JP2018129395A - 基板処理装置、基板処理装置の制御方法およびプログラム - Google Patents
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Abstract
Description
<1−1.基板処理装置の概略構成>
図1は、第1実施形態に係る基板処理装置1の概略構成の一例を示す模式的な平面図である。基板処理装置1は、例えば、基板Wの一例としての半導体基板(ウエハ)の表面に対して処理液を供給することで各種処理を行うことができる枚葉式の装置である。各種処理には、例えば、薬液等でエッチングを施す薬液処理、液体で汚れを除去する洗浄処理、水で洗い流すリンス処理およびレジスト等を塗布する塗布処理等が含まれる。
図2は、第1実施形態に係る処理ユニット100の一構成例を模式的に示す図である。処理ユニット100は、例えば、平面内で回転している基板Wの一主面上(上面ともいう)Us1に処理液Lq1を供給することで、基板Wの上面Us1に対して各種処理を施すことができる。処理液Lq1には、例えば、粘度が比較的低い水または薬液あるいは粘度が比較的高い有機系のレジストまたはペースト等、流動性を有する液体一般が適用される。
保持部3は、例えば、基板Wを略水平姿勢で保持して回転させることができる。保持部3には、例えば、基板Wの上面Us1の逆の他の一主面(下面ともいう)Bs1を真空吸着可能な上面3ufを有する真空チャック、または基板Wの周縁部を挟持可能な複数個のチャックピンを有する挟持式のチャック等が適用される。
回転機構4は、保持部3を回転させることができる。回転機構4には、例えば、上端部に保持部3が連結されて鉛直方向に沿って延在している回転支軸4sと、該回転支軸4sを鉛直方向に沿った仮想的な回転軸Ax1を中心として回転させることが可能なモータ等を有する回転駆動部4mと、を有する構成が適用される。ここでは、例えば、回転駆動部4mによって回転支軸4sが回転軸Ax1を中心として回転されることで、保持部3が略水平面内で回転される。これにより、例えば、保持部3上に保持されている基板Wが、回転軸Ax1を中心として回転される。ここで、基板Wの上面Us1および下面Bs1が略円形であれば、回転軸Ax1は、例えば、基板Wの上面Us1および下面Bs1の中心を通る。回転駆動部4mによる回転支軸4sの回転、すなわち保持部3および基板Wの回転の有無および速度は、例えば、第1制御部91および第2制御部92を含む制御部9によって制御される。
処理液供給系5は、ノズルNz1と、処理液用の配管部P1と、ガス用の配管部P2と、吐出バルブ51と、吸い戻しバルブ52と、発動部53と、検知部55と、を備えている。
ノズルNz1は、保持部3に保持された基板Wに向けて処理液Lq1を吐出することができる。例えば、処理液Lq1が、リンス水または薬液である場合には、ノズルNz1としては、連続流の状態で処理液Lq1を吐出するストレートノズルが採用され得る。なお、処理ユニット100の隔壁で区画された処理室(チャンバー)2(図1参照)内には、例えば、少なくともノズルNz1と保持部3とが配置されていればよい。
処理液用の配管部P1は、ノズルNz1につながっており、処理液Lq1が流れる経路(流路ともいう)を形成している。図2の例では、配管部P1は、第1配管部分P1aと、第2配管部分P1bと、第3配管部分P1cと、を含んでいる。第1配管部分P1aは、処理ユニット100に対して処理液Lq1を供給する液供給部7と吐出バルブ51とをつないでいる。液供給部7は、例えば、基板処理装置1の外部に設けられ、処理液Lq1を貯留するタンクと、該タンクから処理液Lq1を基板処理装置1の第1配管部分P1aに向けて送給するポンプと、を有する。第2配管部分P1bは、吐出バルブ51と吸い戻しバルブ52とをつないでいる。第3配管部分P1cは、吸い戻しバルブ52とノズルNz1とをつないでいる。
ガス用の配管部P2は、発動部53と吐出バルブ51とをつないでいるとともに、発動部53と吸い戻しバルブ52とをつないでいる。そして、配管部P2は、発動部53と吐出バルブ51との間において、吐出バルブ51の動作を制御するための制御ガスGs1が導入または排出される経路を形成し、発動部53と吸い戻しバルブ52との間において、吸い戻しバルブ52の動作を制御するための制御ガスGs1が導入または排出される経路を形成している。図2の例では、配管部P2は、第1配管部分P2aと、第2配管部分P2bと、第3配管部分P2cと、第4配管部分P2dと、第5配管部分P2eと、を含んでいる。
吐出バルブ51は、配管部P1の途中部分に設けられ、液供給部7からノズルNz1に対して処理液Lq1を供給する経路(液供給経路ともいう)PA1を開閉することができる。これにより、配管部P1およびノズルNz1における処理液の存在状態を変化させることができる。図2の例では、吐出バルブ51として、制御ガスの供給および排出に応じて液供給経路PA1を開閉するエアオペレート方式のバルブ(エアオペレートバルブともいう)Vaoが適用されている。より具体的には、エアオペレートバルブVaoとして、制御ガスが排出されている標準状態において液供給経路PA1を閉鎖するタイプ(ノーマル閉型ともいう)のエアオペレートバルブが採用されている。
吸い戻しバルブ52は、配管部P1の途中部分に設けられ、第3配管部分P1cおよびノズルNz1における処理液Lq1の存在状態を変化させることができる。図2の例では、吸い戻しバルブ52は、配管部P1のうちの吐出バルブ51とノズルNz1との間の特定部分に設けられており、ノズルNz1および第3配管部分P1cにおける処理液を吸い戻す動作(液吸い戻し動作ともいう)を行うことができる。これにより、配管部P1およびノズルNz1における処理液の存在状態を変化させることができる。また、図2の例では、吸い戻しバルブ52として、制御ガスの供給および排出に応じて、液吸い戻し動作と、第3配管部分P1cへ処理液Lq1を押し出す動作(液押し出し動作ともいう)と、を行う、エアオペレート方式の吸い戻しバルブ(エア制御吸い戻しバルブともいう)Vsbが適用されている。より具体的には、エア制御吸い戻しバルブVsbとして、制御ガスGs1が排出されている標準状態において処理液Lq1が吸い戻されている状態となるタイプ(ノーマル吸い戻し型ともいう)のエア制御吸い戻しバルブが採用されている。
発動部53は、吐出バルブ51を動作させる駆動力を該吐出バルブ51に付与するとともに、吸い戻しバルブ52を動作させる駆動力を該吸い戻しバルブ52に付与することができる。
