JP6113822B1 - 接続部品用導電材料 - Google Patents
接続部品用導電材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6113822B1 JP6113822B1 JP2015252617A JP2015252617A JP6113822B1 JP 6113822 B1 JP6113822 B1 JP 6113822B1 JP 2015252617 A JP2015252617 A JP 2015252617A JP 2015252617 A JP2015252617 A JP 2015252617A JP 6113822 B1 JP6113822 B1 JP 6113822B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating layer
- region
- alloy
- layer
- alloy coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/30—Electroplating: Baths therefor from solutions of tin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/58—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/48—After-treatment of electroplated surfaces
- C25D5/50—After-treatment of electroplated surfaces by heat-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
- H01R13/00—Details of coupling devices of the kinds covered by groups H01R12/70 or H01R24/00 - H01R33/00
- H01R13/02—Contact members
- H01R13/03—Contact members characterised by the material, e.g. plating, or coating materials
Abstract
Description
特許文献2には、表面粗さを大きくした銅又は銅合金母材表面に、Ni層(必要に応じて)、Cu−Sn合金層及びSn層からなる被覆層がこの順に形成された接続部品用導電材料が記載されている。Cu−Sn合金層は、Cu含有量が20〜70at%、平均の厚さが0.2〜3.0μmであり、Sn層は平均の厚さが0.2〜5.0μmである。材料表面は、少なくとも一方向における算術平均粗さRaが1.5μm以上で、全ての方向における算術平均粗さが3.0μm以下であり、最表面のSn層の間からCu−Sn合金層の一部が露出し、その露出面積率が3〜75%である。この接続部品用導電材料は摩擦係数が小さく、コネクタの挿入力を低減することができる。
特許文献2に記載された接続部品用導電材料は、表面にCu−Sn合金層の一部が露出しているため、特許文献1に記載された接続部品用導電材料に比べ、動摩擦係数がさらに低減できるが、表面に露出したCu−Sn合金層によりはんだ濡れ性が低下する。
特許文献3に記載された接続部品用材料は、Sn層に薄い部分があることで動摩擦係数が低減し、かつ最表層に均一なSnめっき層を有することではんだ濡れ性が向上する。しかし、表面全体がSn層で覆われることで端子挿入時にSnの凝着を生じ、動摩擦係数の低減効果が小さい。
上記接続部品用導電材料では、前記A領域におけるCu−Sn合金被覆層の厚さが0.2μm以上であることが好ましい。
上記接続部品用導電材料は、前記母材の表面とCu−Sn合金被覆層の間にさらにNi被覆層、Co被覆層及びFe被覆層より選択した1種又は2種からなる下地層を有し、前記下地層の平均の厚さ(2種の場合は合計厚さ)が0.1〜3.0μmであることが好ましい。
上記接続部品用導電材料は、前記母材の表面とCu−Sn合金被覆層の間、又は前記下地層とCu−Sn合金被覆層との間にさらにCu被覆層を有していてもよい。
(1)Cu−Sn合金被覆層中のCu含有量
Cu−Sn合金被覆層中のCu含有量は、特許文献2に記載された範囲内の55〜70at%とする。Cu含有量が55〜70at%のCu−Sn合金被覆層は、Cu6Sn5相を主体とする金属間化合物からなる。本発明ではCu6Sn5相がSn被覆層の表面に部分的に突出しているため、電気接点部の摺動の際に接圧力を硬いCu6Sn5相で受けてSn被覆層同士の接触面積を低減でき、これによりSn被覆層の摩耗や酸化も減少する。一方、Cu3Sn相はCu6Sn5相に比べてCu含有量が多いため、これをSn被覆層の表面に部分的に露出させた場合には、経時や腐食などによる材料表面のCuの酸化物量などが多くなり、接触抵抗を増加させ易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。また、Cu3Sn相はCu6Sn5相に比べて脆いために、成形加工性などが劣るという問題点がある。Cu−Sn合金被覆層が全てCu6Sn5相からなるとき、Cu−Sn合金被覆層のCu含有量は55at%である。このCu−Sn合金被覆層には、Cu3Sn相が一部含まれていてもよく、母材及びSnめっき中の成分元素などが含まれていてもよい。Cu含有量が70at%を超えると経時や腐食などによる電気的接続の信頼性を維持することが困難となり、成形加工性なども悪くなる。従って、Cu−Sn合金被覆層中のCu含有量を55〜70at%に規定する。Cu−Sn合金被覆層中のCu含有量の上限は、好ましくは65at%である。
Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さは、特許文献2に記載された接続部品用導電材料とほぼ同じく、0.1〜3.0μmとする。本発明では、Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さを、Cu−Sn合金被覆層に含有されるSnの面密度(単位:g/mm2)をSnの密度(単位:g/mm3)で除した値と定義する。下記実施例に記載したCu−Sn合金被覆層の平均の厚さ測定方法は、この定義に準拠するものである。Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さが0.1μm未満では、本発明のようにCu−Sn合金被覆層を材料表面に部分的に露出形成させる場合には、高温酸化などの熱拡散による材料表面のCuの酸化物量が多くなる。材料表面のCuの酸化物量が多くなると、接触抵抗が増加し易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。一方、3.0μmを超える場合には、経済的に不利であり、生産性も悪く、硬い層が厚く形成されるために成形加工性なども悪くなる。従って、Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さを0.1〜3.0μmに規定する。Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さの下限は好ましくは0.3μmであり、上限は好ましくは1.0μmである。
Sn被覆層の平均の厚さは、特許文献2に記載された接続部品用導電材料と同じく、0.2〜5.0μmとする。本発明では、Sn被覆層の平均の厚さを、Sn被覆層に含有されるSnの面密度(単位:g/mm2)をSnの密度(単位:g/mm3)で除した値と定義する。下記実施例に記載したSn被覆層の平均の厚さ測定方法は、この定義に準拠するものである。Sn被覆層の平均の厚さが0.2μm未満では、特許文献2に記載されているとおり、高温酸化などの熱拡散による材料表面のCuの酸化物量が多くなり、接触抵抗を増加させ易く、耐食性も悪くなる。また、はんだ濡れ性の確保が難しくなる。一方、Sn被覆層の平均の厚さが5.0μmを超える場合には、Snの凝着により摩擦係数が上昇するだけでなく、経済的に不利であり、生産性も悪くなる。従って、Sn被覆層の平均の厚さを0.2〜5.0μmに規定する。
Sn被覆層がSn合金からなる場合、Sn合金のSn以外の構成成分としては、Pb、Bi、Zn、Ag、Cuなどが挙げられる。Pbについては50質量%未満、他の元素については10質量%未満が好ましい。
材料表面の算術平均粗さRaは、少なくとも一方向で0.15μm以上で、全ての方向で3.0μm以下とする。算術平均粗さRaが全ての方向で0.15μm未満の場合、Cu−Sn合金被覆層の突出高さが全体に低く、電気接点部の摺動・微摺動の際に接圧力を硬いCu6Sn5相で受ける割合が小さくなり、特に、微摺動によるSn被覆層の摩耗量を低減することが困難となる。一方、いずれかの方向において算術平均粗さRaが3.0μmを超える場合、高温酸化などの熱拡散による材料表面のCuの酸化物量が多くなり、接触抵抗を増加させ易く、また耐食性も悪くなることから、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。従って、材料表面の算術平均粗さRaは、少なくとも一方向で0.15μm以上、かつ全ての方向で3.0μm以下と規定する。好ましくは、少なくとも一方向で0.2μm以上、全ての方向で2.0μm以下である。
材料表面を走査型電子顕微鏡による倍率100倍の反射電子像で観察すると、多数の濃い灰色部と薄い灰色部が混在して観察される。濃い灰色部はCu−Sn合金被覆層が露出した領域(露出形態については後述)であり、本発明ではこれをA領域といい、薄い灰色部はCu−Sn合金被覆層が露出していない(Sn被覆層で覆われている)領域であり、本発明ではこれをB領域という。A領域の面積率は、2〜65%とする。なお、A領域の面積率は、観察範囲全体の面積(A領域の面積+B領域の面積)に対するA領域の面積の割合(パーセント表示)である。A領域の面積率は、概ね特許文献2に記載された「Cu−Sn合金被覆層の材料表面露出面積率」に相当する。
A領域の面積率が2%未満(B領域の面積率が98%以上)では、Sn被覆層同士の凝着量が増し、動摩擦係数が増加する。一方、A領域の面積率が65%を超える(B領域の面積率が35%未満)と、Sn被覆層に被覆されていないCu−Sn合金被覆層の面積が増え、はんだ濡れ性が確保できない。また、経時や腐食などによる材料表面のCuの酸化物量などが多くなり、接触抵抗を増加させ易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。従って、このA領域の面積率は2〜65%と規定する。
