JP2014208904A - 耐摩耗性に優れる接続部品用導電材料 - Google Patents
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Abstract
Description
自動車の電装分野では、電子制御の多用、高度化によりコネクタが多極化し、自動車の組立工程においてコネクタの挿入力が増大し、これに伴い、作業者の肉体的負担の増大が問題となり、コネクタの低挿入力化が求められてきた。端子の挿入力を低減するには端子の接圧力を小さくすることが有効である。端子の接圧力が小さいと、コネクタの極数が増加しても、全体の挿入力を低減することができる。
従って、本発明は、特許文献1に記載された接続部品用導電材料の耐微摺動摩耗性の改善を目的とする。
前記材料表面において、Cu−Sn合金被覆層の少なくとも一方向における平均の材料表面露出間隔が0.01〜0.5mmである。
前記Sn被覆層の表面に露出する前記Cu−Sn合金被覆層厚さが0.2μm以上である。
前記母材の表面は、少なくとも一方向における算術平均粗さRaが0.3μm以上で、全ての方向における算術平均粗さRaが4.0μm以下である。
前記母材の表面は、少なくとも一方向における凹凸の平均間隔Smが0.01〜0.5mmである。
前記母材の表面と前記Cu−Sn合金被覆層の間にさらにCu被覆層を有する。
前記母材の表面と前記Cu−Sn合金被覆層の間にNi被覆層が形成され、同被覆層の平均の厚さが0.1〜3.0μmである。また、前記Ni被覆層が形成された場合に、Ni被覆層とCu−Sn合金被覆層との間にさらにCu被覆層を有する。
前記Sn被覆層、Cu被覆層及びNi被覆層は、それぞれSn、Cu、Ni金属のほか、Sn合金、Cu合金、Ni合金を含む。
前記母材表面とNi被覆層の間、又は前記Ni被覆層とCu−Sn合金層の間にCo被覆層又はFe被覆層が形成され、Ni被覆層とCo被覆層又はNi被覆層とFe被覆層の合計の平均厚さが0.1〜3.0μmである。
前記Co被覆層及びFe被覆層は、それぞれCo、Fe金属のほか、Co合金、Fe合金を含む。
(1)Cu−Sn合金被覆層中のCu含有量
Cu−Sn合金被覆層中のCu含有量は、特許文献1に記載された接続部品用導電材料と同じく、20〜70at%とする。Cu含有量が20〜70at%のCu−Sn合金被覆層は、Cu6Sn5相を主体とする金属間化合物からなる。本発明ではCu6Sn5相がSn被覆層の表面に部分的に突出しているため、電気接点部の摺動の際に接圧力を硬いCu6Sn5相で受けてSn被覆層同士の接触面積を一段と低減でき、これによりSn被覆層の摩耗や酸化も減少する。一方、Cu3Sn相はCu6Sn5相に比べてCu含有量が多いため、これをSn被覆層の表面に部分的に露出させた場合には、経時や腐食などによる材料表面のCuの酸化物量などが多くなり、接触抵抗を増加させ易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。また、Cu3Sn相はCu6Sn5相に比べて脆いために、成形加工性などが劣るという問題点がある。従って、Cu−Sn合金被覆層の構成成分を、Cu含有量が20〜70at%のCu−Sn合金に規定する。このCu−Sn合金被覆層には、Cu3Sn相が一部含まれていてもよく、母材及びSnめっき中の成分元素などが含まれていてもよい。しかし、Cu−Sn合金被覆層のCu含有量が20at%未満では凝着量が増して微摺動摩耗性が低下する。一方、Cu含有量が70at%を超えると経時や腐食などによる電気的接続の信頼性を維持することが困難となり、成形加工性なども悪くなる。従って、Cu−Sn合金被覆層中のCu含有量を20〜70at%に規定する。Cu−Sn合金被覆層中のCu含有量の下限は好ましくは45at%であり、上限は好ましくは65at%である。
Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さは、特許文献1に記載された接続部品用導電材料と同じく、0.2〜3.0μmとする。本発明では、Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さを、Cu−Sn合金被覆層に含有されるSnの面密度(単位:g/mm2)をSnの密度(単位:g/mm3)で除した値と定義する。下記実施例に記載したCu−Sn合金被覆層の平均の厚さ測定方法は、この定義に準拠するものである。Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さが0.2μm未満では、本発明のようにCu−Sn合金被覆層を材料表面に部分的に露出形成させる場合には、高温酸化などの熱拡散による材料表面のCuの酸化物量が多くなる。材料表面のCuの酸化物量が多くなると、接触抵抗が増加し易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。一方、3.0μmを超える場合には、経済的に不利であり、生産性も悪く、硬い層が厚く形成されるために成形加工性なども悪くなる。従って、Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さを0.2〜3.0μmに規定する。Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さの下限は好ましくは0.3μmであり、上限は好ましくは1.0μmである。