検知部55は、吸い戻しバルブ52の動作に係る特定状態を検知することができる。ここで、特定状態として、例えば、吸い戻しバルブ52における駆動機構DR2の第1領域Aa2の気圧が基準の圧力(基準圧ともいう)に到達した状態(基準圧到達状態ともいう)が採用される。図2の例では、検知部55として、駆動機構DR2の第1領域Aa2に接続された第4配管部分P2dにおける制御ガスGs1の圧力を計測可能な圧力計が採用されている。この圧力計で計測される計測結果を示す信号は、例えば、第2制御部92に出力される。
制御部9は、処理ユニット100の動作を統括的に制御することができる。制御部9は、基板処理装置1の全体の制御を行う第1制御部91と、各処理ユニット100のスピードコントローラ53bの制御用に設けられた第2制御部92と、を有している。
図8は、基板処理装置1における処理ユニット100の制御フローの一例を示す流れ図である。ここでは、例えば、制御部9においてプログラムPg1,Pg2が実行されることで制御フローが実現される。
以上のように、第1実施形態に係る基板処理装置1では、例えば、ノズルNz1につながっている配管部P1の途中に設けられた吸い戻しバルブ52を動作させる第2トリガ信号が制御部9によって出力された第1タイミングから、配管部P1内における吸い戻しバルブ52の動作に係る特定状態が検知された第2タイミングまでの吸い戻しバルブ52の実動作時間T1と、基準動作時間T0との関係に応じて、吸い戻しバルブ52の動作速度に係る設定が変更される。これにより、例えば、吸い戻しバルブ52の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルNz1の先端における処理液Lq1の吸い戻し量を監視するカメラシステム等がなくても、ノズルNz1から基板Wに対する処理液Lq1の吐出における不具合の発生が比較的簡易な構成で抑制される。具体的には、例えば、吸い戻しバルブ52の動作環境に変化が生じても、次回以降の基板処理では、ノズルNz1から基板Wに対する処理液Lq1のボタ落ちの発生が比較的簡易な構成で抑制される。
本発明は上述の第1実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
上記第1実施形態において、例えば、実動作時間T1が開始する第1タイミングとして、吐出バルブ51の動作に係る第1特定状態が検知されたタイミングが採用されてもよい。
上記各実施形態において、例えば、液吸い戻し動作として、ダイヤフラム方式のサックバックの代わりに、サイフォン方式のサックバックまたはコンバム方式のサックバックが採用されてもよい。サイフォン方式のサックバックおよびコンバム方式のサックバックは、ノズルNz1から吐出される処理液Lq1を交換する際に、配管部P1のうちの吐出バルブ51からノズルNz1に至るまでの部分に存在している処理液Lq1を吸い戻して排出する液吸い戻し動作である。
上記第3実施形態において、例えば、図13で示されるように、検知部55Bが、配管部P1B内における処理液Lq1の存在または流速に係る特定状態を検知する検知部55Cに変更されてもよい。この変更に伴って、処理液供給系5Bは、処理液供給系5Cとされる。図13は、第4実施形態に係る処理ユニット100の一構成例を模式的に示す図である。
上記第4実施形態において、例えば、図14および図15で示されるように、エアオペレートバルブVaoが適用された吸い戻しバルブ52Bの代わりに、モータ部53dの駆動力によって弁体部Vb1を動作させる電動式モータバルブVmoが適用された吸い戻しバルブ52Dが採用されてもよい。図14は、第5実施形態に係る処理ユニット100の一構成例を模式的に示す図である。図15は、電動式モータバルブVmoの一構成例を模式的に示す図である。
ところで、例えば、ノズルNz0から基板W0に対する処理液Lq0の吐出の開始および停止を行う吐出バルブについても、吸い戻しバルブと同様に、吐出バルブによる処理液Lq0の供給経路の開閉が遅くなり過ぎると、基板W0に対する処理液Lq0の供給に要する時間が長くなる。このとき、基板W0に対する処理に要する時間(タクトタイム)が長くなり、基板処理装置における生産効率が低下する。また、例えば、基板W0としての半導体基板がフッ酸等の処理液で処理された後に過度なエッチングを防ぐためにリンス水等の他の処理液を素早く吐出したい場面等では、処理液の供給の停止および処理液の供給の開始を素早く実施したい場合もある。
上記第6実施形態において、例えば、図18で示されるように、吐出バルブ51Eが、エアオペレートバルブVaoが適用された吐出バルブ51に変更されることで、吐出バルブ51による液供給経路PA1の開放速度が制御されてもよい。これにより、例えば、吐出バルブ51による液供給経路PA1が開放される開放速度が制御されることで、ノズルNz0の先端部から処理液Lq0が勢い良く飛散するスプラッシュの発生が抑制され得る。また、例えば、図18で示されるように、吸い戻しバルブ52Dが、エアオペレートバルブVaoが適用された吸い戻しバルブ52Bに変更されてもよい。図18は、第7実施形態に係る処理ユニット100の一構成例を模式的に示す図である。
また、例えば、吐出バルブによって処理液Lq0の供給経路が急に閉鎖されると、ノズルNz0から基板W0に向けた処理液Lq0の吐出が急に停止される。このとき、例えば、図25で示されるように、いわゆるウォーターハンマーによってノズルNz0の先端部から基板W0の上面Us0に処理液Lq0の液滴Dp0が落下するボタ落ちが生じる場合がある。このウォーターハンマーによるボタ落ちも、上記スプラッシュ等と同様に、吐出バルブの動作環境の変化に応じた吐出バルブの動作速度の変動によって生じ得る。
例えば、図21で示されるように、上記第7実施形態に係る処理液Lq1のスプラッシュの発生を抑制するための構成と、上記第8実施形態に係るウォーターハンマーによる処理液Lq1のボタ落ちの発生を抑制するための構成と、は組み合わせることができる。図21は、第9実施形態に係る処理ユニット100の一構成例を模式的に示す図である。
上記各実施形態では、処理液Lq1を供給する対象物としての基板Wの上面Us1の形状は、略円形に限定されず、例えば、略矩形状等、その他の形状であってもよい。例えば、図23で示されるように、保持部3Iの上面3uf上に保持された矩形状の基板Wの上面Us1に対して、スリット状のノズルNz11から処理液Lq1が供給される構成が採用されてもよい。ここでは、例えば、処理液Lq1として、レジスト等が採用される。
