３ｃと、第２制御部９２と、に対して出力される。その後、ステップＳｅ１０およびステップＳｅ１４に進み、ステップＳｅ１０からステップＳｅ１３の処理と、ステップＳｅ１４からステップＳｅ１７の処理と、が並行して実行される。
ステップＳｅ６では、検知部５５Ｆによって、吐出バルブ５１の動作に係る第１特定状態が検知される。このとき、例えば、検知部５５Ｆにおける検知結果を示す特定の信号が第２制御部９２に出力される。
ステップＳｅ７では、第２制御部９２によって、ステップＳｅ３において第１トリガ信号が出力された第１開放タイミングからステップＳｅ６において第１特定状態が検知された第２開放タイミングまでの実開放動作時間Ｔ１ｏＨが認識される。
ステップＳｅ８では、第２制御部９２によって、ステップＳｅ７で認識された実開放動作時間Ｔ１ｏＨと、予め設定された基準開放動作時間Ｔ０ｏＨとの関係に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の開放の速度に係る設定の変更量が算出される。
ステップＳｅ９では、第２制御部９２によって、ステップＳｅ８で算出された変更量に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定が変更される。
つまり、ステップＳｅ７からステップＳｅ９では、第２制御部９２によって、実開放動作時間Ｔ１ｏＨと、予め設定された基準開放動作時間Ｔ０ｏＨとの関係に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の開放の速度に係る設定が変更される。ここでは、例えば、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定が変更される。ここで、第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定として、例えば、スピードコントローラ５３ｆの流量制御弁の開度あるいは該開度に対応するニードル弁の位置の設定が採用される。このようにして、次回以降の吐出バルブ５１による液供給経路ＰＡ１の開放動作に係る実開放動作時間Ｔ１ｏＨが、基準開放動作時間Ｔ０ｏＨに近づけられ得る。これにより、例えば、吐出バルブ５１の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１の吐出におけるスプラッシュの発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
なお、ステップＳｅ７からステップＳｅ９では、例えば、第２制御部９２によって、第１トリガ信号が出力される第１開放タイミングから第１特定状態が実現される第２開放タイミングまでの開放動作時間ＴｏＨと、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定値と、の間における基準の関係を示す情報（基準関係情報）における、実測された実開放動作時間Ｔ１ｏＨと基準開放動作時間Ｔ０ｏＨとの差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定について、変更量が算出され、該変更量に応じた変更がなされてもよい。なお、第２制御部９２では、例えば、開放動作時間ＴｏＨと、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定値と、の間の比例または反比例の関係における、実開放動作時間Ｔ１ｏＨと基準開放動作時間Ｔ０ｏＨとの差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定の変更量が算出されてもよい。また、第２制御部９２では、例えば、基準開放動作時間Ｔ０ｏＨよりも実開放動作時間Ｔ１ｏＨが短ければ、吐出バルブ５１の動作の速度が小さくなるような、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作速度に係る設定の変更量が算出され、基準開放動作時間Ｔ０ｏＨよりも実開放動作時間Ｔ１ｏＨが長ければ、吐出バルブ５１の動作の速度が大きくなるような、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作速度に係る設定の変更量が算出さてもよい。
ステップＳｅ１０では、図２０のステップＳｓ６と同様に、ステップＳｅ５における第２トリガ信号の出力に応答して、発動部５３Ｈによって、吐出バルブ５１において液供給経路ＰＡ１の閉鎖を開始させる。
次に、ステップＳｅ１１では、図２０のステップＳｓ７と同様に、ステップＳｅ５における第２トリガ信号の出力に応答して、発動部５３Ｈによって、吸い戻しバルブ５２Ｂが動作されることで、液吸い戻し動作が開始される。
次に、ステップＳｅ１２およびステップＳｅ１３では、図２０のステップＳｓ８およびステップＳｓ９と同様な処理が行われる。
次に、ステップＳｅ１４では、図２０のステップＳｓ１０と同様に、検知部５５Ｆによって、吐出バルブ５１の動作に係る第２特定状態が検知される。このとき、例えば、検知部５５Ｆにおける検知結果が、第２制御部９２に出力される。
次に、ステップＳｅ１５では、図２０のステップＳｓ１１と同様に、第２制御部９２によって、ステップＳｅ５において第２トリガ信号が出力された第１閉鎖タイミングからステップＳｅ１４において第２特定状態が検知された第２閉鎖タイミングまでの実閉鎖動作時間Ｔ１ｃＨが認識される。
次に、ステップＳｅ１６では、図２０のステップＳｓ１２と同様に、第２制御部９２によって、ステップＳｅ１５で認識された実閉鎖動作時間Ｔ１ｃＨと、予め設定された基準閉鎖動作時間Ｔ０ｃＨとの関係に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の閉鎖の速度に係る設定の変更量が算出される。吐出バルブ５１の閉鎖の速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出の速度に係る設定が採用される。
ステップＳｅ１７では、図２０のステップＳｓ１３と同様に、第２制御部９２によって、ステップＳｅ１６で算出された変更量に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定が変更される。具体的には、例えば、発動部５３Ｈによる第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定が変更される。
つまり、ステップＳｅ１５からステップＳｅ１７では、第２制御部９２によって、例えば、ステップＳｅ５において第２トリガ信号が出力された第１閉鎖タイミングからステップＳｅ１４において第２特定状態が検知された第２閉鎖タイミングまでの実閉鎖動作時間Ｔ１ｃＨと、予め設定された基準閉鎖動作時間Ｔ０ｃＨとの関係に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定が変更される。吐出バルブ５１の動作の速度としては、例えば、吐出バルブ５１によって液供給経路ＰＡ１を閉鎖する閉鎖速度が採用される。
また、ステップＳｅ１５からステップＳｅ１７では、例えば、第２制御部９２によって、第１制御部９１から第２トリガ信号が出力される第１閉鎖タイミングから第２特定状態が実現される第２閉鎖タイミングまでの閉鎖動作時間ＴｃＨと、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定値と、の間における基準の関係を示す情報（基準関係情報）における、実測された実閉鎖動作時間Ｔ１ｃＨと基準閉鎖動作時間Ｔ０ｃＨとの差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定について、変更量が算出され、該変更量に応じた変更がなされてもよい。なお、第２制御部９２では、例えば、閉鎖動作時間ＴｃＨと、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定値と、の間の比例または反比例の関係における、実閉鎖動作時間Ｔ１ｃＨと基準閉鎖動作時間Ｔ０ｃＨとの差に対応する設定値のズレ量に応じて、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作の速度に係る設定の変更量が算出されてもよい。また、第２制御部９２では、例えば、基準閉鎖動作時間Ｔ０ｃＨよりも実閉鎖動作時間Ｔ１ｃＨが短ければ、吐出バルブ５１の動作の速度が小さくなるような、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作速度に係る設定の変更量が算出され、基準閉鎖動作時間Ｔ０ｃＨよりも実閉鎖動作時間Ｔ１ｃＨが長ければ、吐出バルブ５１の動作の速度が大きくなるような、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の動作速度に係る設定の変更量が算出さてもよい。
