JP6911864B2 - 硬化性組成物および硬化物 - Google Patents

Description

本発明は、硬化性組成物、および硬化性組成物を硬化した硬化物に関する。

硬化性組成物を硬化した硬化物は、（ｉ）インプリント法、注型成形法等によって硬化性組成物から様々な形状の硬化物を短時間で形成できる、（ｉｉ）ガラスに比べ割れにくい、（ｉｉｉ）ガラスに比べ軽量である、等の利点を有することから、ガラスに代わる光学部材用の材料として注目されている。

携帯電話等に搭載されるカメラのレンズには、小型化が求められているため、ウェハレベルレンズが用いられるようになってきている。ウェハレベルレンズには、屈折率が高く、アッベ数が低く、透明性が高く、耐熱性が高いことが求められる。そのため、ウェハレベルレンズを形成するための硬化性組成物としては、屈折率が高く、アッベ数が低く、透明性が高く、耐熱性が高い硬化物が得られることが求められる。

屈折率が高く、かつ透明性が高い硬化物が得られる硬化性組成物としては、たとえば、下記の（１）が提案されている。
（１）フルオレン骨格を有するモノマーとビフェニル骨格を有するモノマーとを含む硬化性組成物（特許文献１、２）。

屈折率が高く、かつアッベ数が低い硬化物が得られる硬化性組成物としては、たとえば、下記の（２）〜（４）が提案されている。
（２）フルオレン骨格を有するモノマーとフルオレン骨格を有しないモノマーと重合開始剤とを含む硬化性組成物（特許文献３）。
（３）ビスフェニルスルフィド骨格等を有するモノマーとフルオレン骨格を有するモノマーとを含む硬化性組成物（特許文献４）。
（４）カルバゾール骨格を有するモノマーとフルオレン骨格を有するモノマーとを含む硬化性組成物（特許文献５）。

日本特開２００８−０９４９８７号公報 日本特開２０１２−０８２３８７号公報 日本特開２０１０−０３７４７０号公報 日本特開２０１６−０２７４０３号公報 国際公開第２０１３／０４７５２４号

しかし、上記（１）の硬化性組成物を硬化した硬化物は、アッベ数が高い。
上記（２）〜（４）の硬化性組成物を硬化した硬化物は、アッベ数を充分に低くした場合は、透明性が低くなる。また、フルオレン骨格を有するモノマーは、粘度が高いため、これを含む硬化性組成物は、粘度が高いものが多い。粘度が高い硬化性組成物は、インプリントや注型成形の際の取扱性が悪い。

本発明は、屈折率が高く、アッベ数が低く、透明性が高く、かつ、耐熱性が高い硬化物が得られる低粘度の硬化性組成物、および屈折率が高く、アッベ数が低く、透明性が高く、かつ、耐熱性が高い硬化物を提供する。

本発明は、下記の態様を有する。
＜１＞架橋性基および芳香環を有し、該芳香環の環骨格を構成しない硫黄原子を有してもよいモノマーであり、前記芳香環の環骨格を構成する原子の質量と、前記芳香環の環骨格を構成する原子に結合した水素原子の質量と、前記芳香環の環骨格を構成しない硫黄原子の質量との合計の質量の割合が、モノマー１分子１００質量％のうち、４７質量％以上であり、２５℃における粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以下であるモノマー（Ａ）（ただし、下記モノマー（Ｂ）を除く。）と；下式（Ｉ）で表されるモノマー（Ｂ）と；下式（ＩＩ）から求めたアッベ数が２１以下である化合物（Ｃ）（ただし、前記モノマー（Ａ）を除く。）と；重合開始剤（Ｄ）とを含み；前記化合物（Ｃ）の含有量が、前記モノマー（Ａ）の含有量と前記モノマー（Ｂ）の含有量と前記化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％のうち、１〜１０質量％である、硬化性組成物。

ただし、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＲ^７）ＣＨ_２−（ただし、Ｒ^７は（メタ）アクリロイル基である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であり、ａおよびｂは、０〜４の整数であり、ａ＋ｂは、０〜４の整数である。
ν_Ｄ＝（ｎ_Ｄ−１）／（ｎ_Ｆ−ｎ_Ｃ） （ＩＩ）
ただし、ν_Ｄは、アッベ数であり、ｎ_Ｄは、２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｆは、２５℃における波長４８６ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｃは、２５℃における波長６５６ｎｍの光に対する屈折率である。

＜２＞前記モノマー（Ａ）が、ｏ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ｍ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、１−ナフチルメチル（メタ）アクリレート、２−ナフチルメチル（メタ）アクリレート、フェニルビニルスルフィド、フェニルビニルスルホキシド、ベンジルチオ（メタ）アクリレート、ジメチルナフチルビニルシラン、（ビス（４−メタクロイルフェニル）スルフィド、２−（フェニルチオ）エチルチオ（メタ）アクリレート、ビス〔４−（メタ）アクリロイロキシエチルチオ）フェニル〕スルフィド、ビス［ｍ−（２−（メタ）アクロイルエトキシ）フェノキシ］ジフェニルシランからなる群から選ばれる少なくとも１種である、前記＜１＞の硬化性組成物。

＜３＞前記化合物（Ｃ）が、ビス（４−（メタ）アクロイルチオフェニル）スルフィド、９−ビニルカルバゾール、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン、２−（９−カルバゾルイル）エチル（メタ）アクリレート、ビス（４−ビニルチオフェニル）スルフィド、アセナフチレン、９−フェニルカルバゾール、ナフタレン、ポリ（２−ビニルナフタレン）、ポリアセナフチレン、ポリ（９−ビニルカルバゾール）、（４−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート（、（２−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート、（５−（２−ナフタレニルチオ）フルフリルアクリレート、（４−（２−ベンゾオキサゾリルチオ）ベンジルアクリレート、（２−（４−（２−ベンゾチアゾリルチオ）フェノキシ）エチルアクリレート、およびナフタレン構造を有するポリカーボネートからなる群から選ばれる少なくとも１種である、前記＜１＞または＜２＞の硬化性組成物。

＜４＞前記モノマー（Ａ）の含有量が、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％のうち、４〜９０質量％である、前記＜１＞〜＜３＞のいずれかの硬化性組成物。
＜５＞前記モノマー（Ｂ）の含有量が、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％のうち、３〜８９質量％である、前記＜１＞〜＜４＞のいずれかの硬化性組成物。
＜６＞酸化防止剤（Ｅ）をさらに含む前記＜１＞〜＜５＞のいずれかの硬化性組成物。
＜７＞前記酸化防止剤（Ｅ）の添加量が、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％に対して、０．０１〜１０質量部である、前記＜１＞〜＜６＞のいずれかの硬化性組成物。
＜８＞（メタ）アクリロイル基を１つ以上有する化合物からなるモノマー（Ｆ）（ただし、モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）および化合物（Ｃ）を除く）をさらに含む、前記＜１＞〜＜７＞のいずれかの硬化性組成物。
＜９＞前記モノマー（Ｆ）の含有量が、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量部に対して、０〜５質量部である、前記＜８＞の硬化性組成物。

