JP6512417B2 - 組成物および樹脂被膜 - Google Patents

Description

本発明は、樹脂被膜の形成に用いられる組成物、液晶表示素子の製造において用いられる液晶配向処理剤、この液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜およびこの液晶配向膜を使用した液晶表示素子に関するものである。

高分子材料など有機材料からなる樹脂被膜は、形成の容易さや絶縁性能などが着目され、電子デバイスにおける層間絶縁膜や保護膜などとして、広く用いられている。なかでも、表示デバイスとして良く知られた液晶表示素子では、有機材料からなる樹脂被膜が液晶配向膜として使用されている。

現在、工業的に利用されている樹脂被膜は、耐久性に優れたポリイミド系の有機膜が用いられている。特に、このポリイミド系の有機膜は、液晶表示素子の液晶配向膜としても用いられている。ポリイミド系の有機膜は、ポリイミド前駆体のポリアミド酸やポリイミドを含む組成物から形成される。すなわち、ポリイミド系の有機膜は、ポリアミド酸やポリイミドを含む組成物を基板に塗布し、焼成プロセスを経て形成される（例えば、特許文献１参照）。

液晶配向膜は、液晶の配向状態を制御する目的で使用されるものである。しかしながら、液晶表示素子の高精細化に伴い、液晶表示素子のコントラスト低下の抑制や残像現象の低減といった観点から、そこに使用される液晶配向膜においても電圧保持率が高いことや、直流電圧を印加した際の蓄積電荷が少ないまたは直流電圧により蓄積した電荷の緩和が速いといった特性が重要となってきた。これに対して、電圧保持率が高く、かつ直流電圧によって発生した残像が消えるまでの時間を短くすることを目的に、ポリアミド酸やそのイミド化重合体などに加えて分子内に１個のカルボン酸基を含有する化合物、分子内に１個のカルボン酸無水物基を含有する化合物および分子内に１個の３級アミノ基を含有する化合物から選ばれる化合物を極少量含有する液晶配向処理剤を使用したもの（例えば、特許文献２参照）が知られている。

特開平０９−２７８７２４公報 特開平０８−７６１２８号公報

近年の液晶表示素子の高性能化に伴い、カーナビゲーションシステムやメーターパネルなどの車載用途、さらには、スマートフォンやタブレッド型パソコンに、液晶表示素子が用いられている。こうした用途では、車内や屋外での視認性を高めるため、バックライトの光量を高くして使用する場合や発熱量の高いバックライトを用いる場合がある。また、スマートフォンやタブレッド型パソコンの用途では、屋外で使用されることが多いため、液晶表示素子に紫外線を含む太陽光などの外光が、多く当たりやすい。

液晶表示素子にバックライト光や紫外線などの光が照射された場合、液晶表示素子中の周辺部材、例えば、カラーフィルターやカラムスペーサーなどの有機部材が分解する可能性がある。それに伴い、電圧保持率特性が低下して液晶表示素子の表示不良である線焼き付きが発生し、液晶表示素子の信頼性が低くなる。

そのため、液晶配向膜としては、液晶表示素子への光の照射により、液晶表示素子の周辺部材が分解しても、電圧保持率が良好な特性であることが求められている。特に、液晶配向膜の下にある有機部材から成る絶縁膜が、光の照射により分解しても、この特性が良好であることが求められている。

また、通常のポリイミド系の重合体から成る組成物は、樹脂被膜の透明性が低く、それに伴い、紫外線などの光が当たることで、樹脂被膜の分解が起こりやすくなる。そのため、樹脂被膜の透明性を高くし、分解を抑制することが必要となる。

そこで本発明は、上記特性を兼ね備えた組成物を提供することを目的とする。すなわち本発明は、樹脂被膜の透明性が高く、紫外線などの光による樹脂被膜の分解を抑制することができる組成物を提供することを目的とする。

また、本発明は、上述の組成物を用いた液晶配向処理剤において、液晶配向膜の下に有機部材からなる絶縁膜がある状態で光を照射しても、電圧保持率に優れる液晶配向膜となる液晶配向処理剤を提供することを目的とする。