Cu−Sn合金被覆層が露出したA領域を走査型電子顕微鏡により倍率10000倍で観察すると、多数の灰色部と白色部が混在して観察される。白色部はCu−Sn合金被覆層がSn被覆層に覆われた領域であり、本発明ではこれをC領域といい、灰色部はCu−Sn合金被覆層がSn被覆層に覆われていない領域であり、本発明ではこれをD領域という。このように、10000倍の反射電子像でみると、100倍の反射電子像ではSn被覆層に覆われていないと思われたA領域にも、Sn被覆層に覆われた(Cu−Sn合金層が露出していない)C領域が含まれている。この特殊な表面被覆層構造により、本発明に係る導電材料は、動摩擦係数が低く、かつ良好なはんだ濡れ性を有するようになる。C領域の面積率は、20〜70%とする。なお、C領域の面積率は、A領域における観察範囲全体の面積(C領域の面積+D領域の面積)に対するC領域の面積の割合(パーセント表示)である。C領域の面積率が20%未満では、Cu−Sn合金被覆層が表面に露出する割合が多く、はんだ濡れ性が低下する。一方、70%を超える場合には、Sn被覆層同士の凝着量が増し、動摩擦係数が増加する。
A領域同士の平均間隔は、少なくとも一方向において0.01〜0.5mmとすることが好ましい。この間隔は、特許文献2に記載された接続部品用導電材料における平均の材料表面露出間隔に相当する。なお、A領域同士の平均間隔は、材料表面に描いた直線を横切るA領域の平均の幅(前記直線に沿った長さ)とB領域の平均の幅を足した値と定義する。A領域とB領域が細かく混在しているほど、この平均間隔が小さくなる。A領域同士の平均間隔は、概ね特許文献2に記載された「材料表面露出間隔」に相当する。
A領域同士の平均間隔が0.01mm未満では、経時や腐食などによる材料表面のCuの酸化物量などが多くなり、接触抵抗を増加させ易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。一方、0.5mmを超える場合には、特に小型端子に用いた際に低い摩擦係数を得ることが困難となる場合が生じてくる。一般的に端子が小型になれば、インデントやリブなどの電気接点部(挿抜部)の接触面積が小さくなるため、挿抜の際にSn被覆層同士のみの接触確率が増加する。これにより凝着量が増すため、低い摩擦係数を得ることが困難となる。従って、A領域同士の平均間隔を、少なくとも一方向において0.01〜0.5mmとすることが好ましい。より好ましくは、A領域同士の平均間隔を全ての方向において0.01〜0.5mmにする。これにより、挿抜の際のSn被覆層同士のみの接触確率が低下する。A領域同士の平均間隔は、好ましくは下限が0.05mm、上限が0.3mmである。
本発明に係る接続部品用導電材料において、A領域におけるCu−Sn合金被覆層の厚さは、特許文献2に記載された接続部品用導電材料と同じく、0.2μm以上とすることが好ましい。A領域ではCu−Sn合金被覆層の一部が材料表面に露出しており、このような場合、製造条件により、露出したCu−Sn合金被覆層の厚さが、Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さと比較して極めて薄くなる場合が生じるからである。なお、A領域におけるCu−Sn合金被覆層の厚さは、断面観察により測定した値と定義する(Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さの測定方法とは異なる)。A領域におけるCu−Sn合金被覆層の厚さは、概ね特許文献2に記載された「Sn被覆層の表面に露出するCu−Sn合金被覆層の厚さ」に相当する。
A領域におけるCu−Sn合金被覆層の厚さが0.2μm未満の場合、経時や腐食などによる材料表面のCuの酸化物量などが多くなり、接触抵抗を増加させ易く、電気的接続の信頼性を維持することが困難となる。従って、A領域におけるCu−Sn合金被覆層の厚さは、0.2μm以上とすることが好ましく、0.3μm以上がより好ましい。
本発明に係る接続部品用導電材料は、必要に応じて、Ni被覆層、Co被覆層及びFe被覆層より選択した1種又は2種からなる下地層を有する。下地層の平均の厚さ(2種の場合は合計厚さ)は0.1〜3.0μmとする。下地層は、母材構成元素の材料表面への拡散を抑制することによりCu−Sn合金被覆層の成長を抑制してSn被覆層の消耗を防止し、高温長時間使用後において接触抵抗の上昇を抑制する作用を有する。しかし、下地層の平均の厚さが0.1μm未満の場合には、下地層中にピンホールなどのめっき欠陥が増加することなどにより、上記効果を充分に発揮できない。一方、下地層はある程度まで厚くなると上記効果が飽和し、厚くし過ぎると生産性や経済性が悪くなる。また、厚くすると曲げ加工で割れが発生するなど、端子への成型加工性が低下する。従って、下地層の平均の厚さは、0.1〜3.0μmとする。下地層の平均の厚さは、好ましくは下限が0.2μmであり、上限が2.0μmである。
本発明に係る接続部品用導電材料が上記下地被覆層を有しない場合、母材の表面とCu−Sn合金被覆層の間に、Cu被覆層を有していてもよい。このCu被覆層は、リフロー処理後にCuめっき層が残留したものである。Cu被覆層は、Znやその他の母材構成元素が材料表面へ拡散するのを抑制する作用があり、これにより接続部品用導電材料のはんだ付け性が改善される。Cu被覆層は厚くなりすぎると、成形加工性などが劣化し、経済性も悪くなることから、Cu被覆層の平均の厚さは3.0μm以下が好ましい。