＜１０＞前記モノマー（Ａ）、（Ｂ）、（Ｆ）、化合物（Ｃ）、酸化防止剤（Ｅ）および重合開始剤（Ｄ）を溶解可能な溶剤をさらに含む、前記＜１＞〜＜９＞のいずれかの硬化性組成物。
＜１１＞２５℃における粘度が１０００００ｍＰａ・ｓ以下である、前記＜１＞〜＜１０＞のいずれかの硬化性組成物。
＜１２＞前記＜１＞〜＜１１＞のいずれかの硬化性組成物を硬化した硬化物。
＜１３＞前記式（ＩＩ）から求めたアッベ数が２５以下であり、厚さ１ｍｍあたりの硬化物についての波長４００ｎｍの光に対する内部透過率が９０％以上である、前記＜１２＞の硬化物。
＜１４＞波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．６０以上である、前記＜１２＞または＜１３＞に記載の硬化物。

本発明の硬化性組成物によれば、屈折率が高く、アッベ数が低く、透明性が高く、耐熱性が高い硬化物が得られる。また、本発明の硬化性組成物は、低粘度である。
本発明の硬化物は、屈折率が高く、アッベ数が低く、透明性が高く、耐熱性が高い。

以下の用語の定義および記載の仕方は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
式（Ａ−１）で表されるモノマーをモノマー（Ａ−１）とも記す。他の式で表されるモノマーについても同様に記す。
式（Ｃ−１）で表される化合物を化合物（Ｃ−１）とも記す。他の式で表される化合物についても同様に記す。
「モノマー」とは、架橋性基（エチレン性二重結合等）を有する化合物を意味する。
「芳香環の環骨格を構成する原子」は、環状に連なっている原子のみを指し、該原子に結合する水素原子および置換基を含まない。たとえば、芳香環の環骨格を構成する原子は、ベンゼン環においては、環骨格を構成する炭素原子のみを指し、ヘテロ環においては、環骨格を構成する炭素原子およびヘテロ原子（酸素原子、窒素原子、硫黄原子等）のみを指す。
「アッベ数」は、特に断りがない限り、下式（ＩＩ）から求めたアッベ数ν_Ｄである。
ν_Ｄ＝（ｎ_Ｄ−１）／（ｎ_Ｆ−ｎ_Ｃ） （ＩＩ）
ただし、ｎ_Ｄは、２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｆは、２５℃における波長４８６ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｃは、２５℃における波長６５６ｎｍの光に対する屈折率である。
「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基およびメタクリロイル基の総称である。
「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートの総称である。
「光」とは、紫外線、可視光線、赤外線、電子線および放射線の総称である。

＜硬化性組成物＞
本発明の硬化性組成物は、モノマー（Ａ）と、モノマー（Ｂ）と、化合物（Ｃ）と、重合開始剤（Ｄ）とを必須成分として含む。
本発明の硬化性組成物は、必要に応じて酸化防止剤（Ｅ）、モノマー（Ｆ）、添加剤、溶剤等を含んでいてもよい。

本発明の硬化性組成物の２５℃における粘度は、１０００００ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。該粘度が前記範囲の上限値以下であれば、硬化性組成物の取扱性がよくなり、硬化性組成物をインプリント用のモールドに容易に接触させたり、注型成形用のモールドに容易に注入したりできる。該粘度は、好ましくは５００００ｍＰａ・ｓ以下であり、より好ましくは２００００ｍＰａ・ｓ以下である。硬化性組成物の粘度の下限値は特に設定しなくてもよいが、たとえば１０ｍＰａ・ｓ以上であれば、硬化性組成物が基材の表面から流れ出すことなく、硬化性組成物を簡便に基材の表面に塗布できる。該粘度は、好ましくは５０ｍＰａ・ｓ以上であり、より好ましくは１００ｍＰａ・ｓ以上である。

（モノマー（Ａ））
モノマー（Ａ）は、架橋性基と芳香環とを有するモノマーである（ただし、モノマー（Ｂ）を除く）。
モノマー（Ａ）が有する架橋性基としては、モノマー（Ｂ）との架橋反応性の点から、エチレン性二重結合を有する基が好ましい。エチレン性二重結合を有する基としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基等が挙げられ、架橋反応性が高い点から（メタ）アクリロイル基またはビニル基が好ましい。

モノマー（Ａ）が有する芳香環としては、ベンゼン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、チアジン環、ナフタレン環、アントラセン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、シンノリン環、ベンゾチオフェン環、これら環のうちの２つ以上が縮環したもの等が挙げられる。

モノマー（Ａ）は、そのアッベ数を低くできる点から、芳香環の環骨格を構成しない硫黄原子を有してもよい。モノマー（Ａ）が有する硫黄原子の価数は、２価、４価または６価が好ましく、原子分散が大きい点から、２価または４価が特に好ましい。

モノマー（Ａ）は、芳香環の環骨格を構成する原子の質量と、芳香環の環骨格を構成する原子に結合した水素原子の質量と、芳香環の環骨格を構成しない硫黄原子の質量との合計の質量の割合（Ｘ）が、モノマー１分子１００質量％のうち、４７質量％以上である。割合（Ｘ）が４７質量％以上であれば、芳香環、硫黄原子等の原子分散が大きい原子の割合が大きくなるため、モノマー（Ａ）のアッベ数を低くできる。割合（Ｘ）は、５０質量％以上が好ましく、５３質量％以上がより好ましく、５７質量％以上がさらに好ましい。割合（Ｘ）は、架橋性基による架橋反応性を維持する点から、８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましい。

モノマー（Ａ）の２５℃における粘度は、１０００ｍＰａ・ｓ以下である。該粘度が前記範囲の上限値以下であれば、硬化性組成物の粘度を低くできる。モノマー（Ａ）の粘度は、好ましくは７５０ｍＰａ・ｓ以下であり、より好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以下である。モノマー（Ａ）の粘度の下限値は特に設定しなくてもよいが、たとえば１ｍＰａ・ｓ以上であれば、塗布性のよい硬化性組成物が得られる。該粘度は、好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上であり、より好ましくは１５ｍＰａ・ｓ以上である。