さらに本発明は、上述の要求に対応した液晶配向膜を備えた液晶表示素子を提供することを目的とする。

本発明者は、鋭意研究を行った結果、特定構造を有するセルロース系の重合体およびジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体またはポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体を含有する組成物が、上記の目的を達成するために極めて有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は以下の要旨を有するものである。
（１）下記の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有する組成物。

（Ａ）成分：下記の式［１］で示される構造を有する重合体。

（式［１］中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^６は、それぞれ独立して、下記の式［１ａ］〜式［１ｍ］から選ばれる構造の基を示し、ｎは１００〜１００００００の整数を示す）。

（式［１ｃ］〜式［１ｍ］中、Ｘ^７、Ｘ^８、Ｘ^９、Ｘ^１０、Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^１３およびＸ^１４は、それぞれ独立して、ベンゼン環、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基またはブチル基を示し、式［１ｈ］中、ｎは０〜３の整数を示し、式［１ｉ］中、ｍは０〜３の整数を示す）。

（Ｂ）成分：ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体及びポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体。

（２）前記（Ｂ）成分の重合体におけるジアミン成分が、下記の式［２ａ］で示される構造を有するジアミン化合物を含むことを特徴とする上記（１）に記載の組成物。

（式［２ａ］中、ａは０〜４の整数を示す）。

（３）前記（Ｂ）成分の重合体におけるジアミン成分が、下記の式［２ａ−１］で示される構造のジアミン化合物を含むことを特徴とする上記（１）に記載の組成物。

（式［２ａ−１］中、ａは０〜４の整数を示し、ｎは１〜４の整数を示す）。

（４）前記（Ｂ）成分の重合体におけるジアミン成分が、下記の式［２ｂ］で示される構造のジアミン化合物から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする上記（１）〜上記（３）のいずれかに記載の組成物。

（式［２ｂ］中、Ｙは下記の式［２ｂ−１］、式［２ｂ−２］、式［２ｂ−３］、式［２ｂ−４］または式［２ｂ−５］から選ばれる構造の置換基を示し、ｍは１〜４の整数を示す）。

（式［２ｂ−１］中、ａは０〜４の整数を示し、式［２ｂ−２］中、Ｙ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｙ^２は単結合または−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示し、Ｙ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｙ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基、またはステロイド骨格を有する炭素数１２〜２５の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、Ｙ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、ｎは０〜４の整数を示し、Ｙ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基または炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示し、式［２ｂ−３］中、Ｙ^７は−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＯ−を示し、Ｙ^８は炭素数８〜２２のアルキル基を示し、式［２ｂ−４］中、Ｙ^９およびＹ^１０はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、式［２ｂ−５］中、Ｙ^１１は炭素数１〜５のアルキル基を示す）。

（５）前記（Ｂ）成分の重合体におけるテトラカルボン酸成分が、下記の式［３］で示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする上記（１）〜上記（４）のいずれかに記載の組成物。

（式［３］中、Ｚ^１は下記の式［３ａ］〜式［３ｊ］から選ばれる構造の基である）。

（式［３ａ］中、Ｚ^２〜Ｚ^５は水素原子、メチル基、塩素原子またはベンゼン環を示し、それぞれ同じであっても異なってもよく、式［３ｇ］中、Ｚ^６およびＺ^７は水素原子またはメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい）。

（６）（Ｃ）成分として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン及びγ−ブチロラクトンから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する上記（１）〜上記（５）のいずれかに記載の組成物。

（７）（Ｄ）成分として、下記の式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する上記（１）〜上記（６）のいずれかに記載の組成物。

（式［Ｄ−１］中、Ｄ^１は炭素数１〜３のアルキル基を示し、式［Ｄ−２］中、Ｄ^２は炭素数１〜３のアルキル基を示し、式［Ｄ−３］中、Ｄ^３は炭素数１〜４のアルキル基を示す）。

（８）（Ｅ）成分として、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテルまたはエチレングリコールモノブチルエーテルから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する上記（１）〜上記（７）のいずれかに記載の組成物。

