JP6860344B2 - アニール炉、及び鋼ストランドをアニーリングするための方法 - Google Patents

Description

本発明は、アニール炉の中でストランドを加熱するための第１の加熱装置と、アニール炉の動作中に搬送方向にアニール炉を通りストランドが前進するように適合されたストランド用の搬送デバイスとを使用して、鋼で作られたストランドをアニーリングするために使用されるアニール炉に関する。

本発明はまた、第１の加熱装置の中でストランドを加熱するステップと、搬送デバイスを用いて、搬送方向にアニール炉を通りストランドを搬送するステップとに伴う、鋼で作られたストランドをアニール炉の中でアニーリングするための方法に関する。

多くの工作物は、所望の材料特性を実現するために、又は変形のため失われてしまったそれらの材料特性を取り戻すために、実際の生産後に、例えば、冷間成形又は熱間成形によって焼き戻ししなければならない。

特に、ステンレス鋼管は、材料の延性を高めるために冷間ピルガー圧延又は冷間引抜の後にアニーリングされる。

最大生産力を保証するために、工作物の焼き戻しが、好ましくは、ベルト炉の中で実行され、この際、工作物は、焼き戻し中に炉を通り、能動的に前進する。

そのような既知のアニール炉と比較し、本発明は、必要に応じて、完成工作物の材料特性をより正確に適合及び改良できるアニール炉を提供する問題を対象にする。

この問題は、アニール炉の中でストランドを加熱するための第１の加熱装置と、搬送方向に、アニール炉を通り、第１の加熱装置の後ろに、ストランドを搬送するように適合された搬送デバイスとを備え、ガス案内装置を有するストランドの外面を冷却するための第１の冷却デバイスを更に備えるアニール炉であって、アニール炉の動作中に、ストランドを冷却するために、ストランドの外面に沿ってガスを案内できるように、ガス案内装置が配置されるアニール炉によって解決される。

アニーリングプロセス後に鋼のストランドが得る材料特性には、ストランドがアニーリングされる温度及び時間だけではなく、アニーリング後の冷却の経過も重要であることが分かった。したがって、本発明のアニール炉は、アニール炉の加熱装置での加熱後にストランドを故意に冷却する任意選択を提供する。

本出願の範囲内では、鋼のストランドは、例えば、延ばされた楕円形の輪郭、棒又は管である。

鋼のストランド、好ましくは、ステンレス鋼で作られたストランドは、特に、素管から冷間ピルガー圧延又は冷間引抜により短縮された、即ち、変形された、管である。したがって、本発明の実施形態は、冷間ピルガー圧延ミル及びアニール炉が下流に配置された状態で、アニール炉が統合された生産ラインの一部あると考えられる。代替的には、生産ラインの引抜台との統合が可能である。

アニール炉の主要な要素は、必要なアニール温度までストランドの加熱を促進する第１の加熱装置である。したがって、本発明の実施形態では、ストランドが３００℃から５００℃の範囲、好ましくは、３５０℃から４５０℃の範囲、更に好ましくは、４００℃の温度まで加熱されるように、加熱装置が配置されることが有利である。

そのような加熱装置の中に複数の実施形態を見ることができるが、第１の加熱装置がストランドの誘導加熱用の誘導コイルを備える実施形態が有利である。そのような誘導加熱装置で、ストランド材料を短時間に収集的な方法で非常に急速に加熱することができる。

本発明の実施形態では、誘導コイルは、ストランドがアニール炉の中で誘導コイルを貫通するように配置及び設計される。ここで、ストランド及び誘導コイルは、特にストランドが円形の断面を有する棒又は管などの円筒形状の要素であるときには、好ましくは、同心円状に配置されなければならない。

本発明の実施形態では、第１の加熱装置は、アニール炉の動作中にストランドと誘導コイルとの間を延びる空洞のガラス円筒を備え、好ましくは、同心円状にストランドを取り囲む。

