KR20180135891A - 페난트렌환함유 반응성 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 중합성 조성물 - Google Patents
페난트렌환함유 반응성 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 중합성 조성물 Download PDFInfo
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Abstract
[과제] 경화물이 저아베수를 나타내고, 또한 높은 투명성을 갖는 성형체를 제작하는데 호적한 중합성 조성물을 제공하는 것이다.
[해결수단] (a)페난트렌환함유 반응성 실세스퀴옥산 화합물 100질량부, 및 (b)중합성 이중결합을 적어도 1개 갖는 중합성 화합물 10~500질량부를 포함하는 중합성 조성물, 해당 중합성 조성물의 경화물, 및 해당 중합성 조성물을 이용하는 성형체의 제조방법.
[해결수단] (a)페난트렌환함유 반응성 실세스퀴옥산 화합물 100질량부, 및 (b)중합성 이중결합을 적어도 1개 갖는 중합성 화합물 10~500질량부를 포함하는 중합성 조성물, 해당 중합성 조성물의 경화물, 및 해당 중합성 조성물을 이용하는 성형체의 제조방법.
Description
본 발명은 페난트렌환함유 반응성 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 중합성 조성물에 관한 것이다. 상세하게는, 우수한 광학특성(투명성, 저아베수, 고굴절률), 높은 내열성(내크랙성, 치수안정성 등)을 갖는 경화물을 형성할 수 있는, 중합성 조성물에 관한 것이다.
수지렌즈는, 휴대전화, 디지털카메라, 차재카메라 등의 전자기기에 이용되고 있으며, 그 전자기기의 목적에 따른, 우수한 광학특성을 갖는 것이 요구된다. 또한, 사용 태양에 맞추어, 높은 내구성, 예를 들어 내열성 및 내후성과, 수율좋게 성형할 수 있는 높은 생산성이 요구되고 있다. 이러한 요구를 만족하는 수지렌즈용 재료로는, 예를 들어, 폴리카보네이트 수지, 시클로올레핀폴리머, 메타크릴 수지 등의 열가소성의 투명수지가 사용되어 왔다.
또한, 고해상도 카메라모듈에는 복수매의 렌즈가 이용되는데, 이 중 1매의 파장보정렌즈로서, 높은 파장분산성, 즉 저아베수를 갖는 광학재료가 요구되고 있다. 나아가, 수지렌즈의 제조에 있어서, 수율이나 생산효율향상, 더 나아가서는 렌즈적층시의 광축어긋남의 억제를 위해, 열가소성 수지의 사출성형으로부터, 실온에서 액상의 경화성 수지를 사용한 압착성형에 의한 웨이퍼레벨 성형으로의 이행이 활발하게 검토되고 있다.
저아베수를 특장으로 한 종래 재료로는, 유기황 화합물을 이용한 조성물(예를 들어, 특허문헌 1 참조)이나, 산화티탄과의 유기무기 복합체가 알려져 있다. 그러나, 전자는 유리 황에 의한 취기나, 착색에 의한 경화물(성형체)의 낮은 광투과율이 과제가 되었고, 후자에서는 무기미립자의 응집에 따른 백탁화나 경화물이 취약해진다는 과제가 있어, 실 프로세스로의 적응이 곤란했었다.
이와 같이, 고해상도 카메라모듈용 렌즈로서 사용할 수 있는, 저아베수(예를 들어 24 이하)를 갖고, 또한, 높은 투명성을 만족하는 경화성 수지재료는 아직 없으며, 그 개발이 요망되고 있었다.
본 발명은, 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 경화물이 저아베수를 나타내고, 또한 높은 투명성을 갖는 성형체를 제작하는데 호적한 중합성 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 행한 결과, 페난트렌환을 함유하는 특정한 반응성 실세스퀴옥산 화합물을 중합성 조성물에 배합함으로써, 얻어지는 그 경화물(성형체)이 투과율 80% 이상의 높은 투명성을 가지고, 나아가 낮은 아베수와 높은 굴절률을 발현하고, 그리고 고온열이력에 의해 발생하는 치수변화를 억제할 수 있는 성형체가 얻어지는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하였다.
즉 본 발명은, 제1 관점으로서,
(a)식[1]로 표시되는 알콕시규소 화합물 A와, 식[2]로 표시되는 알콕시규소 화합물 B의 중축합물인 반응성 실세스퀴옥산 화합물 100질량부, 및 (b)중합성 이중결합을 적어도 1개 갖는 중합성 화합물 10~500질량부를 포함하는 중합성 조성물에 관한 것이다.
[화학식 1]
(식 중, X는 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 페닐기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 나프틸기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 비페닐기, 또는 (메트)아크릴로일기를 적어도 1개 갖는 탄소원자수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, R1은 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.)
[화학식 2]
(식 중, Ar1은 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기로 치환되어 있을 수도 있는 페난트릴기를 나타내고, R2는 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.)
제2 관점으로서, 상기 (b)중합성 화합물이, 식[3]으로 표시되는 플루오렌 화합물(b1)을 포함하는, 제1 관점에 기재된 중합성 조성물에 관한 것이다.
[화학식 3]
(식 중, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, L1 및 L2는 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 페닐렌기, 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 나프탈렌디일기를 나타내고, L3 및 L4는 각각 독립적으로, 탄소원자수 1 내지 6의 알킬렌기를 나타내고, m 및 n은 각각 독립적으로, 0≤m+n≤40을 만족하는 0 또는 양의 정수를 나타낸다.)
제3 관점으로서, 상기 (b)중합성 화합물이, 식[4]로 표시되는 방향족 비닐 화합물(b2)을 포함하는, 제1 관점 또는 제2 관점에 기재된 중합성 조성물에 관한 것이다.
[화학식 4]
(식 중, R5는, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, L5는, 단결합, 수소원자, 산소원자, 페닐기로 치환되어 있을 수도 있는 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소잔기, 또는 에테르결합을 포함하고 있을 수도 있는 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소잔기를 나타내고, Ar2는, p+1가의 방향족 탄화수소잔기를 나타내고, p는 각각 독립적으로, 1 또는 2를 나타내고, q는 1 내지 3의 정수(단 L5가 수소원자를 나타낼 때 q는 1을 나타내고, L5가 단결합 또는 산소원자를 나타낼 때 q는 2를 나타낸다.)를 나타낸다.)
제4 관점으로서, 상기 알콕시규소 화합물 A가, 식[1a]로 표시되는 화합물인, 제1 관점 내지 제3 관점 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물에 관한 것이다.
[화학식 5]
(식 중, R1은 상기 식[1]과 동일한 의미를 나타낸다.)
제5 관점으로서, 해당 조성물로부터 얻어지는 경화물의 아베수가 24 이하가 되는, 제1 관점 내지 제4 관점 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물에 관한 것이다.
제6 관점으로서, 제1 관점 내지 제5 관점 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물의 경화물에 관한 것이다.
제7 관점으로서, 제1 관점 내지 제5 관점 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물로 이루어지는 고굴절률 수지렌즈용 재료에 관한 것이다.
제8 관점으로서, 제1 관점 내지 제5 관점 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물로부터 제작된 수지렌즈에 관한 것이다.
제9 관점으로서, 제1 관점 내지 제5 관점 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을, 접합하는 지지체와 주형(鑄型) 사이의 공간, 또는 분할가능한 주형의 내부의 공간에 충전하는 공정, 및 해당 충전된 조성물을 노광하여 광중합하는 공정을 포함하는 성형체의 제조방법에 관한 것이다.
제10 관점으로서, 얻어진 광중합물을 충전된 상기 공간으로부터 취출하여 이형하는 공정, 그리고, 이 광중합물을 이 이형 전, 중도 또는 후에 있어서 가열하는 공정을 추가로 포함하는 제9 관점에 기재된 제조방법에 관한 것이다.
제11 관점으로서, 상기 성형체가 카메라모듈용 렌즈인, 제9 관점 또는 제10 관점에 기재된 제조방법에 관한 것이다.
제12 관점으로서, 식[1]로 표시되는 알콕시규소 화합물 A와, 식[2]로 표시되는 알콕시규소 화합물 B를 중축합하여 얻어지는 반응성 실세스퀴옥산 화합물에 관한 것이다.
[화학식 6]
(식 중, X는 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 페닐기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 나프틸기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 비페닐기, 또는 (메트)아크릴로일기를 적어도 1개 갖는 탄소원자수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, R1은 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.)