（９）上記（１）〜上記（８）のいずれかに記載の組成物から得られる樹脂被膜。

（１０）上記（１）〜上記（８）のいずれかに記載の組成物から得られる液晶配向処理剤。

（１１）上記（１０）に記載の液晶配向処理剤を用いて得られる液晶配向膜。

（１２）上記（１０）に記載の液晶配向処理剤を用いて、インクジェット法にて得られる液晶配向膜。

（１３）上記（１１）または上記（１２）に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。

（１４）電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられることを特徴とする上記（１１）または上記（１２）に記載の液晶配向膜。

（１５）上記（１４）に記載の液晶配向膜を有することを特徴とする液晶表示素子。

（１６）電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性基を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられることを特徴とする上記（１１）または上記（１２）に記載の液晶配向膜。

（１７）上記（１６）に記載の液晶配向膜を有することを特徴とする液晶表示素子。

本発明の特定構造を有するセルロース系の重合体およびジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体またはポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体を含有する組成物は、樹脂被膜の透明性が高く、光の照射に伴う樹脂被膜の分解を抑制することができる。

また、本発明の組成物からなる液晶配向処理剤は、液晶配向膜の下に有機部材からなる絶縁膜がある状態で光を照射しても、電圧保持率に優れる液晶配向膜を形成することができる。そのため、これにより得られる液晶配向膜を有する液晶表示素子は、高い信頼性を有することが可能となる。

本発明者は、鋭意研究を行った結果、以下の知見を得て本発明を完成するに至った。

本発明は、下記の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有する組成物、液晶配向処理剤、該組成物を用いて得られる樹脂被膜、該液晶配向処理剤を用いて得られる液晶配向膜、さらには、該液晶配向膜を有する液晶表示素子に関するものである。
（Ａ）成分：下記の式［１］で示される構造を有する重合体（特定セルロース系重合体ともいう）。

（式［１］中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^６は、それぞれ独立して、下記の式［１ａ］〜式［１ｍ］から選ばれる少なくとも１種の構造の基を示し、ｎは１００〜１００００００の整数を示す）。

（式［１ｃ］〜式［１ｍ］中、Ｘ^７、Ｘ^８、Ｘ^９、Ｘ^１０、Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^１３およびＸ^１４は、それぞれ独立して、ベンゼン環、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基またはブチル基を示し、式［１ｈ］中、ｎは０〜３の整数を示し、式［１ｉ］中、ｍは０〜３の整数を示す）。

（Ｂ）成分：ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体またはポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体（特定ポリイミド系重合体ともいう）。

本発明の特定セルロース系重合体は、ポリイミド系の重合体に比べて透明性が高い。そのため、本発明の組成物から得られる樹脂被膜は、通常のポリイミド系の重合体から得られるものに比べて紫外線などの光を吸収しにくく、それに伴い、樹脂被膜の分解が起こりにくくなる。

また、本発明の組成物は、特定セルロース系重合体とともに、耐光性および耐熱性に優れた特定ポリイミド系重合体を含んでいるため、光や熱に対する樹脂被膜の安定性が、より高くなる。

本発明の特定セルロース系重合体は、ＯＨ基（水酸基）やＣＯＯＨ基（カルボン酸基）を多く有しているため、金属や低分子量の有機化合物などのイオン性不純物をトラップすることができる。そのため、本発明の液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜は、液晶配向膜の下に有機部材からなる絶縁膜がある状態で光を照射しても、電圧保持率に優れる液晶配向膜となる。

加えて、本発明の液晶配向処理剤は、特定ポリイミド系重合体を含んでいるため、上述した電圧保持率の特性とともに、液晶を配向させる能力（液晶配向性ともいう）やプレチルト角を付与させる特性に関しても優れた液晶配向膜を形成することができる。

以上の点から、本発明の組成物は、透明性の高い樹脂被膜を形成することができる。そして、本発明の組成物から得られる液晶配向処理剤は、液晶配向膜の下に有機部材からなる絶縁膜がある状態で光を照射しても、電圧保持率に優れ、さらには、液晶配向性およびプレチルト角を付与させる特性にも優れた液晶配向膜を形成することができる。

以下、本発明の実施形態をより詳細に説明する。

＜特定セルロース系重合体＞
本発明の（Ａ）成分である特定セルロース系重合体は、下記の式［１］で示される構造の重合体である。

式［１］中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^６は、それぞれ独立して、下記の式［１ａ］〜式［１ｍ］から選ばれる少なくとも１種の構造の基を示す。