Sn被覆層の平均の厚さは0.05〜5.0μmとする。この範囲は、特許文献1に記載された接続部品用導電材料におけるSn被覆層の平均の厚さ(0.2〜5.0μm)と比べると、薄厚方向にやや広い。Sn被覆層の平均の厚さが0.2μm未満では、特許文献1に記載されているとおり、高温酸化などの熱拡散による材料表面のCuの酸化物量が多くなり、接触抵抗を増加させ易く、耐食性も悪くなる。その一方で、摩擦係数が低下し、大幅な低挿入力化を実現できる。しかし、Sn被覆層の平均の厚さがさらに薄く、0.05μm未満になると、軟らかいSnによる潤滑効果が発揮されなくなり、逆に摩擦係数が上昇する。Sn被覆層の平均の厚さが5.0μmを超える場合には、Snの凝着により、摩擦係数が上昇するだけでなく、経済的に不利であり、生産性も悪くなる。従って、Sn被覆層の平均の厚さを0.05〜5.0μmに規定する。このうち、低接触抵抗及び高耐食性が重視される用途の場合は0.2μm以上が好ましく、特に低摩擦係数が重視される用途の場合は0.2μm未満が好ましい。Sn被覆層の平均の厚さの下限は好ましくは0.07μm、さらに好ましくは0.10μmであり、上限は好ましくは3.0μm、さらに好ましくは1.5μmである。
Sn被覆層がSn合金からなる場合、Sn合金のSn以外の構成成分としては、Pb、Bi、Zn、Ag、Cuなどが挙げられる。Pbについては50質量%未満、他の元素については10質量%未満が好ましい。
特許文献1に記載された接続部品用導電材料と同じく、材料表面の少なくとも一方向における算術平均粗さRaが0.15μm以上、全ての方向における算術平均粗さRaが3.0μm以下とする。全ての方向において算術平均粗さRaが0.15μm未満の場合、Cu−Sn合金被覆層の材料表面突出高さが全体に低く、電気接点部の摺動の際に接圧力を硬いCu6Sn5相で受ける割合が小さくなり、特に微摺動によるSn被覆層の摩耗量を低減することが困難となる。一方、いずれかの方向において算術平均粗さRaが3.0μmを超える場合、高温酸化などの熱拡散による材料表面のCuの酸化物量が多くなり、接触抵抗を増加させ易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。従って、母材の表面粗さは、少なくとも一方向の算術平均粗さRaが0.15μm以上かつ全ての方向の算術平均粗さRaが3.0μm以下と規定する。好ましくは、少なくとも一方向の算術平均粗さRaが0.2μm以上で、全ての方向の算術平均粗さRaが2.0μm以下である。
Cu−Sn合金被覆層の材料表面露出面積率は、特許文献1に記載された接続部品用導電材料と同じく、3〜75%とする。なお、Cu−Sn合金被覆層の材料表面露出面積率は、材料の単位表面積あたりに露出するCu−Sn合金被覆層の表面積に100をかけた値として算出される。Cu−Sn合金被覆層の材料表面露出面積率が3%未満では、Sn被覆層同士の凝着量が増し、耐微摺動摩耗性が低下してSn被覆層の摩耗量が増加する。一方75%を超える場合には、経時や腐食などによる材料表面のCuの酸化物量などが多くなり、接触抵抗を増加させ易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。従って、Cu−Sn合金被覆層の材料表面露出面積率を3〜75%に規定する。好ましくは下限が10%、上限が50%である。
Cu−Sn合金被覆層表面の平均結晶粒径は2μm未満とする。Cu−Sn合金被覆層表面の平均結晶粒径が小さくなると、Cu−Sn合金被覆層表面の硬度が大きくなり、耐微摺動摩耗性が向上する。そのため、Cu−Sn合金被覆層表面の平均結晶粒径は2μm未満、好ましくは1.5μm以下、更に好ましくは1.0μm以下とする。なお、後述する実施例に示すとおり、特許文献1において好ましいとされるリフロー処理条件で得られた接続部品用導電材料では、Cu−Sn合金被覆層表面の平均結晶粒径は2μmを越えている。
Cu−Sn合金被覆層の少なくとも一方向における平均の材料表面露出間隔は、特許文献1に記載された接続部品用導電材料と同じく、0.01〜0.5mmとすることが望ましい。なお、Cu−Sn合金被覆層の平均の材料表面露出間隔は、材料表面に描いた直線を横切るCu−Sn合金被覆層の平均の幅(前記直線に沿った長さ)とSn被覆層の平均の幅を足した値と定義する。Cu−Sn合金被覆層の平均の材料表面露出間隔が0.01mm未満では、高温酸化などの熱拡散による材料表面のCuの酸化物量が多くなり、接触抵抗を増加させ易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。一方、0.5mmを超える場合には、特に小型端子に用いた際に低い摩擦係数を得ることが困難となる場合が生じてくる。一般的に端子が小型になれば、インデントやリブなどの電気接点部(挿抜部)の接触面積が小さくなるため、挿抜の際にSn被覆層同士のみの接触確率が増加する。これにより凝着量が増すため、低い摩擦係数を得ることが困難となる。従って、Cu−Sn合金被覆層の平均の材料表面露出間隔を少なくとも一方向において0.01〜0.5mmとすることが好ましい。より好ましくは、Cu−Sn合金被覆層の平均の材料表面露出間隔を全ての方向において0.01〜0.5mmにする。これにより、挿抜の際のSn被覆層同士のみの接触確率が低下する。好ましくは下限が0.05mm、上限が0.3mmである。