[화학식 7]
(식 중, Ar1은 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기로 치환되어 있을 수도 있는 페난트릴기를 나타내고, R2는 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.)
제13 관점으로서, 상기 알콕시규소 화합물 A가, 식[1a]로 표시되는 화합물인, 제12 관점에 기재된 반응성 실세스퀴옥산 화합물에 관한 것이다.
[화학식 8]
(식 중, R1은 상기 식[1]과 동일한 의미를 나타낸다.)
본 발명의 중합성 조성물은, 그 경화물이, 광학디바이스, 예를 들어, 고해상도 카메라모듈용의 렌즈로서 바람직한 광학특성(높은 투명성, 저아베수, 고굴절률)을 가질 뿐만 아니라, 고해상도 카메라모듈의 실장 프로세스에 적합할 수 있는 내열성(내크랙성 및 치수안정성 등)도 갖는다. 특히, (a)상기 식[1a]로 표시되는 알콕시규소 화합물 A와, 식[2]로 표시되는 알콕시규소 화합물 B의 중축합물인 반응성 실세스퀴옥산 화합물과, (b)적어도 식[3]으로 표시되는 플루오렌 화합물(b1)을 포함하는 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물에 있어서는, 80% 이상의 높은 투과율, 24 이하의 저아베수, 1.62 이상의 높은 굴절률이라는 고해상도 카메라모듈용의 렌즈로서 바람직한 광학특성을 달성할 수 있다.
따라서, 상기 중합성 조성물로 이루어지는 본 발명의 고굴절률 수지렌즈용 재료는, 고해상도 모듈용의 렌즈로서 호적하게 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 제조방법은, 성형체, 특히 카메라모듈용 렌즈를 효율적으로 제조할 수 있다.
나아가, 본 발명의 중합성 조성물은, 무용제의 형태로 충분히 취급 가능한 점도를 가지고 있으므로, 금형 등의 주형의 압착가공(임프린트기술)을 적용하여 성형가능하고, 또한 성형 후에 있어서의 이 주형으로부터의 이형성도 우수하므로, 호적하게 성형체를 제조할 수 있다.
도 1은, 제조예 1에서 얻어진 트리메톡시(9-페난트릴)실란의 1H NMR스펙트럼을 나타내는 도면이다.
<<중합성 조성물>>
본 발명의 중합성 조성물은, 성분(a)으로서 페난트렌환을 함유하는 특정한 반응성 실세스퀴옥산 화합물과, 성분(b)으로서 중합성 이중결합을 적어도 1개 갖는 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물이고, 바람직한 태양에 있어서, 상기 중합성 화합물(b)로서 특정한 플루오렌 화합물(b1), 추가로 특정한 방향족 비닐 화합물(b2)을 포함하는, 중합성 조성물이다.
이하, 각 성분의 상세를 설명한다.
<(a)반응성 실세스퀴옥산 화합물>
본 발명에 이용되는 (a)반응성 실세스퀴옥산 화합물은, 후술하는 특정구조의 알콕시규소 화합물 A와 특정구조의 알콕시규소 화합물 B의 중축합물이고, 상세하게는, 상기 알콕시규소 화합물 A와 상기 알콕시규소 화합물 B를, 산 또는 염기의 존재하 중축합하여 얻어지는 페난트렌환을 함유하는 화합물이다.
[알콕시규소 화합물 A]
상기 알콕시규소 화합물 A는, 하기 식[1]로 표시되는 화합물이다.
[화학식 9]
상기 식[1] 중, X는 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 페닐기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 나프틸기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 비페닐기, 또는 (메트)아크릴로일기를 적어도 1개 갖는 탄소원자수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, R1은 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.
X가 나타내는 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 페닐기로는, 예를 들어, 2-비닐페닐기, 3-비닐페닐기, 4-비닐페닐기, 4-비닐옥시페닐기, 4-알릴페닐기, 4-알릴옥시페닐기, 및 4-이소프로페닐페닐기를 들 수 있다.
X가 나타내는 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 나프틸기로는, 예를 들어, 4-비닐나프탈렌-1-일기, 5-비닐나프탈렌-1-일기, 6-비닐나프탈렌-2-일기, 4-알릴옥시나프탈렌-1-일기, 5-알릴옥시나프탈렌-1-일기, 8-알릴옥시나프탈렌-1-일기, 5-비닐옥시나프탈렌-1-일기, 5-알릴나프탈렌-1-일기, 및 5-이소프로페닐나프탈렌-1-일기를 들 수 있다.
X가 나타내는 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 비페닐기로는, 예를 들어, 4’-비닐-[1,1’-비페닐]-2-일기, 4’-비닐-[1,1’-비페닐]-3-일기, 4’-비닐-[1,1’-비페닐]-4-일기, 4’-비닐옥시-[1,1’-비페닐]-4-일기, 4’-알릴-[1,1’-비페닐]-4-일기, 4’-알릴옥시-[1,1’-비페닐]-4-일기, 및 4’-이소프로페닐-[1,1’-비페닐]-4-일기를 들 수 있다.
X가 나타내는 (메트)아크릴로일기를 적어도 1개 갖는 탄소원자수 1 내지 10의 알킬기로는, (메트)아크릴로일옥시메틸기, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸기, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필기, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필기, 4-(메트)아크릴로일옥시부틸기, 및 8-(메트)아크릴로일옥시옥틸기를 들 수 있다. 한편 본 발명에 있어서, (메트)아크릴로일기는 아크릴로일기와 메타크릴로일기의 양방을 말한다.
상기 식[1]로 표시되는 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 트리메톡시(4-비닐페닐)실란, 트리에톡시(4-비닐페닐)실란, (4-이소프로페닐페닐)트리메톡시실란, 트리메톡시(4-비닐-1-나프틸)실란, 트리메톡시(4’-비닐-[1,1’-비페닐]-4-일)실란, (3-(메트)아크릴로일옥시프로필)트리메톡시실란, 및 (3-(메트)아크릴로일옥시프로필)트리에톡시실란을 들 수 있는데, 이것들로 한정되는 것은 아니다.
[알콕시규소 화합물 B]
상기 알콕시규소 화합물 B는, 하기 식[2]로 표시되는 화합물이다.
[화학식 10]
상기 식[2] 중, Ar1은 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기로 치환되어 있을 수도 있는 페난트릴기를 나타내고, R2는 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.
Ar1이 나타내는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기로 치환되어 있을 수도 있는 페난트릴기에 있어서, 치환기로서 가질 수 있는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 시클로펜틸기, n-헥실기, 및 시클로헥실기를 들 수 있다.
Ar1이 나타내는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기로 치환되어 있을 수도 있는 페난트릴기로는, 예를 들어, 1-페난트릴기, 2-페난트릴기, 3-페난트릴기, 9-페난트릴기, 6-메틸페난트렌-1-일기, 7-메틸페난트렌-2-일기, 6-메틸페난트렌-3-일기, 3-에틸페난트렌-9-일기, 및 2-에틸페난트렌-10-일기를 들 수 있다. 이 중에서도, 9-페난트릴기가 바람직하다.
상기 식[2]로 표시되는 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 트리메톡시(2-페난트릴)실란, 트리메톡시(3-페난트릴)실란, 트리메톡시(9-페난트릴)실란, 및 트리에톡시(9-페난트릴)실란을 들 수 있는데, 이것들로 한정되는 것은 아니다.
이 중에서도 (a)성분의 반응성 실세스퀴옥산 화합물로는, 하기 식[1a]로 표시되는 화합물과, 하기 식[2a]로 표시되는 화합물을, 산 또는 염기의 존재하, 중축합하여 얻어지는 반응성 실세스퀴옥산 화합물이 바람직하다.
[화학식 11]
상기 식[1a] 중, R1은 상기 식[1]과 동일한 의미를 나타낸다.
[화학식 12]
상기 식[2a] 중, R2는 상기 식[2]와 동일한 의미를 나타낸다.