式［１ｃ］〜式［１ｍ］中、Ｘ^７、Ｘ^８、Ｘ^９、Ｘ^１０、Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^１３およびＸ^１４は、それぞれ独立してベンゼン環、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基またはブチル基を示す。

式［１ｈ］中、ｎは０〜３の整数を示す。なかでも、０または１の整数が好ましい。

式［１ｉ］中、ｍは０〜３の整数を示す。なかでも、０または１の整数が好ましい。

式［１］中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^６は、それぞれ独立して、式［１ａ］〜式［１ｍ］から選らばれる構造を示すが、これらの構造は、１種類であっても２種類以上の複数種類であっても良い。特に、特定セルロース系重合体の溶媒への溶解性、組成物または液晶配向処理剤の塗布性の点から、２種類以上の複数種類を用いることが好ましい。特に好ましいのは、式［１ａ］の構造と、式［１ｂ］〜式［１ｍ］の構造を用いることである。さらには、式［１ａ］の構造と式［１ｃ］の構造、式［１ｄ］の構造、式［１ｅ］の構造、式［１ｈ］の構造または式［１ｉ］の構造を用いることが好ましい。

式［１］中、ｎは１００〜１，０００，０００の整数を示す。なかでも、特定セルロース系重合体の溶媒への溶解性や組成物または液晶配向処理剤として調整した際の取り扱い性の点から、１００〜５００，０００が好ましい。より好ましいのは、１００〜１００，０００である。

本発明の特定セルロース系重合体の具体例としては、下記のものが挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。

例えば、セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロース、メチルエチルセルロース、アセチルセルロース、セルロースプロピオネート、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、メチルアミノセルロース、エチルアミノセルロース、プロピルアミノセルロース、ベンジルセルロース、トリベンゾイルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロースまたはカルボキシメチルヒドロキシエチルセルロースが挙げられる。なかでも、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、アセチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、ベンジルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルエチルセルロースまたはカルボキシメチルヒドロキシエチルセルロースが好ましい。より好ましくは、メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートまたはカルボキシメチルエチルセルロースである。特に好ましくは、メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロースまたはヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートである。

これらの特定セルロース誘導体は、一般に入手することができる。また、式［１ｂ］〜式［１ｍ］で示される構造を導入する方法には、特に制限はなく、既存の手法を用いることができる。

例えば、式［１ｂ］の構造を導入する場合は、セルロースとベンジルクロリドとをアルカリ存在下で反応させる方法、式［１ｃ］の構造を導入する場合は、セルロースとＸ^７を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法、式［１ｄ］の構造を導入する場合は、セルロースとＸ^８の構造を有する酸クロリド化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法やセルロースと無水酢酸とを反応させる方法、式［１ｅ］の構造を導入する場合は、セルロースとＸ^９−ＯＨの構造を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法、式［１ｆ］の構造を導入する場合は、セルロースとＸ^１０−ＣＯＯＨの構造を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法、式［１ｇ］の構造を導入する場合は、セルロースとＸ^１１−ＮＨ_２の構造を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法、式［１ｈ］の構造を導入する場合は、セルロースとフタル酸とを反応させる方法、式［１ｉ］の構造を導入する場合は、セルロースとＸ^１２とフタル酸骨格を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法、式［１ｋ］の構造を導入する場合は、セルロースと無水マレイン酸とを反応させる方法が挙げられる。

前記式［１］で示されるこれら特定セルロース系重合体は、本発明の特定セルロース系重合体の溶媒への溶解性や塗布性、液晶配向膜にした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することができる。

＜特定ポリイミド系重合体＞
本発明の（Ｂ）成分である特定ポリイミド系重合体は、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体またはポリイミドから選ばれる重合体である。

ポリイミド前駆体は、下記の式［Ａ］で示される構造である。

（式［Ａ］中、Ｒ^１は４価の有機基であり、Ｒ^２は２価の有機基であり、Ａ^１およびＡ^２は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよく、Ａ^３およびＡ^４は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基またはアセチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよく、ｎは正の整数を示す）。