また、本発明に係る接続部品用導電材料が上記下地被覆層を有する場合、上記下地被覆層とCu−Sn合金被覆層の間に、Cu被覆層を有していてもよい。Cu被覆層は、Cu−Sn合金被覆層と共に、上記下地被覆層自身の構成元素が材料表面へ拡散するのを抑制する作用がある。この場合のCu被覆層も、リフロー処理後にCuめっき層が残留したものであり、平均の厚さは3.0μm以下が好ましい。
本発明に係る接続部品用導電材料の製造方法を、図1〜3を参照して、具体的に説明する。
(11−1)リフロー処理後、Snめっきを行う方法
この方法は、母材表面を粗化処理したうえで、該母材表面に対しNiめっき等の下地めっき(必要に応じて)、Cuめっき及びSnめっきをこの順に行い、続いてリフロー処理した後、さらに電気Snめっきを行う方法である。この方法の各工程について、図1を参照して説明する。
図1Aに表面を粗化処理した母材1を示す。母材1の表面を粗化処理する方法としては、圧延(研磨やショットブラスト等により粗面化したワークロールを使用)や研磨が利用できる。また、母材の表面粗さについては、少なくとも一方向の算術平均粗さRaが0.3μm以上、かつ全ての方向の算術平均粗さRaが4.0μm以下、前記一方向において算出された凹凸の平均間隔Smが0.01〜0.5mmであることが好ましい。母材の表面粗さは、より好ましくは、少なくとも一方向で0.4μm以上、全ての方向で3.0μm以下である。この表面粗さは、特許文献2に記載された数値と同じである。
リフロー処理の条件は、Snめっき層の融点〜600℃で3〜30秒間とする。リフロロー処理の炉内雰囲気は、例えば大気中又はN2+O2雰囲気で酸素濃度を10〜25%とする。この炉内雰囲気により、材料表面が酸化され、特に露出したCu−Sn合金被覆層5の表面は酸化されやすい。リフロー処理後の材料において、露出したCu−Sn合金被覆層5の表面に、10〜40Åの酸化膜が形成されることが好ましい。
この方法は、母材表面を粗化処理したうえで、該母材表面に対しNiめっき等の下地めっき(必要に応じて)、Cuめっき及びSnめっきをこの順に行い、続くリフロー処理において材料に与える熱量を制御し、所定の被覆層構成を得る方法である。リフロー処理の炉内雰囲気は、特に限定されない。この方法の各工程について、図2を参照して説明する。
図2A、2Bに示すように、粗化処理した母材表面にNiめっき、Cuめっき、Snめっきを行った後、リフロー処理を行う。リフロー処理では、材料に与える熱量(温度×時間)を制御して、露出したCu−Sn合金被覆層5の表面に、細かく島状にSn被覆層(6aを付与)を残留させる。より具体的にいえば、図2Cに示すように、Cu−Sn合金被覆層5の一部が材料表面に露出した後、かつ露出したCu−Sn合金被覆層5の表面に点在する微細な凹部(柱状晶の粒界三重点等)のSnが消費されて消滅する前に、リフロー処理を終了する。表面に露出したCu−Sn合金被覆層5とSn被覆層6aが占める領域が、前記A領域に該当し、その中でSn被覆層6aが占める領域が、前記C領域に該当する。
この方法は、母材表面を粗化処理したうえで、該母材表面に対しNiめっき等の下地めっき(必要に応じて)、Cuめっき及びSnめっきをこの順に行い、続いてリフロー処理を行った後、Sn被覆層の一部を機械的に除去する方法である。この方法の各工程について、図3を参照して説明する。
図3A、3Bに示すように、粗化処理した母材表面にNiめっき、Cuめっき、Snめっきを行った後、リフロー処理を行う。リフロー処理直後の材料は、図3Cに示すように、Cu−Sn合金被覆層5の全面が、溶融Sn層9により薄く覆われた状態である。続いて、溶融Sn層9の一部を機械的に薄く除去し、Cu−Sn合金被覆層5の一部を表面に露出させ、その状態で溶融Snを凝固させる。溶融Sn層9はSn被覆層6となり、図3Dに示すように、露出したCu−Sn合金被覆層5の表面に点在する微細な凹部(柱状晶の粒界三重点等)に、Sn被覆層(6aを付与)が残留している。表面に露出したCu−Sn合金被覆層5とSn被覆層6aが占める領域が、前記A領域に該当し、Sn被覆層6aが占める領域が、前記C領域に該当する。
続いて、下地めっき(Niめっき、Coめっき、Feめっき)、Cuめっき、Snめっきの順にめっきを施したあと、リフロー炉の雰囲気をN2+O2としてO2濃度を制御し、表1に示す種々の条件でリフロー処理を施した。リフロー処理後の表面にさらに電気光沢Snめっきを施した(No.10,14,15を除く)。
蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、リフロー処理後のNi被覆層の平均の厚さを測定した。測定条件は、検量線にSn/Ni/母材の2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。
(Co被覆層の平均の厚さ測定方法)
蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、リフロー処理後のCo被覆層の平均の厚さを測定した。測定条件は、検量線にSn/Co/母材の2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。
