JP4422000B2 - 基板処理方法、制御プログラム、およびコンピューター記憶媒体 - Google Patents
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Description
前記前検査工程後の基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布工程と、
フォトマスクを用いて露光することにより前記レジスト膜にマスクパターンを転写する露光工程と、
転写されたマスクパターンを元に基板上にレジストパターンを形成する現像工程と、
前記現像工程の後に、基板を検査して欠陥を検出する後検査工程と、
を含み、
前記前検査工程で、以後の処理を続けても半導体製品として正常に製品化することができない欠陥が検出された基板に対し、以降の工程では、前記正常に製品化することができない欠陥が検出されない正常な基板に対する処理とは異なるダミー処理を行ない、
前記レジスト塗布工程に対応するダミー処理として、基板に対しレジスト液を塗布しないダミー塗布処理が行われ、
前記露光工程に対応するダミー処理として、基板に対し光を照射しないダミー露光処理が行われ、
前記現像工程に対応するダミー処理として、基板に対し現像液を供給しないダミー現像処理が行なわれることを特徴とする、基板処理方法が提供される。
前記露光前検査工程で前記正常に製品化することができない欠陥が検出された基板に対し、以降の工程では、前記正常に製品化することができない欠陥が検出されない正常な基板に対する処理とは異なる前記ダミー露光処理、及び前記ダミー現像処理を行なうことが好ましい。
前記現像前検査工程で前記正常に製品化することができない欠陥が検出された基板に対し、以降の工程では、前記正常に製品化することができない欠陥が検出されない正常な基板に対する処理とは異なる前記ダミー現像処理を行なうことが好ましい。
前記制御プログラムは、実行時に、上記第1の観点の基板処理方法が行なわれるように、基板処理装置を制御するものであることを特徴とする、コンピューター記憶媒体が提供される。
なお、以上の図1〜3では、欠陥検査ユニット(INS)を一つのみ図示しているが、例えばレジスト塗布処理、露光処理、現像処理などの処理毎にウエハWの検査を実施する場合には、各処理ユニットの近傍にそれぞれ欠陥検査ユニット(INS)を設けることもできる。
図4は、本発明の第1実施形態にかかる基板処理方法の工程例を示すフロー図である。本実施形態の基板処理方法は、レジスト塗布/現像処理システム1を用いウエハに対してフォトリソグラフィー工程を実施するものであり、図4では主要な工程のみを示している。
まず、ステップS101では、ウエハWに対して前検査工程としての処理前検査を実施する。処理前検査は、検査ステーション12の欠陥検査ユニット(INS)において実施される。処理前検査で検出された欠陥に関する情報、例えばウエハW上の欠陥の位置、大きさ、形状、個数などは、コンピュータ(PC)に保存される。
現像処理後、ステップS105で後検査工程としての現像後検査が行なわれる。現像後検査は、ステップS101の処理前検査と同様に検査ステーション12の欠陥検査ユニット(INS)において実施され、検出された欠陥に関する情報は、コンピュータ(PC)に保存される。
従って、図5(b)の結果と同図(a)の結果とを比較し、現像後検査で検出されたマクロ欠陥から、ウエハWに元々存在していたマクロ欠陥を差引くことにより、同図(c)に示すように、フォトリソグラフィー工程で生じたマクロ欠陥のみを抽出することができる。図5(b)の結果と同図(a)の結果との比較は、画像解析により、例えば欠陥の座標(位置)、大きさ(X方向、Y方向)などを元に同一欠陥であるかどうかを識別することによって行なうことが出来る。このフォトリソグラフィー工程で生じた欠陥の抽出作業は、例えばコンピューター(PC)上で自動的に実施できる。
図6は、本発明の第2実施形態にかかる基板処理方法における処理ルーチン例を示すフロー図である。本実施形態では、ある1枚のウエハWに対し、レジスト塗布/現像処理システム1を用いフォトリソグラフィー工程を実施する通常処理フロー(ステップS201〜ステップS211)と、重大な欠陥が検出された場合にダミー処理を行なうダミー処理フロー(ステップS221〜S226)が設けられている。
処理前検査で検出された欠陥に関する情報を元に、ステップS202では、解析を行い、これらの欠陥が重大な欠陥であるか否かが判断される。なお、本発明において「重大な欠陥」とは、それ以後の処理を続けても半導体製品として正常に製品化することができないような欠陥を意味する。欠陥が重大か否かの判断は、ウエハWの下地欠陥の情報、例えばウエハW上の欠陥の位置、大きさ、形状、個数などを指標として、軽微な欠陥から重大な欠陥までを分類したマスタテーブルを予め作製しておき、このマスタテーブルとステップS201で得られた検査結果をコンピューター(PC)上で照合することにより行なうことができる。