前記ジアミン成分としては、分子内に１級または２級のアミノ基を２個有するジアミン化合物であり、テトラカルボン酸成分としては、テトラカルボン酸化合物、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物またはテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物が挙げられる。

本発明の特定重合体は、下記の式［Ｂ］で示されるテトラカルボン酸二無水物と下記の式［Ｃ］で示されるジアミン化合物とを原料とすることで比較的簡便に得られるという理由から、下記の式［Ｄ］で示される繰り返し単位の構造式からなるポリアミド酸または該ポリアミド酸をイミド化させたポリイミドが好ましい。

（式［Ｂ］および式［Ｃ］中、Ｒ^１およびＲ^２は式［Ａ］で定義したものと同意義である）。

（式［Ｄ］中、Ｒ^１およびＲ^２は式［Ａ］で定義したものと同意義である）。

また、通常の合成手法で、上記で得られた式［Ｄ］の重合体に、式［Ａ］で示されるＡ^１およびＡ^２の炭素数１〜８のアルキル基、および式［Ａ］で示されるＡ^３およびＡ^４の炭素数１〜５のアルキル基またはアセチル基を導入することもできる。

＜ジアミン成分＞
本発明の（Ｂ）成分である特定ポリイミド系重合体を作製するためのジアミン成分としては、公知のジアミン化合物を用いることができる。

なかでも、下記の式［２ａ］で示される構造を有するジアミン化合物を用いることが好ましい。

式［２ａ］中、ａは０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０または１の整数が好ましい。

式［２ａ］で示される構造を有するジアミン化合物として、具体的には、下記の式［２ａ−１］で示されるジアミン化合物が挙げられる。

式［２ａ−１］中、ａは０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０または１が好ましい。

式［２ａ−１］中、ｎは１〜４の整数を示す。なかでも、合成の容易さの点から１が好ましい。

本発明の式［２ａ］で示されるジアミン化合物を製造する方法は特に限定されないが、好ましい方法としては、下記に示すものが挙げられる。一例として、式［２ａ−１］で示されるジアミン化合物は、下記の式［２ａ−Ａ］で示されるジニトロ体化合物を合成し、さらにそのニトロ基を還元してアミノ基に変換することで得られる。

（式［２ａ−Ａ］中、ａは０〜４の整数を示し、ｎは１〜４の整数を示す）。

式［２ａ−Ａ］で示されるジニトロ体化合物のジニトロ基を還元する方法には、特に制限はなく、通常、酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはアルコール系溶剤などの溶媒中、パラジウム−炭素、酸化白金、ラネーニッケル、白金黒、ロジウム−アルミナまたは硫化白金炭素などを触媒として用いて、水素ガス、ヒドラジンまたは塩化水素下で反応させる方法がある。

本発明の式［２ａ］で示されるジアミン化合物としては、さらに、下記の式［２ａ−２］〜式［２ａ−５］で示されるジアミン化合物も挙げられる。

式［２ａ−２］中、Ａ^１は単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＦ_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−または−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−を示す。なかでも、合成の容易さの点から、単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−または−Ｎ（ＣＨ_３）−である。

式［２ａ−２］中、ｍ^１およびｍ^２はそれぞれ０〜４の整数を示し、かつｍ^１＋ｍ^２は１〜４の整数を示す。なかでも、ｍ^１＋ｍ^２が１または２が好ましい。

式［２ａ−３］中、ｍ^３およびｍ^４はそれぞれ１〜５の整数を示す。なかでも、合成の容易さの点から、１または２が好ましい。

式［２ａ−４］中、Ａ^２は炭素数１〜５の直鎖または分岐アルキル基を示す。なかでも、炭素数１〜３の直鎖アルキル基が好ましい。

式［２ａ−４］中、ｍ^５は１〜５の整数を示す。なかでも、１または２が好ましい。

式［２ａ−５］中、Ａ^３は単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＦ_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−または−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−を示す。なかでも、単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−が好ましい。より好ましいのは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−である。

式［２ａ−５］中、ｍ^６は１〜４の整数を示す。なかでも、合成の容易さの点から、１が好ましい。

前記式［２ａ−１］〜式［２ａ−５］で示されるジアミン化合物は、全ジアミン成分中の２０モル％〜１００モル％であることが好ましく、より好ましくは、３０モル％〜８０モル％であることが好ましい。