モノマー（Ａ）としては、下記の化合物が挙げられる。
ｏ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ｘ：６４．３質量％、粘度：２７ｍＰａ・ｓ）、ｍ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ｘ：６４．３質量％、粘度：２５ｍＰａ・ｓ）、ｏ−フェニルベンジル（メタ）アクリレートとｐ−フェニルベンジル（メタ）アクリレートの混合物（Ｘ：６４．３質量％）、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート（Ｘ：５７．１質量％、粘度：１５０ｍＰａ・ｓ）、２−（ｍ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート（Ｘ：５７．１質量％、粘度：１６０ｍＰａ・ｓ）、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレートと２−（ｐ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレートの混合物（Ｘ：５７．１質量％）、ｏ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート（Ｘ：６０．２質量％、粘度：１２ｍＰａ・ｓ）、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート（Ｘ：６０．２質量％、粘度：１５ｍＰａ・ｓ）、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレートとｐ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレートの混合物（Ｘ：６０．２質量％）、１−ナフチルメチル（メタ）アクリレート（Ｘ：５９．９質量％、粘度：９５ｍＰａ・ｓ）、２−ナフチルメチル（メタ）アクリレート（Ｘ：５９．９質量％、粘度１２０ｍＰａ・ｓ）、フェニルビニルスルフィド（Ｘ：８０．１質量％、粘度：１ｍＰａ・ｓ）、フェニルビニルスルホキシド（Ｘ：７１．７質量％、粘度：６ｍＰａ・ｓ）、ベンジルチオ（メタ）アクリレート（５９．９質量％、粘度：４０ｍＰａ・ｓ）、ジメチルナフチルビニルシラン（Ｘ：５６．８質量％、粘度：２０ｍＰａ・ｓ）、（ビス（４−メタクロイルフェニル）スルフィド（Ｘ：５２．０質量％、粘度：２５０ｍＰａ・ｓ）、２−（フェニルチオ）エチルチオ（メタ）アクリレート（Ｘ：５９．２質量％、粘度：１５０ｍＰａ・ｓ）、ビス〔４−（メタ）アクリロイロキシエチルチオ）フェニル〕スルフィド（Ｘ：５６．１質量％、粘度：４６０ｍＰａ・ｓ）、ビス［ｍ−（２−（メタ）アクロイルエトキシ）フェノキシ］ジフェニルシラン（Ｘ：５４．３質量％、粘度：８５０ｍＰａ・ｓ）。

モノマー（Ａ）としては、なかでも、ｏ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルベンジル（メタ）アクリレートとｐ−フェニルベンジル（メタ）アクリレートの混合物、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ｍ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレートと２−（ｐ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレートの混合物、ｏ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレートとｐ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレートの混合物、１−ナフチルメチル（メタ）アクリレート、２−ナフチルメチル（メタ）アクリレートまたは２−（フェニルチオ）エチルチオ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、モノマー（Ａ）の市販品としては、新中村化学工業社製のＡ−ＬＥＮ−１０、ＤＩＣ社製のＥＫＺ−９４８、東亞合成社製のＴＯ−１４６３、共栄社化学社製のＰＯＢ−Ａ等が挙げられる。モノマー（Ａ）は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（モノマー（Ｂ））
モノマー（Ｂ）は、下式（Ｉ）で表されるモノマーである。

Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基である。
Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＲ^７）ＣＨ_２−（ただし、Ｒ^７は（メタ）アクリロイル基である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種である。Ｒ^３およびＲ^４は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＲ^７）ＣＨ_２−からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、−ＣＨ_２ＣＨ_２−が特に好ましい。ａが１のときはＲ^３は１種のみであり、ａが２以上のときはＲ^３は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。ｂが１のときはＲ^４は１種のみであり、ｂが２以上のときはＲ^４は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。
Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基またはプロピル基が好ましい。Ｒ^５およびＲ^６は、水素原子が特に好ましい。
ａ、ｂは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ａ＋ｂは０〜４の整数である。ａおよびｂとしては、１または２が好ましく、１が特に好ましい。

モノマー（Ｂ）としては、下記の化合物が挙げられる。
９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジメトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリメトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリエトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリプロポキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジメトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリメトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリエトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリプロポキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジメトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリメトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリエトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリプロポキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジメトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリメトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリエトキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシトリプロポキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−（２−ヒドロキシ）プロポキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−（２−ヒドロキシ）プロポキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−（２−ヒドロキシ）プロポキシエトキシフェニル）フルオレン等。

モノマー（Ｂ）としては、中でも９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジメトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）フルオレン、または９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシフェニル）フルオレンが好ましい。また、モノマー（Ｂ）の市販品としては、大阪ガスケミカル社製のＥＡ−０２００、ＥＡ−０５００、ＥＡ−１０００等、新中村化学工業社製のＡ−ＢＰＥＦ等が挙げられる。モノマー（Ｂ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（化合物（Ｃ））
化合物（Ｃ）は、アッベ数ν_Ｄが２１以下の化合物である（ただし、モノマー（Ａ）を除く）。化合物（Ｃ）は、架橋性基を有するものであってもよく、架橋性基を有しないものであってもよい。

化合物（Ｃ）の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
ビス（４−（メタ）アクロイルチオフェニル）スルフィド（ν_Ｄ：２０．１）、９−ビニルカルバゾール（ν_Ｄ：１６．４）、１−ビニルナフタレン（ν_Ｄ：１７．８）、２−ビニルナフタレン（ν_Ｄ：１６．４）、２−（９−カルバゾルイル）エチル（メタ）アクリレート（ν_Ｄ：２０．３）、ビス（４−ビニルチオフェニル）スルフィド（ν_Ｄ：１７．５）、アセナフチレン（ν_Ｄ：２０．８）、９−フェニルカルバゾール（ν_Ｄ：１８．０）、ナフタレン（ν_Ｄ：１９．１）、ポリ（２−ビニルナフタレン）（ν_Ｄ：１７．０）、ポリアセナフチレン（ν_Ｄ：１９．０）、ポリ（９−ビニルカルバゾール）（ν_Ｄ：１７．５）、（４−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート（ν_Ｄ：２０．１）、（２−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート（ν_Ｄ：２０．４）、（５−（２−ナフタレニルチオ）フルフリルアクリレート（ν_Ｄ：１９．６）、（４−（２−ベンゾオキサゾリルチオ）ベンジルアクリレート（ν_Ｄ：２０．１）、（２−（４−（２−ベンゾチアゾリルチオ）フェノキシ）エチルアクリレート（ν_Ｄ：１８．９）、ナフタレン構造を有するポリカーボネート、例えば、ユピゼータ（三菱瓦斯化学社商品名）ＥＰ−８０００（ν_Ｄ：２０．５）等。化合物（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（重合開始剤（Ｄ））
重合開始剤（Ｄ）は、硬化方法（光硬化または熱硬化）等に応じて適宜選択される。
重合開始剤（Ｄ）としては、光重合開始剤または熱重合開始剤が挙げられる。重合開始剤（Ｄ）としては、硬化物の製造のしやすさから、光重合開始剤が好ましい。

光重合開始剤としては、光を吸収することによってラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤が、硬化物の製造のしやすさから好ましい。

光ラジカル重合開始剤としては、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、オキシフェニル酢酸エステル系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、ベンジル−（ｏ−エトキシカルボニル）−α−モノオキシム、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレート等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、紫外線（波長２５０ｎｍ〜３８０ｎｍ）に対する感度が高く、硬化性組成物への溶解性が高い点から、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤またはベンゾフェノン系光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