このようにして、１枚の基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１を用いた処理が完了されるとともに、次回以降の吐出バルブ５１における液供給経路ＰＡ１の閉鎖動作に係る実閉鎖動作時間Ｔ１ｃＨが、基準閉鎖動作時間Ｔ０ｃＨに近づけられ得る。これにより、例えば、吐出バルブ５１の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対するウォーターハンマーによる処理液Ｌｑ１のボタ落ちの発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
なお、上記第９実施形態においても、上記第７実施形態および上記第８実施形態と同様に、吐出バルブ５１に適用されるエアオペレートバルブＶａｏとして、例えば、ノーマル開型のエアオペレートバルブが採用されてもよい。この場合には、例えば、メータアウト制御を行うためのスピードコントローラ５３ｇによって吐出バルブ５１における液供給経路ＰＡ１の開放速度が制御され、例えば、メータイン制御を行うためのスピードコントローラ５３ｆによって吐出バルブ５１における液供給経路ＰＡ１の閉鎖速度が制御され得る。このため、この場合には、吐出バルブ５１の開放速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１からの制御ガスＧｓ１の排出の速度を調整する設定が採用され、吐出バルブ５１の閉鎖速度に係る設定としては、例えば、発動部５３Ｈによる吐出バルブ５１の第１領域Ａａ１への制御ガスＧｓ１の供給の速度を調整する設定が採用され得る。
また、上記第９実施形態において、例えば、検知部５５Ｆが上記第６実施形態に係る検知部５５Ｅと置換されてもよい。この場合、検知部５５Ｅが、例えば、配管部Ｐ１内における処理液Ｌｑ１の存在または流速に係る第１特定状態を検知してもよい。このとき、該第１特定状態としては、例えば、配管部Ｐ１のうちの吐出バルブ５１からノズルＮｚ１にかけた部分における、特定位置まで処理液Ｌｑ１が到達した状態（特定給液状態）、または処理液Ｌｑ１の流速が基準流速に到達した状態（特定流れ状態）が採用される。なお、ここでは、基準流速に到達した状態とは、例えば、処理液Ｌｑ１の流速が基準流速よりも遅い状態から基準流速以上となった状態をいう。また、この場合、検知部５５Ｅが、例えば、配管部Ｐ１内における処理液Ｌｑ１の流速に係る第２特定状態を検知してもよい。このとき、該第２特定状態としては、例えば、配管部Ｐ１のうちの吐出バルブ５１からノズルＮｚ１にかけた部分における、処理液Ｌｑ１の流速が基準流速に到達した状態（特定流れ状態）が採用される。なお、ここでは、基準流速に到達した状態とは、例えば、処理液Ｌｑ１の流速が基準流速よりも速い状態から基準流速以下となった状態をいう。
＜２−９．その他＞
上記各実施形態では、処理液Ｌｑ１を供給する対象物としての基板Ｗの上面Ｕｓ１の形状は、略円形に限定されず、例えば、略矩形状等、その他の形状であってもよい。例えば、図２３で示されるように、保持部３Ｉの上面３ｕｆ上に保持された矩形状の基板Ｗの上面Ｕｓ１に対して、スリット状のノズルＮｚ１１から処理液Ｌｑ１が供給される構成が採用されてもよい。ここでは、例えば、処理液Ｌｑ１として、レジスト等が採用される。
上記第３実施形態および上記第４実施形態において、例えば、第２実施形態のように、例えば、実動作時間Ｔ１が開始する第１タイミングが、吐出バルブ５１の動作に係る第１特定状態が検知されたタイミングとされてもよい。この場合、例えば、第３実施形態において、第１検知部５６Ａを追加する構成が採用され得る。このような構成でも、例えば、吸い戻しバルブ５２Ｂの実動作時間Ｔ１と、基準動作時間Ｔ０との関係に応じて、吸い戻しバルブ５２Ｂの動作速度に係る設定が変更されればよい。ここでは、実動作時間Ｔ１は、例えば、第１特定状態が検知された第１タイミングから、第２特定状態が検知された第２タイミングまでの時間となる。ここで、第１特定状態は、例えば、ノズルＮｚ１につながっている配管部Ｐ１の途中に設けられた処理液Ｌｑ１の液供給経路ＰＡ１を開閉する吐出バルブ５１の開度に係る特定状態であればよい。第２特定状態は、例えば、配管部Ｐ１のうちの吐出バルブ５１とノズルＮｚ１との間の特定部分としての分岐部分Ｐｂ１から分岐した分岐配管部分Ｐ１ｄに設けられた吸い戻しバルブ５２ＢとノズルＮｚ１との間における処理液Ｌｑ１の存在または流れあるいは吸い戻しバルブ５２Ｂの動作に係る特定状態であればよい。このような構成であっても、例えば、吸い戻しバルブ５２Ｂの動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルＮｚ１から基板Ｗに対する処理液Ｌｑ１の吐出における不具合の発生を比較的簡易な構成で抑制することができる。
上記第３実施形態から上記第９実施形態において、例えば、吸い戻しバルブ５２Ｂ，５２Ｄが、特定部分としての分岐部分Ｐｂ１に設けられ、該分岐部分Ｐｂ１において分岐配管部分Ｐ１ｄへ処理液Ｌｑ１が流れる状態と、分岐部分Ｐｂ１において分岐配管部分Ｐ１ｄへ処理液Ｌｑ１が流れない状態と、を切り替えることが可能な、吸い戻しバルブに変更されてもよい。このような吸い戻しバルブとしては、例えば、発動部５３Ｂ，５３Ｄ，５３Ｅ，５３Ｆ，５３Ｇ，５３Ｈによって、吐出バルブ５１，５１ＥとノズルＮｚ１とが連通している状態と、ノズルＮｚ１と分岐配管部分Ｐ１ｄとが連通している状態と、を切り替えることが可能なバルブが適用され得る。なお、この場合には、例えば、ノズルＮｚ１と分岐配管部分Ｐ１ｄとが連通している状態が、分岐配管部分Ｐ１ｄにおける液吸い戻し経路ＰＢ１が開放されている状態となり、ノズルＮｚ１と分岐配管部分Ｐ１ｄとが連通していない状態が、液吸い戻し経路ＰＢ１が閉鎖されている状態となる。
なお、上記一実施形態および各種変形例をそれぞれ構成する全部または一部を、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能であることは、言うまでもない。
１ 基板処理装置
３，３Ｉ 保持部
５，５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ，５Ｅ，５Ｆ，５Ｇ，５Ｈ 処理液供給系
６ 気体供給部
７ 液供給部
９ 制御部
５１，５１Ｅ 吐出バルブ
５２，５２Ｂ，５２Ｄ 吸い戻しバルブ
５３，５３Ｂ，５３Ｄ，５３Ｅ，５３Ｆ，５３Ｇ，５３Ｈ 発動部
５３ａ，５３ｃ 電磁弁
５３ｂ，５３ｂＢ，５３ｆ，５３ｇ スピードコントローラ
５３ｄ，５３ｅ モータ部
５５，５５Ｂ，５５Ｃ，５５Ｅ，５５Ｆ 検知部
５５Ａ 第２検知部
５６Ａ 第１検知部
９１ 第１制御部
９１ａ，９２ａ 演算処理部
９１ｃ，９２ｃ 記憶部
９２ 第２制御部
１００ 処理ユニット
ＡＳ２ 液吸い戻し領域
Ａａ１，Ａａ２ 第１領域
Ａｂ１，Ａｂ２ 第２領域
Ｂｘ１，Ｂｘ２ 容器部
Ｄ１，Ｄ２ データ
ＤＲ１，ＤＲ１Ｄ，ＤＲ２，ＤＲ３ 駆動機構
Ｄｐ１，Ｄｐ２ 弁体部
Ｅｂ１，Ｅｂ２ 弾性体
Ｇｈ１，Ｇｈ２ ガス通過孔
Ｇｓ１ 制御ガス
Ｈｈ１，Ｈｈ１Ａ，Ｈｈ２ 挿通孔
Ｈｖ１ 弁摺動孔
Ｈｖ２ 弁設置孔
Ｉｓ１，Ｉｓ２ 内部空間
Ｌｈ１，Ｌｈ２ 液通過孔
Ｌｑ０，Ｌｑ１ 処理液
Ｎｚ０，Ｎｚ１，Ｎｚ１１ ノズル
Ｐ１，Ｐ１Ｂ 配管部（処理液用の配管部）
Ｐ１ｄ 分岐配管部分
Ｐ２，Ｐ２Ｂ，Ｐ２Ｄ，Ｐ２Ｆ，Ｐ２Ｈ 配管部（ガス用の配管部）
ＰＡ１ 液供給経路
ＰＢ１ 液吸い戻し経路
Ｐｂ１ 分岐部分
Ｐｄ１，Ｐｄ２ 仕切り部
Ｐｇ１，Ｐｇ２ プログラム
Ｔ 動作時間
