JP6917636B2 - 樹脂組成物、それを用いた熱硬化性フィルム、樹脂硬化物、積層板、プリント配線板、および半導体装置 - Google Patents
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Description
(A)エポキシ樹脂、
(B)周波数1〜100GHzの領域で、0.005未満の誘電正接(tanδ)を有する樹脂、
および、
(C)複素環の1位に、炭素原子数が5以上のアルキル基を有する側鎖が存在するイミダゾール化合物、
を含む樹脂組成物を提供する。
本実施形態の樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)周波数1〜100GHzの領域で、0.005未満の誘電正接(tanδ)を有する樹脂、および、(C)複素環の1位に、炭素原子数が5以上のアルキル基を含む側鎖を有するイミダゾール化合物を含む。本実施形態の樹脂組成物の各成分について、以下に記載する。
(A)成分のエポキシ樹脂の例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、シロキサン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、および、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂が挙げられる。本実施形態の樹脂組成物において、ここで例示した化合物は単独で用いられてもよいし、2つ以上の化合物が混合して用いられてもよい。
(B)成分の樹脂が少なすぎると、本実施形態の樹脂組成物から形成される熱硬化性フィルムの、所望の高周波領域における誘電特性が得られにくくなる。(B)成分の樹脂が多すぎると、相対的に(A)成分の量が減少する。そのため、本実施形態の樹脂組成物から形成される熱硬化性フィルムの接着性および硬化性が悪化する。
下記表に示す配合で、所定量の各樹脂(A−1、A−2、A−3、B−1、B−2、B−3、B−4、およびB−5)と、所定量のトルエンと、が容器に量り取られた。次いで、樹脂とトルエンとの混合物が、加熱攪拌機を用いて加熱溶解されたあと、室温まで冷却された。引き続き、その混合物に、所定量のイミダゾール化合物等(C−1、C’−1、C’−2、C’−3、およびC’−4)投入された。そして、得られた(A)成分と、(B)成分と、(C)または(C’)成分との混合物を、自転あるいは公転式の攪拌機(マゼルスター(商品名)、倉敷紡績株式会社製))で、3分間攪拌混合することにより、樹脂組成物が調製された。ただし、実施例11では、さらに、無機フィラーとして、溶融球状シリカフィラー(株式会社龍森製MP−15EF、平均粒径1.5μm)が樹脂組成物に添加されたのち、ビーズミルを使用して、シリカフィラーが樹脂組成物に分散された。このようにして得られた樹脂組成物の粘度をトルエンで調整することにより、樹脂組成物を含む塗工液が調製された。
(A)成分:エポキシ樹脂
(A−1):
ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、HP4032D(商品名)、DIC株式会社製、エポキシ当量136〜148(A−2);
アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂、JERYX8800(商品名)、三菱化学株式会社製、エポキシ当量180(A−3);および、
ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂、NC−3000H(商品名)、日本化薬株式会社製、エポキシ当量288
(B−1):下記手順により合成された溶剤可溶性ポリイミド樹脂
撹拌機、分水器、温度計、および窒素ガス導入管を備えた反応容器に、市販の芳香族テトラカルボン酸二無水物(BTDT−UP(商品名)、エボニックジャパン株式会社製)210.0g、シクロヘキサノン1008.0g、およびメチルシクロヘキサン201.6gが仕込まれた。反応容器内の溶液が60℃まで加熱された。次いで、市販のダイマージアミン(PRIAMINE(商品名)1075、クローダジャパン株式会社製)341.7gが、反応溶液に滴下された。その後、140℃で、10時間、イミド化反応が行われた。その後、溶剤の減圧留去、および、トルエン置換を行うことにより、溶剤可溶性ポリイミド樹脂(A−2)の溶液(不揮発分30.1%)が得られた。GPC測定による数平均分子量(Mn)は、15000であった。後述する手順で測定された誘電正接(tanδ)は、0.0029であった。
(B−2):下記手順により合成された溶剤可溶性ポリイミド樹脂
(B−1)と同じ反応容器に、市販の芳香族テトラカルボン酸二無水物(BTDA−PF(商品名)、エボニックジャパン株式会社製)190.0g、シクロヘキサノン912.0g、およびメチルシクロヘキサン182.4gが仕込まれた。反応容器内の溶液が60℃まで加熱された。次いで、市販のダイマージアミン(PRIAMINE1075(商品名)、クローダジャパン株式会社製)288.1g、および、市販のシリコーンジアミン(KF−8010(商品名)、信越化学工業株製)24.7gが、反応溶液に滴下された。その後、140℃で、10時間、イミド化反応が行われた。これにより、ポリイミド樹脂の溶液(不揮発分30.8%)が得られた。GPC測定による数平均分子量(Mn)は、14000であった。後述する手順で測定された誘電正接(tanδ)は、0.0036であった。
(B−3):下記手順により合成された溶剤可溶性ポリイミド樹脂
(B−1)と同じ反応容器に、市販の芳香族テトラカルボン酸二無水物(BisDA1000(商品名)、SABICジャパン株式会社製)65.0g、シクロヘキサノン266.5g、およびメチルシクロヘキサン44.4gが仕込まれた。反応容器内の溶液が60℃まで加熱された。次いで、市販のダイマージアミン(PRIAMINE(商品名)1075、クローダジャパン株式会社製)43.7g、および、1、3−ビスアミノメチルシクロヘキサン5.4gが反応溶液に滴下された。その後、140℃で、10時間、イミド化反応が行われた。これにより、溶剤可溶性ポリイミド樹脂(B−1)の溶液(不揮発分29.5%)が得られた。GPC測定による数平均分子量(Mn)は、15000であった。後述する手順で測定された誘電正接(tanδ)は、0.0019であった。