3,3I 保持部
5,5A,5B,5C,5D,5E,5F,5G,5H 処理液供給系
6 気体供給部
7 液供給部
9 制御部
51,51E 吐出バルブ
52,52B,52D 吸い戻しバルブ
53,53B,53D,53E,53F,53G,53H 発動部
53a,53c 電磁弁
53b,53bB,53f,53g スピードコントローラ
53d,53e モータ部
55,55B,55C,55E,55F 検知部
55A 第2検知部
56A 第1検知部
91 第1制御部
91a,92a 演算処理部
91c,92c 記憶部
92 第2制御部
100 処理ユニット
AS2 液吸い戻し領域
Aa1,Aa2 第1領域
Ab1,Ab2 第2領域
Bx1,Bx2 容器部
D1,D2 データ
DR1,DR1D,DR2,DR3 駆動機構
Dp1,Dp2 弁体部
Eb1,Eb2 弾性体
Gh1,Gh2 ガス通過孔
Gs1 制御ガス
Hh1,Hh1A,Hh2 挿通孔
Hv1 弁摺動孔
Hv2 弁設置孔
Is1,Is2 内部空間
Lh1,Lh2 液通過孔
Lq0,Lq1 処理液
Nz0,Nz1,Nz11 ノズル
P1,P1B 配管部(処理液用の配管部)
P1d 分岐配管部分
P2,P2B,P2D,P2F,P2H 配管部(ガス用の配管部)
PA1 液供給経路
PB1 液吸い戻し経路
Pb1 分岐部分
Pd1,Pd2 仕切り部
Pg1,Pg2 プログラム
T 動作時間
T1,T1E,T1F,T1G 実動作時間
T1cH 実閉鎖動作時間
T1oH 実開放動作時間
T0,T0E,T0F,T0G 基準動作時間
T0cH 基準閉鎖動作時間
T0oH 基準開放動作時間
VM1,VM2 本体部
Vb1,Vb2 弁体部
Vh1,Vh2 連結部
Vs1 弁座部
Vx1,Vx2 弁箱部
W,W0 基板
Claims (46)
- 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルにつながっている前記処理液の流路を形成する配管部と、
前記配管部の途中部分に設けられ、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させるバルブと、
前記バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する発動部と、
トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記バルブを動作させる制御部と、
特定状態を検知する検知部と、を備え、
前記制御部は、
前記トリガ信号を出力した第1タイミングから前記検知部が前記特定状態を検知した第2タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記バルブの動作の動作速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記特定状態は、
前記配管部内における前記処理液の存在または流れあるいは前記バルブの動作に係る特定の状態、を含んでいる、基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、
前記変更量に応じて、前記発動部による前記バルブの動作の前記動作速度に係る設定を変更する、基板処理装置。 - 請求項1から請求項3の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブ、をさらに備え、
前記バルブは、
前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブ、を含み、
前記発動部は、
前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させる、基板処理装置。 - 請求項4に記載の基板処理装置であって、
前記吸い戻しバルブは、
前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、
前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、
前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
前記駆動機構は、
容器部と、
前記容器部内の空間を第1領域と第2領域とに仕切っている仕切り部と、
前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
前記発動部は、
前記第1領域へ気体を供給して前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が縮小するように前記弁体部を動作させるとともに、前記第1領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を実行させ、
前記制御部は、
前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記第1領域からの気体の排出を開始させ、
前記特定状態は、
前記第1領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態を含み、
前記動作速度に係る設定は、
前記発動部による前記第1領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。 - 請求項4に記載の基板処理装置であって、
前記吸い戻しバルブは、
前記特定部分または前記分岐配管部分の途中部分に設けられ、前記ノズルおよび前記配管部のうちの前記ノズルから前記吐出バルブにかけた領域に存在している前記処理液を吸い戻す液吸い戻し経路を開閉し、
前記動作速度は、
前記吸い戻しバルブによって前記液吸い戻し経路を開放する速度を含む、基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置であって、
前記吸い戻しバルブは、
前記液吸い戻し経路を開閉する弁体部と、
前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
前記駆動機構は、
容器部と、
前記容器内の空間を第1領域と第2領域とに仕切っている仕切り部と、
前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
前記発動部は、