(Fe被覆層の平均の厚さ測定方法)
蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、リフロー処理後のFe被覆層の平均の厚さを測定した。測定条件は、検量線にSn/Fe/母材の2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。
まず、試験材をp−ニトロフェノール及び苛性ソーダを成分とする水溶液に10分間浸漬し、Sn被覆層を除去した。その後、蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、Cu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分を膜厚に換算して測定した。測定条件は、検量線にSn/母材の単層検量線又は2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。得られた値をCu−Sn合金被覆層の平均の厚さと定義して算出した。
まず、蛍光X線膜厚計(セイコーインスツルメンツ株式会社;SFT3200)を用いて、試験材のSn被覆層の膜厚とCu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分の膜厚の和を測定した。その後、p−ニトロフェノール及び苛性ソーダを成分とする水溶液に10分間浸漬し、Sn被覆層を除去した。再度、蛍光X線膜厚計を用いて、Cu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分を膜厚に換算して測定した。測定条件は、検量線にSn/母材の単層検量線又は2層検量線を用い、コリメータ径をφ0.5mmとした。得られたSn被覆層の膜厚とCu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分の膜厚の和から、Cu−Sn合金被覆層に含有されるSn成分の膜厚を差し引くことにより、Sn被覆層の平均の厚さを算出した。
まず、試験材をp−ニトロフェノール及び苛性ソーダを成分とする水溶液に10分間浸漬し、Sn被覆層を除去した。その後、EDX(エネルギー分散型X線分光分析器)を用いて、Cu−Sn合金被覆層のCu含有量を定量分析により求めた。
(表面粗さ測定方法)
接触式表面粗さ計(株式会社東京精密;サーフコム1400)を用いて、JIS B0601−1994に基づいて測定した。表面粗さ測定条件は、カットオフ値を0.8mm、基準長さを0.8mm、評価長さを4.0mm、測定速度を0.3mm/s、及び触針先端半径を5μmRとした。表面粗さ測定方向は、表面粗化処理の際に行った圧延又は研磨方向に直角な方向(表面粗さが最も大きく出る方向)とした。
試験材の表面を、EDX(エネルギー分散型X線分光分析器)を搭載したSEM(走査型電子顕微鏡)を用いて100倍の倍率で観察した。図4Aに、反射電子組成像の一例(実施例No.1)を示す。次に、画像解析ソフト(フリーソフトのImageJ1.49)を用い、得られた反射電子組成像を2値化して、画像解析によりA領域(Cu−Sn合金被覆層が露出した領域(濃い灰色部))の面積率を算出した。反射電子組成像を2値化するに当たっては、2値化前の反射電子組成像と2値化後の画像を対比し、両画像が視覚的に最も合致するように、No.1〜15の各反射電子組成像ごとに最適なしきい値を決定した。
(C領域の面積率測定方法)
A領域の面積率測定時のSEM観察において、A領域(Cu−Sn合金被覆層が露出した領域)と判定された箇所を、10,000倍の倍率で観察した。図4Bに、図4Aの□で囲まれた範囲を拡大した反射電子組成像を示す。次に、画像解析ソフト(フリーソフトのImageJ1.49)を用い、得られた反射電子組成像を2値化して、画像解析によりC領域(最表面がSn被覆層で覆われた領域(白色部))の面積率を算出した。なお、C領域の表面は、全部又は大部分が電気光沢SnめっきによるSn被覆層により覆われ、場合によりごく一部がリフロー処理後に残存したSn被覆層により覆われる。反射電子組成像を2値化するに当たっては、2値化前の反射電子組成像と2値化後の画像を対比し、両画像が視覚的に最も合致するように、No.1〜15の各画像ごとに最適なしきい値を決定した。
ミクロトーム法にて加工した試験材の断面を、SEM(走査型電子顕微鏡)を用いて10,000倍の倍率で観察した。得られた反射電子組成像を用い、材料表面に露出するCu−Sn合金被覆層の厚さの最小値を実測して求めた。なお、同時にリフロー処理後に残留するCu被覆層の有無を確認したが、No.1〜15の全てで確認されなかった。
A領域の面積率測定方法で得られた倍率100倍のSEM反射電子組成像(2値化後)を用い、材料表面に引いた直線を横切るA領域(Cu−Sn合金被覆層が露出した領域)の平均の幅(前記直線に沿った長さ)とB領域(A領域を除く領域)の平均の幅を求めた。続いて、2つの値を足した値の平均を求め、A領域の平均間隔とした。測定方向(引いた直線の方向)は、表面粗化処理の際に行った圧延又は研磨方向に直角な方向とした。
(動摩擦係数測定方法)