[알콕시규소 화합물 A와 알콕시규소 화합물 B의 배합비율]
(a)성분의 반응성 실세스퀴옥산 화합물에 이용하는, 식[1]로 표시되는 알콕시규소 화합물 A와 식[2]로 표시되는 알콕시규소 화합물 B의 중축합반응에 필요한 배합몰비는 특별히 한정되지 않으나, 경화물의 물성을 안정시키는 목적으로부터, 통상, 알콕시규소 화합물 A:알콕시규소 화합물 B=5:1~1:5의 범위가 바람직하다. 보다 바람직하게는 3:1~1:3 사이에서 배합되는 범위이다. 알콕시규소 화합물 B의 배합몰수에 대한 알콕시규소 화합물 A의 배합몰비를 5 이하로 함으로써, 보다 고굴절률, 저아베수를 갖는 경화물을 얻을 수 있다. 또한, 알콕시규소 화합물 B의 배합몰수에 대한 알콕시규소 화합물 A의 배합몰비를 1/5 이상으로 함으로써, 충분한 가교밀도가 얻어지고, 열에 대한 치수안정성이 보다 향상된다.
상기 서술한 알콕시규소 화합물 A 및 알콕시규소 화합물 B는, 필요에 따라 적당히 화합물을 선택하여 이용할 수 있으며, 또한 각각 복수종의 화합물을 병용할 수도 있다. 이 경우의 배합몰비도, 알콕시규소 화합물 A의 몰량의 총계와, 알콕시규소 화합물 B의 몰량의 총계의 비가, 상기 범위가 된다.
[산 또는 염기성 촉매]
상기 식[1]로 표시되는 알콕시규소 화합물 A와, 상기 식[2]로 표시되는 알콕시규소 화합물 B의 중축합반응은, 산 또는 염기성 촉매의 존재하에서 호적하게 실시된다.
상기 중축합반응에 이용하는 촉매는, 후술하는 용매에 용해되거나, 또는 균일분산되는 한 특별히 그 종류는 한정되지 않고, 필요에 따라 적당히 선택하여 이용할 수 있다.
이용할 수 있는 촉매로는, 예를 들어, 산성 화합물로서, 염산, 질산, 황산, 붕산 등의 무기산, 및 아세트산, 옥살산 등의 유기산; 염기성 화합물로서, 알칼리금속수산화물, 알칼리토류금속수산화물, 수산화암모늄, 제4급암모늄염, 및 아민류; 불화물염으로서, NH4F 및 NR4F를 들 수 있다. 한편, 여기서 R은, 수소원자, 탄소원자수 1 내지 12의 직쇄상알킬기, 탄소원자수 3 내지 12의 분지상알킬기, 탄소원자수 3 내지 12의 환상알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기이다.
이들 촉매는, 1종 단독으로, 또는 복수종을 병용할 수도 있다.
상기 산성 화합물로는, 예를 들어, 염산, 질산, 황산, 아세트산, 옥살산, 및 붕산을 들 수 있다.
상기 염기성 화합물로는, 예를 들어, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 수산화스트론튬, 수산화바륨, 수산화암모늄, 수산화테트라메틸암모늄, 수산화테트라에틸암모늄, 수산화테트라부틸암모늄, 및 트리에틸아민을 들 수 있다.
상기 불화물염으로는, 예를 들어, 불화암모늄, 불화테트라메틸암모늄, 및 불화테트라부틸암모늄을 들 수 있다.
이들 촉매 중, 바람직하게 이용되는 것은, 염산, 아세트산, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화바륨 및 수산화테트라에틸암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.
촉매의 사용량은, 상기 알콕시규소 화합물 A와 알콕시규소 화합물 B의 합계질량에 대해, 0.01~10질량%, 바람직하게는 0.1~5질량%이다. 촉매의 사용량을 0.01질량% 이상으로 함으로써 반응이 보다 양호하게 진행된다. 또한, 경제성을 고려하면, 10질량% 이하의 사용으로 충분하다.
[중축합반응]
본 발명에 따른 반응성 실세스퀴옥산 화합물(중축합물)은, 알콕시규소 화합물 A의 구조가 하나의 특징으로 되어 있다. 본 발명에 이용되는 알콕시규소 화합물 A에 포함되는 반응성 기(중합성 이중결합)는, 라디칼 또는 양이온에 의해 용이하게 중합하고, 중합 후(경화 후)는 높은 내열성을 나타낸다.
알콕시규소 화합물 A와 알콕시규소 화합물 B의 가수분해 중축합반응은, 무용매하에서 행하는 것도 가능하나, 후술하는 테트라하이드로푸란(THF) 등의, 양 알콕시규소 화합물에 대해 불활성인 용매를 반응용매로서 이용하는 것도 가능하다. 반응용매를 이용하는 경우는, 반응계를 균일하게 하기 쉽고, 보다 안정된 중축합반응을 행할 수 있다는 이점이 있다.
반응성 실세스퀴옥산 화합물의 합성반응은, 상기 서술한 바와 같이 무용매로 행할 수도 있으나, 반응을 보다 균일화시키기 위해 용매를 사용해도 문제없다. 용매는, 양 알콕시규소 화합물과 반응하지 않고, 그 중축합물을 용해하는 것이면 특별히 한정되지 않는다.
이러한 반응용매로는, 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤(MEK) 등의 케톤류; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류; 테트라하이드로푸란(THF), 1,4-디옥산, 디이소프로필에테르, 시클로펜틸메틸에테르(CPME) 등의 에테르류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 헥실렌글리콜 등의 글리콜류; 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 디에틸셀로솔브, 디에틸카르비톨 등의 글리콜에테르류; N-메틸-2-피롤리돈(NMP), N,N-디메틸포름아미드(DMF) 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 이들 용매는, 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 이용할 수도 있다.
본 발명에서 이용하는 반응성 실세스퀴옥산 화합물은, 식[1]로 표시되는 알콕시규소 화합물 A와 식[2]로 표시되는 알콕시규소 화합물 B를, 산 또는 염기성 촉매의 존재하에서, 가수분해 중축합을 행함으로써 얻어진다. 가수분해 중축합에 필요한 반응온도는 20~150℃, 보다 바람직하게는 30~120℃이다.
반응시간은, 중축합물의 분자량 증가가 종료되고, 분자량 분포가 안정되기에 필요한 시간 이상이면, 특별히 제한은 받지 않고, 예를 들어 수시간 내지 수일간이다.
중축합반응의 종료 후, 얻어진 반응성 실세스퀴옥산 화합물을 여과, 용매유거 등의 임의의 방법으로 회수하고, 필요에 따라 적당히 정제처리를 행하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 반응성 실세스퀴옥산 화합물의 제조방법의 일 예로서, 상기 식[1]로 표시되는 알콕시규소 화합물 A와 식[2]로 표시되는 알콕시규소 화합물 B를, 염기의 존재하에서 중축합하고, 양이온교환수지를 이용하여 염기를 제거하여 이루어지는 방법을 들 수 있다.
상기 염기 그리고 그 사용량은, 상기 서술한 염기성 화합물 및 불화물염으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물, 또한 그 사용량을 채용할 수 있고, 바람직하게는 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화바륨 및 수산화테트라에틸암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 것을 염기로서 사용할 수 있다.
또한 중축합반응에 이용하는 반응조건 및 반응용매는 상기 서술한 것을 채용할 수 있다.
그리고 반응종료 후, 염기의 제거에 사용하는 양이온교환수지로는 설포기를 이온기로서 갖는 이온교환수지가 바람직하게 이용된다.
상기 양이온교환수지로는, 스티렌계(스티렌-디비닐벤젠 공중합체), 아크릴계 등 일반적으로 사용되고 있는 모체구조인 것을 사용할 수 있다. 또한, 이온기로서 설포기를 갖는 강산성 이온교환수지, 이온기로서 카르복시기를 갖는 약산성 양이온교환수지 중 어느 것이어도 된다. 또한, 양이온교환수지의 형태로는, 입상, 섬유상, 막상과 같은 다양한 것을 사용할 수 있다. 이들 양이온교환수지는, 시판되고 있는 것을 호적하게 사용할 수 있다.
이 중에서도, 설포기를 이온기로서 갖는 강산성 이온교환수지가 바람직하게 이용된다.