前記第1領域への気体の供給および前記第1領域からの気体の排出によって前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記弁体部を動作させ、
前記制御部は、
前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記弁体部の動作による液吸い戻し経路の開放を開始させることで前記吸い戻しを開始させ、
前記特定状態は、
前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態、または前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態を含み、
前記動作速度に係る設定は、
前記発動部による前記第1領域への気体の供給の速度または前記第1領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置であって、
前記吸い戻しバルブは、
前記液吸い戻し経路を開閉する弁体部を有し、
前記発動部は、
前記吸い戻しバルブに駆動力を付与するモータを含み、
前記制御部は、
前記トリガ信号を出力することで前記モータによって前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し経路の開放を開始させることで前記吸い戻しを開始させ、
前記特定状態は、
前記分岐配管部分の特定位置まで前記処理液の液面が到達した特定吸い戻し状態、または前記吸い戻しバルブの開度に係る特定開度状態を含み、
前記動作速度に係る設定は、
前記モータによる前記吸い戻しバルブの開放の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。 - 請求項1から請求項3の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記バルブは、
前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、
前記発動部は、
前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、
前記制御部は、
前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、
前記特定状態は、
前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、特定位置まで前記処理液が到達した特定給液状態または前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、あるいは前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、を含み、
前記動作速度は、
前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放の速度を含む、基板処理装置。 - 請求項9に記載の基板処理装置であって、
前記発動部は、
前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与するモータを含み、
前記制御部は、
前記トリガ信号を出力することで前記モータによって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、
前記動作速度に係る設定は、
前記モータによる前記吐出バルブの開放の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。 - 請求項9に記載の基板処理装置であって、
前記吐出バルブは、
前記液供給経路を開閉する弁体部と、
前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
前記駆動機構は、
容器部と、
前記容器部内の空間を第1領域と第2領域とに仕切っている仕切り部と、
前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
前記発動部は、
前記第1領域への気体の供給および前記第1領域からの気体の排出によって前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記弁体部を動作させ、
前記制御部は、
前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記弁体部による前記液供給経路の開放を開始させ、
前記動作速度に係る設定は、
前記発動部による前記第1領域への気体の供給の速度または前記第1領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。 - 請求項1から請求項3の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記バルブは、
前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、
前記発動部は、
前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、
前記制御部は、
前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させ、
前記特定状態は、
前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、あるいは前記配管部における前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、を含み、
前記動作速度に係る設定は、
前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。 - 請求項12に記載の基板処理装置であって、
前記吐出バルブは、
前記液供給経路を開閉する弁体部と、
前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
前記駆動機構は、
容器部と、
前記容器部内の空間を第1領域と第2領域とに仕切っている仕切り部と、
前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
前記発動部は、
前記第1領域への気体の供給および前記第1領域からの気体の排出によって前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記弁体部を動作させ、