熱重合開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド等が挙げられる。このうち、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシドが熱分解温度が低いため好ましい。
熱重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（酸化防止剤（Ｅ））
酸化防止剤（Ｅ）は、硬化物の黄変を抑制し、また、硬化物の初期透過率を向上させる成分である。酸化防止剤（Ｅ）としては、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。

フェノール系酸化防止剤としては、メチルヒドロキノン、４−メトキシフェノール（メトキノン）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、トリエチレングリコールビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ブタン、６，６’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ブチリデンジ−ｍ−クレゾール、３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリル、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゼンプロピオン酸）チオビスエチレン等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、硬化性組成物への溶解性が高い点から、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゼンプロピオン酸）チオビスエチレン等が好ましい。

リン酸系酸化防止剤としては、亜リン酸トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、３，９−ビス（オクタデシルオキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、３，９−ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、３，９−ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）２−エチルへキシルホスフィット、トリフェニルホスフィット、イソデシルジフェニルホスフィット、２−エチルへキシルジフェニルホスフィット、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット等が挙げられる。リン酸系酸化防止剤としては、硬化性組成物への溶解性が高い点から、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット、トリフェニルホスフィット等が好ましい。

硫黄系酸化防止剤としては、１−ヘキサンチオール、１−ヘプタンチオール、１−オクタンチオール、ｔｅｒｔ−オクタンチオール、１−ノナンチオール、１−デカンチオール、１−ウンデカンチオール、１−ドデカンチオール、１−テトラデカンチオール、１−ヘキサデカンチオール、１−オクタデカンチオール、１，４−ブタンジチオール、２，３−ブタンジチオール、１，５−ペンタンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，７−ヘプタンジチオール、１，８−オクタンジチオール、１，９−ノナンジチオール、１，１０−デカンジチオール、１，１２−ドデカンジチオール、１，１４−テトラデカンジチオール、１，１６−ヘキサデカンジチオール、１，１８−オクタデカンジチオール、ジヘキシルスルフィド、ジヘプチルスルフィド、ジオクチルスルフィド、ジデシルスルフィド、ジドデシルスルフィド、ジテトラデシルスルフィド、ジヘキサデシルスルフィド、ジオクタデシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、フェニル−ｐ−トリルスルフィド、４，４−チオビスベンゼンチオール、３，３′−チオジプロピオン酸、ジプロピルジスルフィド、ジイソプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、ジイソブチルジスルフィド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジヘプチルジスルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ジドデシルジスルフィド、ジテトラデシルジスルフィド、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ビス〔２−メチル−４−｛３−ｎ−アルキル（Ｃ１２またはＣ１４）チオプロピオニルオキシ｝−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル〕スルフィド、２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−メチルフェノール等が挙げられる。硫黄系酸化防止剤としては、硬化性組成物への溶解性が高い点から、１−デカンチオール、１−ウンデカンチオール、１−ドデカンチオール、２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−メチルフェノール等が好ましい。

酸化防止剤（Ｅ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。酸化防止剤（Ｅ）としては、硬化物の耐熱性を向上させる点からは、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤および硫黄系酸化防止剤からなる群から選ばれる２種類以上を組み合わせて用いることが好ましい。

（モノマー（Ｆ））
モノマー（Ｆ）は、（メタ）アクリロイル基を１つ以上有する化合物である（ただし、モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）および化合物（Ｃ）を除く）。

モノマー（Ｆ）としては、（メタ）アクリロイル基に酸素原子を介して炭素数１〜３０の有機基が結合したものが好ましい。有機基の炭素数は４〜２０が好ましく、４〜１２がより好ましい。
上記有機基としては、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基、アリル基、橋かけ炭化水素基、オキシアルキレン鎖の繰り返し構造を有する基、芳香族基、複素環基等が挙げられる。これらの基は、炭素原子の一部が窒素原子、酸素原子等のヘテロ原子またはケイ素原子で置換されていてもよく、水素原子の一部が水酸基、アミノ基等の官能基で置換されていてもよく、不飽和結合や遊離カルボキシ基を有していてもよい。有機基としては、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基、橋かけ炭化水素基が好ましい。

モノマー（Ｆ）としては、（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有するモノマー（Ｆ１）（ただし、モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）および化合物（Ｃ）を除く）、または（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有するモノマー（Ｆ２）（ただし、モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）および化合物（Ｃ）を除く）が挙げられる。

モノマー（Ｆ１）としては、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルが好ましい。モノマー（Ｆ１）としては、下記の化合物が挙げられる。
２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、（２−（ｔｅｒｔ−ブチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、ベンジル（メタ）アクリレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル（メタ）アクリレート等。

モノマー（Ｆ２）としては、ジオール（グリコール等）の（メタ）アクリレート、トリオール（グリセロール、トリメチロール等）の（メタ）アクリレート、テトラオール（ペンタエリスリトール等）の（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートが好ましい。モノマー（Ｆ２）としては、下記の化合物が挙げられる。
ポリオキシエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等）、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等）、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセロール１，３−ジグリセロレートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールエトキシレートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピオネートジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールグリセロレートジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールグリセロレートジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、１，３−ビス（３−メタクリロイロキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアリル酸、トリメチロールプロパンエトキシレートメチルエーテルジ（メタ）アクリレート、ペンタリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等。
モノマー（Ｆ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（添加剤）
添加剤としては、界面活性剤、チクソトロピック剤、消泡剤、耐光安定剤、ゲル化防止剤、光増感剤、樹脂、炭素化合物、金属微粒子、金属酸化物微粒子、シランカップリング剤、他の有機化合物等が挙げられる。

（溶剤）
本発明の硬化性組成物は、溶剤を含んでもよい。ただし、硬化性組成物を硬化する前には、溶剤を除去することが好ましい。
溶剤としては、モノマー（Ａ）、（Ｂ）、（Ｆ）、化合物（Ｃ）、酸化防止剤（Ｅ）および重合開始剤（Ｄ）を溶解可能な溶剤であればいずれも用いることができ、エステル構造、ケトン構造、水酸基、エーテル構造のいずれか１つ以上を有する溶剤が好ましい。
本発明において溶剤を使用する場合、硬化性組成物中の溶剤の含有量は、目的の粘度、塗布性、目的とする膜厚等によって適宜調整すればよい。

（硬化性組成物における各成分の含有量）
モノマー（Ａ）の含有量は、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％のうち、４〜９０質量％が好ましい。該含有量が４質量％以上であれば、硬化性組成物の粘度を低くできる。該含有量は好ましくは１４質量％以上、より好ましくは２４質量％以上、さらに好ましくは３４質量％以上である。モノマー（Ａ）の含有量が９０質量％以下であれば、アッベ数の上昇および硬化物の屈折率の低下が抑えられる。該含有量は好ましくは７９質量％以下、より好ましくは６９質量％以下、さらに好ましくは５９質量％以下である。

