JP6613102B2 - ポリオキシメチレン樹脂組成物 - Google Patents
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Description
近年、各種部品の軽量化が急速に進んでおり、材質も金属から樹脂への代替が進んでいる。その一例として、デジタルカメラ等のデジタル光学機器のシャッター部品の樹脂化を挙げる事ができる。このシャッター部品に要求される特性としては、遮光性が挙げられる。
また、そのようなポリオキシメチレン樹脂組成物のストランドをペレタイズすると、切粉が増えて作業環境を汚染するという問題がある。
また、特許文献3には、可溶性多糖類をポリオキシメチレン樹脂に添加する方法により、優れた溶融加工性および熱安定性を示す技術が紹介されている。
そこで、本発明の目的は、遮光性に優れ、且つ加工性に優れるポリオキシメチレン樹脂組成物を提供する事である。
すなわち本発明は、以下の通りである。
[1]
ポリオキシメチレン樹脂(A)100質量部、水に不溶な多糖類(B)0.01〜5質量部、及び顔料(C)0.01〜5質量部を含むポリオキシメチレン樹脂組成物。
[2]
前記水に不溶な多糖類(B)が下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である、[1]に記載のポリオキシメチレン樹脂組成物。
[3]
前記顔料(C)が平均粒子径1nm〜50nmのカーボンブラックである、[1]又は[2]に記載のポリオキシメチレン樹脂組成物。
[4]
厚み0.25mmの成形品の光透過率が1%以下である、[1]〜[3]のいずれかに記載のポリオキシメチレン樹脂組成物。
[5]
直径2.5±0.5mm、長さ2.8±0.5mmのペレットを製造し、該ペレット1kgを40メッシュの篩(目開き:0.425mm)を用いて1分間篩った際の切粉発生量が0.005質量%以下である、[1]〜[4]のいずれかに記載のポリオキシメチレン樹脂組成物。
[6]
[1]〜[5]のいずれかに記載のポリオキシメチレン樹脂組成物を含む成形体。
<ポリオキシメチレン樹脂組成物>
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、ポリオキシメチレン樹脂(A)と水に不溶な多糖類(B)と顔料(C)とを含むポリオキシメチレン樹脂組成物である。
本実施形態に用いるポリオキシメチレン樹脂(A)は、ポリオキシメチレンホモポリマー又はポリオキシメチレンコポリマーである。
ポリオキシメチレンホモポリマーはオキシメチレン基を主鎖に有し、重合体の両末端がエステル基又はエーテル基により封鎖された構造を有する。これは、ホルムアルデヒド及び公知の分子量調節剤を原料とし、公知のオニウム塩系重合触媒を用いて炭化水素等を溶媒として、公知のスラリー法、例えば特公昭47−6420号公報や特公昭47−10059号公報に記載の重合方法で得ることが出来る。
トリオキサン、環状エーテル及び環状ホルマールは、高度に精製されていることが好ましい。水、メタノール、ギ酸等のポリマー末端基に水酸基を誘導する不純物の含有量は、全モノマー量に対して、好ましくは30質量ppm以下、より好ましくは10質量ppm以下、更に好ましくは3質量ppm以下である。
これら環状エーテル及び/又は環状ホルマールの添加量は、トリオキサン1molに対して、好ましくは、0.05〜20mol%であり、より好ましくは、0.05〜10mol%であり、更に好ましくは、0.05〜5mol%の範囲である。環状エーテル及び/又は環状ホルマールの挿入量が上記範囲内であれば、ポリオキシメチレンコポリマー自身の結晶化度が高く、成形品とした時の剛性も高くなる傾向にある。
水に不溶な多糖類(B)は下記一般式(1)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
なお、ポリオキシメチレン樹脂からはホルムアルデヒドが発生することが多い。アミノ基やアセトアミド基はホルムアルデヒドと反応しうる。本実施形態においては、式(1)においてアミノ基やアセトアミド基の一部がホルムアルデヒドと反応した状態であっても構わない。
水に不溶な多糖類(B)の同定は、1H NMR及び13C NMRを用いて行うことができる。
本実施形態で用いる顔料(C)としてはカーボンブラックが好ましい。カーボンブラックとしては、ポリオキシメチレン樹脂を黒色に着色できるものであれば、ファーネス系、チャンネル系、アセチレン系、サーマル系の何れでも構わない。これらの中でもファーネス系が、着色用として汎用である事、且つ粒子径のコントロールがし易いといった点で好ましい。
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物において、顔料(C)の含有量は、遮光性、加工性の観点から、ポリオキシメチレン樹脂(A)100質量部に対して、0.01質量部〜5質量部であり、好ましくは0.1質量部〜3.0質量部であり、さらに好ましくは0.5質量部〜1.0質量部である。
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、従来のポリオキシメチレン樹脂に使用されている添加剤、例えば熱安定剤、耐候(光)安定剤、離型剤等を単独、又はこれらを組み合わせて含有させることが出来る。
n−オクタデシル−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、
n−オクタデシル−3−(3′−メチル−5−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、
n−テトラデシル−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、
1,6−ヘキサンジオール−ビス−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート)、