Ｔ１，Ｔ１Ｅ，Ｔ１Ｆ，Ｔ１Ｇ 実動作時間
Ｔ１ｃＨ 実閉鎖動作時間
Ｔ１ｏＨ 実開放動作時間
Ｔ０，Ｔ０Ｅ，Ｔ０Ｆ，Ｔ０Ｇ 基準動作時間
Ｔ０ｃＨ 基準閉鎖動作時間
Ｔ０ｏＨ 基準開放動作時間
ＶＭ１，ＶＭ２ 本体部
Ｖｂ１，Ｖｂ２ 弁体部
Ｖｈ１，Ｖｈ２ 連結部
Ｖｓ１ 弁座部
Ｖｘ１，Ｖｘ２ 弁箱部
Ｗ，Ｗ０ 基板

Claims (56)

  1. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
    前記ノズルにつながっている前記処理液の流路を形成する配管部と、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させる複数のバルブと、
    前記複数のバルブを動作させる駆動力を前記複数のバルブに付与する発動部と、
    トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記複数のバルブを動作させる制御部と、
    特定状態を検知する検知部と、を備え、
    前記複数のバルブは、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、を含み、
    前記特定状態は、
    前記吸い戻しバルブの一部の領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態を含み、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力した第１タイミングから前記検知部が前記特定状態を検知した第２タイミングまでの前記吸い戻しバルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の動作速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  2. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
    前記ノズルにつながっている前記処理液の流路を形成する配管部と、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させる複数のバルブと、
    前記複数のバルブを動作させる駆動力を前記複数のバルブに付与する発動部と、
    トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記複数のバルブを動作させる制御部と、
    特定状態を検知する検知部と、を備え、
    前記複数のバルブは、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、を含み、
    前記特定状態は、
    前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態、前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態、または前記分岐配管部分の特定位置における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含み、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力した第１タイミングから前記検知部が前記特定状態を検知した第２タイミングまでの前記吸い戻しバルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の動作速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  3. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
    前記ノズルにつながっている前記処理液の流路を形成する配管部と、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させるバルブと、
    前記バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する発動部と、
    トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記バルブを動作させる制御部と、
    特定状態を検知する検知部と、を備え、
    前記バルブは、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、
    前記特定状態は、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、特定位置まで前記処理液が到達した特定給液状態または前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、あるいは前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、を含み、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力した第１タイミングから前記検知部が前記特定状態を検知した第２タイミングまでの前記吐出バルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の動作速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  4. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
    前記ノズルにつながっている前記処理液の流路を形成する配管部と、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させるバルブと、
    前記バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する発動部と、
    トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記バルブを動作させる制御部と、
    特定状態を検知する検知部と、を備え、
    前記バルブは、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、
    前記特定状態は、
    前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、あるいは前記配管部における前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、を含み、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力した第１タイミングから前記検知部が前記特定状態を検知した第２タイミングまでの前記吐出バルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の動作速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  5. 請求項１または請求項２に記載の基板処理装置であって、
    前記制御部は、
    前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の前記動作速度に係る設定を変更する、基板処理装置。
  6. 請求項３または請求項４に記載の基板処理装置であって、
    前記制御部は、
    前記変更量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の前記動作速度に係る設定を変更する、基板処理装置。
  7. 請求項１、請求項２および請求項５の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記発動部は、
    前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させる、基板処理装置。
  8. 請求項１に記載の基板処理装置であって、
    前記発動部は、