モノマー（Ｂ）の含有量は、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％のうち、３〜８９質量％が好ましい。該含有量が３質量％以上であれば、硬化物の屈折率を高くする効果、透過率を高くする効果、および耐熱性を高くする効果が得られる。また、硬化物の機械的特性が良好となる。該含有量は好ましくは４質量％以上、より好ましくは５質量％以上である。モノマー（Ｂ）の含有量が８９質量％以下であれば、硬化性組成物の粘度を低くできる。該含有量は好ましくは７９質量％以下、より好ましくは６９質量％以下、さらに好ましくは５９質量％以下である。

化合物（Ｃ）の含有量は、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％のうち、１〜１０質量％である。該含有量が１質量％以上であれば、硬化性組成物のアッベ数を低くする効果が得られる。該含有量は好ましくは１．５質量％以上、より好ましくは２．０質量％以上である。化合物（Ｃ）の含有量が１０質量％以下であれば、硬化物の透過率の低下が抑えられる。該含有量は好ましくは９．５質量％以下、より好ましくは９．０質量％以下である。

重合開始剤（Ｄ）の添加量は、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましい。該添加量が０．０１質量部以上であれば、容易に硬化物を形成できる。該添加量は好ましくは０．１質量部以上、より好ましくは０．３質量部以上である。重合開始剤（Ｄ）の添加量が１０質量部以下であれば、硬化物に残存する重合開始剤（Ｄ）が少なくなるため、硬化物の内部透過率の低下が抑えられる。該添加量は好ましくは７質量部以下、より好ましくは５質量部以下である。

酸化防止剤（Ｅ）を含む場合、酸化防止剤（Ｅ）の添加量は、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましい。該添加量が０．０１質量部以上であれば、硬化物の初期透過率が向上でき、かつ硬化物の黄変を抑制できる。該添加量は好ましくは０．１質量部以上、さらに好ましくは０．３質量部以上である。酸化防止剤（Ｅ）の添加量が１０質量部以下であれば、硬化物の硬化性の低下が抑えられる。該添加量は好ましくは８質量部以下、さらに好ましくは５質量部以下である。

本発明の硬化性組成物はモノマー（Ｆ）をできるだけ含まないことが好ましい。モノマー（Ｆ）の添加量は、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量部に対して、０〜５質量部が好ましく、０〜３質量部がより好ましい。化合物（Ｆ）の添加量が前記範囲の上限値以下であれば、硬化物の屈折率の低下および硬化物のアッベ数の上昇が抑えられる。

添加剤等の他の成分の合計の添加量は、すべての架橋性反応基を有する化合物と化合物（Ｃ）との合計１００質量部に対して、５質量部以下が好ましく、３質量部以下がより好ましい。

以上説明した本発明の硬化性組成物にあっては、以下の理由から、屈折率が高く、アッベ数が低く、透明性が高く、耐熱性が高い硬化物が得られる。また、本発明の硬化性組成物は、低粘度である。
本発明の硬化性組成物は、割合（Ｘ）がモノマー１分子１００質量％のうち４７質量％以上であるモノマー（Ａ）を含むため、硬化性組成物の粘度を低く、かつ硬化物のアッベ数を低くできる。さらに、屈折率および透明性が高く、かつ耐熱性に優れるモノマー（Ｂ）を組み合わせることで、屈折率および透明性が高く、かつ耐熱性に優れる硬化物が得られる。しかし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との組み合わせだけでは、硬化物のアッベ数をさらに低くすることには限界がある。そこで、アッベ数が２１以下である化合物（Ｃ）をさらに含ませることによって硬化物のアッベ数をさらに低くしている。

＜硬化物＞
本発明の硬化物は、本発明の硬化性組成物を硬化したものである。本発明の硬化物を基材の表面に形成して、硬化物からなる層と基材からなる層とを有する積層体としてもよい。

硬化物の波長５８９ｎｍの光に対する屈折率は、１．６０以上が好ましく、１．６１以上がより好ましい。屈折率が前記範囲の下限値以上であれば、光学部材の材料とした場合、薄肉化が可能となる。上限は特に限定されないが、有機物であることを考慮すると１．８５程度である。

硬化物のアッベ数ν_Ｄは、２５以下が好ましく、２４以下がより好ましい。アッベ数ν_Ｄが前記範囲の上限値以下であれば、光学部材の材料とした場合、アッベ数の高い材料と組み合わせることで色収差を減少させることができる。アッベ数ν_Ｄは低ければ低いほどよく、下限は特に限定されないが、有機物であることを考慮すると１９程度である。

硬化物の下式（ＩＩＩ）から求めた、厚さ１ｍｍあたりの硬化物についての波長４００ｎｍの光に対する内部透過率は、９０％以上が好ましく、９２％以上がさらに好ましい。硬化物の内部透過率は高ければ高いほどよく、上限は１００％である。
内部透過率＝Ｔ／（１−ｒ）^２ （ＩＩＩ）
ｒ＝｛（ｎ−１）／（ｎ＋１）｝^２
ただし、Ｔは、厚さ１ｍｍの硬化物についての波長４００ｎｍの光に対する光線透過率であり、ｎは、２５℃における波長４００ｎｍの光に対する屈折率である。

硬化物の厚さが１ｍｍと異なる場合には、下式ＩＶおよび下式Ｖより、厚さＹｍｍの硬化物の透過率から、硬化物の厚さ１ｍｍあたりの透過率を求める。
硬化物の厚さＹｍｍあたりの内部透過率＝Ｔ_Ｙ／（１−ｒ）^２ 式ＩＶ
ｒ＝｛（ｎ−１）／（ｎ＋１）｝^２
ただし、Ｔ_Ｙは、硬化物の厚さＹｍｍあたりの波長４００ｎｍの光の透過率であり、ｎは、硬化物の２５℃における波長４００ｎｍの光に対する屈折率である。
硬化物の厚さ１ｍｍあたりの内部透過率＝（硬化物の厚さＹｍｍあたりの内部透過率／１００）^Ｙ×１００ 式Ｖ

（硬化物の製造方法）
本発明の硬化物を製造する方法としては、微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドと硬化性組成物とを接触させた状態で該硬化性組成物を硬化させて、微細パターンを表面に有する硬化物を形成する方法（インプリント法）；モールドのキャビティ内に硬化性組成物を注入し、該硬化性組成物を硬化させて硬化物を形成する方法（注型成形法）等が挙げられる。
硬化方法は、光硬化または熱硬化が挙げられ、重合開始剤（Ｄ）に応じて適宜選択すればよい。硬化方法としては、硬化物の製造のしやすさから、光硬化が好ましい。
以上説明した本発明の硬化物にあっては、本発明の硬化性組成物を硬化したものであるため、屈折率が高く、アッベ数が低く、透明性が高く、耐熱性が高い。

以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
例１〜２６は実施例であり、例２７〜３７は比較例である。