시판되고 있는 강산성 양이온교환수지로는, 예를 들어, 앰버라이트(등록상표) 15, 동(同) 200, 동 200C, 동 200CT, 동 252, 동 1200 H, 동 IR120B, 동 IR120 H, 동 IR122 Na, 동 IR124, 동 IRC50, 동 IRC86, 동 IRN77, 동 IRP-64, 동 IRP-69, 동 CG-50, 동 CG-120, 앰버젯(등록상표) 1020, 동 1024, 동 1060, 동 1200, 동 1220, 앰버리스트(등록상표) 15, 동 15DRY, 동 15JWET, 동 16, 동 16WET, 동 31WET, 동 35WET, 동 36, 다우엑스(등록상표) 50Wx2, 동 50Wx2, 동 50Wx4, 동 50Wx8, 동 DR-2030, 동 DR-G8, 동 HCR-W2, 동 650C UPW, 동 G-26, 동 88, 동 M-31, 동 N-406, 다우엑스(등록상표) 모노스피어(등록상표) 650C, 동 88, 동 M-31, 동 99K/320, 동 99K/350, 동 99Ca/320, 다우엑스 마라톤(등록상표) MSC, 동 C[이상, 다우·케미칼사제]; 다이아이온(등록상표) EXC04, 동 HPK25, 동 PK208, 동 PK212, 동 PK216, 동 PK220, 동 PK228L, 동 RCP160M, 동 SK1B, 동 SK1BS, 동 SK104, 동 SK110, 동 SK112, 동 SK116, 동 UBK510L, 동 UBK555[이상, 미쯔비시화학(주)제]; 레와티트(등록상표) MonoPlusS100, 동 MonoPlusSP112[이상, 란세스사제] 등을 들 수 있다.
또한, 시판되고 있는 약산성 양이온교환수지로는, 예를 들어, 앰버라이트(등록상표) CG-50, 동 FPC3500, 동 IRC50, 동 IRC76, 동 IRC86, 동 IRP-64, 다우엑스(등록상표) MAC-3[이상, 다우·케미칼사제]; 다이아이온(등록상표) CWK30/S, 동 WK10, 동 WK11, 동 WK40, 동 WK100, 동 WT01S[이상, 미쯔비시화학(주)제] 등을 들 수 있다.
이러한 반응에 의해 얻어진 중축합화합물은, GPC에 의한 폴리스티렌 환산으로 측정되는 중량평균분자량 Mw가 500~100,000, 바람직하게는 500~30,000이고, 분산도: Mw(중량평균분자량)/Mn(수평균분자량)은 1.0~10이다.
한편, 상기 (a)페난트렌환함유 반응성 실세스퀴옥산 화합물은, [Ar1SiO3 /2] 및 [Ar2SiO3/2]로 표시되는 실록산단위를 적어도 갖는, 가교구조를 갖는 화합물이고, 본 발명은 상기 (a)성분인 반응성 실세스퀴옥산 화합물도 대상으로 하는 것이다.
<(b)중합성 이중결합을 적어도 1개 갖는 중합성 화합물>
본 발명에 사용되는 (b)중합성 화합물은, 중합성 이중결합을 적어도 1개 갖는 화합물로서, 바람직하게는 후술하는 식[3]으로 표시되는 플루오렌 화합물(b1)을 포함하고, 더욱 호적한 태양에 있어서, 후술하는 식[4]로 표시되는 방향족 비닐 화합물(b2)을 포함한다.
본 발명에 있어서, (b)중합성 화합물의 함유량[후술하는 (b1)플루오렌 화합물, (b2)방향족 비닐 화합물, (b3)기타 중합성 화합물의 합계량]은, (a)성분 100질량부에 대해 10~500질량부, 바람직하게는 30~250질량부로 할 수 있다.
<(b1)플루오렌 화합물>
본 발명에 이용되는 (b1)플루오렌 화합물은, 식[3]으로 표시되는 화합물이다.
[화학식 13]
상기 식[3] 중, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, L1 및 L2는 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 페닐렌기, 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 나프탈렌디일기를 나타내고, L3 및 L4는 각각 독립적으로, 탄소원자수 1 내지 6의 알킬렌기를 나타내고, m 및 n은 각각 독립적으로, 0≤m+n≤40을 만족하는 0 또는 양의 정수를 나타낸다.
L1 및 L2가 나타내는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 페닐렌기로는, 예를 들어, o-페닐렌기, m-페닐렌기, p-페닐렌기, 2-메틸벤젠-1,4-디일기, 2-아미노벤젠-1,4-디일기, 2,4-디브로모벤젠-1,3-디일기, 및 2,6-디브로모벤젠-1,4-디일기를 들 수 있다.
또한, L1 및 L2가 나타내는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 나프탈렌디일기로는, 1,2-나프탈렌디일기, 1,4-나프탈렌디일기, 1,5-나프탈렌디일기, 1,8-나프탈렌디일기, 2,3-나프탈렌디일기, 2,6-나프탈렌디일기 등을 들 수 있다.
L3 및 L4가 나타내는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 1-메틸에틸렌기, 테트라메틸렌기, 1-메틸트리메틸렌기, 1,1-디메틸에틸렌기, 펜타메틸렌기, 1-메틸테트라메틸렌기, 2-메틸테트라메틸렌기, 1,1-디메틸트리메틸렌기, 1,2-디메틸트리메틸렌기, 2,2-디메틸트리메틸렌기, 1-에틸트리메틸렌기, 헥사메틸렌기, 1-메틸펜타메틸렌기, 2-메틸펜타메틸렌기, 3-메틸펜타메틸렌기, 1,1-디메틸테트라메틸렌기, 1,2-디메틸테트라메틸렌기, 2,2-디메틸테트라메틸렌기, 1-에틸테트라메틸렌기, 1,1,2-트리메틸트리메틸렌기, 1,2,2-트리메틸트리메틸렌기, 1-에틸-1-메틸트리메틸렌기, 및 1-에틸-2-메틸트리메틸렌기를 들 수 있다.
식[3]으로 표시되는 화합물에 있어서, m 및 n은, 0≤m+n≤30을 만족하는 0 또는 양의 정수를 나타내는 경우가 바람직하고, 2≤m+n≤20을 만족하는 양의 정수를 나타내는 경우가 보다 바람직하다.
상기 식[3]으로 표시되는 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 9,9-비스(4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐)-9H-플루오렌, 오그솔(등록상표) EA-0200, 동 EA-0300, 동 EA-F5003, 동 EA-F5503, 동 EA-F5510, 동 EA-F5710, 동 GA-5000[이상, 오사카가스케미칼(주)제], 및 NK에스테르A-BPEF[신나카무라화학공업(주)제]를 들 수 있는데, 이것들로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 중합성 조성물에 있어서, (b)성분으로서 (b1)플루오렌 화합물을 함유하는 경우, 그 함유량은, (a)성분 100질량부에 대해 10~500질량부이다. 이 중에서도, 30~250질량부가 바람직하다.
<(b2)방향족 비닐 화합물>
본 발명에 이용되는 (b2)방향족 비닐 화합물은, 식[4]로 표시되는 화합물이다.
[화학식 14]
상기 식[4] 중, R5는, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, L5는, 단결합, 수소원자, 산소원자, 페닐기로 치환되어 있을 수도 있는 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소잔기, 또는 에테르결합을 포함하고 있을 수도 있는 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소잔기를 나타내고, Ar2는, p+1가의 방향족 탄화수소잔기를 나타내고, p는 각각 독립적으로, 1 또는 2를 나타내고, q는 1 내지 3의 정수(단 L5가 수소원자를 나타낼 때 q는 1을 나타내고, L5가 단결합 또는 산소원자를 나타낼 때 q는 2를 나타낸다.)를 나타낸다.
L5가 나타내는, 페닐기로 치환되어 있을 수도 있는 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소잔기 또는 에테르결합을 포함하고 있을 수도 있는 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소잔기에 있어서의, 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소로는, 예를 들어, 메탄, 에탄, 프로판, n-부탄, n-펜탄, n-헥산, n-헵탄, n-옥탄, n-노난, n-데칸, n-운데칸, n-도데칸, n-트리데칸, n-테트라데칸, n-펜타데칸, n-헥사데칸, n-헵타데칸, n-옥타데칸, n-노나데칸, n-에이코산 등의 직쇄알칸; 2-메틸프로판, 2,2-디메틸프로판 등의 분지알칸; 및 시클로펜탄, 시클로헥산 등의 환상알칸을 들 수 있고, 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소잔기로는, 예를 들어, 상기 직쇄알칸, 분지알칸 및 환상알칸으로부터 1 내지 3개의 수소원자를 제거한, 알킬기, 알칸디일기, 및 알칸트리일기를 들 수 있다.