本発明の範囲内では、搬送デバイスは、基本的には、アニーリングされるストランドをアニール炉を通り前進させることができる任意の適した機械的デバイスである。

実施形態では、搬送デバイスは、駆動ローラがアニール炉の動作中にストランドと係合し、ストランドが駆動ローラ間を延びるように配置される、少なくとも一対のモーター駆動の駆動ローラを備える。１つの実施形態では、アニール炉は、二対のモーター駆動の駆動ローラを備え、この場合、第１の対は、搬送方向に、第１の加熱装置の前に配置され、第２の対は、第１の加熱装置の後ろに配置される。

本発明による第１の冷却デバイスは、ストランドの外面を通り案内されるガス流に基づき、ストランドが効率的かつ迅速に冷却されるという利点を有している。

本発明の実施形態では、ガス案内装置は、アニール炉の動作中にストランドを取り囲むハウジングを備え、ハウジングは、好ましくは、ストランドに同心円状に配置され、ハウジングは、ガス用のガス入口及びガス出口を備える。

ガス漏れを防止するために、ハウジングは、アニール炉の動作中にストランドに対して管を密閉するための密閉装置を前端及び後端にそれぞれ１つずつ備える。

本発明の実施形態では、ガス案内装置のガス入口は、ガス用の貯蔵器と流体連通しており、アニール炉の動作中にこの貯蔵器は、ストランドの外面がガスで、特に水素で、冷却できるように、好ましくは、水素を含む。

水素冷却は、同時に、ストランドの外面で鋼の化学的還元を可能にする。

本発明の実施形態では、ストランド用の搬送デバイスの中のガス出口は、アニール炉の動作中に、ガスが搬送方向と逆にストランドを通って流れるように、ガス入口の前に配置される。これにより、ガス冷却の効率が増す。

アニール炉の別の実施形態では、ストランドの外面を冷却するための第２の冷却デバイスがあり、第２の冷却デバイスは、ストランドと接触要素との間に熱接触が確立するように、アニール炉の動作中にストランドと係合されることができる接触要素を備える。このように、熱を熱伝導によりストランドから効率的に引き出すことができる。

これについて、ストランドの外面を冷却するための第２の冷却デバイスが、アニール炉の動作中に、それがストランドと係合した状態を維持するように構築及び配置される空気デバイス又は油圧デバイスを備えることが有利である。

第２の冷却デバイスが、アニール炉の動作中に反対方向のストランドに押し付けられる、複数の接触要素、例えば、４つの接触要素を備えることが特に有利である。

本発明の１つの実施形態では、接触要素は、グラファイトを含む。グラファイトは、高い熱伝導率及び良好な摩擦特性の利点を同時に有する。

接触要素を介してストランドからの効率的な放熱を可能にするために、第２の冷却デバイスは、実施形態の１つにおいて、流体冷却デバイスを備える。この冷却システムは、アニール炉の動作中にストランドからグラファイト要素まで移動する熱を放熱するように配置される。

本発明の実施形態では、ストランドの外面を冷却するために使用される第２の冷却デバイスの接触要素は、ストランドの外面を冷却するために、第１の冷却デバイスに配置される。接触要素が、ストランドの外面を冷却するために第１の冷却デバイスのガス案内装置のハウジング内に配置されることが有利である。

ストランドの外面を冷却するために第１及び第２の冷却デバイスを組み合わせることによって、事前の赤熱管の焼入れの観点から、効率的ゆえに急速な冷却が可能になる。そのような焼入れ冷却もまた、急激冷却と呼ばれる。

別の実施形態では、アニール炉は、流体冷却を有するハウジングを備えるストランドの外面を冷却するために使用される第３の冷却デバイスを備える。第３の冷却デバイスは、好ましくは、搬送方向に第１の冷却デバイスの後ろに配置され、アニール炉の動作中にストランドを取り囲む。そのような冷却デバイスでは、ストランドは、第１の冷却デバイス又は第１及び第２の冷却デバイスでの急激冷却後に更に冷却され、この場合、冷却効果は、第３の冷却デバイスのハウジングが、流体冷却に起因して、ハウジング内部に延びるストランドよりも低い温度を有するという事実に基づいている。