（^１Ｈ−ＮＭＲ）
モノマー（Ａ）の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、ＦＴ−ＮＭＲ装置（日本電子社製、ＪＮＭ−ＡＬ３００）を用いて測定した。

（モノマーおよび化合物の屈折率）
モノマーおよび化合物の屈折率は、アッベ屈折計（アタゴ社製、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２）を用い、温度：２５℃、波長：５８９ｎｍにおいて測定した。２５℃で固体であるものについてはジベンジルエーテル（東京化成工業社製）を溶媒として２５質量％の溶液を調製し、溶液について測定した値とジベンジルエーテルの屈折率の値から外挿して求めた。

（モノマーおよび化合物のアッベ数）
モノマーおよび化合物のアッベ数は、アッベ屈折計（同上）を用い、温度：２５℃で、波長：５８９ｎｍ、４８６ｎｍ、および６５６ｎｍのそれぞれの屈折率を測定し、前記式（ＩＩ）から算出した。

（モノマーおよび硬化性組成物の粘度）
モノマーおよび硬化性組成物の粘度は、動的粘弾性測定装置（Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製、Ｐｈｙｓｉｃａ ＭＣＲ３０１）を用いて、１０ｓ^−１の剪断速度における動的粘弾性を２５℃で測定し、求めた。

（硬化物の屈折率）
離形処理を施した石英ガラス基板上に硬化性組成物を塗布し、厚みが１ｍｍのスペーサーを介してもう１枚の離形処理を施した石英ガラス基板で挟み込んだものに、高圧水銀ランプから紫外線を露光量：３０００ｍＪ／ｃｍ^２で照射した後、硬化物を石英ガラス基板から離形させた。得られた膜状の硬化物を１２５℃で１５分間ベークし、厚さ：１ｍｍの硬化物を得た。屈折率測定装置（米国メトリコン社製、プリズムカプラ：２０１０／Ｍ）を用いて、硬化物の２５℃における波長４７３ｎｍ、５９４ｎｍおよび６５８ｎｍの光に対する屈折率を測定し、装置付属のＭｅｔｒｉｃｏｎ Ｆｉｔを用いて波長５８９ｎｍの光に対する屈折率を算出した。

（硬化物のアッベ数）
上述の装置付属のＭｅｔｒｉｃｏｎ Ｆｉｔを用いて硬化物の各波長に対する屈折率を算出し、前記式（ＩＩ）からアッベ数を算出した。

（硬化物の内部透過率）
上述の装置付属のＭｅｔｒｉｃｏｎ Ｆｉｔを用いて硬化物の波長４００ｎｍに対する屈折率ｎを算出した。厚さ：１ｍｍの硬化物について、紫外・可視・近赤外分光光度計（島津製作所社製、Ｓｏｌｉｄ Ｓｐｅｃ−３７００）を用いて波長４００ｎｍの光に対する光線透過率を測定した。次いで、前記式（ＩＩＩ）から内部透過率を算出した。

（耐熱性）
硬化物を１５０℃のオーブンに入れ、１００時間保持した。保持後の硬化物の変化を目視で観察し、下記基準にて評価した。
○（良）：硬化物に変化なし。 ×（悪）：硬化物に着色あり。

（合成例１）
ｏ−フェニルベンジルアクリレート（モノマー（Ａ−１））の合成：
２００ｍＬの３つ口フラスコに、ｏ−フェニルベンジルアルコールの１０．０ｇ、脱水トルエンの１００ｍＬ、およびトリエチルアミンの７．６ｇを仕込み、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリル酸クロライドの６．０ｇを３０分間かけて滴下し、室温に戻し１２時間反応を行った。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄後、脱溶媒し、シリカゲルカラムで精製を行い、２０．４４ｇの透明液体を得た。得られた液体の^１Ｈ−ＮＭＲ測定によってモノマー（Ａ−１）であることを確認した。^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，溶媒：アセトンｄ−６，基準：トリメチルシラン）：７．５３−７．３０（９Ｈ），６．４１（１Ｈ），６．１７（１Ｈ），５．７８（１Ｈ），５．１３（２Ｈ）．

（合成例２）
ｍ−フェノキシベンジルアクリレート（モノマー（Ａ−３））の合成：
３００ｍＬの３つ口フラスコに、ｍ−フェノキシベンジルアルコールの２５．０ｇ、脱水テトラヒドロフランの２００ｍＬ、およびトリエチルアミンの１９．０ｇを仕込み、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリル酸クロライドの１２．５ｇを３０分間かけて滴下し、室温に戻し１２時間反応を行った。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄後、脱溶媒し、シリカゲルカラムで精製を行い、２２．２ｇの透明液体を得た。得られた液体の^１Ｈ−ＮＭＲ測定によってモノマー（Ａ−３）であることを確認した。^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，溶媒：アセトンｄ−６，基準：トリメチルシラン）：７．３１（３Ｈ），７．１２−７．０７（３Ｈ），６．９８（２Ｈ），６．９１（１Ｈ），６．３７（１Ｈ），６．１５（１Ｈ），５．８１（１Ｈ），５．１５（２Ｈ）．

（合成例３）
１−ナフチルメチルアクリレート（モノマー（Ａ−４））の合成：
３００ｍＬの３つ口フラスコに、１−ナフタレンメタノールの２５．０ｇ、脱水アセトンの２００ｍＬ、およびトリエチルアミンの２１．８ｇを仕込み、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。アクリル酸クロライドの１８．１ｇを３０分間かけて滴下し、室温に戻し１２時間反応を行った。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄後、脱溶媒し、シリカゲルカラムで精製を行い、２４．８ｇの透明液体を得た。得られた液体の^１Ｈ−ＮＭＲ測定によってモノマー（Ａ−４）であることを確認した。^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，溶媒：アセトンｄ−６，基準：トリメチルシラン）：８．０１（１Ｈ），７．７９（２Ｈ），７．４４（４Ｈ），６．３７（１Ｈ），６．１０（１Ｈ），５．６７（１Ｈ），５．６１（２Ｈ）．

（合成例４）
４−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート（化合物（Ｃ−１０））の合成
５００ｍＬの３つ口フラスコに、２−ナフタレンチオールの５４．６ｇ（３４０ｍｍｏｌ）、４−フルオロベンズアルデヒドの５２．１ｇ（４２０ｍｍｏｌ）、脱水アセトニトリルの３００ｍＬ、および炭酸カリウムの７０．０ｇ（５０７ｍｍｏｌ）を仕込み、窒素雰囲気化で撹拌しながら６時間還流させた。その後、室温に戻して反応溶液を濾過し、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。得られた固体を酢酸エチルに溶解させた後、ＨＣｌ水溶液（１Ｍ）、次いで飽和食塩水で洗浄した。ヘキサンで再結晶を行い、７８．１ｇの淡黄色の固体を得た。続いて、１Ｌの３つ口フラスコに、得られた淡黄色の固体７８．１ｇ（３００ｍｍｏｌ）とメタノール３５０ｍＬ、テトラヒドロフラン１５０ｍＬを加え、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。水素化ホウ素ナトリウムの２２．３ｇを４回に分けて加えた後、室温に戻し、さらに４時間撹拌した。薄層クロマトグラフィ（ＴＬＣ）で反応の終了を確認した後、ＨＣｌ水溶液（１Ｍ）を２００ｍＬ、酢酸エチルを１００ｍＬ加え、さらに３０分撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水で洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーターで留去し、白色固体７６．５ｇを得た。