    前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させ、
    前記吸い戻しバルブは、
    前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、
    前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、
    前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
    前記駆動機構は、
    容器部と、
    前記容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、
    前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
    前記発動部は、
    前記第１領域へ気体を供給して前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が縮小するように前記弁体部を動作させるとともに、前記第１領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を実行させ、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記第１領域からの気体の排出を開始させ、
    前記一部の領域は、前記第１領域を含み、
    前記動作速度に係る設定は、
    前記発動部による前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。
  9. 請求項２に記載の基板処理装置であって、
    前記発動部は、
    前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させ、
    前記吸い戻しバルブは、
    前記特定部分または前記分岐配管部分の途中部分に設けられ、前記ノズルおよび前記配管部のうちの前記ノズルから前記吐出バルブにかけた領域に存在している前記処理液を吸い戻す液吸い戻し経路を開閉し、
    前記動作速度は、
    前記吸い戻しバルブによって前記液吸い戻し経路を開放する速度を含む、基板処理装置。
  10. 請求項９に記載の基板処理装置であって、
    前記吸い戻しバルブは、
    前記液吸い戻し経路を開閉する弁体部と、
    前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
    前記駆動機構は、
    容器部と、
    前記容器内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、
    前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
    前記発動部は、
    前記第１領域への気体の供給および前記第１領域からの気体の排出によって前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記弁体部を動作させ、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記弁体部の動作による液吸い戻し経路の開放を開始させることで前記吸い戻しを開始させ、
    前記動作速度に係る設定は、
    前記発動部による前記第１領域への気体の供給の速度または前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。
  11. 請求項９に記載の基板処理装置であって、
    前記吸い戻しバルブは、
    前記液吸い戻し経路を開閉する弁体部を有し、
    前記発動部は、
    前記吸い戻しバルブに駆動力を付与するモータを含み、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力することで前記モータによって前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し経路の開放を開始させることで前記吸い戻しを開始させ、
    前記動作速度に係る設定は、
    前記モータによる前記吸い戻しバルブの開放の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。
  12. 請求項３に記載の基板処理装置であって、
    前記発動部は、
    前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、
    前記動作速度は、
    前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放の速度を含む、基板処理装置。
  13. 請求項１２に記載の基板処理装置であって、
    前記発動部は、
    前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与するモータを含み、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力することで前記モータによって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、
    前記動作速度に係る設定は、
    前記モータによる前記吐出バルブの開放の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。
  14. 請求項１２に記載の基板処理装置であって、
    前記吐出バルブは、
    前記液供給経路を開閉する弁体部と、
    前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
    前記駆動機構は、
    容器部と、
    前記容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、
    前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
    前記発動部は、
    前記第１領域への気体の供給および前記第１領域からの気体の排出によって前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記弁体部を動作させ、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記弁体部による前記液供給経路の開放を開始させ、
    前記動作速度に係る設定は、
    前記発動部による前記第１領域への気体の供給の速度または前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。
  15. 請求項４に記載の基板処理装置であって、
    前記発動部は、
    前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させ、
    前記動作速度に係る設定は、
    前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。
  16. 請求項１５に記載の基板処理装置であって、
    前記吐出バルブは、
    前記液供給経路を開閉する弁体部と、
    前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
    前記駆動機構は、
    容器部と、
    前記容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、
    前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
    前記発動部は、
    前記第１領域への気体の供給および前記第１領域からの気体の排出によって前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記弁体部を動作させ、
    前記制御部は、
