JP6647307B2 - 端子 - Google Patents
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Description
以下、本発明における実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、以下に説明する実施の形態はあくまでも例示であり、本発明の範囲において、種々の形態をとり得る。
本発明の端子として用いられる雄端子において、導電性を有する銅合金条の基材に施されたスズ−銅スズ混合層(以下、これを「Sn−CuSn混合層」ともいう。)の最表面に対しプレス加工により微小な表面クラックを形成した後、当該表面クラックを起点として亀裂を進展させることにより所望の溝幅および溝深さからなる溝を予め複数形成しておく。これにより、雄端子のSn−CuSn混合層の最表面に形成された複数の溝に対して、プレス加工時に使用したプレス加工油(以下、これを単に「プレス油」という。)の成分が貯留されることになる。
基材上のSn−CuSn混合層に形成された複数の溝の個数が所定の基準値よりも少な過ぎる場合は、摩擦係数が高くなる。これは、溝の個数が少ないためにプレス油の供給量が少なくなり、摩擦係数を低減させる効果を期待できないためである。
Sn−CuSn混合層を構成するCuSn層およびSn層のうち、CuSn層の最表面に対する露出面積率については、15%乃至100%とする。CuSn層の露出面積率が15%以下の場合、Sn−CuSn混合層の最表面に複数の溝が形成されていた場合であっても動摩擦係数が高くなる。
基材上のSn−CuSn混合層に形成された溝の溝幅は、基準の値よりも狭過ぎると貯留させるプレス油の量が少なくなり、動摩擦係数を低減する効果が期待できなくなる。また、溝の溝幅が基準の値よりも広過ぎると、Sn−CuSn混合層が基材から剥がれ易くなるために電気的接続の信頼性が落ちてしまう。
基材上のSn−CuSn混合層の最表面に形成された溝の溝深さは、浅すぎると当該溝に貯留させるプレス油の量が少なくなり、動摩擦係数を低減する効果が期待できなくなる。
雄端子においては、基材とSn−CuSn混合層との間にニッケル層を形成しておくことが望ましい。これは、基材の上にニッケル層が形成された状態でSn−CuSn混合層の表面クラックから亀裂を進展させる場合、当該ニッケル層で亀裂の進展が停止されて、それ以上の深さにならないように溝の溝深さを制御できるからである。
最初に、銅合金条からなる基材の上にNi層、Cu層、Sn層を順に形成した後、リフローすることによりスズと銅スズとが拡散したSn−CuSn混合層(スズ−銅スズ混合層)のメッキ最表層を形成する。ここで、Sn−CuSn混合層におけるCuSn層の最表面に対する露出面積率は、基材の上に形成するCu層のメッキ厚、および、Sn層のメッキ厚を調整することにより実現する。
<溝の作製条件>
次に、溝の作製条件について具体的に説明する。
雄端子に用いられる基材は、厚さ0.25mm、幅40mm以上、長さ100mm以上の導電性の銅合金条(板材)であり、その基材に対して仕上圧延を施して厚さ0.20mmに成型後、当該板材の幅方向の両端部を5mm以上除去して幅30mmとするとともに長さ50mmに切断する。
前処理のうちカソード電解脱脂の条件としては、脱脂液:NaOH 60g/リットル、脱脂条件:2.5A/dm2、温度60℃、脱脂時間60秒、とした。酸洗の条件としては、酸洗液:10%硫酸、酸洗条件:室温(27℃)にて30秒浸漬、とした。
Ni中間層めっきによりNi層を形成する条件としては、添加剤を用いることのない添加剤フリーワット浴であり、メッキ液:Ni(SO3NH2)2・4H2O 500g/リットル、NiCl2 30g/リットル、H3BO3 30g/リットル、めっき条件:温度50℃、電流密度5A/dm2、Ni層の厚さ:0.5μm、とした。
Cu中間層めっきによりCu層を形成する条件としては、メッキ液:硫酸銅 180g/リットル、硫酸 80g/リットル、めっき条件:温度40℃、電流密度5A/dm2、Cu層の厚さ:0.24μm、0.26μm、0.40μm、0.60μmとした。
Sn最表層めっきによりSn層を形成する条件としては、メッキ液:硫酸Sn 80g/リットル、硫酸 80g/リットル、めっき条件:温度20℃、電流密度5A/dm2、Sn層(最表層)の厚さ:0.6μm、0.58μm、0.50μm、0.3μm、とした。ここで、CuSn層を所望の露出面積率となるように調整する。
