JP5775851B2 - 塗布装置および塗布液充填方法 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施形態に係る塗布装置の構成を示す模式側面図である。なお、以下においては、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸、Y軸およびZ軸を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。
ところで、上述してきた第1の実施形態では、圧力調整部110a〜110cが、各小部屋Sa〜Scに対して気体を給排することによって各小部屋Sa〜Scの圧力を調整することとした。しかし、小部屋Sa〜Scの圧力制御方法は、これに限定されない。そこで、以下では、小部屋Sa〜Scの圧力制御方法の他の例について図15を用いて説明する。図15は、小部屋Sa〜Scの圧力制御方法の他の例を示す図である。
ところで、上述してきた各実施形態では、ノズルが仕切板を備え、かかる仕切板によって貯留室が複数の小部屋に分割される場合の例について説明してきた。しかし、ノズルは、必ずしも仕切板を備えることを要しない。以下では、仕切板を備えないノズルの例について説明する。図16は、第3の実施形態に係るノズルの構成を示す模式正断面図である。また、図17は、塗布液充填処理に関する機器と第3の実施形態に係るノズルとの接続関係を示す模式図である。
貯留室内の圧力制御方法および塗布液充填方法は、第1〜第3の実施形態において説明してきた方法に限定されない。以下では、貯留室内の圧力制御方法および塗布液充填方法の他の例について図18および図19を用いて説明する。図18は、塗布液充填処理に関する機器と第4の実施形態に係るノズルとの接続関係を示す模式図である。また、図19は、図18における圧力調整管周辺の模式拡大図である。
R 塗布液
S 貯留室
C 流路
D 吐出口
1 塗布装置
10 載置台
20 第1の移動機構
21 基板保持部
22 駆動部
30 ノズル
31 第1本体部
32 第2本体部
33 蓋部
34 ランド部
35 一時貯留部
38a,38B 仕切板
40 昇降機構
50a 厚み測定部
50b ノズル高さ測定部
60 ノズル洗浄部
80 ノズル待機部
90 第2の移動機構
100 制御装置
110a〜110c 圧力調整部
Claims (11)
- 塗布液が貯留される貯留室と、前記貯留室に連通するスリット状の流路とを備え、前記流路の先端に形成される吐出口から前記塗布液を吐出するノズルと、
前記ノズルと基板とを前記基板の表面に沿って相対的に移動させる移動機構と、
前記貯留室の内部の圧力を調整する圧力調整部と、
前記圧力調整部を制御して前記貯留室の内部の圧力を調整する圧力制御部と
を備え、
前記圧力制御部は、
前記圧力調整部を制御して、前記貯留室の内部を負圧にし、さらに、負圧にした前記貯留室の内部の圧力を徐々に低下させながら、前記貯留室の内部へ前記塗布液を充填し、前記貯留室の内部を負圧にした状態で前記塗布液を前記基板に塗布すること
を特徴とする塗布装置。 - 前記圧力制御部は、
前記基板に前記塗布液を塗布する間、負圧にした前記貯留室の内部の圧力を徐々に上昇させること
を特徴とする請求項1に記載の塗布装置。 - 前記圧力制御部は、
前記貯留室の内部を第1の負圧にし、さらに、前記貯留室の内部の圧力を前記第1の負圧から前記第1の負圧よりも低い第2の負圧へ徐々に低下させながら前記貯留室の内部へ前記塗布液を充填し、その後、前記基板に前記塗布液を塗布する間、前記貯留室の内部の圧力を前記第2の負圧から前記第1の負圧へ徐々に上昇させること
を特徴とする請求項2に記載の塗布装置。 - 前記圧力制御部は、
前記基板に前記塗布液を塗布する間のうち前記ノズルが前記基板の一端側から他端側へ相対的に移動する間、負圧にした前記貯留室の内部の圧力を前記第2の負圧から前記第2の負圧よりも高い第3の負圧へ徐々に上昇させ、その後、前記ノズルが前記基板へ向けて降下する際、負圧にした前記貯留室の内部の圧力を前記第3の負圧から前記第3の負圧よりも高い前記第1の負圧へ上昇させること
を特徴とする請求項3に記載の塗布装置。 - 前記吐出口の長手方向に延在する当接部材
を備え、
前記圧力制御部は、
前記ノズルの吐出口を前記当接部材に当接させた状態で、前記貯留室の内部へ前記塗布液を充填すること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の塗布装置。 - 前記ノズルは、
前記貯留室の内部と前記貯留室の外部とを連通し、外部から供給される前記塗布液を前記貯留室の内部へ供給する液供給口
を備え、
前記液供給口は、
前記流路の長手方向に延在するスリット形状を有すること
を特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の塗布装置。 - 前記圧力制御部は、
前記基板に前記塗布液を塗布する間、前記塗布液の吐出量が一定となるように、前記圧力調整部を制御して前記貯留室の内部の圧力を調整すること
を特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の塗布装置。 - 前記貯留室に貯留された塗布液の液面を検知する液面検知部
を備え、
前記ノズルは、
前記貯留室の内部空間に面する側面部が透明部材で形成され、
前記液面検知部は、
前記透明部材を介して前記貯留室の内部空間を臨む位置に配置されること
を特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の塗布装置。 - 前記液面検知部による検知結果に基づいて前記液面が平坦化したか否かを判定し、平坦化したと判定した場合に、前記ノズルを用いた塗布処理を開始させる塗布処理制御部
を備えることを特徴とする請求項8に記載の塗布装置。 - 光を反射または屈折させるプリズム
を備え、
前記液面検知部は、
前記液面に対して所定の角度で傾斜して配置されるとともに、前記液面と略平行な方向から見た該液面の像を前記プリズムを介して撮像すること
を特徴とする請求項8または9に記載の塗布装置。 - 塗布液が貯留される貯留室と、前記貯留室に連通するスリット状の流路とを備え、前記流路の先端に形成される吐出口から前記塗布液を吐出するノズルが備える前記貯留室の内部を負圧に調整する準備工程と、
前記準備工程において負圧にした前記貯留室の内部の圧力を徐々に低下させながら、前記貯留室の内部へ前記塗布液を充填する充填工程と、
前記貯留室の内部を負圧にした状態で前記塗布液を基板に塗布する塗布工程と
を含むことを特徴とする塗布液充填方法。
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