    前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記弁体部による前記液供給経路の閉鎖を開始させ、
    前記動作速度に係る設定は、
    前記発動部による前記第１領域への気体の供給の速度または前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。
  17. 請求項１２から請求項１４の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記制御部は、
    第１トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、第２トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させ、
    前記検知部は、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、前記処理液の到達または流速、あるいは前記吐出バルブの開度に係る第１特定状態を検知するとともに、前記吐出バルブの開度または前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速に係る第２特定状態を検知し、
    前記制御部は、
    前記第１トリガ信号を出力した第１開放タイミングから前記検知部が前記第１特定状態を検知した第２開放タイミングまでの実開放動作時間と、予め設定された基準開放動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの開放の速度に係る設定の変更量を算出するとともに、前記第２トリガ信号を出力した第１閉鎖タイミングから前記検知部が前記第２特定状態を検知した第２閉鎖タイミングまでの実閉鎖動作時間と、予め設定された基準閉鎖動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの閉鎖の速度に係る設定の変更量を算出する基板処理装置。
  18. 請求項１、請求項２、請求項５および請求項７から請求項１１の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係を示す基準関係情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
    前記制御部は、
    前記基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  19. 請求項３、請求項４、請求項６および請求項１２から請求項１７の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係を示す基準関係情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
    前記制御部は、
    前記基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  20. 請求項１、請求項２、請求項５および請求項７から請求項１１の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係を示す情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
    前記制御部は、
    前記比例または前記反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  21. 請求項３、請求項４、請求項６および請求項１２から請求項１７の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係を示す情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
    前記制御部は、
    前記比例または前記反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  22. 請求項１、請求項２、請求項５および請求項７から請求項１１の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記制御部は、
    前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置。
  23. 請求項３、請求項４、請求項６および請求項１２から請求項１７の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記制御部は、
    前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置。
  24. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
    前記ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、
    前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブに付与する発動部と、
    トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる制御部と、
    第１特定状態を検知する第１検知部と、
    第２特定状態を検知する第２検知部と、を備え、
    前記制御部は、
    前記第１検知部が前記第１特定状態を検知した第１タイミングから前記第２検知部が前記第２特定状態を検知した第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出し、
    前記第１特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定状態、または前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含み、
    前記第２特定状態は、前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態、前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態、または前記分岐配管部分の特定位置における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含む、基板処理装置。
  25. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
    前記ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、
    前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブに付与する発動部と、
    トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる制御部と、
    第１特定状態を検知する第１検知部と、
    第２特定状態を検知する第２検知部と、を備え、
    前記制御部は、
    前記第１検知部が前記第１特定状態を検知した第１タイミングから前記第２検知部が前記第２特定状態を検知した第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出し、
    前記第１特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定状態、または前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含み、
    前記第２特定状態は、前記吸い戻しバルブの一部の領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態、を含む、基板処理装置。
  26. 請求項２４または請求項２５に記載の基板処理装置であって、
    前記制御部は、
    前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定を変更する、基板処理装置。