이러한 L5로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, n-헥실기, 시클로헥실기, 벤질기, 페네틸기, 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, 2-메톡시에틸기, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 1-메틸에틸렌기, 프로판-2,2-디일기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 2,2-디메틸트리메틸렌기, 헥사메틸렌기, 3-메틸펜타메틸렌기, 시클로헥산-1,4-디일기, 디에틸렌글리콜잔기(-CH2CH2OCH2CH2-), 트리에틸렌글리콜잔기(-(CH2CH2O)2CH2CH2-), 디프로필렌글리콜잔기(-CH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2-), 옥시테트라메틸렌옥시기, 프로판-1,1,1-트리일기, 프로판-1,1,3-트리일기, 부탄-1,2,4-트리일기, 및 시클로헥산-1,3,5-트리일기를 들 수 있다.
Ar2가 나타내는, p+1가의 방향족 탄화수소잔기로는, 벤젠, 나프탈렌 등의 방향족 탄화수소환으로부터, p+1개의 수소원자를 제거한 기를 들 수 있다.
상기 식[4]로 표시되는 화합물 중에서도, L5가 수소원자를 나타내고, q가 1을 나타내고, p가 2를 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.
상기 식[4]로 표시되는 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 스티렌, 1-페네틸-4-비닐벤젠, 1-비닐나프탈렌, 2-비닐나프탈렌, 디비닐벤젠, 디이소프로페닐벤젠, 디비닐나프탈렌, 4,4’-디비닐비페닐, 비스(4-비닐페닐)에테르, 1-비닐-2-(4-비닐페녹시)벤젠, 2,2-비스(4-비닐페닐)프로판, 및 1,1,1-트리스(4-비닐페녹시)프로판을 들 수 있다.
이들 중에서도, 스티렌, 1-비닐나프탈렌, 디비닐벤젠, 2,2-비스(4-비닐페닐)프로판이 바람직하고, 디비닐벤젠이 보다 바람직하다.
본 발명의 중합성 조성물에 있어서, (b)성분으로서 (b2)방향족 비닐 화합물을 함유하는 경우, 그 함유량은, (a)성분 100질량부에 대해 1~500질량부이다. 이 중에서도, 3~250질량부가 바람직하다.
<(b3)기타 중합성 화합물>
본 발명에 사용되는 (b)중합성 화합물은, 상기 (b1)플루오렌 화합물 및 (b2)방향족 비닐 화합물 이외의, 그 밖의 중합가능한 중합성 화합물을 포함할 수 있다.
기타 중합성 화합물로는, 상기 (b1) 및 (b2) 이외의 비닐 화합물 또는 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하고, 예를 들어 방향족기를 갖는 모노(메트)아크릴레이트 화합물을 들 수 있다. 한편, 본 발명에서는 (메트)아크릴레이트 화합물은, 아크릴레이트 화합물과 메타크릴레이트 화합물의 양방을 말한다. 예를 들어 (메트)아크릴산은, 아크릴산과 메타크릴산을 말한다.
상기 (메트)아크릴레이트 화합물로는, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소보닐(메트)아크릴레이트, 아다만틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 2-(디시클로펜타닐옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(디시클로펜테닐옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜모노(하이드록시피발산)에스테르(메트)아크릴레이트, 3-메틸-1,5-펜탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 2-(3-하이드록시-2-메틸프로필-2-일)-5-에틸-5-하이드록시메틸-1,3-디옥산디(메트)아크릴레이트(별명: 디옥산글리콜디(메트)아크릴레이트), 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트, 에톡시화펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 및 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
상기 방향족기를 갖는 모노(메트)아크릴레이트 화합물로는, 예를 들어, 벤질(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 2-페녹시벤질(메트)아크릴레이트, 3-페녹시벤질(메트)아크릴레이트, 4-페녹시벤질(메트)아크릴레이트, 2-(2-비페닐릴옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(3-비페닐릴옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-비페닐릴옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노페닐에테르(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노페닐에테르(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜벤조에이트(메트)아크릴레이트, 및 에톡시화o-페닐페놀(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
<(c)중합개시제>
본 발명의 중합성 조성물은, 상기 (a)성분 및 (b)성분에 더하여, (c)중합개시제를 포함할 수 있다. 중합개시제로는, 광중합개시제 및 열중합개시제의 어느 것이나 사용할 수 있다.
광중합개시제로는, 예를 들어, 알킬페논류, 벤조페논류, 미힐러(Michler)의 케톤류, 아실포스핀옥사이드류, 벤조일벤조에이트류, 옥심에스테르류, 테트라메틸티우람모노설파이드류, 및 티옥산톤류를 들 수 있다. 특히, 광개열형의 광라디칼 중합개시제가 바람직하다.
시판되고 있는 광라디칼 중합개시제로는, 예를 들어, IRGACURE(등록상표) 184, 동 369, 동 651, 동 500, 동 819, 동 907, 동 784, 동 2959, 동 CGI1700, 동 CGI1750, 동 CGI1850, 동 CG24-61, 동 TPO, Darocur(등록상표) 1116, 동 1173[이상, BASF재팬(주)제], 및 ESACURE KIP150, 동 KIP65LT, 동 KIP100F, 동 KT37, 동 KT55, 동 KTO46, 동 KIP75[이상, Lamberti사제]를 들 수 있다.
열중합개시제로는, 예를 들어, 아조류 및 유기 과산화물류를 들 수 있다.
시판되고 있는 아조계 열중합개시제로는, 예를 들어, V-30, V-40, V-59, V-60, V-65, V-70[이상, 와코순약공업(주)제]을 들 수 있다.
또한 시판되고 있는 유기 과산화물계 열중합개시제로는, 예를 들어, 파카독스(등록상표) CH, 동 BC-FF, 동 14, 동 16, 트리고녹스(등록상표) 22, 동 23, 동 121, 카야에스테르(등록상표) P, 동 O, 카야부틸(등록상표) B[이상, 화약아크조(주)제], 및 퍼헥사(등록상표) HC, 퍼쿠밀(등록상표) H, 퍼옥타(등록상표) O, 퍼헥실(등록상표) O, 동 Z, 퍼부틸(등록상표) O, 동 Z[이상, 니찌유(주)제]를 들 수 있는데, 이것들로 한정되는 것은 아니다.
중합개시제를 첨가하는 경우, 중합개시제는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 이용할 수도 있다. 또한, 그 첨가량으로는, 중합성 성분, 즉 상기 (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부에 대해 0.1~20질량부, 더욱 바람직하게는 0.3~10질량부이다.
또한, 본 발명에 있어서 바람직한 태양은, 중합성 조성물로부터 얻어지는 경화물을 고굴절률의 것으로 하는 관점으로부터, 얻어지는 경화물의 아베수가 예를 들어 26 이하, 바람직하게는 24 이하인 중합성 조성물이다.
<기타 첨가제>
또한 본 발명의 중합성 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 필요에 따라, 연쇄이동제, 산화방지제, 자외선흡수제, 광안정화제, 레벨링제, 레올로지조정제, 실란커플링제 등의 접착보조제, 안료, 염료, 소포제 등을 함유할 수 있다.
상기 연쇄이동제로는, 예를 들어, 티올 화합물로서, 메르캅토아세트산메틸, 3-메르캅토프로피온산메틸, 3-메르캅토프로피온산2-에틸헥실, 3-메르캅토프로피온산3-메톡시부틸, 3-메르캅토프로피온산n-옥틸, 3-메르캅토프로피온산스테아릴, 1,4-비스(3-메르캅토프로피오닐옥시)부탄, 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 트리메틸올에탄트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올에탄트리스(3-메르캅토부틸레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트), 디펜타에리스리톨헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 디펜타에리스리톨헥사키스(3-메르캅토부틸레이트), 트리스[2-(3-메르캅토프로피오닐옥시)에틸]이소시아누레이트, 트리스[2-(3-메르캅토부티릴옥시)에틸]이소시아누레이트 등의 메르캅토카르본산에스테르류; 에탄티올, 2-메틸프로판-2-티올, n-도데칸티올, 2,3,3,4,4,5-헥사메틸헥산-2-티올(tert-도데칸티올), 에탄-1,2-디티올, 프로판-1,3-디티올, 벤질티올 등의 알킬티올류; 벤젠티올, 3-메틸벤젠티올, 4-메틸벤젠티올, 나프탈렌-2-티올, 피리딘-2-티올, 벤조이미다졸-2-티올, 벤조티아졸-2-티올 등의 방향족 티올류; 2-메르캅토에탄올, 4-메르캅토-1-부탄올 등의 메르캅토알코올류; 3-(트리메톡시실릴)프로판-1-티올, 3-(트리에톡시실릴)프로판-1-티올 등의 실란함유 티올류,
디설파이드 화합물로서, 디에틸디설파이드, 디프로필디설파이드, 디이소프로필디설파이드, 디부틸디설파이드, 디-tert-부틸디설파이드, 디펜틸디설파이드, 디이소펜틸디설파이드, 디헥실디설파이드, 디시클로헥실디설파이드, 디데실디설파이드, 비스(2,3,3,4,4,5-헥사메틸헥산-2-일)디설파이드(디-tert-도데실디설파이드), 비스(2,2-디에톡시에틸)디설파이드, 비스(2-하이드록시에틸)디설파이드, 디벤질디설파이드 등의 알킬디설파이드류; 디페닐디설파이드, 디-p-톨릴디설파이드, 디(피리딘-2-일)피리딜디설파이드, 디(벤조이미다졸-2-일)디설파이드, 디(벤조티아졸-2-일)디설파이드 등의 방향족 디설파이드류; 테트라메틸티우람디설파이드, 테트라에틸티우람디설파이드, 테트라부틸티우람디설파이드, 비스(펜타메틸렌)티우람디설파이드 등의 티우람디설파이드류,
및 α-메틸스티렌다이머를 들 수 있다.