その後、１Ｌの３つ口フラスコ中に、得られた白色固体７６．５ｇおよびトリエチルアミン４３．３ｇ（４２８ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン４００ｍＬを加え、撹拌しながら氷浴で１０℃以下に冷却した。これに対して、アクリロイルクロライド３１．０ｇ（３４２ｍｍｏｌ）を２時間かけて滴下した後、１０℃以下で３時間撹拌し、室温に戻しさらに１晩撹拌した。次いで、ＨＣｌ水溶液（１Ｍ）を２００ｍＬ、および酢酸エチルを１００ｍＬ加え、さらに３０分撹拌した。その後、有機層を抽出し、飽和食塩水、飽和重層水、飽和食塩水の順番で洗浄した。シリカゲルカラム精製（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）を行い、白色固体を得た。得られた固体をメタノールで再結晶することで化合物（Ｃ−１０）の６９．１ｇを得た。^１Ｈ−ＮＭＲで同定を行い化合物（Ｃ−１０）であることを確認した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、３００ＭＨｚ）：７．８８（ｓ、１Ｈ ｏｆ ナフタレン環）、７．７１（ｍ、３Ｈ ｏｆ ナフタレン環とベンゼン環）、７．４０−７．３１（ｍ、７Ｈ ｏｆ ナフタレン環とベンゼン環）、６．３８（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、６．１４（ｑ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．７５（ｄ、１Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ_２）、５．１５（ｓ、２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２−Ｐｈ）。

（モノマー（Ａ））
モノマー（Ａ−１）：ｏ−フェニルベンジルアクリレート（合成例１で得たもの。Ｘ：６４．３質量％、ｎ_Ｄ：１．５８３、ν_Ｄ：２４．１、粘度：２７ｍＰａ・ｓ）。
モノマー（Ａ−２）：２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチルアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＬＥＮ−１０、Ｘ：５７．１質量％、ｎ_Ｄ：１．５７７、ν_Ｄ：２５．９、粘度：１５０ｍＰａ・ｓ）。
モノマー（Ａ−３）：ｍ−フェノキシベンジルアクリレート（合成例２で得たもの。Ｘ：６０．２質量％、ｎ_Ｄ：１．５６４、ν_Ｄ：２８．０、粘度：１５ｍＰａ・ｓ）。
モノマー（Ａ−４）：１−ナフチルメチルアクリレート（合成例３で得たもの。Ｘ：５９．９質量％、ｎ_Ｄ：１．５９４、ν_Ｄ：２３．０、粘度：９５ｍＰａ・ｓ）。
モノマー（Ａ−５）：ｏ−フェニルベンジルアクリレートとｍ−フェニルベンジルアクリレートとの混合物（ＤＩＣ社製、ユニディック（登録商標）ＥＫＺ−９４８、Ｘ：６４．３質量％、ｎ_Ｄ：１．５９１、ν_Ｄ：２４．１、粘度：２５ｍＰａ・ｓ）。

（モノマー（Ｂ））
モノマー（Ｂ−１）：９，９−ビス（４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル）フルオレン（大阪ガスケミカル社製、オグソール（登録商標）ＥＡ−０２００、溶剤：トルエン（５質量％）、ｎ_Ｄ：１．６１１、ν_Ｄ：２７．５、粘度：１０００００ｍＰａ・ｓ以上）。

（化合物（Ｃ））
化合物（Ｃ−１）：ビス（４−メタクロイルチオフェニル）スルフィド（東京化成工業社製、ｎ_Ｄ：１．６４６、ν_Ｄ：２０．１、２５℃において固体）。
化合物（Ｃ−２）：９−ビニルカルバゾール（東京化成工業社製、ｎ_Ｄ：１．６８０、ν_Ｄ：１６．４、２５℃において固体）。
化合物（Ｃ−３）：２−ビニルナフタレン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社製、ｎ_Ｄ：１．６５３、ν_Ｄ：１６．４、２５℃において固体）。
化合物（Ｃ−４）：２−（９−カルバゾルイル）エチルメタクリレート（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社製、ｎ_Ｄ：１．６２９、ν_Ｄ：２０．３、２５℃において固体）。
化合物（Ｃ−５）：９−フェニルカルバゾール（東京化成工業社製、ｎ_Ｄ：１．６８６、ν_Ｄ：１８．０、２５℃において固体）。
化合物（Ｃ−６）：ポリ（２−ビニルナフタレン）（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社製、ｎ_Ｄ：１．６８３、ν_Ｄ：１７．０、２５℃において固体）。
化合物（Ｃ−７）：ポリアセナフチレン（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社製、ｎ_Ｄ：１．６７６、ν_Ｄ：１９．０、２５℃において固体。
化合物（Ｃ−８）：ポリ（９−ビニルカルバゾール）（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社製、ｎ_Ｄ：１．６８７、ν_Ｄ：１７．５、２５℃において固体）。
化合物（Ｃ−９）：特殊ポリカーボネート樹脂（三菱ガス化学社製、ユピゼータ（登録商標）ＥＰ−８０００、ｎ_Ｄ：１．６５６、ν_Ｄ：２０．５、２５℃において固体）。
化合物（Ｃ−１０）：４−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート（合成例４で得たもの。ｎ_Ｄ：１．６４７、ν_Ｄ：２０．１、２５℃において固体）

（重合開始剤（Ｄ））
重合開始剤（Ｄ−１）：アルキルフェノン系光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）１１７３）。

（酸化防止剤（Ｅ））
化合物（Ｅ−１）：テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン（フェノール系酸化防止剤、ＢＡＳＦジャパン社製、ＩＲＧＡＮＯＸ（商品名）１０１０）。
化合物（Ｅ−２）：トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット（リン酸系酸化防止剤、ＢＡＳＦジャパン社製、ＩＲＧＡＦＯＳ（商品名）１６８）。
化合物（Ｅ−３）：ドデカンチオール（東京化成工業社製）。

（モノマー（Ｆ））
モノマー（Ｆ−１）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＤＣＰ、Ｘ：０質量％、ｎ_Ｄ：１．５０３、ν_Ｄ：４７．９、粘度：１２０ｍＰａ・ｓ）。
モノマー（Ｆ−２）：ベンジルメタクリレート（東京化成工業社製、Ｘ：４６．８質量％、ｎ_Ｄ：１．５１０、ν_Ｄ：３２．７、粘度：３ｍＰａ・ｓ）。

