JP6571929B2 - 高圧ガス容器の洗浄方法、および高圧ガス容器 - Google Patents
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Description
高圧ガス容器を65℃に保ち、前処理として、窒素(純度99.999vol.%)を導入して0.1MPaGまで昇圧し、減圧度0.1kPa(絶対圧)まで減圧排気する真空窒素置換を4回行った。その後、高純度塩化水素ガス(純度99.999vol.%)を0.4MPaGまで導入して室温(25℃)にしたのち、容器から取り出した塩化水素ガス中の水分濃度を測定すると30vol.ppmであった。また、上記前処理の後、前処理と同様の昇圧・減圧条件の真空窒素置換を30回行い、その後、高純度塩化水素ガス(純度99.999vol.%)を0.4MPaGまで導入して室温(25℃)にしたのち、容器から取り出した塩化水素ガス中の水分濃度を測定すると29vol.ppmであった。この結果から、窒素による加温減圧置換では、高圧ガス容器内の水分を十分に除去することはできないといえる。
比較例1と同様の前処理(真空窒素置換を4回)を行った後、高圧ガス容器を50℃に保温し、高純度塩化水素ガス(純度99.999vol.%)を導入して0.15MPaGまで昇圧し、減圧度10kPaまで減圧排気する塩化水素ガス真空置換を30回行った。その後、高純度塩化水素ガスを0.4MPaGまで導入し、容器から取り出した塩化水素ガス中の水分濃度を室温(25℃)で測定すると1.0vol.ppm以下であった。なお、塩化水素ガス真空置換5回目時の塩化水素中の水分濃度は20vol.ppmであった。同様に15回目時の塩化水素中の水分濃度は4vol.ppmであった。洗浄に用いた高純度塩化水素は約3600L(標準状態換算)であった。参考として、47Lの容器に液化塩化水素を液充填して洗浄する際に、安全上充填できる液化塩化水素量は約25kg(標準状態のガス換算で約15500L)であり、本実施例での洗浄を用いることで、はるかに洗浄用ガスの使用量が少なくて済むことがわかる。
比較例1と同様の前処理(真空窒素置換を4回)を行った後、高圧ガス容器を50℃に保温し、高純度塩化水素ガス(純度99.999vol.%)を導入して0.15MPaGまで昇圧し、減圧度10kPa(絶対圧)まで減圧排気する塩化水素ガス真空置換を10回行った。その後、高純度塩化水素ガスを導入して0.3MPaGまで昇圧し、65時間静置させた。その後、10kPa(絶対圧)まで減圧排気したのち、高純度塩化水素ガスを導入して0.15MPaGまで昇圧し、減圧度10kPa(絶対圧)で減圧排気する塩化水素ガス真空置換を15回行った。その後、高純度塩化水素ガスを0.4MPaGまで導入し、容器から取り出した塩化水素ガス中の水分濃度を室温(25℃)で測定すると1.0vol.ppm以下であった。なお、65時間静置後直後の分析では水分濃度は20vol.ppmであり、実施例1の塩化水素減圧置換15回目時よりも濃い水分濃度となり、加圧状態で静置することによる洗浄効果がみられた。洗浄に用いた高純度塩化水素は約3000L(標準状態換算)であった。
比較例1と同様の前処理(真空窒素置換を4回)を行った後、高圧ガス容器を50℃に保温し、高純度塩化水素ガス(純度99.999vol.%)を導入して0.50MPaGまで昇圧し、0.05MPaG(大気圧程度)まで排気する置換を50回行った。その後、高純度塩化水素ガスを0.5MPaGまで導入し、容器から取り出した塩化水素ガス中の水分濃度を室温(25℃)で測定すると5vol.ppmであった。洗浄に用いた高純度塩化水素は約12000L(標準状態換算)であった。
比較例1と同様の前処理(真空窒素置換を4回)を行った後、高圧ガス容器を50℃に保温し、高純度塩化水素ガス(純度99.999vol.%)を導入して0.0MPaGとし、減圧度10kPa(絶対圧)まで減圧排気する塩化水素ガス真空置換を1回行った。その後、高純度塩化水素ガスを導入して0.4MPaGまで昇圧し、24時間静置させた。その後、10kPa(絶対圧)まで減圧排気したのち、高純度塩化水素ガスを導入して0.4MPaGまで昇圧し、減圧度10kPa(絶対圧)で減圧排気する塩化水素ガス真空置換を1回行った。その後、高純度塩化水素ガスを0.4MPaGまで導入し、容器から取り出した塩化水素ガス中の水分濃度を室温(25℃)で測定すると2.0vol.ppmであった。なお、24時間静置後直後の分析では、水分濃度は40vol.ppmであった。このことから、24時間の加温静置により、容器内の水分を十分に湧き出せたと考えられる。洗浄に用いた高純度塩化水素は約600L(標準状態換算)であった。
比較例1と同様の前処理(真空窒素置換を4回)を行った後、高圧ガス容器を45℃に保温し、高純度アンモニアガス(純度99.999vol.%)を導入して0.10MPaGまで昇圧し、減圧度0.1kPa(絶対圧)まで減圧排気するアンモニアガス真空置換を20回行った。その後、高純度アンモニアガスを0.4MPaGまで導入して室温(25℃)にしたのち、容器から取り出したアンモニアガス中の水分濃度を室温で測定すると1.0vol.ppm以下であった。洗浄に用いた高純度アンモニアは約2000L(標準状態換算)であった。
比較例1と同様の前処理(真空窒素置換を4回)を行った後、高圧ガス容器を50℃に保温し、高純度塩化水素ガス(純度99.999vol.%)を導入して0.15MPaGまで昇圧し、減圧度10kPaまで減圧排気する塩化水素ガス真空置換を30回行った。その後、高純度塩化水素ガスを0.4MPaGまで導入し、容器から取り出した塩化水素ガス中の水分濃度を室温(25℃)で測定すると1.0vol.ppm以下であった。その後、高純度塩化水素ガスを導入して0.3MPaGまで昇圧し、65時間静置させた後、容器から取り出した塩化水素ガス中の水分濃度を室温(25℃)で測定すると1.0vol.ppm以下であった。加圧状態で静置させる前(塩化水素ガス真空置換30回実施後)と加圧状態で静置させた後とで、容器から取り出した塩化水素ガス中の水分濃度に変化がなかった。これにより、塩化水素ガス真空置換を30回行った後、容器内の水分が十分に除去できていることがわかる。
1 高圧ガス容器
11 容器本体
12 容器弁
121 ハンドル
122 接続部
123 可溶栓
2 塩化水素ガス供給源
3 液化塩化水素供給源
4 配管
41〜46 部分管路
51〜54 開閉弁
61 流量調整器
62 圧力計
63 減圧弁
64 ポンプ
7 分析装置
Claims (7)
- 高圧ガス容器に親水性を有するガスを導入するガス導入工程と、上記高圧ガス容器内のガスを排気する排気工程と、を繰り返し行う、高圧ガス容器の洗浄方法。
- 上記ガス導入工程における上記高圧ガス容器の内部の最高圧力が0.1MPaG以上である、請求項1に記載の高圧ガス容器の洗浄方法。
- 上記排気工程における上記高圧ガス容器の内部の最低圧力が大気圧以下である、請求項1または2に記載の高圧ガス容器の洗浄方法。
- 上記高圧ガス容器は、所定の作動温度以上で溶融する可溶栓を有し、
上記ガス導入工程および上記排気工程において、上記高圧ガス容器の温度は、30℃以上かつ上記作動温度未満に維持される、請求項1ないし3のいずれかに記載の高圧ガス容器の洗浄方法。 - 上記高圧ガス容器に導入される、上記親水性を有するガスの純度は、99.99vol.%以上である、請求項1ないし4のいずれかに記載の高圧ガス容器の洗浄方法。
- 上記親水性を有するガスは、塩化水素、臭化水素、塩素、二酸化硫黄、およびアンモニアからなる群より選択されるいずれか1種のガスである、請求項1ないし5のいずれかに記載の高圧ガス容器の洗浄方法。
- 請求項1ないし6のいずれかに記載の高圧ガス容器の洗浄方法によって洗浄処理を行った、高圧ガス容器。
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