前記制御部は、
前記トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記弁体部による前記液供給経路の閉鎖を開始させ、
前記動作速度に係る設定は、
前記発動部による前記第1領域への気体の供給の速度または前記第1領域からの気体の排出の速度を調整する設定を含む、基板処理装置。 - 請求項9から請求項11の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、
第1トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、第2トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させ、
前記検知部は、
前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、前記処理液の到達または流速、あるいは前記吐出バルブの開度に係る第1特定状態を検知するとともに、前記吐出バルブの開度または前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速に係る第2特定状態を検知し、
前記制御部は、
前記第1トリガ信号を出力した第1開放タイミングから前記検知部が前記第1特定状態を検知した第2開放タイミングまでの実開放動作時間と、予め設定された基準開放動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの開放の速度に係る設定の変更量を算出するとともに、前記第2トリガ信号を出力した第1閉鎖タイミングから前記検知部が前記第2特定状態を検知した第2閉鎖タイミングまでの実閉鎖動作時間と、予め設定された基準閉鎖動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの閉鎖の速度に係る設定の変更量を算出する基板処理装置。 - 請求項1から請求項14の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係を示す基準関係情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
前記制御部は、
前記基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。 - 請求項1から請求項14の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記トリガ信号が出力されるタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係を示す情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
前記制御部は、
前記比例または前記反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。 - 請求項1から請求項14の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、
前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記バルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記バルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置。 - 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、
前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、
前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、
前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブに付与する発動部と、
トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる制御部と、
第1特定状態を検知する第1検知部と、
第2特定状態を検知する第2検知部と、を備え、
前記制御部は、
前記第1検知部が前記第1特定状態を検知した第1タイミングから前記第2検知部が前記第2特定状態を検知した第2タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する基板処理装置。 - 請求項18に記載の基板処理装置であって、
前記第1特定状態は、
前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の存在または流れあるいは前記吐出バルブの動作に係る特定の状態、を含んでいる、基板処理装置。 - 請求項18または請求項19に記載の基板処理装置であって、
前記第2特定状態は、
前記配管部のうちの前記ノズルと前記吸い戻しバルブとの間における前記処理液の存在または前記吸い戻しバルブの動作に係る特定の状態、を含んでいる、基板処理装置。 - 請求項18から請求項20の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、
前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定を変更する、基板処理装置。 - 請求項18から請求項21の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記吸い戻しバルブは、
前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、
前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、
前記弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
前記駆動機構は、
容器部と、
前記容器部内の空間を第1領域と第2領域とに仕切っている仕切り部と、
前記仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
前記発動部は、