前記式［２ａ−１］〜式［２ａ−５］で示されるジアミン化合物は、本発明の特定ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性や組成物の塗布性、液晶配向膜にした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することができる。

本発明の特定ポリイミド系重合体を作製するためのジアミン成分としては、下記の式［２ｂ］で示されるジアミン化合物を用いることが好ましい。

式［２ｂ］中、Ｙは下記の式［２ｂ−１］、式［２ｂ−２］、式［２ｂ−３］、式［２ｂ−４］または式［２ｂ−５］から選ばれる少なくとも１つの構造の置換基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。

式［２ｂ−１］中、ａは０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０または１の整数が好ましい。

式［２ｂ−２］中、Ｙ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＯＯ−である。

式［２ｂ−２］中、Ｙ^２は単結合または−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。なかでも、単結合または−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１０の整数である）が好ましい。

式［２ｂ−２］中、Ｙ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示す。なかでも、合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＯＯ−である。

式［２ｂ−２］中、Ｙ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基であり、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよい。さらに、Ｙ^４は、ステロイド骨格を有する炭素数１２〜２５の有機基から選ばれる２価の有機基であってもよい。なかでも、合成の容易さの点から、ベンゼン環、シクロへキサン環またはステロイド骨格を有する炭素数１２〜２５の有機基が好ましい。

式［２ｂ−２］中、Ｙ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよい。なかでも、ベンゼン環またはシクロへキサン環が好ましい。

式［２ｂ−２］中、ｎは０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０〜３が好ましい。より好ましいのは、０〜２である。

式［２ｂ−２］中、Ｙ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基または炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示す。なかでも、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１０のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基または炭素数１〜１０のフッ素含有アルコキシル基が好ましい。より好ましくは、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアルコキシル基である。特に好ましくは、炭素数１〜９のアルキル基または炭素数１〜９のアルコキシル基である。

式［２ｂ］中の置換基Ｙを構成するための、式［２ｂ−２］におけるＹ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６およびｎの好ましい組み合わせとしては、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の１３項〜３４項の表６〜表４７に掲載される（２−１）〜（２−６２９）と同じ組み合わせが挙げられる。なお、国際公開公報の各表では、本発明におけるＹ^１〜Ｙ^６が、Ｙ１〜Ｙ６として示されているが、Ｙ１〜Ｙ６は、Ｙ^１〜Ｙ^６と読み替えるものとする。

式［２ｂ−３］中、Ｙ^７は−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＯ−を示す。なかでも、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＣＯＮＨ−が好ましい。より好ましくは、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＣＯＮＨ−である。

式［２ｂ−３］中、Ｙ^８は炭素数８〜２２のアルキル基を示す。

式［２ｂ−４］中、Ｙ^９およびＹ^１０はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の炭化水素基を示す。

式［２ｂ−５］中、Ｙ^１１は炭素数１〜５のアルキル基を示す。

本発明の式［２ｂ］で示されるジアミン化合物を製造する方法は特に限定されないが、好ましい方法としては、下記に示すものが挙げられる。一例として、式［２ｂ］で示されるジアミン化合物は、下記の式［２ｂ−Ａ］で示されるジニトロ体化合物を合成し、さらにそのニトロ基を還元してアミノ基に変換することで得られる。

（式［２ｂ−Ａ］中、Ｙは前記式［２ｂ−１］、式［２ｂ−２］、式［２ｂ−３］、式［２ｂ−４］または式［２ｂ−５］から選ばれる少なくとも１つの構造の置換基を示し、ｍは０〜４の整数を示す）。