1,4−ブタンジオール−ビス−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート)、
トリエチレングリコール−ビス−(3− (3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート)、
テトラキス−(メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネートメタン、
3,9−ビス(2−(3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ)−1,1−ジメチルエチル)2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン、
N,N′−ビス−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノール)プリピオニルヘキサメチレンジアミン、
N,N′−テトラメチレンビス−3−(3′−メチル−5′−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノール)プロピオニルジアミン、
N,N′−ビス−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ ドロキシフェノール)プロピオニル)ヒドラジン、
N−サリチロイル−N′−サリチリデンヒドラジン、
3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−トリアゾール、
N,N′−ビス(2−(3−(3,5−ジ−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル)オキシアミド等が挙げられる。
これらヒンダードフェノール系酸化防止剤のなかでもトリエチレングリコールービス−(3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート)、テトラキス−(メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネートメタンが好ましい。
(イ)ホルムアルデヒド反応性窒素を含む化合物としては、特に限定されないが、例えば、(1)ジシアンジアミド、(2)アミノ置換トリアジン、(3)アミノ置換トリアジンとホルムアルデヒドとの共縮合物等が挙げられる。
(2)アミノ置換トリアジンとしては、特に限定されないが、例えば、
グアナミン(2,4−ジアミノ−sym−トリアジン)、
メラミン(2,4,6−トリアミノ−sym−トリアジン)、
N−ブチルメラミン、
N−フェニルメラミン、
N,N−ジフェニルメラミン、
N,N−ジアリルメラミン、
N,N′,N″−トリフェニルメラミン、
N−メチロールメラミン、
N,N′−ジメチロールメラミン、
N,N′,N″−トリメチロールメラミン、
ベンゾグアナミン(2,4−ジアミノ−6−フェニル−sym−トリアジン)、
2,4−ジアミノ−6−メチル−sym−トリアジン、
2,4−ジアミノ−6−ブチル−sym−トリアジン、
2,4−ジアミノ−6−ベンジルオキシ−sym−トリアジン、
2,4−ジアミノ−6−ブトキシ−sym−トリアジン、
2,4−ジアミノ−6−シクロヘキシル−sym−トリアジン、
2,4−ジアミノ−6−クロロ−sym−トリアジン、
2,4−ジアミノ−6−メルカプト−sym−トリアジン、
2,4−ジオキシ−6−アミノ−sym−トリアジン(アメライト)、
2−オキシ−4,6−ジアミノ−sym−トリアジン(アメリン)、
N,N′,N′−テトラシアノエチルベンゾグアナミン 等が挙げられる。
(3)アミノ置換トリアジンとホルムアルデヒドとの共縮合物としては、特に限定されないが、例えば、メラミン−ホルムアルデヒド重縮合物等が挙げられる。
これらの中で、ジシアンジアミド、メラミン及びメラミン−ホルムアルデヒド重縮合物が好ましい。
(1)のポリアミド樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ナイロン4−6、ナイロン6、ナイロン6−6、ナイロン6−10、ナイロン6−12、ナイロン12等及びこれらの共重合物、例えば、ナイロン6/6−6、ナイロン6/6−6/6−10、ナイロン6/6−12等が挙げられる。
(2)アクリルアミド及びその誘導体又はアクリルアミドおよびその誘導体と他のビニルモノマーとを金属アルコラートの存在下で重合して得られる重合体としては、特に限定されないが、例えば、ポリ−β−アラニン共重合体が挙げられる。これらのポリマーは、特に限定されないが、例えば、特公平6−12259号公報、特公平5−87096号公報、特公平5−47568号公報及び特開平3−234729号公報の各公報記載の方法で製造することができる。(3)アクリルアミド及びその誘導体又はアクリルアミド及びその誘導体と他のビニルモノマーとをラジカル重合の存在下で重合して得られる重合体は、特に限定されないが、例えば、特開平3−28260号公報記載の方法で製造することが出来る。
(イ)ベンゾトリアゾール系物質としては、特に限定されないが、例えば
2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチル−フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−[2′−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブ チル−フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−[2′−ヒドロキシ−3,5−ジ−イソアミル−フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−[2′−ヒドロキシ−3,5−ビス−(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、