(B−4):上記一般式(1)で示される変性PPE樹脂、OPE−2St(Mn=2200)、三菱ガス化学株式会社製
(B−1)と同じ手順で測定された誘電正接(tanδ)は、0.0040であった。
(B−5):熱可塑性エラストマー(SEEPS)、セプトン4044(商品名)、株式会社クラレ製
(B−1)と同じ手順で測定された誘電正接(tanδ)は、0.0008であった。
(C−1):下記式に示す構造を有するイミダゾール化合物、EH−2021(商品名)、株式会社ADEKA製
(C´−2):2−エチル−4−メチルイミダゾール、2E4MZ(商品名)、四国化成工業株式会社製
(C´−3):1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、C11ZCN(商品名)、四国化成工業株式会社製
(C´−4):アクリル酸−2−エチルヘキシル、ナカライテスク株式会社製
1.PIピール強度
離型剤を施した50μm厚のPETフィルムの基材表面上に、乾燥塗膜が25±5μmの膜厚になるように、塗布機を用いて、塗工液が塗布された。塗工液で塗布された基材が80℃×15min間乾燥された。これにより作製された未硬化フィルムから基材が剥離された。その後、未硬化フィルムを2枚のポリイミドフィルム(ユーピレックス(登録商標)12.5CA、宇部興産株式会社製)の間に挟むことにより得られた積層フィルムを、真空プレス機でプレス硬化(200℃×60分1MPa)した。得られた、硬化フィルムを含む積層フィルムを、10mm幅にカットすることにより、試験片が得られた。オートグラフで、試験片の2枚のポリイミドフィルムの各々を互いに正反対方向に、硬化フィルムから引きはがすことにより、硬化フィルムのピール強度が測定された。5回の測定で得られた値の平均値が、ピーク強度の測定値として、算出された。
2.誘電率(ε)、誘電正接(tanδ)
1.で得られた未硬化フィルムが基材表面上で200℃×60min間硬化した後、基材が硬化フィルムから剥離された。130×70mmに裁断された硬化フィルムの、εおよびtanδが、SPDR法により、誘電体共振周波数2GHzにて、測定された。結果を下記表に示す。
実施例1〜11では、いずれも、7.0N/cm以上のPIピール強度、3.0以下の誘電率(ε)、および、0.010以下の誘電正接(tanδ)が示された。なお、実施例2および3と、実施例1とは、(C)成分のイミダゾール化合物の配合割合が異なる。実施例4および5と、実施例1とは、(A)成分のエポキシ樹脂の種類が異なる。実施例6〜9と、実施例1とは、(B)成分の樹脂の種類が異なる。実施例10〜11と、実施例1とは、(A)成分に対する(B)成分の配合割合異なる。このうち、実施例11では、さらに、シリカフィラーが用いられている。比較例1では、(C)成分のイミダゾール化合物の代わりに、複素環の1位に、ベンジル基が存在するイミダゾール化合物が使用されている。比較例2では、イミダゾール化合物の複素環の1位に、炭素原子数が5以上のアルキル基が存在しない。比較例3では、(C)成分のイミダゾール化合物の代わりに、複素環の2位に、炭素原子数が5以上のアルキル基を有する側鎖が存在するイミダゾール化合物が使用されている。比較例4では、実施例で使用したイミダゾール化合物(C−1)の熱分解生成物に相当する化合物が配合されている。比較例1〜4では、いずれも、7.0N/cm未満のPIピール強度、および、0.010を超得る、誘電正接(tanδ)が示された。
本開示の実施形態に係る樹脂組成物は、以下の第1〜3の樹脂組成物であってもよい。
上記第1の樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)周波数1〜100GHzの領域の誘電正接(tanδ)が0.005未満の樹脂、および、(C)複素環の1位に、C5以上のアルキル基を有する側鎖が存在するイミダゾール化合物を含む。
上記第2の樹脂組成物は、前記(C)イミダゾール化合物が、下記式(I)である、上記第1の樹脂組成物である。
上記第3の樹脂組成物は、前記(B)樹脂が、変性ポリフェニレンエーテル(変性PPE)樹脂、スチレン系熱可塑性エラストマー、および、ポリイミド樹脂からなる群から選択される少なくとも1種である、上記第1または2の樹脂組成物である。
本開示の実施形態に係る熱硬化性フィルムは、上記第1〜3のいずれかの樹脂組成物により形成されてもよい。
本開示の実施形態に係る樹脂硬化物は、上記第1〜3のいずれかの樹脂組成物、または、上記熱硬化性フィルムを硬化させた樹脂硬化物であってもよい。
本開示の実施形態に係る積層板は、上記樹脂硬化物を含む積層板であってもよい。
本開示の実施形態に係るプリント配線板は、上記樹脂硬化物を含むプリント配線板であってもよい。
本開示の実施形態に係る半導体装置は、上記樹脂硬化物を含む半導体装置であってもよい。
Claims (7)
- 前記(B)樹脂が、変性ポリフェニレンエーテル(変性PPE)樹脂、スチレン系熱可塑性エラストマー、および、ポリイミド樹脂からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の樹脂組成物。
- 請求項1または2に記載の樹脂組成物から形成される熱硬化性フィルム。
- 硬化された、請求項1または2に記載の樹脂組成物、または、請求項3に記載の熱硬化性フィルムである、樹脂硬化物。
- 請求項4に記載の樹脂硬化物を含む積層板。
- 請求項4に記載の樹脂硬化物を含むプリント配線板。
- 請求項4に記載の樹脂硬化物を含む半導体装置。
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