연쇄이동제를 첨가하는 경우, 연쇄이동제는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 이용할 수도 있다. 또한, 그 첨가량으로는, 중합성 성분, 즉 상기 (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부에 대해 0.01~20질량부, 더욱 바람직하게는 0.1~10질량부이다.
상기 산화방지제로는, 페놀계 산화방지제, 인산계 산화방지제, 설파이드계 산화방지제 등을 들 수 있는데, 이 중에서도 페놀계 산화방지제가 바람직하다.
페놀계 산화방지제로는, 예를 들어, IRGANOX(등록상표) 245, 동 1010, 동 1035, 동 1076, 동 1135[이상, BASF재팬(주)제], 스미라이저(등록상표) GA-80, 동 GP, 동 MDP-S, 동 BBM-S, 동 WX-R[이상, 스미토모화학(주)제], 및 아데카스탭(등록상표) AO-20, 동 AO-30, 동 AO-40, 동 AO-50, 동 AO-60, 동 AO-80, 동 AO-330[이상, (주)ADEKA제]을 들 수 있다.
산화방지제를 첨가하는 경우, 산화방지제는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 이용할 수도 있다. 또한, 그 첨가량으로는, 중합성 성분, 즉 상기 (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부에 대해 0.01~20질량부, 더욱 바람직하게는 0.1~10질량부이다.
<중합성 조성물의 조제방법>
본 실시의 형태의 중합성 조성물의 조제방법은, 특별히 한정되지 않는다. 조제법으로는, 예를 들어, (a)성분 및 (b)성분, 및 필요에 따라 (c)성분을 소정의 비율로 혼합하고, 필요에 따라 기타 첨가제를 추가로 첨가하여 혼합하여, 균일한 용액으로 하는 방법, 이들 각 성분 중, 예를 들어 (a)성분 및 (b)성분의 일부를 혼합하여 균일한 용액으로 한 후, 나머지 각 성분을 첨가하고, 필요에 따라 기타 첨가제를 추가로 첨가하여 혼합하여, 균일한 용액으로 하는 방법, 또는 이들 성분에 더하여 추가로 관용의 용매를 사용하는 방법을 들 수 있다.
용매를 사용하는 경우, 본 중합성 조성물에 있어서의 고형분의 비율은, 각 성분이 용매에 균일하게 용해되어 있는 한 특별히 한정되지는 않으나, 예를 들어 1~50질량%이고, 또는 1~30질량%이고, 또는 1~25질량%이다. 여기서 고형분이란, 중합성 조성물의 전체성분에서 용매성분을 제거한 것이다.
또한, 중합성 조성물의 용액은, 구멍직경이 0.1~5μm인 필터 등을 이용하여 여과한 후, 사용하는 것이 바람직하다.
<<경화물>>
상기 중합성 조성물을 노광(광경화) 또는 가열(열경화)하여, 경화물을 얻을 수 있으며, 본 발명은 상기 중합성 화합물의 경화물도 대상으로 한다.
노광하는 광선으로는, 예를 들어, 자외선, 전자선, 및 X선을 들 수 있다. 자외선조사에 이용하는 광원으로는, 예를 들어, 태양광선, 케미칼램프, 저압수은등, 고압수은등, 메탈할라이드램프, 크세논램프, 및 UV-LED를 사용할 수 있다. 또한, 노광 후, 경화물의 물성을 안정화시키기 위해 포스트베이크를 실시할 수도 있다. 포스트베이크의 방법으로는, 특별히 한정되지 않으나, 통상, 핫플레이트, 오븐 등을 사용하여, 50~260℃, 1~120분간의 범위에서 행해진다.
열경화에 있어서의 가열조건으로는, 특별히 한정되지 않으나, 통상, 50~300℃, 1~120분간의 범위에서 적당히 선택된다. 또한, 가열수단으로는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 핫플레이트 및 오븐을 들 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물을 경화함으로써 얻어지는 경화물은, 아베수가 24 이하로 낮은 것이고, 파장 588nm(d선)에 있어서의 굴절률이 1.620 이상으로 높은 것이며, 또한, 가열에 의한 크랙의 발생이나 지지체로부터의 박리가 억제되고, 치수안정성을 갖는 것이므로, 고굴절률 수지렌즈용 재료로서 호적하게 사용할 수 있다.
<<성형체>>
본 발명의 중합성 조성물은, 예를 들어, 압축성형(임프린트 등), 주형, 사출성형, 블로우성형 등의 관용의 성형법을 사용함으로써, 경화물의 형성과 병행하여 각종 성형체를 용이하게 제조할 수 있다. 이렇게 하여 얻어지는 성형체도 본 발명의 대상이다.
성형체를 제조하는 방법으로는, 예를 들어 접합하는 지지체와 주형 사이의 공간, 또는 분할가능한 주형의 내부의 공간에 본 발명의 중합성 조성물을 충전하는 공정, 해당 충전된 조성물을 노광하여 광중합하는 공정, 얻어진 광중합물을 충전된 상기 공간으로부터 취출하여 이형하는 공정, 그리고, 이 광중합물을 이 이형 전, 중도 또는 후에 있어서 가열하는 공정을 포함하는 방법을 들 수 있다.
상기 노광하여 광중합하는 공정은, 상기 서술한 <<경화물>>에 나타내는 조건을 적용하여 실시할 수 있다.
상기 가열공정의 조건으로는, 특별히 한정되지 않으나, 통상, 50~260℃, 1~120분간의 범위에서 적당히 선택된다. 또한, 가열수단으로는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 핫플레이트 및 오븐을 들 수 있다.
이러한 방법에 의해 제조된 성형체는, 카메라용 모듈렌즈로서 호적하게 사용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 들어, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시예로 한정되는 것은 아니다.
한편, 실시예에 있어서, 시료의 조제 및 물성의 분석에 이용한 장치 및 조건은, 이하와 같다.
(1) 1H NMR스펙트럼
장치: Bruker사제 AVANCE III HD
측정주파수: 500MHz
용매: CDCl3
내부기준: 테트라메틸실란(δ0.00ppm)
(2) 겔 침투 크로마토그래피(GPC)
장치: (주)시마즈제작소제 Prominence(등록상표) GPC시스템
컬럼: 쇼와덴코(주)제 Shodex(등록상표) GPC KF-804L 및 GPC KF-803L
컬럼온도: 40℃
용매: 테트라하이드로푸란
검출기: RI
검량선: 표준폴리스티렌
(3) 굴절률 nd, 아베수 νd
장치: 메트리콘사제 프리즘커플러모델 2010/M
측정온도: 실온(약 23℃)
(4) 교반탈포기
장치: (주)씽키제 자전·공전믹서 아와토리렌타로(등록상표) ARE-310
(5) UV노광
장치: 아이그래픽스(주)제 배치식 UV조사장치(고압수은등 2kW×1등)
(6) 나노임프린터
장치: 메이쇼기공(주)제 NM-0801HB
압착압: 150N
UV노광량: 20mW/cm2, 150초
(7) 리플로우로
장치: (주)신아펙스제 탁상형 리플로우로STR-3100
(8) 렌즈높이
장치: 미타카광기(주)제 비접촉 표면성상 측정장치PF-60
또한, 약기호는 이하의 의미를 나타낸다.