そして、ステップS211では、塗布前検査(ステップS201)で検出された欠陥と、現像後検査(ステップS210)で検出された欠陥とを照合し、解析処理が行なわれる。この解析処理では、欠陥の位置や大きさ、形状、数などの欠陥情報を元に、ステップS210の現像後検査の欠陥からステップS201の塗布前検査の欠陥が削除される。これにより、フォトリソグラフィー工程で生じた欠陥を把握することができる(第1実施形態に関する図5参照)。なお、ステップS209の現像処理で生じた重大な欠陥のみを抽出することもできる。
また、ステップS205ではじめて重大な欠陥がある(Yes)と判断されたウエハWには、ダミー露光処理(ステップS223)およびダミー現像処理(ステップS225)が行なわれる。
さらに、ステップS208ではじめて重大な欠陥がある(Yes)と判断されたウエハWには、ダミー現像処理(ステップS225)が行なわれる。
ダミー処理フローにおける各ダミー処理の詳細は、次に示す通りである。
なお、ステップS221のダミー塗布処理の後は、ステップS222でダミー検査が実施される。
なお、ステップS223のダミー露光処理の後は、ステップS224でダミー検査が実施される。
なお、ステップS225のダミー現像処理の後は、ステップS226でダミー検査が実施され、ウエハカセット(CR)へ戻される。重大な欠陥があるウエハWについては、廃棄もしくは再生処理される。
11;カセットステーション
12;検査ステーション
13;処理ステーション
14;インターフェースステーション
15;露光装置
16;第1主ウエハ搬送装置
17;第2主ウエハ搬送装置
18;第3主ウエハ搬送装置
22;ウエハ搬送機構
31;検査モジュール
INS;欠陥検査ユニット
ODP;線幅測定ユニット
G1〜G9;第1処理ユニット群〜第9処理ユニット群
W…半導体ウエハ
Claims (7)
- 基板を検査して欠陥を検出する前検査工程と、
前記前検査工程後の基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布工程と、
フォトマスクを用いて露光することにより前記レジスト膜にマスクパターンを転写する露光工程と、
転写されたマスクパターンを元に基板上にレジストパターンを形成する現像工程と、
前記現像工程の後に、基板を検査して欠陥を検出する後検査工程と、
を含み、
前記前検査工程で、以後の処理を続けても半導体製品として正常に製品化することができない欠陥が検出された基板に対し、以降の工程では、前記正常に製品化することができない欠陥が検出されない正常な基板に対する処理とは異なるダミー処理を行ない、
前記レジスト塗布工程に対応するダミー処理として、基板に対しレジスト液を塗布しないダミー塗布処理が行われ、
前記露光工程に対応するダミー処理として、基板に対し光を照射しないダミー露光処理が行われ、
前記現像工程に対応するダミー処理として、基板に対し現像液を供給しないダミー現像処理が行なわれることを特徴とする、基板処理方法。 - 前記レジスト塗布工程後の基板を検査して欠陥を検出する露光前検査工程をさらに含み、
前記露光前検査工程で前記正常に製品化することができない欠陥が検出された基板に対し、以降の工程では、前記正常に製品化することができない欠陥が検出されない正常な基板に対する処理とは異なる前記ダミー露光処理、及び前記ダミー現像処理を行なうことを特徴とする、請求項1に記載の基板処理方法。 - 前記露光工程後の基板を検査して欠陥を検出する現像前検査工程をさらに含み、
前記現像前検査工程で前記正常に製品化することができない欠陥が検出された基板に対し、以降の工程では、前記正常に製品化することができない欠陥が検出されない正常な基板に対する処理とは異なる前記ダミー現像処理を行なうことを特徴とする、請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の基板処理方法。 - 前記前検査工程により検出された欠陥と、前記後検査工程により検出された欠陥と、を比較することにより、フォトリソグラフィー工程における欠陥のみを抽出するようにしたことを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板処理方法。
- さらに基板を加熱する熱処理工程を含み、該熱処理工程に対応する前記ダミー処理として、待機位置に基板を待機させて加熱を行なわないダミー熱処理を行なうことを特徴とする、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の基板処理方法。
- コンピューター上で動作し、実行時に、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載された基板処理方法が行なわれるように基板処理装置を制御することを特徴とする、制御プログラム。
- コンピューター上で動作する制御プログラムが記憶されたコンピューター記憶媒体であって、
前記制御プログラムは、実行時に、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載された基板処理方法が行なわれるように、基板処理装置を制御するものであることを特徴とする、コンピューター記憶媒体。
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