本発明の１つの実施形態によれば、ストランドの外面を冷却するための第３の冷却デバイスは、加えて又は代替的には、ストランドの外面を冷却するための第２の冷却デバイスと共に提供され得る。

アニール炉の別の実施形態は、アニール炉の動作中に、ストランドに流体、好ましくは水が噴霧されるように配置される、ストランドの外面を冷却するための第４の冷却デバイスを備える。

ここで、第４の冷却デバイスは、第２及び／又は第３の冷却デバイスに加え、又はそれらの代わりに提供することができる。

本発明の別の実施形態では、アニール炉は、第１の加熱装置から下流にあるストランドの搬送方向に第２の加熱装置を備える。第１の加熱装置が、例えば、誘導加熱装置である場合、第２の加熱装置が、電動式加熱ワイヤを有する通常の加熱装置であることが有利であると分かる。

これまで記載された実施形態では、外面でのストランドの冷却及び洗浄が提供されたが、空洞の棒の内面を洗浄するための洗浄デバイスで空洞のストランドをアニーリングするためのアニール炉を含む、アニール炉の発明の１つの実施形態がある。この場合、空洞のストランドの内面を洗浄するために使用されるガスが、アニール炉の動作中にガス出口から空洞のストランド内へ案内可能となり、内面に沿って流れることができるように、この洗浄デバイスは、出口が空洞のストランドの一端に結合できる、内面を洗浄するためのガス出口を備える。

ここで、ガス出口は、ガス用の、好ましくは、アルゴン又はアルゴンと水素との混合物用の少なくとも１つの貯蔵容器と流体連通し、アニール炉の動作中に貯蔵器からガスが供給されるという点で、実施形態は有利である。

本発明の１つの実施形態では、本発明のアニール炉は、アニール炉から下流にあるストランドの搬送方向に配置される、冷間変形デバイスを備える既に冷間変形されたストランドを再び変形させるための形成システムの一部である。

ストランドの製造中に、特にステンレス鋼で作られた管の製造中に、完成したストランドの所望の材料特性を実現するために、素管の完成したストランドへの変形を連続的に又は段階的に実行することは有利であり得る。この目的で、第１のステップとして、素管が、冷間変形によって、特に、冷間ピルガー圧延又は冷間引抜によって、短縮される。結果として生じたストランドは、素管と比較して、著しく引張強度が高まり、ストランドを再び冷間変形することができなくなる。したがって、本発明の実施形態の１つでは、既に冷間変形されたストランドが、本発明の実施形態によるアニール炉でアニーリングされ、次いで、冷間変形デバイスの中で再び変形される。

本発明の変形システムの実施形態によれば、冷間変形デバイスは、特に、先行技術から知られているような冷間引抜ミル若しくは引抜台、又は冷間ピルガー圧延ミルである。

ゆえに、本発明の実施形態の１つにおいて、代替的には、既に冷間変形されたストランドが、冷間ピルガー圧延システム又は冷間引抜システムから本発明の変形システム内へ直接延びる（インライン製造）、又は既に変形したストランドが、本発明による変形システムによってコイル状に巻かれて若しくは長さに対して切断された要素で（ｉｎ ｃｕｔ−ｔｏ−ｌｅｎｇｔｈ ｐｉｅｃｅｓ）入手可能となることもあり得る。

別の実施形態では、ストランドの搬送方向に移動できる巻き取りデバイス及び／又はのこぎりは、本発明による形成プラントの冷間変形デバイスの後ろに提供される。

浮動のこぎりとしても知られている、そのような移動するのこぎりにより、変形プロセスがなおも進行しつつ、冷間変形デバイスのないストランドを所望の長さの部分に分割することが可能になる。代替的には、ストランドは、巻き取りデバイスで巻かれ得る又はコイル状に巻かれ得る。適した巻き取りデバイスが、例えば、特許出願ＤＥ １０ ２００９ ０４５ ６４０ Ａ１に記載される。