PheTMS: 트리메톡시(9-페난트릴)실란
STMS: 트리메톡시(4-비닐페닐)실란[신에츠화학공업(주)제]
TEAH: 35질량%수산화테트라에틸암모늄수용액[알드리치사제]
TMOS: 테트라메톡시실란[도쿄화성공업(주)제]
BnA: 벤질아크릴레이트[오사카유기화학공업(주)제 비스코트#160]
DVB: 디비닐벤젠[신닛테츠스미킨화학(주)제 DVB-810]
FDA: 비스아릴플루오렌디아크릴레이트[오사카가스케미칼(주)제 오그솔(등록상표) EA-F5503]
DDT: n-도데칸티올[카오(주)제 티오칼콜20]
I184: 1-하이드록시시클로헥실-페닐-케톤[BASF재팬(주)제 IRGACURE(등록상표) 184]
TPO: 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드[BASF재팬(주)제 IRGACURE(등록상표) TPO]
THF: 테트라하이드로푸란
[제조예 1] 트리메톡시(9-페난트릴)실란(PheTMS)의 제조
응축기를 구비한 500mL의 반응플라스크에, 마그네슘절삭편[칸토화학(주)제] 10.4g(0.43mol)을 투입하고, 질소풍선을 이용하여 플라스크 중의 공기를 질소로 치환하였다. 여기에, 9-브로모페난트렌[도쿄화성공업(주)제] 100.3g(0.39mol), 및 THF 346g의 혼합물을, 실온(약 23℃)하, 1시간 적하하고, 다시 30분간 교반함으로써, 그리냐르시약을 조제하였다.
1L의 반응플라스크에, TMOS 178.0g(1.17mol), 및 THF 346g을 투입하고, 질소풍선을 이용하여 플라스크 중의 공기를 질소로 치환하였다. 여기에, 상기 그리냐르시약을, 실온(약 23℃)하, 30분간 적하하고, 다시 2시간 교반하였다. 이 반응혼합물로부터, 에바포레이터를 이용하여 THF를 감압유거하였다. 얻어진 잔사에, 헥산 1,000g을 첨가하고, 가용물을 용해한 후, 불용물을 여별하였다. 이 불용물에, 재차 헥산 500g을 첨가하고, 동일하게 불용물을 여별하였다. 각각의 여액을 혼합하고, 에바포레이터를 이용하여 헥산을 감압유거함으로써, 조생성물을 얻었다. 조생성물을 감압증류(1mmHg, 120~150℃)한 후, 메탄올 389g으로 재결정함으로써, 목적으로 하는 PheTMS 74.6g(수율 64%)을 얻었다.
얻어진 화합물의 1H NMR스펙트럼을 도 1에 나타낸다.
[실시예 1] 반응성 실세스퀴옥산 화합물 1(SPe64)의 제조
응축기를 구비한 200mL의 반응플라스크에, TEAH 0.356g(0.84mmol), 이온교환수 1.21g(66.9mmol), 및 THF 9g을 투입하고, 질소풍선을 이용하여 플라스크 중의 공기를 질소로 치환하였다. 여기에, STMS 5.64g(25.1mmol), 및 제조예 1에 따라 제조한 PheTMS 5.00g(16.8mmol)의 혼합물을, 실온(약 23℃)하, 10분간 적하하고, 40℃에서 4시간 교반하였다. 이것을 실온(약 23℃)으로 냉각하였다. 이어서, 이 반응혼합물에, 미리 THF로 세정한 양이온교환수지[다우·케미칼사제 앰버리스트(등록상표) 15JWET] 1.1g, 및 여과조제[일본제지(주)제 KC플록 W-100GK] 0.21g을 첨가하고, 1시간 교반하여 반응을 정지시켰다. 그 후, 구멍직경 0.5μm의 멤브레인필터로 양이온교환수지 및 여과조제를 여과하고, 다시 아세트산에틸 11g으로 씻어냈다. 이 여액 및 세정액을 함께, 메탄올 225g에 첨가하여 폴리머를 침전시켰다. 이 침전물을 여과, 건조함으로써, 목적으로 하는 반응성 실세스퀴옥산 화합물 1(이하, SPe64라 약기하는 경우도 있다) 6.79g을 얻었다.
GPC에 의한 폴리스티렌 환산으로 측정되는 얻어진 화합물의 중량평균분자량 Mw는 2,300, 분산도: Mw(중량평균분자량)/Mn(수평균분자량)은 1.3이었다.
[실시예 2] 반응성 실세스퀴옥산 화합물 2(SPe55)의 제조
응축기를 구비한 200mL의 반응플라스크에, TEAH 2.40g(5.7mmol), 이온교환수 7.69g(426mmol), 및 THF 60g을 투입하고, 질소풍선을 이용하여 플라스크 중의 공기를 질소로 치환하였다. 여기에, STMS 31.9g(142mmol), 및 제조예 1에 따라 제조한 PheTMS 42.5g(142mmol)의 혼합물을, 실온(약 23℃)하, 10분간 적하하고, 40℃에서 4시간 교반하였다. 이것을 실온(약 23℃)으로 냉각하였다. 이어서, 이 반응혼합물에, 미리 THF로 세정한 양이온교환수지[다우·케미칼사제 앰버리스트(등록상표) 15JWET] 7.4g, 및 여과조제[일본제지(주)제 KC플록 W-100GK] 1.5g을 첨가하고, 1시간 교반하여 반응을 정지시켰다. 그 후, 구멍직경 0.5μm의 멤브레인필터로 양이온교환수지 및 여과조제를 여과하고, 다시 아세트산에틸 75g으로 씻어냈다. 이 여액 및 세정액을 함께, 메탄올 2,300g에 첨가하여 폴리머를 침전시켰다. 이 침전물을 여과, 건조함으로써, 목적으로 하는 반응성 실세스퀴옥산 화합물 2(이하, SPe55라 약기하는 경우도 있다) 50.2g을 얻었다.
GPC에 의한 폴리스티렌 환산으로 측정되는 얻어진 화합물의 중량평균분자량 Mw는 1,800, 분산도: Mw/Mn은 1.2였다.
[실시예 3] 반응성 실세스퀴옥산 화합물 3(SPe46)의 제조
응축기를 구비한 200mL의 반응플라스크에, TEAH 0.235g(0.56mmol), 이온교환수 0.803g(44.6mmol), 및 THF 6g을 투입하고, 질소풍선을 이용하여 플라스크 중의 공기를 질소로 치환하였다. 여기에, STMS 2.51g(11.2mmol), 및 제조예 1에 따라 제조한 PheTMS 5.00g(16.8mmol)의 혼합물을, 실온(약 23℃)하, 10분간 적하하고, 40℃에서 4시간 교반하였다. 이것을 실온(약 23℃)으로 냉각하였다. 이어서, 이 반응혼합물에, 미리 THF로 세정한 양이온교환수지[다우·케미칼사제 앰버리스트(등록상표) 15JWET] 0.75g, 및 여과조제[일본제지(주)제 KC플록 W-100GK] 0.15g을 첨가하고, 1시간 교반하여 반응을 정지시켰다. 그 후, 구멍직경 0.5μm의 멤브레인필터로 양이온교환수지 및 여과조제를 여과하고, 다시 아세트산에틸 7.5g으로 씻어냈다. 이 여액 및 세정액을 함께, 메탄올 225g에 첨가하여 폴리머를 침전시켰다. 이 침전물을 여과, 건조함으로써, 목적으로 하는 반응성 실세스퀴옥산 화합물 3(이하, SPe46이라 약기하는 경우도 있다) 4.64g을 얻었다.
GPC에 의한 폴리스티렌 환산으로 측정되는 얻어진 화합물의 중량평균분자량 Mw는 1,570, 분산도: Mw/Mn은 1.1이었다.
[실시예 4] 중합성 조성물 1의 조제
(a)반응성 실세스퀴옥산 화합물로서 실시예 1에서 제조한 SPe64 53질량부, (b1)플루오렌 화합물로서 FDA 20질량부, (b2)방향족 비닐 화합물로서 DVB 12질량부, (b3)기타 중합성 화합물로서 BnA 15질량부, 연쇄이동제(반응촉진제)로서 DDT2질량부, 그리고 중합개시제로서 I184 4질량부 및 TPO 0.2질량부를, 50℃에서 3시간 교반혼합하였다. 다시 10분간 교반탈포함으로써 중합성 조성물 1을 조제하였다.