本発明に係る接続部品用導電材料において、表面に露出するCu−Sn合金被覆層の厚さは、特許文献1に記載された接続部品用導電材料と同じく、0.2μm以上とすることが好ましい。本発明のようにCu−Sn合金被覆層の一部をSn被覆層の表面に露出させる場合、製造条件によりSn被覆層の表面に露出するCu−Sn合金被覆層の厚さが前記Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さと比較して極めて薄くなる場合が生じるからである。
なお、Sn被覆層の表面に露出するCu−Sn合金被覆層の厚さは、断面観察により測定した値と定義する(前記Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さ測定方法とは異なる)。Sn被覆層の表面に露出するCu−Sn合金被覆層の厚さが0.2μm未満の場合、微摺動摩耗現象が早期に生じやすく、また、高温酸化などの熱拡散による材料表面のCuの酸化物量が多くなり、また耐食性も低下することから、接触抵抗を増加させ易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。従って、Sn被覆層の表面に露出するCu−Sn合金被覆層の厚さを0.2μm以上とすることが好ましい。より好ましくは0.3μm以上である。
(a)特許文献1に記載された接続部品用導電材料と同じく、黄銅や丹銅のようなZn含有Cu合金を母材として用いる場合などには、母材とCu−Sn合金被覆層の間にCu被覆層を有していてもよい。このCu被覆層はリフロー処理後にCuめっき層が残留したものである。Cu被覆層は、Znやその他の母材構成元素の材料表面への拡散を抑制するのに役立ち、はんだ付け性などが改善されることが広く知られている。Cu被覆層は厚くなりすぎると成型加工性などが劣化し、経済性も悪くなることから、Cu被覆層の厚さは3.0μm以下が好ましい。
Cu被覆層には、母材に含まれる成分元素等が少量混入していてもよい。また、Cu被覆層がCu合金からなる場合、Cu合金のCu以外の構成成分としてはSn、Zn等が挙げられる。Snの場合は50質量%未満、他の元素については5質量%未満が好ましい。
Ni被覆層には、母材に含まれる成分元素等が少量混入していてもよい。また、Ni被覆層がNi合金からなる場合、Ni合金のNi以外の構成成分としては、Cu、P、Coなどが挙げられる。Cuについては40質量%以下、P、Coについては10質量%以下が好ましい。
Co被覆層又はFe被覆層は、Ni被覆層と同様に、母材構成元素の材料表面への拡散を抑制する。このため、Cu−Sn合金層の成長を抑制してSn層の消耗を防止し、高温長時間使用後において接触抵抗の上昇を抑制するとともに、良好なはんだ濡れ性を得るのに役立つ。しかし、Co被覆層又はFe被覆層の平均厚さが0.1μm未満の場合、Ni被覆層と同様に、Co被覆層又はFe層中のピット欠陥が増加することなどにより、上記効果を充分に発揮できなくなる。また、Co被覆層又はFe被覆層の平均厚さが3.0μmを超えて厚くなると、Ni被覆層と同様に、上記効果が飽和し、また曲げ加工で割れが発生するなど端子への成形加工性が低下し、生産性や経済性も悪くなる。従って、Co被覆層又はFe被覆層を下地層としてNi被覆層の代わりに用いる場合、Co被覆層又はFe被覆層の平均厚さは0.1〜3.0μmとする。Co被覆層又はFe被覆層の平均厚さは、好ましくは下限が0.2μm、上限が2.0μmである。
また、Co被覆層とFe被覆層を、下地層としてNi被覆層とともに用いることができる。この場合、Co被覆層又はFe被覆層を、母材表面とNi被覆層の間、又は前記Ni被覆層とCu−Sn合金層の間に形成する。Ni被覆層とCo被覆層又はNi被覆層とFe被覆層の合計の平均厚さは、下地めっき層をNi被覆層のみ、Co被覆層のみ又はFe被覆層のみとした場合と同じ理由で、0.1〜3.0μmとする。Ni被覆層とCo被覆層又はNi被覆層とFe被覆層の合計の平均厚さは、好ましくは下限が0.2μm、上限が2.0μmである。
本発明の接続部品用導電材料は、銅合金母材の表面を粗化処理したうえで、該母材表面に直接に、あるいはNiめっき層やCuめっき層を介してSnめっき層を施し、続いてリフロー処理することにより製造する。この製造方法のステップは、特許文献1に記載された接続部品用導電材料の製造方法と同じである。
母材の表面を粗化処理する方法としては、イオンエッチング等の物理的方法、エッチングや電解研磨等の化学的方法、圧延(研磨やショットブラスト等により粗面化したワークロールを使用)、研磨、ショットブラスト等の機械的方法がある。この中で、生産性、経済性及び母材表面形態の再現性に優れる方法としては、圧延や研磨が好ましい。