前記第1領域へ気体を供給して前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が縮小するように前記弁体部を動作させるとともに、前記第1領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を実行させ、
前記第2特定状態は、
前記第1領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態を含み、
前記制御部は、
前記第1タイミングから前記検知部が前記基準圧到達状態を検知した前記第2タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記第1領域からの気体の排出の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置。 - 請求項18から請求項22の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記第1特定状態が実現されるタイミングから前記第2特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係を示す基準関係情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
前記制御部は、
前記基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。 - 請求項18から請求項22の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記第1特定状態が実現されるタイミングから前記第2特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値と、の間における比例または反比例の関係を示す情報を記憶する記憶部、をさらに備え、
前記制御部は、
前記比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置。 - 請求項18から請求項22の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、
前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置。 - 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられたバルブと、該バルブを動作させる駆動力を前記バルブに付与する発動部と、制御部と、を備える基板処理装置の制御方法であって、
前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記発動部によって前記バルブを動作させ始めることで、前記配管部および前記ノズルにおける前記処理液の存在状態を変化させ始める第1工程と、
特定状態を検知する第2工程と、
前記制御部によって、前記第1工程において前記トリガ信号が出力された第1タイミングから前記第2工程において前記特定状態が検知された第2タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第3工程と、を有する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項26に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記特定状態は、
前記配管部内における前記処理液の存在または流れあるいは前記バルブの動作に係る特定の状態、を含んでいる、基板処理装置の制御方法。 - 請求項26または請求項27に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第3工程で算出された前記変更量に応じて、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定を変更する第4工程、
をさらに有する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項26から請求項28の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記基板処理装置は、
前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブ、をさらに備え、
前記バルブは、
前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブを含み、
前記第1工程において、
前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブを閉鎖する閉鎖動作と、前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し動作と、を開始させる、基板処理装置の制御方法。 - 請求項29に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記吸い戻しバルブは、
前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、該弁体部を動作させる駆動機構と、を含み、
前記駆動機構は、容器部と、該容器部内の空間を第1領域と第2領域とに仕切っている仕切り部と、該仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を含み、
前記第1工程において、
前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記第1領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を開始させ、
前記特定状態が、
前記第1領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態、を含み、
前記第3工程において、
前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記第1領域からの気体の排出の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項29に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記吸い戻しバルブは、
前記特定部分または前記分岐配管部分の途中部分に設けられており、
前記第1工程において、