[실시예 5~11, 비교예1] 중합성 조성물 2~9의 조제
걱 조성을 표 1에 기재한 바와 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일하게 조작하여, 중합성 조성물 2~9를 조제하였다. 한편, 표 1 중, 「부」는 「질량부」를 나타낸다.
[표 1]
[경화물의 제작 및 광학특성 평가]
각 중합성 조성물을, 1mm두께의 실리콘고무제 스페이서와 함께, 이형처리한 유리기판 2매로 끼워넣었다. 이 끼워넣은 중합성 조성물을, 20mW/cm2로 150초간 UV노광하였다. 경화물을 유리기판으로부터 박리한 후, 150℃의 핫플레이트에서 20분간 가열함으로써, 직경 30mm, 두께 1mm의 시험편을 제작하였다.
얻어진 시험편의 파장 410nm의 투과율, 파장 588nm(d선)에 있어서의 굴절률 nd, 및 아베수 νd를 측정하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.
[표 2]
표 2에 나타내는 바와 같이, 실시예 4 내지 실시예 11에 나타내는 본 발명의 중합성 조성물로부터 얻어진 경화물은, 투과율 80% 이상의 높은 투명성을 가지며, 또한 1.62 이상의 높은 굴절률 및 24 이하의 낮은 아베수를 나타내는 것이 확인되었다.
한편, 반응성 실세스퀴옥산을 첨가하지 않은 중합성 조성물로부터 얻어진 경화물(비교예1)에 있어서는, 아베수가 29.4로 높고, 고화소 카메라모듈용 렌즈에 있어서 저아베수렌즈로서 요구되는 성능(아베수: 24 이하)에는 미치지 못해, 이 렌즈로의 사용에는 적합하다고는 할 수 없음이 확인되어, 본 발명의 우위성이 나타났다.
[실시예 12]
실시예 7의 중합성 조성물 4를, 니켈제의 주형(2mm직경 렌즈형을 종5열×횡5열의 25개 배치) 및 나노임프린터를 이용하고, 상기 서술한 성형체의 제조방법에 따라서, 지지체인 유리기판 상에서 렌즈형상으로 성형하였다. 한편, 사용한 주형은, 미리 Novec(등록상표) 1720[3M사제]으로 이형처리하였다. 또한, 사용한 유리기판은, 미리 신에츠실리콘(등록상표) KBM-503[신에츠화학공업(주)제]으로 밀착처리하였다. 상기 주형으로부터 경화물을 분리한 후, 이 경화물을 150℃의 오븐에서 20분간 가열함으로써, 이 유리기판 상에 볼록렌즈를 제작하였다.
상기 유리기판 상에 얻어진 볼록렌즈의 임의의 3개에 대하여, 리플로우로를 이용한 가열시험 전후의 렌즈높이(두께)를 상기 비접촉 표면성상 측정장치로 측정하고, 그 변화율을 다음식 “[(가열전 렌즈높이-가열후 렌즈높이)/가열전 렌즈높이]×100”으로부터 산출하여, 가열에 의한 치수안정성을 평가하였다. 또한, 가열시험 후의 볼록렌즈에 있어서의 크랙의 발생의 유무를, 상기 비접촉 표면성상 측정장치에 부속된 마이크로스코프로 관찰하였다. 한편, 가열시험은, 유리기판 상에 얻어진 볼록렌즈를 리플로우로에 넣고, 1) 260℃까지 3분간 승온, 2) 260℃에서 20초간 유지, 3) 50℃까지 방랭의 3스텝을 3회 반복하는 시험이다. 결과를 표 3에 나타낸다.
[표 3]
고화소 카메라모듈용 렌즈를 상정한 경우, 리플로우공정 후의 렌즈높이의 변화율은 ±1.0% 미만, 특히 ±0.5% 미만인 것이 바람직하다. 표 3에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 중합성 조성물로부터 얻어진 볼록렌즈(실시예 12)는, 260℃에서의 리플로우공정을 3회 거쳐도 렌즈높이의 변화가 작아, 치수안정성이 높다는 결과가 얻어졌다.
Claims (13)
- (a)식[1]로 표시되는 알콕시규소 화합물 A와, 식[2]로 표시되는 알콕시규소 화합물 B의 중축합물인 반응성 실세스퀴옥산 화합물 100질량부, 및 (b)중합성 이중결합을 적어도 1개 갖는 중합성 화합물 10~500질량부를 포함하는 중합성 조성물.
[화학식 1]
(식 중, X는 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 페닐기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 나프틸기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 비페닐기, 또는 (메트)아크릴로일기를 적어도 1개 갖는 탄소원자수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, R1은 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.)
[화학식 2]
(식 중, Ar1은 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기로 치환되어 있을 수도 있는 페난트릴기를 나타내고, R2는 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.) - 제1항에 있어서,
상기 (b)중합성 화합물이, 식[3]으로 표시되는 플루오렌 화합물(b1)을 포함하는, 중합성 조성물.
[화학식 3]
(식 중, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, L1 및 L2는 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 페닐렌기, 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 나프탈렌디일기를 나타내고, L3 및 L4는 각각 독립적으로, 탄소원자수 1 내지 6의 알킬렌기를 나타내고, m 및 n은 각각 독립적으로, 0≤m+n≤40을 만족하는 0 또는 양의 정수를 나타낸다.) - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 (b)중합성 화합물이, 식[4]로 표시되는 방향족 비닐 화합물(b2)을 포함하는, 중합성 조성물.
[화학식 4]
(식 중, R5는, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, L5는, 단결합, 수소원자, 산소원자, 페닐기로 치환되어 있을 수도 있는 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소잔기, 또는 에테르결합을 포함하고 있을 수도 있는 탄소원자수 1 내지 20의 q가의 지방족 탄화수소잔기를 나타내고, Ar2는, p+1가의 방향족 탄화수소잔기를 나타내고, p는 각각 독립적으로, 1 또는 2를 나타내고, q는 1 내지 3의 정수(단 L5가 수소원자를 나타낼 때 q는 1을 나타내고, L5가 단결합 또는 산소원자를 나타낼 때 q는 2를 나타낸다.)를 나타낸다.) - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 알콕시규소 화합물 A가, 식[1a]로 표시되는 화합물인, 중합성 조성물.
[화학식 5]
(식 중, R1은 상기 식[1]과 동일한 의미를 나타낸다.) - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
해당 조성물로부터 얻어지는 경화물의 아베수가 24 이하가 되는, 중합성 조성물. - 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물의 경화물.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물로 이루어지는 고굴절률 수지렌즈용 재료.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물로부터 제작된, 수지렌즈.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을, 접합하는 지지체와 주형 사이의 공간, 또는 분할가능한 주형의 내부의 공간에 충전하는 공정, 및 해당 충전된 조성물을 노광하여 광중합하는 공정을 포함하는 성형체의 제조방법.
- 제9항에 있어서,
얻어진 광중합물을 충전된 상기 공간으로부터 취출하여 이형하는 공정, 그리고, 이 광중합물을 이 이형 전, 중도 또는 후에 있어서 가열하는 공정을 추가로 포함하는 제조방법. - 제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 성형체가 카메라모듈용 렌즈인, 제조방법. - 식[1]로 표시되는 알콕시규소 화합물 A와, 식[2]로 표시되는 알콕시규소 화합물 B를 중축합하여 얻어지는 반응성 실세스퀴옥산 화합물.
[화학식 6]
(식 중, X는 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 페닐기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 나프틸기, 중합성 이중결합을 갖는 치환기를 적어도 1개 갖는 비페닐기, 또는 (메트)아크릴로일기를 적어도 1개 갖는 탄소원자수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, R1은 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.)
[화학식 7]
(식 중, Ar1은 탄소원자수 1 내지 6의 알킬기로 치환되어 있을 수도 있는 페난트릴기를 나타내고, R2는 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다.) - 제12항에 있어서,
상기 알콕시규소 화합물 A가, 식[1a]로 표시되는 화합물인, 반응성 실세스퀴옥산 화합물.
[화학식 8]
(식 중, R1은 상기 식[1]과 동일한 의미를 나타낸다.)
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