なお、Niめっき層、Cuめっき層及びSnめっき層が、それぞれNi合金、Cu合金及びSn合金からなる場合、先にNi被覆層、Cu被覆層及びSn被覆層に関して説明した各合金を用いることができる。
リフロー処理により、Cuめっき層又は銅合金母材のCuとSnめっき層のSnが相互拡散し、Cu−Sn合金被覆層が形成されるが、その際にCuめっき層が全て消滅する場合と一部残留する場合の両方があり得る。
以上の条件でリフロー処理を行うことで、結晶粒径の小さいCu−Sn合金被覆層が形成される。また、Cu含有量が20〜70at%のCu−Sn合金被覆層が形成され、0.2μm以上の厚さを有するCu−Sn合金被覆層が表面に露出し、かつSnめっき層の過度の消耗が抑えられる。
下記測定方法は、Cu−Sn合金被覆層表面の平均結晶粒径の測定方法を除き、特許文献1に記載された方法に倣った。
蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、リフロー処理後のNi被覆層の平均の厚さを測定した。測定条件は、検量線にSn/Ni/母材の2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。
(Cu−Sn合金被覆層のCu含有量測定方法)
まず、試験材をp−ニトロフェノール及び苛性ソーダを成分とする水溶液に10分間浸漬し、Sn被覆層を除去した。その後、EDX(エネルギー分散型X線分光分析器)を用いて、Cu−Sn合金被覆層のCu含有量を定量分析により求めた。
まず、試験材をp−ニトロフェノール及び苛性ソーダを成分とする水溶液に10分間浸漬し、Sn被覆層を除去した。その後、蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、Cu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分の膜厚を測定した。測定条件は、検量線にSn/母材の単層検量線又はSn/Ni/母材の2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。得られた値をCu−Sn合金被覆層の平均の厚さと定義して算出した。
まず、蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、試験材のSn被覆層の膜厚とCu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分の膜厚の和を測定した。その後、p−ニトロフェノール及び苛性ソーダを成分とする水溶液に10分間浸漬し、Sn被覆層を除去した。再度、蛍光X線膜厚計を用いて、Cu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分の膜厚を測定した。測定条件は、検量線にSn/母材の単層検量線又はSn/Ni/母材の2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。得られたSn被覆層の膜厚とCu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分の膜厚の和から、Cu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分の膜厚を差し引くことにより、Sn被覆層の平均の厚さを算出した。
接触式表面粗さ計(株式会社東京精密;サーフコム1400)を用いて、JIS B0601−1994に基づいて測定した。表面粗さ測定条件は、カットオフ値を0.8mm、基準長さを0.8mm、評価長さを4.0mm、測定速度を0.3mm/s、及び触針先端半径を5μmRとした。表面粗さ測定方向は、表面粗化処理の際に行った圧延又は研磨方向に直角な方向(表面粗さが最も大きく出る方向)とした。
試験材の表面を、EDX(エネルギー分散型X線分光分析器)を搭載したSEM(走査型電子顕微鏡)を用いて200倍の倍率で観察した。得られた組成像の濃淡(汚れや傷等のコントラストは除く)から画像解析によりCu−Sn合金被覆層の材料表面露出面積率を測定した。
(Cu−Sn合金被覆層の平均の材料表面露出間隔測定方法)
試験材の表面を、EDX(エネルギー分散型X線分光分析器)を搭載したSEM(走査型電子顕微鏡)を用いて200倍の倍率で観察した。得られた組成像から、材料表面に引いた直線を横切るCu−Sn合金被覆層の平均の幅(前記直線に沿った長さ)とSn被覆層の平均の幅を足した値の平均を求めることにより、Cu−Sn合金被覆層の平均の材料表面露出間隔を測定した。測定方向(引いた直線の方向)は、表面粗化処理の際に行った圧延又は研磨方向に直角な方向とした。
ミクロトーム法にて加工した試験材の断面を、SEM(走査型電子顕微鏡)を用いて10,000倍の倍率で観察し、画像解析処理により材料表面に露出するCu−Sn合金被覆層の厚さの最小値を測定した。
(Cu−Sn合金被覆層表面の平均結晶粒径測定方法)
試験材をp−ニトロフェノール及び苛性ソーダを成分とする水溶液に10分間浸漬し、Sn被覆層を除去した。その後、試験材表面をSEMにより3000倍で観察し、画像解析により、各粒子を円としたときの直径(円相当直径)の平均値を求め、これをCu−Sn合金被覆層表面の平均結晶粒径とした。なお、試験材No.1の表面組織写真を図1に示す。