前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吸い戻しバルブに、前記ノズルおよび前記配管部のうちの前記ノズルから前記吐出バルブにかけた領域に存在している前記処理液を吸い戻す液吸い戻し経路を開放させ始め、
前記第3工程において、
前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブによる前記液吸い戻し経路の開放の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項26から請求項28の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記バルブは、
前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、
前記発動部は、
前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、
前記第1工程において、
前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、
前記特定状態が、
前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、特定位置まで前記処理液が到達した特定給液状態または前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態、あるいは前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態を含み、
前記第3工程において、
前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項26から請求項28の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記バルブは、
前記配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブを含み、
前記発動部は、
前記吐出バルブによって前記液供給経路を開閉させる駆動力を前記吐出バルブに付与し、
前記第1工程において、
前記発動部によって、前記制御部による前記トリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させ、
前記特定状態が、
前記吐出バルブの開度に係る特定開度状態、あるいは前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速が基準流速に到達した特定流れ状態を含み、
前記第3工程において、
前記制御部によって、前記実動作時間と前記基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項32に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第1工程において、
前記制御部が第1トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の開放を開始させ、
前記第2工程において、
前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルにかけた部分における、前記処理液の到達または流速、あるいは前記吐出バルブの開度に係る第1特定状態を検知し、
前記第3工程において、
前記制御部によって、前記第1工程において前記制御部が前記第1トリガ信号を出力した第1開放タイミングから、前記第2工程において前記第1特定状態を検知した第2開放タイミングまでの実開放動作時間と、予め設定された基準開放動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの開放の速度に係る設定の変更量を算出し、
前記基板処理装置の制御方法は、さらに、
前記制御部が第2トリガ信号を出力することで前記発動部によって前記吐出バルブによる前記液供給経路の閉鎖を開始させる第5工程と、
前記吐出バルブの開度あるいは前記配管部のうちの前記吐出バルブから前記ノズルに向けた前記処理液の流速に係る第2特定状態を検知する第6工程と、
前記制御部によって、前記第5工程において前記制御部が前記第2トリガ信号を出力した第1閉鎖タイミングから前記第6工程において前記第2特定状態を検知した第2閉鎖タイミングまでの実閉鎖動作時間と、予め設定された基準閉鎖動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吐出バルブの閉鎖の速度に係る設定の変更量を算出する第7工程と、
を有する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項26から請求項34の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第3工程において、
前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定値との間における基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項26から請求項34の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第3工程において、
前記制御部によって、前記トリガ信号を出力するタイミングから前記特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定値との間における比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する前記設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記バルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項26から請求項34の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第3工程において、