ストランドの外面を清浄するための清浄デバイスは、任意選択的に、冷間変形プラントとのこぎり及び／又は巻き取りデバイスとの間に提供され得る。この清浄デバイスは、変形プロセスからストランドの外面に残っている潤滑油残留物を除去するために使用される。好ましくは、清浄デバイスは、ＣＯ２を使用してストランドの外面を清浄する清浄デバイスである。

先ほど言及された問題もまた、アニール炉の中で鋼のストランドをアニーリングするための方法によって解決され、当該方法は、第１の加熱デバイスの中でストランドを加熱するステップと、搬送方向に搬送デバイスによってアニール炉を通りストランドを搬送するステップと、搬送方向に第１にヒーターの後ろにある外面を第１の冷却デバイスの中でガス案内装置を使用して冷却するステップとを含み、ストランドを冷却するために、ガス案内装置を用いて、ストランドの外面に沿ってガスが流れる。

このストランドをアニーリングするプロセスは、特に、鋼のストランドを製造するための本発明の実施形態で使用され、鋼ブランク（ｓｔｅｅｌ ｂｌａｎｋ）、好ましくは、鋼素管は、ストランドの加熱前に、好ましくは、冷間ピルガー圧延又は冷間引抜によって、冷間変形され、ストランドになる。

本発明の態様が、本発明によるアニール炉に関して説明されたが、本発明の態様はまた、ストランドをアニーリングするために使用される対応する方法にも適用され、逆も同様である。本発明の方法が本発明の実施形態の１つによるアニール炉を使用して実行される限り、アニール炉は、この目的のために適切な機器を有している。しかし、特に、本明細書に記載される方法の実施形態を実行するために使用されるアニール炉の実施形態は適切であり、方法はこの目的のために必要とされるステップを含む。

本発明に対する適用の更なる利点、特徴及び可能性が、以下の実施形態の説明及び添付図面から明らかになるだろう。

本発明の実施形態によるアニール炉の概略斜視図を示す。 図１によるアニール炉の冷却デバイスのうちの２つを通る破断面図を示す。 図２によるアニール炉の冷却デバイスのうちの１つを通る概略断面図を示す。 本発明の実施形態による変形システムの概略図を示す。

図１では、本発明の実施形態におけるアニール炉１が概略的に示される。アニール炉１では、ステンレス鋼管２が、４００℃の温度で、本出願の意味の範囲内でストランドとしてアニーリングされる。鋼管をアニーリングするために、鋼管２が、搬送方向に（図１では矢印３により示される）アニール炉１を通り案内される。したがって、管２をアニーリングすることは、炉１内で連続的に行われる。

本出願によれば、アニール炉１を通り管２を搬送するための搬送デバイスとして作動する２組のモーター駆動の駆動ローラ４、５と６、７とがある。これらの駆動ローラは、アニーリングされるステンレス鋼管２と係合しており、よってローラ４、５、６、７の回転は、搬送方向３にアニール炉１を通る管２の並進運動につながる。

一対の矯正ローラ８はまた、アニール炉１の入口領域に提供され、冷間変形され入ってくる管をアニール炉１のＸ−方向及びＹ−方向に矯正するのを助けるので、管は、炉の中でアニーリングされる前に実質的に真っすぐになっている。

アニール炉１の本実施形態は、２つの加熱装置９、１０を備える。本出願によれば、加熱装置９は、第１の加熱装置であり、加熱装置１０は、第２の加熱装置である。第２の加熱装置１０は、２つの加熱ラジエーター１１、１２を備える。

アニール炉１の搬送方向３にある第１の加熱装置９は、誘導加熱装置であり、その装置の中で、鋼管２は、加熱される管２の中の誘導コイルによって誘導される電流を使用して加熱される。