(微摺動摩耗試験)
嵌合型接続部品における電気接点のインデント部の形状を模擬し、図2に示すような摺動試験機(株式会社山崎精機研究所;CRS−B1050CHO)を用いて評価した。まず、各試験材から切り出した板材のオス試験片1を水平な台2に固定し、その上に各試験材から切り出した半球加工材(外径をφ1.8mmとした)のメス試験片3をおいて被覆層同士を接触させた。なお、オス試験片1とメス試験片3は同一の試験材を使用した。メス試験片3に3.0Nの荷重(錘4)をかけてオス試験片1を押さえ、ステッピングモータ5を用いてオス試験片1を水平方向に摺動させた(摺動距離を50μm、摺動周波数を1Hzとした)。なお、矢印は摺動方向である。
摺動回数100回の微摺動を行ったオス試験片1をミクロトーム法にて加工し、摩耗痕の断面をSEM(走査型電子顕微鏡)により10,000倍の倍率で観察した。観察される摩耗痕の最大深さを微摺動後の摩耗量とした。
なお、No.7も、Cu−Sn合金被覆層の材料表面露出面積率がゼロ(Cu−Sn合金被覆層が最表面に露出していない)のNo.8〜10に比べると、微摺動後の摩耗量が少ない。
蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、試験材のCo層の平均の厚さを算出した。測定条件は、検量線にSn/Co/母材の2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。
(Fe層の平均厚さの測定)
蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、試験材のFe層の平均厚さを算出した。測定条件は、検量線にSn/Fe/母材の2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。
嵌合型接続部品における電気接点のインデント部の形状を模擬し、図3に示すような装置を用いて測定した。まず、No.11〜21の各試験材から切り出した板材のオス試験片6を水平な台7に固定し、その上にNo.19の試験材から切り出した半球加工材(外径をφ1.8mmとした)のメス試験片8を置いて表面同士を接触させた。続いて、メス試験片8に3.0Nの荷重(錘9)をかけてオス試験片6を押さえ、横型荷重測定器(アイコーエンジニアリング株式会社;Model−2152)を用いて、オス試験片6を水平方向に引っ張り(摺動速度を80mm/minとした)、摺動距離5mmまでの最大摩擦力F(単位:N)を測定した。摩擦係数を下記式(1)により求めた。なお、10はロードセル、矢印は摺動方向であり、摺動方向は圧延方向に垂直な向きとした。
摩擦係数=F/3.0 ・・・(1)
また、Sn被覆層の平均の厚さが0.2μm未満のNo.12,17は、摩擦係数が極めて低い。
2,7 台
3,8 メス試験片
4,9 錘
5 ステッピングモータ
10 ロードセル
Claims (8)
- 銅合金板条からなる母材の表面に、Cu含有量が20〜70at%のCu−Sn合金被覆層と、Sn被覆層がこの順に形成され、その材料表面はリフロー処理されていて、少なくとも一方向における算術平均粗さRaが0.15μm以上で、全ての方向における算術平均粗さRaが3.0μm以下であり、前記Sn被覆層の表面に前記Cu−Sn合金被覆層の一部が露出して形成され、前記Cu−Sn合金被覆層の材料表面露出面積率が3〜75%である接続部品用導電材料において、前記Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さが0.2〜3.0μmで同被覆層の表面の平均結晶粒径が2μm未満であり、Sn被覆層の平均の厚さが0.05〜5.0μmであることを特徴とする耐微摺動摩耗性に優れる接続部品用導電材料。
- 前記材料表面は、少なくとも一方向における平均の材料表面露出間隔が0.01〜0.5mmであることを特徴とする請求項1に記載された耐微摺動摩耗性に優れる接続部品用導電材料。
- 前記Sn被覆層表面に露出する前記Cu−Sn合金被覆層の厚さが0.2μm以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載された耐微摺動摩耗性に優れる接続部品用導電材料。
- 前記母材の表面と前記Cu−Sn合金被覆層の間にさらにCu被覆層を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載された接続部品用導電材料。
- 前記母材の表面と前記Cu−Sn合金被覆層の間にさらにNi被覆層が形成され、同被覆層の平均の厚さが0.1〜3.0μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載された接続部品用導電材料。
- 前記Ni被覆層とCu−Sn合金被覆層との間にさらにCu被覆層を有することを特徴とする請求項5に記載された接続部品用導電材料。
- 前記Ni被覆層の代わりにCo被覆層又はFe被覆層が形成され、前記Co被覆層又はFe被覆層の平均厚さが0.1〜3.0μmであることを特徴とする請求項5又は6に記載された耐熱性に優れるSnめっき付き銅合金板条。