  27. 請求項２５に記載の基板処理装置であって、
    前記吸い戻しバルブは、
    前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、
    前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、
    前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
    前記駆動機構は、
    容器部と、
    前記容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、
    前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
    前記発動部は、
    前記第１領域へ気体を供給して前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が縮小するように前記弁体部を動作させるとともに、前記第１領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を実行させ、
    前記一部の領域は、前記第１領域を含み、
    前記制御部は、
    前記第１タイミングから前記検知部が前記基準圧到達状態を検知した前記第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  28. 請求項２４から請求項２７の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記第１特定状態が実現されるタイミングから前記第２特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係を示す基準関係情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
    前記制御部は、
    前記基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  29. 請求項２４から請求項２７の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記第１特定状態が実現されるタイミングから前記第２特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値と、の間における比例または反比例の関係を示す情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
    前記制御部は、
    前記比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。
  30. 請求項２４から請求項２７の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置であって、
    前記制御部は、
    前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置。
  31. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられた複数のバルブと、該複数のバルブを動作させる駆動力を前記複数のバルブに付与する発動部と、制御部と、を備える基板処理装置の制御方法であって、
    前記複数のバルブは、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、を含み、
    前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記発動部によって前記複数のバルブを動作させ始めることで、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させ始める第１工程と、
    特定状態を検知する第２工程と、
    前記制御部によって、前記第１工程において前記トリガ信号が出力された第１タイミングから前記第２工程において前記特定状態が検知された第２タイミングまでの前記吸い戻しバルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第３工程と、を有し、
    前記特定状態は、
    前記吸い戻しバルブの一部の領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態を含む、基板処理装置の制御方法。
  32. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられた複数のバルブと、該複数のバルブを動作させる駆動力を前記複数のバルブに付与する発動部と、制御部と、を備える基板処理装置の制御方法であって、
    前記複数のバルブは、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、を含み、
    前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記発動部によって前記複数のバルブを動作させ始めることで、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させ始める第１工程と、
    特定状態を検知する第２工程と、
    前記制御部によって、前記第１工程において前記トリガ信号が出力された第１タイミングから前記第２工程において前記特定状態が検知された第２タイミングまでの前記吸い戻しバルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第３工程と、を有し、
    前記特定状態は、
    前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態、前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態、または前記分岐配管部分の特定位置における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含む、基板処理装置の制御方法。
  33. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられたバルブと、該バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する発動部と、制御部と、を備える基板処理装置の制御方法であって、
    前記バルブは、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、
    前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記発動部によって前記吐出バルブを動作させ始めることで、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させ始める第１工程と、
    特定状態を検知する第２工程と、
    前記制御部によって、前記第１工程において前記トリガ信号が出力された第１タイミングから前記第２工程において前記特定状態が検知された第２タイミングまでの前記吐出バルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第３工程と、を有し、
    前記特定状態は、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、特定位置まで前記処理液が到達した特定給液状態または前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、あるいは前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、を含む、基板処理装置の制御方法。