リフロー処理の条件としては、リフロー温度:300℃、リフロー時間:10秒とした。
その後、CuSn層の露出面積率がそれぞれ異なる基材に対し、上述したように潰し加工(プレス加工)、ディンプル加工を順番に行った。
供試材の表面を、EDX( エネルギー分散型X 線分光分析器)を搭載したSEM( 走査型電子顕微鏡)を用いて200倍の倍率で観察し、得られた組成像の濃淡( 汚れや傷等のコントラストは除く)から画像解析によりCu−Sn混合層(Cu−Sn合金被覆層)の露出面積率を測定した。基材10のSn−CuSn混合層の最表面に対するCuSn層の露出面積率については、Sn−CuSn混合層の最表面に対して露出するCuSn層の割合(%)として算出した。すなわち、Sn−CuSn混合層の最表面の全体に対してCuSn層とSn層とが半分ずつ露出している場合、CuSn層の露出面積率は50%となる。
基材10のSn−CuSn混合層の最表面に形成した複数の溝の個数を算出するには、微細加工用のFIB(Focused Ion Beam)装置により、当該基材10の凸部13の頂点を長さ30μm、深さ3〜10μmの断面に削り出し、その断面を高倍率のSIM(Scanning Ion Microscope)像により観察する。
G1n=(個数n/長さL(30μm×6))×100……………(1)
雄端子における基材10の凸部13と相手方となる雌端子との動摩擦係数を、図9に示す動摩擦係数測定装置60により測定した。動摩擦係数測定装置60は、基材10を水平な台62に固定し、その上に雌端子に相当する雌試験片63を載置して互いに接触させる。
μ=F/3.0(N)……………………………………………………(2)
基材10を100℃で120時間高温加熱して保持した後の接触抵抗を、いわゆる四端子法により評価する。この接触抵抗の値は、耐熱性の指標となる。プローブの接触圧を2N、通電電流10mAとする。プローブの先端には、曲率1mmの半球を用いる。この場合、基材10は、縦50mm×横20×厚さ0.25mmに切断したものであり、周囲の端部5mm以外の部分を測定対象として用いた。
基材10のSn−CuSn混合層を構成するCuSn層の最表面に対する露出面積率が5%、15%、50%、100%の場合における溝G1の個数G1nに応じた動摩擦係数μおよび接触抵抗μを表1乃至表4に示す。
なお、上述した実施の形態においては、CuSn層に発生した表面クラックを起点に亀裂を進展させて溝G1を形成するようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、CuSn層に加えてSn層に発生した表面クラックから溝G1を形成するようにしてもよい。
10a 最表面
10b 裏面
11 凹部
12 ディンプル
13 凸部
20 ダイ
30 パンチ
31 突出部
40 下側保持部材
41 凸状部
50h 開口
50 上側保持部材
60 動摩擦係数測定装置
62 台
63 雌試験片
64 錘
65 横型荷重測定器
Claims (4)
- 導電性の基材からなる端子であって、
前記基材の表面にスズおよび銅スズの混合物からなるスズ−銅スズ混合層を有し、
前記スズ−銅スズ混合層の最表面には、溝を備え、
前記溝は、前記最表面に沿った方向の長さ100μm当たり3個ないし100個形成され、
前記溝は、その溝幅が20〜500nmであり、
前記溝の深さが、前記スズ−銅スズ混合層のメッキ平均厚さの0.5倍以上、1.0倍未満であり、且つ前記溝が前記基材にまで到達していない
ことを特徴とする端子。 - 前記スズ−銅スズ混合層の前記最表面に対する前記銅スズの露出面積率が15%乃至100%である
ことを特徴とする請求項1に記載の端子。 - 前記溝は、前記スズ−銅スズ混合層における前記銅スズの部分に形成されている
ことを特徴とする請求項1または2に記載の端子。 - 前記スズ−銅スズ混合層と前記基材との間には中間層が形成され、
前記中間層は、ニッケル、ニッケル合金、コバルト、コバルト合金、銅、銅合金のうち何れか1層以上である
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の端子。
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