- 前記母材表面とNi被覆層の間、又は前記Ni被覆層とCu−Sn合金被覆層の間にCo被覆層又はFe被覆層が形成され、Ni被覆層とCo被覆層又はNi被覆層とFe被覆層の合計の平均厚さが0.1〜3.0μmであることを特徴とする請求項5又は6に記載された耐熱性に優れるSnめっき付き銅合金板条。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016039089A1 (ja) * | 2014-09-11 | 2016-03-17 | 三菱マテリアル株式会社 | 錫めっき銅合金端子材及びその製造方法 |
KR20190007049A (ko) | 2016-05-19 | 2019-01-21 | 도와 메탈테크 가부시키가이샤 | Sn 도금재 및 그의 제조 방법 |
WO2020080411A1 (ja) | 2018-10-17 | 2020-04-23 | 株式会社神戸製鋼所 | 表面被覆層付き銅又は銅合金板条 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014068689A1 (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-08 | 株式会社日立製作所 | 分光素子、およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
JP2015143385A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-08-06 | 三菱マテリアル株式会社 | 錫めっき銅合金端子材 |
WO2016031654A1 (ja) * | 2014-08-25 | 2016-03-03 | 株式会社神戸製鋼所 | 耐微摺動摩耗性に優れる接続部品用導電材料 |
JP6113822B1 (ja) * | 2015-12-24 | 2017-04-12 | 株式会社神戸製鋼所 | 接続部品用導電材料 |
JP6645337B2 (ja) * | 2016-04-20 | 2020-02-14 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | 接続端子および接続端子対 |
JP6501039B2 (ja) * | 2017-01-30 | 2019-04-17 | 三菱マテリアル株式会社 | コネクタ用端子材及び端子並びに電線端末部構造 |
US11469557B2 (en) * | 2020-07-28 | 2022-10-11 | Aptiv Technologies Limited | Coaxial electrical connector |
US11646510B2 (en) | 2021-04-29 | 2023-05-09 | Aptiv Technologies Limited | Shielding electrical terminal with knurling on inner contact walls |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003293187A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Dowa Mining Co Ltd | めっきを施した銅または銅合金およびその製造方法 |
JP2005105419A (ja) * | 2001-01-19 | 2005-04-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | めっき材料とその製造方法、それを用いた電気・電子部品 |
JP2006183068A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Kobe Steel Ltd | 接続部品用導電材料及びその製造方法 |
JP2008150690A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Hitachi Ltd | 金属条、コネクタ、および金属条の製造方法 |
JP2008269999A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Kobe Steel Ltd | 嵌合型コネクタ用端子及びその製造方法 |
JP2008274364A (ja) * | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Kobe Steel Ltd | 嵌合型コネクタ用端子及びその製造方法 |
JP2009007668A (ja) * | 2007-05-29 | 2009-01-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 電気電子部品用金属材料 |