前記制御部によって、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記バルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記バルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 基板に向けて処理液を吐出するノズルと、該ノズルにつながった前記処理液の流路を形成する配管部と、該配管部の途中部分に設けられ、前記ノズルに対して前記処理液を供給する液供給経路を開閉する吐出バルブと、前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間の特定部分または該特定部分から分岐した分岐配管部分に設けられた、少なくとも前記ノズルにおける前記処理液を吸い戻す液吸い戻し動作を行う吸い戻しバルブと、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させる駆動力を前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれに付与する発動部と、制御部と、を有する基板処理装置の制御方法であって、
前記発動部によって、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記吐出バルブおよび前記吸い戻しバルブのそれぞれを動作させ始める第1工程と
第1特定状態を検知する第2工程と、
第2特定状態を検知する第3工程と、
前記制御部によって、前記第2工程で前記第1特定状態を検知した第1タイミングから前記第3工程で前記第2特定状態を検知した第2タイミングまでの実動作時間と、予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する第4工程と、を有する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項38に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第1特定状態は、
前記配管部のうちの前記吐出バルブと前記ノズルとの間における前記処理液の存在または流れあるいは前記吐出バルブの動作に係る特定の状態、を含んでいる、基板処理装置の制御方法。 - 請求項38または請求項39に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第2特定状態は、
前記配管部のうちの前記ノズルと前記吸い戻しバルブとの間における前記処理液の存在または前記吸い戻しバルブの動作に係る特定の状態、を含んでいる、基板処理装置の制御方法。 - 請求項38から請求項40の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記制御部によって、前記第4工程において算出された前記変更量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定を変更する第5工程、
をさらに有する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項38から請求項41の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記吸い戻しバルブは、
前記配管部内の前記液供給経路に連通している液吸い戻し領域を形成する弁箱部と、前記液吸い戻し領域に面し且つ該液吸い戻し領域の容積を変更可能に動作する弁体部と、該弁体部を動作させる駆動機構と、を有し、
前記駆動機構は、
容器部と、該容器部内の空間を第1領域と第2領域とに仕切っている仕切り部と、該仕切り部と前記弁体部とを連結している連結部と、を有し、
前記第1工程において、
前記発動部によって、前記制御部によるトリガ信号の出力に応答して、前記第1領域から気体を排出させて前記仕切り部を動作させ始めることで、前記連結部を介して前記液吸い戻し領域の容積が拡大するように前記弁体部を動作させ始めて前記吸い戻しバルブに前記液吸い戻し動作を実行させ始め、
前記第2特定状態は、
前記第1領域の気圧が基準圧に到達した基準圧到達状態を含み、
前記第4工程において、
前記制御部によって、前記実動作時間と予め設定された基準動作時間との関係に応じて、前記発動部による前記第1領域からの気体の排出の速度を調整する設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項38から請求項42の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第4工程において、
前記制御部によって、前記第1特定状態が実現されるタイミングから第2特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値との間についての基準の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項38から請求項42の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第4工程において、
前記制御部によって、前記第1特定状態が実現されるタイミングから第2特定状態が実現されるタイミングまでの時間と、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定値と、の間についての比例または反比例の関係における、前記基準動作時間と前記実動作時間との差に対応する設定値のズレ量に応じて、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度に係る設定の変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 請求項38から請求項42の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置の制御方法であって、
前記第4工程において、
前記制御部によって、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が短ければ、前記発動部による前記吸い戻しバルブの動作の速度が小さくなるような前記変更量を算出し、前記基準動作時間よりも前記実動作時間が長ければ、前記発動部による前記バルブの動作の速度が大きくなるような前記変更量を算出する、基板処理装置の制御方法。 - 基板処理装置に含まれる演算処理部によって実行されることで、該基板処理装置を、請求項1から請求項25の何れか1つの請求項に記載の基板処理装置として機能させる、プログラム。
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