嵌合型接続部品における電気接点のインデント部の形状を模擬し、図6に示すような装置を用いて測定した。まず、各試験材から切り出した板材のオス試験片11を水平な台12に固定し、その上にNo.15の試験材(表面にCu−Sn合金層が露出していない)から切り出した半球加工材(外径をφ1.8mmとした)のメス試験片13を置いて表面同士を接触させた。続いて、メス試験片13に5.0Nの荷重(錘14)をかけてオス試験片11を押さえ、横型荷重測定器を用いて、オス試験片11を水平方向に引っ張り(摺動速度を80mm/minとした)、摺動距離5mmまでの最大摩擦力F(単位:N)を測定した。摩擦係数を下記式(1)により求めた。横型荷重測定器は、アイコーエンジニアリング株式会社製のModel−2152である。なお、15はロードセル、矢印は摺動方向であり、摺動方向は圧延方向に垂直な向きとした。
摩擦係数=F/5.0 ・・・(1)
各試験材から切り出した試験片に対して、ロジン系非活性フラックスを1秒間浸漬塗布した後、メニスコグラフ法にてゼロクロスタイム(濡れ時間)と最大濡れ応力を測定した試験条件は、はんだ浴組成をSn−3.0Ag−0.5Cu、はんだ浴温度を255℃、試験片の浸漬速度を25mm/sec、浸漬深さを12mm、浸漬時間を5.0secとした。
一方、C領域の面積率がゼロのNo.10、及びC領域の面積率が本発明の規定より小さいNo.11は、No.1〜9に比べてはんだ濡れ性が劣る。なお、No.11において、C領域の面積率が本発明の規定範囲に達しなかったのは、リフロー処理の炉内雰囲気のO2濃度が高すぎ、露出したCu−Sn合金被覆層の表面に厚い酸化膜が形成されたためと考えられる。C領域の面積率が本発明の規定より大きいNo.12は、No.1〜9に比べて摩擦係数が高い。なお、No.12において、C領域の面積率が本発明の規定範囲を超えたのは、リフロー処理の炉内雰囲気のO2濃度が低すぎ、露出したCu−Sn合金被覆層の表面に必要な厚さの酸化膜が形成されなかったためと考えられる。
A領域の面積率が本発明の規定より大きいNo.13は、No.1〜9に比べてはんだ濡れ性が劣る。
A領域の面積率がゼロ(Sn被覆層が材料表面の全面を覆っている)であるNo.14,15は、No.12と比べても摩擦係数が非常に大きい。
5 Cu−Sn合金被覆層
6,6a Sn被覆層
7 Ni被覆層
8 Snめっき層
Claims (8)
- 銅又は銅合金板条からなる母材の表面に、Cu−Sn合金被覆層とSn被覆層からなる被覆層がこの順に形成され、Cu−Sn合金被覆層のCu含有量が55〜70at%、Cu−Sn合金被覆層の平均の厚さが0.1〜3.0μm、Sn被覆層の平均の厚さが0.2〜5.0μmであり、材料表面は少なくとも一方向の算術平均粗さRaが0.15μm以上で、全ての方向における算術平均粗さRaが3.0μm以下であり、走査型電子顕微鏡による倍率100倍の反射電子像で材料表面を観察したとき、濃い灰色部からなるA領域と薄い灰色部からなるB領域が多数混在し、前記A領域はCu−Sn合金被覆層が露出した領域であり、前記B領域はCu−Sn合金被覆層が露出せずSn被覆層に被覆された領域であり、前記A領域の面積率が2〜65%であり、走査型電子顕微鏡による倍率10000倍の反射電子像で前記A領域におけるCu−Sn合金被覆層の露出形態を観察したとき、前記A領域に白色部からなるC領域と灰色部からなるD領域が多数混在し、前記C領域はCu−Sn合金被覆層が露出せずSn被覆層に被覆された領域であり、前記D領域はCu−Sn合金被覆層が露出しSn被覆層に被覆されていない領域であり、前記A領域内におけるC領域の面積率が20〜70%であることを特徴とする接続部品用導電材料。
- 材料表面において前記A領域同士の間隔の平均値が0.01〜0.5mmであることを特徴とする請求項1に記載された接続部品用導電材料。
- 前記A領域におけるCu−Sn合金被覆層の厚さが0.2μm以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載された接続部品用導電材料。
- 前記母材の表面とCu−Sn合金被覆層の間にさらにCu被覆層を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載された接続部品用導電材料。
- 前記母材の表面とCu−Sn合金被覆層の間にさらにNi被覆層、Co被覆層及びFe被覆層より選択した1種又は2種からなる下地層を有し、前記下地層の平均の厚さが0.1〜3.0μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載された接続部品用導電材料。
- 前記下地層とCu−Sn合金被覆層との間にさらにCu被覆層を有することを特徴とする請求項5に記載された接続部品用導電材料。
- 請求項1〜6のいずれかに記載された接続部品用導電材料を用いて作製された嵌合型端子。
- 請求項7に記載された嵌合型端子を用いた嵌合型コネクタ。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015252617A JP6113822B1 (ja) | 2015-12-24 | 2015-12-24 | 接続部品用導電材料 |
US16/064,724 US10597792B2 (en) | 2015-12-24 | 2016-06-21 | Electrically conductive material for connection component |