WO2009057707A1 (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-07 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 電子部品用Snめっき材 |
JP2009097040A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Nikko Kinzoku Kk | すずめっきの耐磨耗性に優れるすずめっき銅又は銅合金条 |
JP2010196084A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 導電部材及びその製造方法 |
JP2011042860A (ja) * | 2009-08-24 | 2011-03-03 | Kobe Steel Ltd | アルミニウム製導電部材との接続に用いられる接続部品用錫めっき付銅又は銅合金材料 |
JP2011202266A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Kobe Steel Ltd | 嵌合型接続部品及びその製造方法 |
US20140041219A1 (en) * | 2010-03-26 | 2014-02-13 | Shinko Leadmikk Co., Ltd. | Copper alloy and electrically conductive material for connecting parts, and mating-type connecting part and method for producing the same |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3926355B2 (ja) | 2004-09-10 | 2007-06-06 | 株式会社神戸製鋼所 | 接続部品用導電材料及びその製造方法 |
EP1788585B1 (en) | 2004-09-10 | 2015-02-18 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Conductive material for connecting part and method for fabricating the conductive material |
KR100968997B1 (ko) | 2005-06-08 | 2010-07-09 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 구리 합금, 구리 합금판 및 그의 제조 방법 |
JP5025387B2 (ja) * | 2007-08-24 | 2012-09-12 | 株式会社神戸製鋼所 | 接続部品用導電材料及びその製造方法 |
KR101596342B1 (ko) | 2009-01-20 | 2016-02-22 | 미츠비시 신도 가부시키가이샤 | 도전 부재 및 그 제조 방법 |
JP5789207B2 (ja) | 2012-03-07 | 2015-10-07 | 株式会社神戸製鋼所 | 嵌合型接続端子用Sn被覆層付き銅合金板及び嵌合型接続端子 |
JP6103811B2 (ja) | 2012-03-30 | 2017-03-29 | 株式会社神戸製鋼所 | 接続部品用導電材料 |
EP2703524A3 (en) | 2012-08-29 | 2014-11-05 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Sn-coated copper alloy strip having excellent heat resistance |
-
2014
- 2014-03-14 US US14/210,749 patent/US9748683B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-03-18 CN CN201410101371.9A patent/CN104078783A/zh active Pending
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- 2014-03-27 KR KR1020140036194A patent/KR20140119639A/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005105419A (ja) * | 2001-01-19 | 2005-04-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | めっき材料とその製造方法、それを用いた電気・電子部品 |
JP2003293187A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Dowa Mining Co Ltd | めっきを施した銅または銅合金およびその製造方法 |