  34. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられたバルブと、該バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する発動部と、制御部と、を備える基板処理装置の制御方法であって、
    前記バルブは、
    前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、
    前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記発動部によって前記吐出バルブを動作させ始めることで、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させ始める第１工程と、
    特定状態を検知する第２工程と、
    前記制御部によって、前記第１工程において前記トリガ信号が出力された第１タイミングから前記第２工程において前記特定状態が検知された第２タイミングまでの前記吐出バルブの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第３工程と、を有し、
    前記特定状態は、
    前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、あるいは前記配管部における前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、を含む、基板処理装置の制御方法。
  35. 請求項３１または請求項３２に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第３工程で算出された前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定を変更する第４工程、
    をさらに有する、基板処理装置の制御方法。
  36. 請求項３３または請求項３４に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第３工程で算出された前記変更量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定を変更する第４工程、
    をさらに有する、基板処理装置の制御方法。
  37. 請求項３１、請求項３２および請求項３５の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第１工程において、
    前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させる、基板処理装置の制御方法。
  38. 請求項３１に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第１工程において、
    前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させ、
    前記吸い戻しバルブは、
    前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、該弁体部を動作させる駆動機構と、を含み、
    前記駆動機構は、容器部と、該容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、該仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を含み、
    前記第１工程において、
    前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記第１領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を開始させ、
    前記一部の領域は、前記第１領域を含み、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  39. 請求項３２に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第１工程において、
    前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させ、
    前記吸い戻しバルブは、
    前記特定部分または前記分岐配管部分の途中部分に設けられており、
    前記第１工程において、
    前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吸い戻しバルブに、前記ノズルおよび前記配管部のうちの前記ノズルから前記吐出バルブにかけた領域に存在している前記処理液を吸い戻す液吸い戻し経路を開放させ始め、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し経路の開放の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  40. 請求項３３に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記発動部は、
    前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、
    前記第１工程において、
    前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  41. 請求項３４に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記発動部は、
    前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、
    前記第１工程において、
    前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させ、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  42. 請求項４０に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第１工程において、
    前記制御部が第１トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、
    前記第２工程において、
    前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、前記処理液の到達または流速、あるいは前記吐出バルブの開度に係る第１特定状態を検知し、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記第１工程において前記制御部が前記第１トリガ信号を出力した第１開放タイミングから、前記第２工程において前記第１特定状態を検知した第２開放タイミングまでの実開放動作時間と、予め設定された基準開放動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの開放の速度に係る設定の変更量を算出し、
    前記基板処理装置の制御方法は、さらに、
    前記制御部が第２トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させる第５工程と、
    前記吐出バルブの開度あるいは前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速に係る第２特定状態を検知する第６工程と、
    前記制御部によって、前記第５工程において前記制御部が前記第２トリガ信号を出力した第１閉鎖タイミングから前記第６工程において前記第２特定状態を検知した第２閉鎖タイミングまでの実閉鎖動作時間と、予め設定された基準閉鎖動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの閉鎖の速度に係る設定の変更量を算出する第７工程と、
    を有する、基板処理装置の制御方法。