PCT/JP2016/088071 WO2017110859A1 (ja) | 2015-12-24 | 2016-12-21 | 接続部品用導電材料 |
EP16878746.3A EP3396027A4 (en) | 2015-12-24 | 2016-12-21 | CONDUCTIVE MATERIAL FOR CONNECTING COMPONENT |
CN201680072203.9A CN108368630B (zh) | 2015-12-24 | 2016-12-21 | 连接部件用导电材料 |
KR1020187017321A KR102156016B1 (ko) | 2015-12-24 | 2016-12-21 | 접속 부품용 도전 재료 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015252617A JP6113822B1 (ja) | 2015-12-24 | 2015-12-24 | 接続部品用導電材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6113822B1 true JP6113822B1 (ja) | 2017-04-12 |
JP2017115210A JP2017115210A (ja) | 2017-06-29 |
Family
ID=58666738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015252617A Active JP6113822B1 (ja) | 2015-12-24 | 2015-12-24 | 接続部品用導電材料 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10597792B2 (ja) |
EP (1) | EP3396027A4 (ja) |
JP (1) | JP6113822B1 (ja) |
KR (1) | KR102156016B1 (ja) |
CN (1) | CN108368630B (ja) |
WO (1) | WO2017110859A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019197691A (ja) * | 2018-05-11 | 2019-11-14 | 矢崎総業株式会社 | 接点接続構造 |
US20200010057A1 (en) | 2018-07-05 | 2020-01-09 | Mando Corporation | Drum brake |
JP2020149805A (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | 端子、コネクタ、端子対、及びコネクタ対 |
JP2024031059A (ja) * | 2022-08-25 | 2024-03-07 | 株式会社神戸製鋼所 | 導電材料およびその製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4090302B2 (ja) | 2001-07-31 | 2008-05-28 | 株式会社神戸製鋼所 | 接続部品成形加工用導電材料板 |
WO2005073388A1 (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Kaneka Corporation | 光学活性1−置換—2—メチルピロリジンおよびその中間体の製造法 |
US7820303B2 (en) * | 2004-09-10 | 2010-10-26 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Conductive material for connecting part and method for manufacturing the conductive material |
JP4024244B2 (ja) | 2004-12-27 | 2007-12-19 | 株式会社神戸製鋼所 | 接続部品用導電材料及びその製造方法 |
JP5464792B2 (ja) * | 2007-04-20 | 2014-04-09 | 株式会社神戸製鋼所 | 嵌合型コネクタ用端子の製造方法 |
JP5025387B2 (ja) | 2007-08-24 | 2012-09-12 | 株式会社神戸製鋼所 | 接続部品用導電材料及びその製造方法 |
JP5419594B2 (ja) * | 2009-08-24 | 2014-02-19 | 株式会社神戸製鋼所 | アルミニウム製導電部材との接続に用いられる接続部品用錫めっき付銅又は銅合金材料 |
JP6103811B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2017-03-29 | 株式会社神戸製鋼所 | 接続部品用導電材料 |
JP5975903B2 (ja) * | 2013-02-21 | 2016-08-23 | 株式会社神戸製鋼所 | 嵌合型コネクタ用端子 |