そのような誘導加熱は、非常に効率的に管２を迅速に加熱する利点を有しているが、管２の長さ拡張は非常に小さくなる。

誘導コイル３０は、同心円状に管２を取り囲み、この場合、コイルは、コイルの巻きと管２との間を延びる空洞のガラス円筒に巻かれる。

ラジエーター１１、１２の場合、管２の搬送方向３に第１の誘導加熱装置９の後ろに配置される第２の加熱装置は、従来の電動式抵抗ヒーターである。ラジエーター１１、１２の内部は、管２が、第１の誘導加熱装置９から冷却デバイスまでの途中で冷却されない又はほとんど冷却されないように、加熱コイルを用いて加熱される。

図１に示される実施形態のアニール炉１は、合計４つの異なる冷却デバイス１３、１４、１５、３１を有している。

搬送方向３に第２のラジエーター１２の後ろにあるアニーリングされた管２を冷却するためのコア要素は、一体化された２つの冷却デバイス１３、１４から成る焼入れ又は急激冷却である。本出願によれば、これらの冷却デバイス１３、１４双方は、第１及び第２の冷却デバイスである。

第１の冷却デバイス１３は、管２の外面、即ち、管２の包絡面を冷却するためのガス流冷却である。第１の冷却デバイス１３は、冷却に水素のガス流を使用するが、水素は、管２の外面を通り、管を冷却する。

しかしながら、第２の冷却デバイス１４には、アニーリングされた管２の中での放熱のために管と水冷却との間に熱接触を提供する接触冷却がある。

図２の破断面図は、２つの冷却デバイス１３、１４を詳しく示す。第１の冷却デバイス１３のガス流冷却は、主に、本出願の意味の範囲内でガス案内装置として冷却される管２を同心円状に取り囲むハウジング１６から成る。このガス案内装置は、冷却ガスが、冷却される管２の外面１７を通り案内されることを保証する。

ガス案内装置として冷却される管２を取り囲むハウジング１６は、冷却ガスを供給するためのガス入口１８と、ガスを排出するためのガス出口１９とを備える。ガス入口１８は、アニール炉の動作中に水素（Ｈ２）用のガス貯蔵器に結合される。

ガス案内装置のハウジング１６は、できるだけガスがガス案内装置から漏れることのないようにするため、その前方及び後方にガスリストリクター２０を１つずつ有している。リストリクター２０の領域では、ハウジング１６から冷却される管２までの距離は、ハウジング１６の管部分２１、２２双方の内壁と、冷却される管２との間の距離を著しく下回る。したがって、リストリクター２０と冷却される管２との間に結果的に生じる半径方向の隙間は、ガスが、冷却デバイスから主にフランジ１９を通り漏れるように、ハウジング１６の管部分２１、２２及びハウジングフランジ１８、１９よりも、冷却ガスに対して実質的に高い流れ抵抗を有している。１つの実施形態では、リストリクター２０は、リストリクター２０と冷却されるステンレス鋼管２との間が係合する場合に備え、管２に対する損傷を回避するために、グラファイトで作られる。

第１の冷却デバイス１３のガス入口１８は、アニーリングされる管２の搬送方向３に、ガス出口１９の後ろにある。これにより、炉の動作中に、管２の外面１７で搬送方向３と逆への冷却ガスの流れが促進される。

第１の冷却デバイス１３のガス案内装置のハウジング１６は、連続した管ではないが、３つの部分（２１、２２、２３）から成る。第１の部分２１は、冷却される管２を同心円状に取り囲む管部分２１であり、ガス入口としてフランジ１８に結合される。第２の部分２２もまた、冷却される管２を同心円状に取り囲む管部分として構成される。後者は、次にガス出口１９としてフランジに結合される。

ハウジング１６の管２１、２２は、グラファイトで作られたライナー（ｌｉｎｅｒ）３１と内側から結合される。これにより、ハウジング１６と係合される場合には、冷却される管２への損傷が防止される。