  43. 請求項３１、請求項３２、請求項３５および請求項３７から請求項３９の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  44. 請求項３３、請求項３４、請求項３６および請求項４０から請求項４２の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  45. 請求項３１、請求項３２、請求項３５および請求項３７から請求項３９の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  46. 請求項３３、請求項３４、請求項３６および請求項４０から請求項４２の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  47. 請求項３１、請求項３２、請求項３５および請求項３７から請求項３９の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  48. 請求項３３、請求項３４、請求項３６および請求項４０から請求項４２の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第３工程において、
    前記制御部によって、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吐出バルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  49. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれに付与する発動部と、制御部と、を有する基板処理装置の制御方法であって、
    前記発動部によって、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させ始める第１工程と
    第１特定状態を検知する第２工程と、
    第２特定状態を検知する第３工程と、
    前記制御部によって、前記第２工程で前記第１特定状態を検知した第１タイミングから前記第３工程で前記第２特定状態を検知した第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第４工程と、を有し、
    前記第１特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定状態、または前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含み、
    前記第２特定状態は、前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態、前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態、または前記分岐配管部分の特定位置における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含む、基板処理装置の制御方法。
  50. 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれに付与する発動部と、制御部と、を有する基板処理装置の制御方法であって、
    前記発動部によって、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させ始める第１工程と
    第１特定状態を検知する第２工程と、
    第２特定状態を検知する第３工程と、
    前記制御部によって、前記第２工程で前記第１特定状態を検知した第１タイミングから前記第３工程で前記第２特定状態を検知した第２タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第４工程と、を有し、
    前記第１特定状態は、前記吐出バルブの開度に係る特定状態、または前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の流速が特定の流速に到達した状態、を含み、
    前記第２特定状態は、前記吸い戻しバルブの一部の領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態、を含む、基板処理装置の制御方法。
  51. 請求項４９または請求項５０に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記制御部によって、前記第４工程において算出された前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定を変更する第５工程、
    をさらに有する、基板処理装置の制御方法。
  52. 請求項５０に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記吸い戻しバルブは、
    前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、該弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
    前記駆動機構は、
    容器部と、該容器部内の空間を第１領域と第２領域とに仕切っている仕切り部と、該仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
    前記第１工程において、
    前記発動部によって、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記第１領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させ始めることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させ始めて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を実行させ始め、
    前記一部の領域は、前記第１領域を含み、
    前記第４工程において、
    前記制御部によって、前記実動作時間と予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記第１領域からの気体の排出の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  53. 請求項４９から請求項５２の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第４工程において、
    前記制御部によって、前記第１特定状態が実現されるタイミングから第２特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間についての基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  54. 請求項４９から請求項５２の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第４工程において、
    前記制御部によって、前記第１特定状態が実現されるタイミングから第２特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値と、の間についての比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  55. 請求項４９から請求項５２の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
    前記第４工程において、
    前記制御部によって、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記バルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。
  56. 基板処理装置に含まれる演算処理部によって実行されることで、該基板処理装置を、請求項１から請求項３０の何れか１つの請求項に記載の基板処理装置として機能させる、プログラム。
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