US9748683B2 (en) * | 2013-03-29 | 2017-08-29 | Kobe Steel, Ltd. | Electroconductive material superior in resistance to fretting corrosion for connection component |
KR102113989B1 (ko) | 2014-08-25 | 2020-05-22 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 내미세접동마모성이 우수한 접속 부품용 도전 재료 |
-
2015
- 2015-12-24 JP JP2015252617A patent/JP6113822B1/ja active Active
-
2016
- 2016-06-21 US US16/064,724 patent/US10597792B2/en active Active
- 2016-12-21 WO PCT/JP2016/088071 patent/WO2017110859A1/ja active Application Filing
- 2016-12-21 EP EP16878746.3A patent/EP3396027A4/en not_active Withdrawn
- 2016-12-21 CN CN201680072203.9A patent/CN108368630B/zh active Active
- 2016-12-21 KR KR1020187017321A patent/KR102156016B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108368630A (zh) | 2018-08-03 |
US20180371633A1 (en) | 2018-12-27 |
EP3396027A4 (en) | 2019-05-15 |
CN108368630B (zh) | 2020-07-14 |
US10597792B2 (en) | 2020-03-24 |
EP3396027A1 (en) | 2018-10-31 |
KR20180084118A (ko) | 2018-07-24 |
JP2017115210A (ja) | 2017-06-29 |
KR102156016B1 (ko) | 2020-09-15 |
WO2017110859A1 (ja) | 2017-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4024244B2 (ja) | 接続部品用導電材料及びその製造方法 | |
JP5464792B2 (ja) | 嵌合型コネクタ用端子の製造方法 | |
JP4771970B2 (ja) | 接続部品用導電材料 | |
KR101162849B1 (ko) | 내열성이 우수한 Sn 도금 구리 또는 구리 합금 및 그 제조 방법 | |
JP3926355B2 (ja) | 接続部品用導電材料及びその製造方法 | |
US7820303B2 (en) | Conductive material for connecting part and method for manufacturing the conductive material | |
JP5005420B2 (ja) | 嵌合型コネクタ用端子及びその製造方法 | |
JP4503620B2 (ja) | 接続部品用導電材料及びその製造方法 | |
JP6113822B1 (ja) | 接続部品用導電材料 | |
KR102355331B1 (ko) | 주석 도금 구리 합금 단자재 및 그 제조 방법 | |
JP5419594B2 (ja) | アルミニウム製導電部材との接続に用いられる接続部品用錫めっき付銅又は銅合金材料 | |
JP2009108389A (ja) | 電子部品用Snめっき材 | |
JP5522300B1 (ja) | 挿抜性に優れた錫めっき銅合金端子材及びその製造方法 | |
JP2014208904A (ja) | 耐摩耗性に優れる接続部品用導電材料 | |
JP5260620B2 (ja) | Pcb端子及びその製造方法 | |
JP5394963B2 (ja) | 接続用部品用銅合金及び導電材料 | |
JP5975903B2 (ja) | 嵌合型コネクタ用端子 | |
JP5419737B2 (ja) | 嵌合型端子用錫めっき付き銅合金板材及びその製造方法 | |
JP6000392B1 (ja) | 接続部品用導電材料 | |
JP2017082307A (ja) | 表面被覆層付き銅又は銅合金板条 | |
JP2024031059A (ja) | 導電材料およびその製造方法 | |
JP2009249716A (ja) | 錫めっき銅合金材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170314 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170315 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6113822 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |