JP6520789B2 - R−Fe−B系焼結磁石及びその製造方法 - Google Patents
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Description
このような点から、従来、種々の手法が提案されている。
特許文献5には、アルゴン雰囲気中で400〜800℃にて焼結後熱処理を行うことが記載されているが、冷却速度の記載はなく、その組織についての記載からみると、R−Fe(Co)−M1相が主相を被覆するコア/シェル構造を有さないものである。特許文献6は、焼結後熱処理後の冷却速度が100℃/分以上、特に300℃/分以上が好ましいとされ、得られる焼結磁石は結晶R6T13M1相とアモルファスもしくは微結晶のR−Cu相で構成される。本発明における焼結磁石中のR−Fe(Co)−M1相はアモルファスもしくは微結晶質である。
特許文献7は、Nd2Fe14B主相、二粒子粒界、及び粒界三重点を含む磁石を提供し、更に二粒子粒界の厚さが5〜30nmの範囲である。しかし、二粒子粒界相の厚さが小さいため、十分な保磁力を達成しない。特許文献8も、その実施例に記載された焼結磁石の製造方法が特許文献7の磁石の製造方法と実質的に同じであるから、同様に二粒子粒界相の厚み(相幅)が小さいものであることを示唆する。
〔1〕
12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも2種以上で、かつNd及びPrを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,Wから選ばれる1種以上の元素)、4.8+2×m〜5.9+2×m原子%(mはM2の原子%)のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下の炭素、1.5原子%以下の酸素、0.5原子%以下の窒素、及び残部Feの組成を有し、R2(Fe,(Co))14B金属間化合物を主相として、室温で少なくとも10kOe以上の保磁力を有するR−Fe−B系焼結磁石であって、粒界三重点にM2ホウ化物相を含み、かつR1.1Fe4B4化合物相を含まず、更に25〜35原子%のR(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも2種以上で、かつNd及びPrを必須とする)、2〜8原子%のM1、8原子%以下のCo、残部Feからなるアモルファス及び/又は10nm以下の微結晶質のR−Fe(Co)−M1相、又は該R−Fe(Co)−M1相とRが50原子%以上の結晶質もしくは10nm以下の微結晶質及びアモルファスのR−M1相とからなる粒界相によって前記主相を被覆されたコア/シェル構造を有し、前記R−Fe(Co)−M1相の前記主相に対する表面積被覆率が50%以上であると共に、前記主相二粒子に挟まれた前記粒界相の相幅が10nm以上で、平均で50nm以上であり、かつ焼結後の磁石の平均結晶粒径が6μm以下で、結晶配向度が98%以上であり、640kA/mの磁場を印加した時のPc=1における磁気分極をI_a_Pcとし、1590kA/mの磁場を印加した時のPc=1における磁気分極をI_f_Pcとした場合の磁気分極の割合(I_a_Pc)/(I_f_Pc)で定義される着磁率が96%以上であることを特徴とするR−Fe−B系焼結磁石。
〔2〕
前記R−Fe(Co)−M1相におけるM1として、SiがM1中0.5〜50原子%を占め、M1の残部がAl,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素であることを特徴とする〔1〕に記載のR−Fe−B系焼結磁石。
〔3〕
前記R−Fe(Co)−M1相におけるM1として、GaがM1中1.0〜80原子%を占め、M1の残部がSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素であることを特徴とする〔1〕に記載のR−Fe−B系焼結磁石。
〔4〕
前記R−Fe(Co)−M1相におけるM1として、AlがM1中0.5〜50原子%を占め、M1の残部がSi,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素であることを特徴とする〔1〕に記載のR−Fe−B系焼結磁石。
〔5〕
Dy,Tb,Hoの合計含有量が0〜5.0原子%であることを特徴とする〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石。
〔6〕
12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも2種以上で、かつNd及びPrを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,Wから選ばれる1種以上の元素)、4.8+2×m〜5.9+2×m原子%(mはM2の原子%)のB、10原子%以下のCo、及び残部Feの組成を有する微粉砕された平均微粉粒径10μm以下の焼結磁石用合金粉末を成形し、得られた圧粉成形体を1000〜1150℃の温度で焼結後、焼結体を400℃以下の温度まで冷却し、次に焼結体を700〜1100℃の範囲であって、R−Fe(Co)−M1相の包晶温度以上に加熱し、次いで400℃以下まで5〜100℃/分の速度で冷却する焼結後熱処理工程と、この焼結後熱処理工程後に400〜600℃の範囲のR−Fe(Co)−M1相の包晶温度以下の温度に保持してR−Fe(Co)−M1相を粒界に形成させ、次いで200℃以下まで冷却する時効処理工程を行うことを特徴とする〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石の製造方法。
〔7〕
12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも2種以上で、かつNd及びPrを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,Wから選ばれる1種以上の元素)、4.8+2×m〜5.9+2×m原子%(mはM2の原子%)のB、10原子%以下のCo、及び残部Feの組成を有する微粉砕された平均微粉粒径10μm以下の焼結磁石用合金粉末を成形し、得られた圧粉成形体を1000〜1150℃の温度で焼結後、焼結体を400℃以下の温度まで5〜100℃/分の速度で冷却し、次に焼結体を400〜600℃の範囲のR−Fe(Co)−M1相の包晶温度以下の温度に保持してR−Fe(Co)−M1相を粒界に形成させ、次いで200℃以下まで冷却する時効処理工程を行うことを特徴とする〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載のR−Fe−B系焼結磁石の製造方法。
〔8〕
前記焼結磁石用合金がDy,Tb,Hoを合計で0〜5.0原子%含有するものである〔6〕又は〔7〕に記載のR−Fe−B系焼結磁石の製造方法。
まず、本発明の磁石組成について説明すると、原子百分率で12〜17原子%のR、好ましくは13〜16原子%のR、0.1〜3原子%のM1、好ましくは0.5〜2.5原子%のM1、0.05〜0.5原子%のM2、4.8+2×m〜5.9+2×m原子%(mはM2の原子%)のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下の炭素、1.5原子%以下の酸素、0.5原子%以下の窒素、及び残部Feからなる組成を有する。
焼結体の平均結晶粒径の制御は、微粉砕時の焼結磁石合金微粉末の平均粒度を下げることで行う。
この場合、上記主相には、上記元素以外の他元素の固溶はないほうが好ましい。また、R−M1相は共存してもよい。なお、R2(Fe,(Co))17相の析出は確認されていない。また、磁石は、粒界三重点にM2ホウ化物相を含み、かつR1.1Fe4B4化合物相を含まない。また、R−リッチ相及びR酸化物、R炭化物、R窒化物、Rハロゲン化物、R酸ハロゲン化物等の製造工程上で混入する不可避元素からなる相を含んでもよい。
これらの元素は前述の金属間化合物(例えば、R6Fe13Ga1やR6Fe13Si1など)を安定的に形成し、かつM1サイトを相互に置換できる。M1サイトの元素を複合化しても磁気特性に顕著な差は認められないが、実用上、磁気特性バラツキの低減による品質の安定化や、高価な元素添加量の低減による低コスト化が図られる。
(結晶配向度,%)=(Σ cosθi)/(主相の測定点数)
母合金は原料金属又は合金を真空又は不活性ガス、好ましくはAr雰囲気中で溶解したのち、平型やブックモールドに鋳込む、又はストリップキャストにより鋳造することで得ることができる。α−Feの初晶が鋳造合金中に残る場合、この合金を真空又はAr雰囲気中で700〜1200℃において1時間以上熱処理して、微細組織を均一化し、α−Fe相を消去することができる。
希土類金属(Nd又はジジム)、電解鉄、Co、その他メタル及び合金を使用し、所定の組成となるように秤量し、アルゴン雰囲気中、高周波誘導炉で溶解し、水冷銅ロール上で溶融合金をストリップキャストすることによって合金薄帯を製造した。得られた合金薄帯の厚さは約0.2〜0.3mmであった。次に、作製した合金薄帯を常温で水素吸蔵処理を行った後、真空中600℃で加熱し、脱水素化を行って合金を粉末化した。得られた粗合金粉末に潤滑剤としてステアリン酸を0.07質量%加えて混合した。次に得られた粗粉末を窒素気流中のジェットミルで微粉砕して平均粒径3μm程度の微粉末を作製した。その後、不活性ガス雰囲気中でこれらの微粉末を成形装置の金型に充填し、15kOeの磁界中で配向させながら、磁界に対して垂直方向に加圧成形した。得られた圧粉成形体を真空中において1050〜1100℃で3時間焼結し、200℃以下まで冷却した。得られた焼結体は、900℃で1時間焼結後熱処理を行い、200℃まで冷却し、引き続き2時間の時効処理を行った。表1に磁石の組成を示す(但し、酸素、窒素、炭素濃度は表2に示す)。表2に900〜200℃までの冷却速度、時効処理温度及び磁気特性を示す。更に、結晶配向度、8kOeの磁場の印加時のPc=1における着磁率と焼結体の平均結晶粒径を表2に示す。また、表3にR−Fe(Co)−M1相の組成を示す。
着磁率(%)=((I_a_Pc)/(I_f_Pc))×100
実施例1で作製した焼結磁石の断面を電子線プローブマイクロアナライザー(EPMA)にて観察したところ、図1に示すようにR2(Fe,(Co))14B主相を被覆する粒界相(R−Fe(Co)−M1相,R−M1相)が観察された。更に、透過型電子顕微鏡(TEM)にて主相を被覆する粒界相を観察したところ、図2(a)に示すように粒界相の厚み(相幅)は約200nmと計測できる。図2(a)におけるa点のEDX並びに回折像から図2(b)に示したように、R3(CoGa)1相とR−Fe(Co)−M1相がアモルファスもしくは微結晶状に存在していることがわかる。また、上記実施例において、焼結時にZrB2相が形成し、粒界三重点に析出した。
図3は比較例2で作製した焼結磁石の断面をEPMAで観察した図である。焼結後熱処理の冷却速度が遅いため、R−Fe(Co)−M1相が二粒子間粒界で不連続かつ粒界三重点に肥大偏析していることがわかる。
希土類金属(Nd又はジジム)、電解鉄、Co、その他メタル及び合金を使用し、実施例1と同様の組成となるように秤量し、アルゴン雰囲気中、高周波誘導炉で溶解し、水冷銅ロール上で溶融合金をストリップキャストすることによって合金薄帯を製造した。得られた合金薄帯の厚さは約0.2〜0.3mmであった。次に、作製した合金薄帯を常温で水素吸蔵処理を行った後、真空中600℃で加熱し、脱水素化を行って合金を粉末化した。得られた粗合金粉末に潤滑剤としてステアリン酸を0.07質量%加えて混合した。次に得られた粗粉末を窒素気流中のジェットミルで微粉砕して平均粒径3μm程度の微粉末を作製した。その後、不活性ガス雰囲気中でこれらの微粉末を成形装置の金型に充填し、15kOeの磁界中で配向させながら、磁界に対して垂直方向に加圧成形した。得られた圧粉成形体を真空中において1080℃で3時間焼結し、200℃以下まで25℃/分で冷却後、引き続き450℃で2時間の時効処理を行った。表4に時効処理温度及び磁気特性、並びに構成相の形態等を示す。また、R−Fe(Co)−M1相の組成は実施例1と同等であった。
Claims (8)
- 12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも2種以上で、かつNd及びPrを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,Wから選ばれる1種以上の元素)、4.8+2×m〜5.9+2×m原子%(mはM2の原子%)のB、10原子%以下のCo、0.5原子%以下の炭素、1.5原子%以下の酸素、0.5原子%以下の窒素、及び残部Feの組成を有し、R2(Fe,(Co))14B金属間化合物を主相として、室温で少なくとも10kOe以上の保磁力を有するR−Fe−B系焼結磁石であって、粒界三重点にM2ホウ化物相を含み、かつR1.1Fe4B4化合物相を含まず、更に25〜35原子%のR(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも2種以上で、かつNd及びPrを必須とする)、2〜8原子%のM1、8原子%以下のCo、残部Feからなるアモルファス及び/又は10nm以下の微結晶質のR−Fe(Co)−M1相、又は該R−Fe(Co)−M1相とRが50原子%以上の結晶質もしくは10nm以下の微結晶質及びアモルファスのR−M1相とからなる粒界相によって前記主相を被覆されたコア/シェル構造を有し、前記R−Fe(Co)−M1相の前記主相に対する表面積被覆率が50%以上であると共に、前記主相二粒子に挟まれた前記粒界相の相幅が10nm以上で、平均で50nm以上であり、かつ焼結後の磁石の平均結晶粒径が6μm以下で、結晶配向度が98%以上であり、640kA/mの磁場を印加した時のPc=1における磁気分極をI_a_Pcとし、1590kA/mの磁場を印加した時のPc=1における磁気分極をI_f_Pcとした場合の磁気分極の割合(I_a_Pc)/(I_f_Pc)で定義される着磁率が96%以上であることを特徴とするR−Fe−B系焼結磁石。
- 前記R−Fe(Co)−M1相におけるM1として、SiがM1中0.5〜50原子%を占め、M1の残部がAl,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素であることを特徴とする請求項1に記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- 前記R−Fe(Co)−M1相におけるM1として、GaがM1中1.0〜80原子%を占め、M1の残部がSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素であることを特徴とする請求項1に記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- 前記R−Fe(Co)−M1相におけるM1として、AlがM1中0.5〜50原子%を占め、M1の残部がSi,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素であることを特徴とする請求項1に記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- Dy,Tb,Hoの合計含有量が0〜5.0原子%であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のR−Fe−B系焼結磁石。
- 12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも2種以上で、かつNd及びPrを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,Wから選ばれる1種以上の元素)、4.8+2×m〜5.9+2×m原子%(mはM2の原子%)のB、10原子%以下のCo、及び残部Feの組成を有する微粉砕された平均微粉粒径10μm以下の焼結磁石用合金粉末を成形し、得られた圧粉成形体を1000〜1150℃の温度で焼結後、焼結体を400℃以下の温度まで冷却し、次に焼結体を700〜1100℃の範囲であって、R−Fe(Co)−M1相の包晶温度以上に加熱し、次いで400℃以下まで5〜100℃/分の速度で冷却する焼結後熱処理工程と、この焼結後熱処理工程後に400〜600℃の範囲のR−Fe(Co)−M1相の包晶温度以下の温度に保持してR−Fe(Co)−M1相を粒界に形成させ、次いで200℃以下まで冷却する時効処理工程を行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のR−Fe−B系焼結磁石の製造方法。
- 12〜17原子%のR(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも2種以上で、かつNd及びPrを必須とする)、0.1〜3原子%のM1(M1はSi,Al,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Pt,Au,Hg,Pb,Biから選ばれる1種以上の元素)、0.05〜0.5原子%のM2(M2はTi,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,Wから選ばれる1種以上の元素)、4.8+2×m〜5.9+2×m原子%(mはM2の原子%)のB、10原子%以下のCo、及び残部Feの組成を有する微粉砕された平均微粉粒径10μm以下の焼結磁石用合金粉末を成形し、得られた圧粉成形体を1000〜1150℃の温度で焼結後、焼結体を400℃以下の温度まで5〜100℃/分の速度で冷却し、次に焼結体を400〜600℃の範囲のR−Fe(Co)−M1相の包晶温度以下の温度に保持してR−Fe(Co)−M1相を粒界に形成させ、次いで200℃以下まで冷却する時効処理工程を行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のR−Fe−B系焼結磁石の製造方法。
- 前記焼結磁石用合金がDy,Tb,Hoを合計で0〜5.0原子%含有するものである請求項6又は7に記載のR−Fe−B系焼結磁石の製造方法。
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