2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられ、好ましくは2−[2′−ヒドロキシ−3,5−ビス−(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−3,5−ジ −t−ブチル−フェニル)ベンゾトリアゾールである。
2−エトキシ−2′−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、
2−エトキシ−5−t−ブチル−2′−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、
2−エトキシ−3′−ドデシルオキザリックアシッドビスアニリド等が挙げられる。これらの物質はそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
4−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4−アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4−(フェニルアセトキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4−ステアリルオキシ−2,2, 6,6−テトラメチルピペリジン、
4−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4 −ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4−フェノキシ−2,2,6,6−テトラメチ ルピペリジン、
4−(エチルカルバモイルオキシ)− 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4−(シクロヘキシルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
4−(フェニルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジン)−カーボネート、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−オキサレート、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−マロネート、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−セバケート、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アジペート、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−テレフタレート、
1,2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)−エタン、
α,α′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)−p−キシレン、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)トリレン−2,4−ジカルバメート、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレン−1,6−ジカルバメート、
トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート、
トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ベンゼン−1,3,4−トリカルボキシレート等が挙げられ、好ましくはビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−セバケートである。上記ヒンダードアミン系物質はそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また上記ベンゾトリアゾール系物質、シュウ酸アニリド系物質とヒンダードアミン系物質との組合せが特に好ましい。
アルコールとしては1価アルコール、多価アルコールがあり、例えば1価アルコールの例としては、特に限定されないが、例えば、オクチルアルコール、カプリルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、ベンタデシルアルコール、セチルアルコール、ヘブタデシルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、ノナデシルアルコール、エイコシルアルコール、ペヘニルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコール、2−ヘキシルデカノール、2−オクチルドデカノール、2−デシルテトラデカノール、ユニリンアルコールが挙げられる。多価アルコールとしては、2〜6個の炭素原子を含有する多価アルコールであり、特に限定されないが、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコールジプロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、トレイトール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、アラビトール、リビトール、キシリトール、ソルバイト、ソルビタン、ソルビトール、マンニトールが挙げられる。
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、上述の各成分を一般的に使用されている溶融混練機を用いて溶融混練することで製造される。溶融混練機としては特に限定されないが、例えば、ニーダー、ロールミル、単軸押出機、二軸押出機、多軸押出機が挙げられる。溶融混練時の加工温度は180〜240℃であることが好ましい。品質や作業環境の保持のために、不活性ガスによる置換や、一段及び多段ベントで脱気することが好ましい。