式［２ｂ−Ａ］で示されるジニトロ体化合物のジニトロ基を還元する方法には、特に制限はなく、通常、酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはアルコール系溶剤などの溶媒中、パラジウム−炭素、酸化白金、ラネーニッケル、白金黒、ロジウム−アルミナまたは硫化白金炭素などを触媒として用いて、水素ガス、ヒドラジンまたは塩化水素下で反応させる方法がある。
下記に、本発明の式［２ｂ］で示されるジアミン化合物の具体的な構造を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。
すなわち、式［２ｂ］で示されるジアミン化合物としては、ｍ−フェニレンジアミン、２，４−ジメチル−ｍ−フェニレンジアミン、２，６−ジアミノトルエン、２，４−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノベンジルアルコール、２，４−ジアミノベンジルアルコール、４，６−ジアミノレゾルシノールの他に、下記の式［２ｂ−６］〜［２ｂ−４６］で示される構造のジアミン化合物を挙げることができる。

（式［２ｂ−６］〜式［２ｂ−９］中、Ａ^１は、炭素数１〜２２のアルキル基またはフッ素含有アルキル基を示す）。

（式［２ｂ−３４］〜式［２ｂ−３６］中、Ｒ^１は−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ_２−またはＣＨ_２ＯＣＯ−を示し、Ｒ^２は炭素数１〜２２のアルキル基、アルコキシ基、フッ素含有アルキル基またはフッ素含有アルコキシ基を示す）。

（式［２ｂ−３７］〜式［２ｂ−３９］中、Ｒ^３は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−または−ＣＨ_２−を示し、Ｒ^４は炭素数１〜２２のアルキル基、アルコキシ基、フッ素含有アルキル基またはフッ素含有アルコキシ基を示す）。

（式［２ｂ−４０］および式［２ｂ−４１］中、Ｒ^５は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２−または−Ｏ−であり、Ｒ^６はフッ素基、シアノ基、トリフルオロメタン基、ニトロ基、アゾ基、ホルミル基、アセチル基、アセトキシ基または水酸基である）。

（式［２ｂ−４２］および式［２ｂ−４３］中、Ｒ^７は炭素数３〜１２のアルキル基を示す。なお、１,４-シクロヘキシレンのシス−トランス異性は、それぞれトランス異性体が好ましい）。

（式［２ｂ−４４］および式［２ｂ−４５］中、Ｒ^８は炭素数３〜１２のアルキル基を示す。なお、１,４-シクロヘキシレンのシス−トランス異性は、それぞれトランス異性体が好ましい）。

（式［２ｂ−４６］中、Ｂ^４はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数３〜２０のアルキル基を示し、Ｂ^３は１，４−シクロへキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｂ^２は酸素原子または−ＣＯＯ−＊（但し、「＊」を付した結合手がＢ^３と結合する）を示し、Ｂ^１は酸素原子または−ＣＯＯ−＊（但し、「＊」を付した結合手が（ＣＨ_２）ａ^２と結合する）を示す。また、ａ^１は０または１の整数を示し、ａ^２は２〜１０の整数を示し、ａ^３は０または１の整数を示す）。

前記式［２ｂ］で示されるジアミン化合物のなかで、式［２ｂ］中の置換基Ｙが式［２ｂ−２］で示される構造のジアミン化合物を用いた組成物は、樹脂被膜の疎水性を高くすることができる。さらに、液晶配向膜にした場合に、液晶のプレチルト角を高くすることができる。その際、これらの効果を高めることを目的に、上記ジアミン化合物の中でも、式［２ｂ−２８］〜式［２ｂ−３９］または式［２ｂ−４２］〜式［２ｂ−４６］で示されるジアミン化合物を用いることが好ましい。より好ましいのは、式［２ｂ−２４］〜式［２ｂ−３９］または式［２ｂ−４２］〜式［２ｂ−４６］で示されるジアミン化合物である。また、よりこれらの効果を高めるため、これらジアミン化合物は、ジアミン成分全体の５モル％以上８０モル％以下であることが好ましい。より好ましくは、組成物および液晶配向処理剤の塗布性や液晶配向膜としての電気特性の点から、これらジアミン化合物は、ジアミン成分全体の５モル％以上６０モル％である。

前記式［２ｂ］で示されるジアミン化合物は、本発明の特定ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性や塗布性、液晶配向膜にした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することができる。

本発明の特定ポリイミド系重合体を作製するためのジアミン成分としては、式［２ａ−１］〜式［２ａ−５］で示されるジアミン化合物および式［２ｂ］で示されるジアミン化合物以外のジアミン化合物（その他ジアミン化合物ともいう）をジアミン成分として用いることができる。下記に、その他ジアミン化合物の具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。