（例１〜３７）
表１に記載の各成分を配合組成（数値は質量部）にしたがって配合し、ミックスローターで撹拌、混合することで均一で透明な硬化性組成物を得た。

硬化性組成物の粘度、硬化物の屈折率、アッベ数、内部透過率、および耐熱性の結果を表２に示す。

化合物（Ｃ）を含む例１〜２６は、化合物（Ｃ）を含まない例２７〜３１に比べ、硬化物のアッベ数が低かった。また、モノマー（Ａ）を含まず、割合（Ｘ）が４７質量％未満のモノマー（Ｆ）を含む例３２、３３に比べても硬化物の屈折率が高く、アッベ数が低かった。化合物（Ｃ）の含有量が、モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）および化合物（Ｃ）の合計１００質量％のうち１〜１０質量％である例１〜２６では、硬化物の内部透過率は９０％以上であったのに対し、１０質量％より大きい例３４〜３７では、硬化物の内部透過率が９０％よりも低い値となった。また、酸化防止剤を含まない例３に比較して酸化防止剤を添加した例６では硬化物の内部透過率が高い値となった。
本実施例のうち、もっとも粘度が高い組成はモノマー（Ｂ）の含有量が多い、例１８であり、その粘度は１３９００ｍＰａ・ｓである。したがって、例１〜２６のうち、粘度の記載がない組成に関してもその粘度はいずれも１０００００ｍＰａ・ｓ以下であるといえる。

本発明の硬化性組成物は、光学部材（レンズ、プリズム、反射防止膜、光導波路、ＬＥＤ封止材等）、記録メディア、半導体デバイス製造等に用いられる材料として有用である。
なお、２０１６年９月２８日に出願された日本特許出願２０１６−１８９９０６号の明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (13)

1. 架橋性基および芳香環を有し、該芳香環の環骨格を構成しない硫黄原子を有してもよいモノマーであり、前記芳香環の環骨格を構成する原子の質量と、前記芳香環の環骨格を構成する原子に結合した水素原子の質量と、前記芳香環の環骨格を構成しない硫黄原子の質量との合計の質量の割合が、モノマー１分子１００質量％のうち、４７質量％以上であり、２５℃における粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以下であるモノマー（Ａ）（ただし、下記モノマー（Ｂ）を除く。）と、
   下式（Ｉ）で表されるモノマー（Ｂ）と、
   下式（ＩＩ）から求めたアッベ数が２１以下である化合物（Ｃ）（ただし、前記モノマー（Ａ）を除く。）と、
   重合開始剤（Ｄ）とを含み、
   前記化合物（Ｃ）の含有量が、前記モノマー（Ａ）の含有量と前記モノマー（Ｂ）の含有量と前記化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％のうち、１〜１０質量％であり、
   前記モノマー（Ａ）が、ｏ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−フェニルベンジル（メタ）アクリレート、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ｍ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、１−ナフチルメチル（メタ）アクリレート、２−ナフチルメチル（メタ）アクリレート、フェニルビニルスルフィド、フェニルビニルスルホキシド、ベンジルチオ（メタ）アクリレート、ジメチルナフチルビニルシラン、（ビス（４−メタクロイルフェニル）スルフィド、２−（フェニルチオ）エチルチオ（メタ）アクリレート、ビス〔４−（メタ）アクリロイロキシエチルチオ）フェニル〕スルフィド、ビス［ｍ−（２−（メタ）アクロイルエトキシ）フェノキシ］ジフェニルシランからなる群から選ばれる少なくとも１種であり、
   前記化合物（Ｃ）が、ビス（４−（メタ）アクロイルチオフェニル）スルフィド、９−ビニルカルバゾール、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン、２−（９−カルバゾルイル）エチル（メタ）アクリレート、ビス（４−ビニルチオフェニル）スルフィド、アセナフチレン、９−フェニルカルバゾール、ナフタレン、ポリ（２−ビニルナフタレン）、ポリアセナフチレン、ポリ（９−ビニルカルバゾール）、４−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート、２−（２−ナフタレニルチオ）ベンジルアクリレート、５−（２−ナフタレニルチオ）フルフリルアクリレート、４−（２−ベンゾオキサゾリルチオ）ベンジルアクリレート、２−（４−（２−ベンゾチアゾリルチオ）フェノキシ）エチルアクリレート、およびナフタレン構造を有するポリカーボネートからなる群から選ばれる少なくとも１種である、硬化性組成物。
   

   

   （ただし、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＲ^７）ＣＨ_２−（ただし、Ｒ^７は（メタ）アクリロイル基である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であり、ａおよびｂは、０〜４の整数であり、ａ＋ｂは、０〜４の整数である。）
   ν_Ｄ＝（ｎ_Ｄ−１）／（ｎ_Ｆ−ｎ_Ｃ） （ＩＩ）
   （ただし、ν_Ｄは、アッベ数であり、ｎ_Ｄは、２５℃における波長５８９ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｆは、２５℃における波長４８６ｎｍの光に対する屈折率であり、ｎ_Ｃは、２５℃における波長６５６ｎｍの光に対する屈折率である。）
2. 前記モノマー（Ａ）の含有量が、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％のうち、４〜９０質量％である、請求項１に記載の硬化性組成物。
3. 前記モノマー（Ｂ）の含有量が、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量％のうち、３〜８９質量％である、請求項１または２に記載の硬化性組成物。
4. 酸化防止剤（Ｅ）を更に含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
5. 前記酸化防止剤（Ｅ）の添加量が、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である、請求項４に記載の硬化性組成物。
6. （メタ）アクリロイル基を１つ以上有する化合物からなるモノマー（Ｆ）（ただし、モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）および化合物（Ｃ）を除く）をさらに含む、請求項４または５に記載の硬化性組成物。
7. 前記モノマー（Ｆ）の含有量が、モノマー（Ａ）の含有量とモノマー（Ｂ）の含有量と化合物（Ｃ）の含有量との合計１００質量部に対して、０〜５質量部である、請求項６に記載の硬化性組成物。
8. 前記モノマー（Ａ）、（Ｂ）、（Ｆ）、化合物（Ｃ）、酸化防止剤（Ｅ）および重合開始剤（Ｄ）を溶解可能な溶剤をさらに含む、請求項６または７に記載の硬化性組成物。
9. （メタ）アクリロイル基を１つ以上有する化合物からなるモノマー（Ｆ）（ただし、モノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）および化合物（Ｃ）を除く）をさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
10. ２５℃における粘度が１０００００ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
11. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の硬化性組成物を硬化した硬化物。
12. 前記式（ＩＩ）から求めたアッベ数が２５以下であり、厚さ１ｍｍあたりの硬化物についての波長４００ｎｍの光に対する内部透過率が９０％以上である請求項１１に記載の硬化物。
13. 波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．６０以上である、請求項１１または１２に記載の硬化物。