JP2006183068A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Kobe Steel Ltd | 接続部品用導電材料及びその製造方法 |
JP2008150690A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Hitachi Ltd | 金属条、コネクタ、および金属条の製造方法 |
JP2008269999A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Kobe Steel Ltd | 嵌合型コネクタ用端子及びその製造方法 |
JP2008274364A (ja) * | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Kobe Steel Ltd | 嵌合型コネクタ用端子及びその製造方法 |
JP2009007668A (ja) * | 2007-05-29 | 2009-01-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 電気電子部品用金属材料 |
JP2009097040A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Nikko Kinzoku Kk | すずめっきの耐磨耗性に優れるすずめっき銅又は銅合金条 |
WO2009057707A1 (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-07 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 電子部品用Snめっき材 |
JP2009108389A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Nikko Kinzoku Kk | 電子部品用Snめっき材 |
JP2010196084A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | 導電部材及びその製造方法 |
JP2011042860A (ja) * | 2009-08-24 | 2011-03-03 | Kobe Steel Ltd | アルミニウム製導電部材との接続に用いられる接続部品用錫めっき付銅又は銅合金材料 |
JP2011202266A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Kobe Steel Ltd | 嵌合型接続部品及びその製造方法 |
US20140041219A1 (en) * | 2010-03-26 | 2014-02-13 | Shinko Leadmikk Co., Ltd. | Copper alloy and electrically conductive material for connecting parts, and mating-type connecting part and method for producing the same |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016039089A1 (ja) * | 2014-09-11 | 2016-03-17 | 三菱マテリアル株式会社 | 錫めっき銅合金端子材及びその製造方法 |
US10047448B2 (en) | 2014-09-11 | 2018-08-14 | Mitsubishi Materials Corporation | Tin-plated copper-alloy terminal material |
KR20190007049A (ko) | 2016-05-19 | 2019-01-21 | 도와 메탈테크 가부시키가이샤 | Sn 도금재 및 그의 제조 방법 |
DE112017002082T5 (de) | 2016-05-19 | 2019-01-24 | Dowa Metaltech Co., Ltd. | Verzinntes produkt und verfahren zum herstellen desselben |
US10982345B2 (en) | 2016-05-19 | 2021-04-20 | Dowa Metaltech Co., Ltd. | Tin-plated product and method for producing same |
WO2020080411A1 (ja) | 2018-10-17 | 2020-04-23 | 株式会社神戸製鋼所 | 表面被覆層付き銅又は銅合金板条 |
KR20210057118A (ko) | 2018-10-17 | 2021-05-20 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 표면 피복층 부착 구리 또는 구리 합금 판조 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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