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、厚みが0.25mmである成形品の光透過率が1%以下であることが好ましい。より好ましくは前記光透過率が0.5%以下である。前記光透過率の下限は特に限定されないが、例えば、0.05%である。前記光透過率が前記範囲のポリオキシメチレン樹脂組成物を得る方法としては、例えば、上述した各成分(A)〜(C)を特定の割合で配合して溶融混練する方法が挙げられる。
成形品の製造や光透過率の測定は、後述の実施例に記載の方法で行うことができる。
なお、厚みが0.25mmではない成形品の光透過率を測定する場合は、プレス成形により0.25mmの厚みの成形品として測定することができる。
本実施形態のポリオキシメチレン樹脂組成物は、直径2.5±0.5mm、長さ2.8±0.5mmのペレットを製造し、該ペレット1kgを40メッシュの篩(目開き:0.425mm)を用いて1分間篩った際の切粉発生量が0.005質量%以下であることが好ましく、0.004質量%以下であることがより好ましく、0.002質量%以下であることが更に好ましい。前記切粉発生量の下限は特に限定されないが、例えば、0.0005質量%である。前記切粉発生量が前記範囲のポリオキシメチレン樹脂組成物を得る方法としては、例えば、上述した各成分(A)〜(C)を特定の割合で配合して溶融混練する方法が挙げられる。
切粉発生量の測定は、後述の実施例に記載の方法で行うことができる。
本実施形態の成形体は、上述のポリオキシメチレン樹脂組成物を含む。
本実施形態の成形体は、デジタル機器機構部品に用いることができる。これらの中でも、遮光性の高いレベルが要求されるデジタル機器機構部品に最適に用いることができる。デジタル機器機構部品としては、特に限定されないが、例えば通信機器、映像機器等に使用される機構部品であり、具体的にはシャッター、絞り、レンズ保持枠、レンズ移動枠、レンズカバー、内部フレーム、ギヤ、ギヤボックス等を挙げることができる。これらの中でもシャッター、絞り等に好適に使用することができる。
[(A)ポリオキシメチレン樹脂]
A−1:ポリオキシメチレンコポリマー
MFR=10g/10min(旭化成ケミカルズ(株)製、Tenac(登録商標)−C 4520)
A−2:ポリオキシメチレンホモポリマー
MFR=22g/10min(旭化成ケミカルズ(株)製、Tenac(登録商標)−H 5010)
なお、MFRは、ASTM−D1238に準拠して測定した。
B−1:(株)応化製キトサンTIP:上記(1)において、R=アミノ基、n=590である水に不溶な多糖類
B−2:(株)応化製キトサンTCP:上記(1)において、R=アミノ基、n=620である水に不溶な多糖類
B−3:(株)応化製キチンCIP:上記(1)において、R=アセトアミド基、n=620である水に不溶な多糖類
B−4:第一工業製薬(株)製セロゲン(登録商標)7A
C−1:平均粒子径8nmのカーボンブラック(ファーネス系) 三菱化学(株)製
C−2:平均粒子径50nmのカーボンブラック(ファーネス系) 三菱化学(株)製
1)遮光性の測定
射出成形機(東芝(株)製、IS100GN)を用いて、シリンダー温度200℃、金型温度110℃、射出時間60秒、冷却時間30秒で、後述する実施例及び比較例で得られたポリオキシメチレン樹脂組成物ペレットを成形し、厚み0.25mmの50mm×50mmの薄肉片を得た。
得られた薄肉片について、日本電色工業(株)製、COLORandCOLOR DIFFERENCE METER MODEL 1001DPを用いて、JIS−Z8722に従い、0°リード法、C光源2°にて、全透過率を測定した。
全透過率の値の小さい方が遮光性に優れる。厚みは、マイクロメータを用いて測定した。
後述する実施例及び比較例で得られたポリオキシメチレン樹脂組成物ペレット1kgを、40メッシュの篩い(目開き:0.425mm)を用いて1分間篩って落下した切粉の量を測定し、下記方法により切粉発生量(質量%)を求めた。
切粉発生量(質量%)=切粉量(kg)/ポリオキシメチレン樹脂組成物1kg×100
切粉発生量の少ない方が、加工性が良好であると判断した。
ポリオキシメチレン樹脂(A−1)とキトサンTIP(B−1)と平均粒子径8nmのカーボンブラック(C−1)とを表1に示す割合(質量部)でヘンシェルミキサーに仕込み、窒素ガスを流しながら5分間混合し混合物を得た。その後、200℃に設定した30φ、L/D=24の単軸押出し機を用いて窒素ガスを流しながら前記混合物を溶融混練してストランドを得た。得られたストランドをウォーターバスにて60℃〜80℃に冷却し、サイレントカッターSCF−50型(いすず化工機(株)製)を用いて、直径2.5±0.5mm、長さ2.8±0.5mmとなる様にペレタイズしてポリオキシメチレン樹脂組成物ペレットを得た。以降、得られたポリオキシメチレン樹脂組成物ペレットについて表1に記載の評価を行った。評価結果を表1に示す。
表1に示す組成に変更した以外は、実施例1と同じ操作を行った。評価結果を、表1に示す。
表1に示す組成に変更した以外は、実施例1と同じ操作を行った。評価結果を、表1に示す。
Claims (4)
- 厚み0.25mmの成形品の光透過率が1%以下である、請求項1に記載のポリオキシメチレン樹脂組成物。
- 直径2.5±0.5mm、長さ2.8±0.5mmのペレットを製造し、該ペレット1kgを40メッシュの篩(目開き:0.425mm)を用いて1分間篩った際の切粉発生量が0.005質量%以下である、請求項1又は2に記載のポリオキシメチレン樹脂組成物。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載のポリオキシメチレン樹脂組成物を含む成形体。
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