ガス案内装置の２つの管状の部分（ｓｅｇｍｅｎｔｓ ｏｒ ｓｅｃｔｉｏｎｓ）２１と２２との間には、ガス案内装置のもう１つの部分２３があり、その中を第２の冷却デバイス１４が延びる。この部分２３では、ガス案内装置に、ハウジング１６の管部分２１、２２双方と比較してずっと大きな内径を有する実質的に円筒の本体２４が提供される。この本体２４は、ガス案内装置の他の２つの部分に結合された管２１、２２で密閉される。ガスは、本体２４内部の指定された導管を通り流れるが、その導管は、冷却される管２まで、又はその外面１７まで延びる。

第２の冷却デバイス１４の接触冷却はまた、本体２４内部にも配置される。この接触冷却の冷却効果は、本体２４内部で冷却される管２と係合するグラファイトで作られた４つの頬部２５に基づくものであり、ゆえに、管２とグラファイト頬部２５との間の熱接触が確立されるが、これは、管から熱を除去するために使用される。グラファイトで作られた接触要素２５の設計には、それらの要素が比較的高い熱伝導率を有していると同時に、管２と頬部２５との間の滑り摩擦が低いことが実証されているという利点がある。グラファイト頬部２５は、グラファイト頬部２５と管２との間の良好な熱接触を実現するために、管２に対して油圧シリンダー及びピストンの組み合わせを使用して、油圧プレスされなければならない。

頬部２５は、管２に対する摩擦によって摩耗しやすい。しかしながら、この摩耗は、頬部２５に対する油圧プレスにより、自動的に補償される。この補償を促進するために、頬部２５は、断面が円錐状に設計され、この場合、４つの頬部がまとまっても完全な３６０°の輪（ｒｉｎｇ）を覆うことはないが、頬部２５間のいずれにも隙間が提供される。図３は、頬部２５及び管２を通る概略断面図であり、図示されるように、形成された隙間２６をはっきりと特定することができる。この隙間は、頬部の摩耗を補償する見込みだけではなく、冷却ガスが少なくとも管２に沿って部分内を通って流れる可能性を示している。

図１の説明に戻り、下流の冷却デバイス１５及び３１の構造が、ここから詳しく説明されることになる。これらの冷却デバイス１５、３１は、本出願の特許請求の範囲による管２の外面１７を冷却するために使用される第３の冷却デバイス１５及び第４の冷却デバイス３１を形成する。

冷却デバイス１５は、水冷式の管部分２９によって形成される２つの冷却レジスター２７、２８を備え、この場合、熱放射及び熱対流により、冷却される管２と冷却された管部分２９との間に熱移動が起こる。

管２には、搬送方向３における最後の冷却デバイス３１、いわゆる水槽の中で、冷却液体、ここでは水、が最終的に直接噴霧され、その水は滴り、水槽から管の出口前で、スクレーパーにより管からこすり取られる。

図１のアニール炉は、加えて、アニーリングされた管２の内面を洗浄するために使用される洗浄デバイスを備える。これに対して、貯蔵器のガス出口（図示されず）は、ガスが管内及び管を通って流れることができるように、管２の搬送方向３にアニール炉１の前でアニーリングされる管２の先頭に密閉方式で結合される。

図４に概略的に示される本発明の実施形態は、アニール炉１の後に管２を冷間変形するための連続的に作動する引抜台３２を説明する。管２の冷間変形中に、管２の外径は、管２を引抜型３３を通して移動させることによって短縮される。また、管２の搬送方向に管２と共に移動する浮動のこぎり（ｆｌｙｉｎｇ ｓａｗ）３４が引抜台３２の後ろに提供され、これにより管２は、管の引抜中に画定された長さの管部分に切断することができる。加えて、ＣＯ２−清浄デバイス３５が、管２の外面を清浄するために、引抜台３２と浮動のこぎり３４との間に提供される。残った潤滑油は、この清浄デバイス３５を用いて、管２の外面から除去することができる。アニール炉１、引抜台３２、清浄デバイス３５及び浮動のこぎり３４の配置は、本出願の意味の中では、変形システム３６として指定される。

元の出願の目的のため、当業者に対して、以下の説明、図面及び特許請求の範囲から明らかになるすべての特徴が、たとえある他の特徴と組み合わせることのみで具体的に記載されていたとしても、明確に除外されていない限り、又は技術的要素がそのような組み合わせを不可能若しくは無意味にしない限り、個々に、及び本明細書に開示された他の特徴若しくは特徴群との任意の組み合わせでの双方で、組み合わせることができることに留意すべきである。本明細書に記載の特徴の考えられるすべての組み合わせの包括的かつ明確な提示は、説明の簡潔さ及び読みやすさのためだけに省略される。本発明は、図面及び前述の説明で詳しく提示され説明されたが、この提示及び説明は、例示的なものに過ぎず、特許請求の範囲によって定義される範囲を限定するものではない。本発明は、開示された実施形態に限定されない。

開示された実施形態への修正が、図、明細書及び添付の特許請求の範囲から、当業者には明らかだろう。特許請求の範囲の中で、用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、他の要素又はステップを除外するものではなく、不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」は、複数を除外するものではない。ある特徴が異なる特許請求の範囲において特許請求されるという単なる事実は、それらの組み合わせを除外するものではない。特許請求の範囲の参照番号は、範囲を限定するものと解釈されるべきではない。

１ アニール炉
２ ステンレス鋼管
３ 搬送方向
４、５、６、７ 駆動ローラ
８ 矯正ローラアセンブリ
９ 第１の加熱装置
１０ 第２の加熱装置
１１、１２ 第２の加熱装置のラジエーター
１３、１４、１５、３１ 冷却デバイス
１６ ガス案内装置のハウジング部分
１７ ステンレス鋼管２の外面
１８ ガス入口
１９ ガス出口
２０ 密閉装置
２１、２２、２３ ガス案内装置ハウジング
２４ 円筒の本体
２５ グラファイト頬部
２６ 隙間
２７、２８ 冷却レジスター
２９ 水冷式の管部分
３０ 誘導コイル
３１ グラファイトライナー
３２ 引抜台
３３ 引抜型
３４ 浮動のこぎり
３５ ＣＯ２清浄デバイス
３６ 変形システム

Claims (13)

1. 鋼の管（２）をアニーリングするためのアニール炉（１）であって、
   アニール炉（１）の動作中に管（２）を加熱するための第１の加熱装置（９）と、
   アニール炉（１）の動作中に、搬送方向（３）にアニール炉（１）を通って管（２）を前進させるように適合された、管（２）用の搬送デバイス（４、５、６、７）と
   を有し、
   アニール炉（１）が、搬送方向（３）において第１の加熱装置（９）の後ろに、管（２）の外面（１７）を冷却するための第１の冷却デバイス（１３）であって、ガス案内装置（１６）を有する第１の冷却デバイス（１３）を備え、
   アニール炉（１）の動作中に管（２）を冷却するために、ガスが管（２）の外面（１７）上を流れるようにガス案内装置（１６）が配置され、
   ガス案内装置が、アニール炉（１）の動作中に管（２）を取り囲むハウジング（１６）を備え、
   ハウジング（１６）が、管（２）に同心円状に配置され、
   ハウジング（１６）が、ガス用のガス入口（１８）及びガス出口（１９）を備え、
   ガス案内装置のハウジング（１６）が、ガスリストリクター（２０）を前端及び後端に備え、
   アニール炉（１）が、管（２）の外面（１７）を冷却するための第２の冷却デバイス（１４）を備え、
   第２の冷却デバイス（１４）が、管（２）と接触要素（２５）との間に熱接触が確立するように、アニール炉（１）の動作中に管（２）と係合されることができる接触要素（２５）を備え、
   接触要素（２５）がグラファイトを含むことを特徴とするアニール炉（１）。
2. ガス案内装置（１６）のガス入口（１８）が、ガス用の貯蔵器と流体連通しており、
   アニール炉（１）の動作中に貯蔵器が、水素を含むことを特徴とする、請求項１に記載のアニール炉（１）。
3. ガスがアニール炉（１）の動作中に搬送方向（３）と逆に管（２）を通り抜けるように、ガス出口（１９）が、管（２）の搬送方向（３）において、ガス入口（１８）の前に配置されることを特徴とする、請求項１又は２に記載のアニール炉（１）。
4. 管（２）の外面（１７）を冷却するための第２の冷却デバイス（１４）が、アニール炉（１）の動作中に、接触要素（２５）が管（２）と係合した状態を維持するように構築及び配置される空気デバイス又は油圧デバイスを備えることを特徴とする、請求項１に記載のアニール炉（１）。
5. 管（２）の外面（１７）を冷却するための第２の冷却デバイス（１４）が、アニール炉（１）の動作中に、管（２）から接触要素（２５）上に移動される熱を放熱するように適合される流体冷却システムを備えることを特徴とする、請求項１から４の何れか一項に記載のアニール炉（１）。
6. 管（２）の外面（１７）を冷却するための第２の冷却デバイス（１４）の接触要素（２５）が、管（２）の外面（１７）を冷却するための第１の冷却デバイス（１３）内部に配置されることを特徴とする、請求項１から５の何れか一項に記載のアニール炉（１）。
7. 管（２）の外面（１７）を冷却するための第２の冷却デバイス（１４）の接触要素（２５）が、ガス案内装置のハウジング（１６）内部に配置されることを特徴とする、請求項６に記載のアニール炉（１）。
8. アニール炉（１）が、アニール炉（１）の動作中に管（２）を取り囲む流体冷却システムを有するハウジングを有する、管（２）の外面（１７）を冷却するための第３の冷却デバイス（１５）を備えることを特徴とする、請求項１から７の何れか一項に記載のアニール炉（１）。
9. 請求項１から８の何れか一項に記載のアニール炉（１）を備え、かつ冷間変形デバイスを備える、冷間変形された管（２）を変形させるための形成システム（３６）。
10. 管（２）の搬送方向（３）において、アニール炉（１）の後ろに配置される引抜デバイス（３２）を備える、請求項９に記載の形成システム（３６）。
11. 管（２）の搬送方向（３）に移動可能である巻き取りデバイス及び／又はのこぎり（３４）が、管（２）の搬送方向（３）において、冷間変形デバイス（３２）の後ろに提供され、管（２）の外面を清浄するための清浄デバイス（３５）は、冷間変形デバイス（３２）と巻き取りデバイス及び／又はのこぎり（３４）との間に配置されることを特徴とする、請求項９又は１０に記載の形成システム（３６）。
12. 鋼で作られた管（２）をアニール炉（１）の中でアニーリングするための方法であって、
    第１の加熱装置（９）の中で管（２）を加熱するステップと、
    搬送デバイス（４、５、６、７）を用いて、搬送方向（３）にアニール炉（１）を通って管（２）を前進させるステップと、
    搬送方向（３）において第１の加熱装置（９）の後ろにある管（２）の外面（１７）を、ガス案内装置（１６）を有する第１の冷却デバイス（１３）の中で冷却するステップであって、管（２）を冷却するために、ガス案内装置（１６）を用いて、管（２）の外面（１７）にガスが流れる、冷却するステップであって、
    ガス案内装置が、アニール炉（１）の動作中に管（２）を取り囲むハウジング（１６）を備え、
    ハウジング（１６）が、管（２）に同心円状に配置され、
    ハウジング（１６）が、ガス用のガス入口（１８）及びガス出口（１９）を備え、
    ガス案内装置のハウジング（１６）が、ガスリストリクター（２０）を前端及び後端に備える、冷却するステップと、
    を有し、
    管（２）とグラファイトを含む接触要素（２５）との間に熱接触が確立するように、アニール炉（１）の運転の間、管（２）と係合している第２の冷却デバイス（１４）において、管（２）の外面（１７）を搬送方向（３）に冷却するステップを更に含むことを特徴とする方法。
13. 鋼素管を管（２）に冷間変形し、請求項１２に記載のステップに従うことによって、鋼で作られた管（２）を製造するための方法。

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