例えば、４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジヒドロキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジカルボキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ビフェニル、３，３’−トリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジアミノビフェニル、２，３’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジアミノジフェニルメタン、２，３’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２’−ジアミノジフェニルエーテル、２，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−スルホニルジアニリン、３，３’−スルホニルジアニリン、ビス（４−アミノフェニル）シラン、ビス（３−アミノフェニル）シラン、ジメチル−ビス（４−アミノフェニル）シラン、ジメチル−ビス（３−アミノフェニル）シラン、４，４’−チオジアニリン、３，３’−チオジアニリン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、３，３’−ジアミノジフェニルアミン、３，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，２’−ジアミノジフェニルアミン、２，３’−ジアミノジフェニルアミン、Ｎ−メチル（４，４’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（３，３’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（３，４’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（２，２’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（２，３’−ジアミノジフェニル）アミン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，４−ジアミノナフタレン、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、２，３’−ジアミノベンゾフェノン、１，５−ジアミノナフタレン、１，６−ジアミノナフタレン、１，７−ジアミノナフタレン、１，８−ジアミノナフタレン、２，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジアミノナフタレン、２，７−ジアミノナフタレン、２，８−ジアミノナフタレン、１，２−ビス（４−アミノフェニル）エタン、１，２−ビス（３−アミノフェニル）エタン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、１，３−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ブタン、１，４−ビス（３−アミノフェニル）ブタン、ビス（３，５−ジエチル−４−アミノフェニル）メタン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノベンジル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−［１，４−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，４’−［１，４−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，４’−［１，３−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，３’−［１，４−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，３’−［１，３−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、１，４−フェニレンビス［（４−アミノフェニル）メタノン］、１，４−フェニレンビス［（３−アミノフェニル）メタノン］、１，３−フェニレンビス［（４−アミノフェニル）メタノン］、１，３−フェニレンビス［（３−アミノフェニル）メタノン］、１，４−フェニレンビス（４−アミノベンゾエート）、１，４−フェニレンビス（３−アミノベンゾエート）、１，３−フェニレンビス（４−アミノベンゾエート）、１，３−フェニレンビス（３−アミノベンゾエート）、ビス（４−アミノフェニル）テレフタレート、ビス（３−アミノフェニル）テレフタレート、ビス（４−アミノフェニル）イソフタレート、ビス（３−アミノフェニル）イソフタレート、Ｎ，Ｎ’−（１，４−フェニレン）ビス（４−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，３−フェニレン）ビス（４−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，４−フェニレン）ビス（３−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，３−フェニレン）ビス（３−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）テレフタルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノフェニル）テレフタルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）イソフタルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノフェニル）イソフタルアミド、９，１０−ビス（４−アミノフェニル）アントラセン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ジフェニルスルホン、２，２’−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２’−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、２，２’−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）プロパン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ブタン、１，４−ビス（３−アミノフェノキシ）ブタン、１，５−ビス（４−アミノフェノキシ）ペンタン、１，５−ビス（３−アミノフェノキシ）ペンタン、１，６−ビス（４−アミノフェノキシ）へキサン、１，６−ビス（３−アミノフェノキシ）へキサン、１，７−ビス（４−アミノフェノキシ）ヘプタン、１，７−（３−アミノフェノキシ）ヘプタン、１，８−ビス（４−アミノフェノキシ）オクタン、１，８−ビス（３−アミノフェノキシ）オクタン、１，９−ビス（４−アミノフェノキシ）ノナン、１，９−ビス（３−アミノフェノキシ）ノナン、１，１０−（４−アミノフェノキシ）デカン、１，１０−（３−アミノフェノキシ）デカン、１，１１−（４−アミノフェノキシ）ウンデカン、１，１１−（３−アミノフェノキシ）ウンデカン、１，１２−（４−アミノフェノキシ）ドデカン、１，１２−（３−アミノフェノキシ）ドデカン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ビス（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシル）メタン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノへキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノナン、１，１０−ジアミノデカン、１，１１−ジアミノウンデカンまたは１，１２−ジアミノドデカンなどが挙げられる。

また、その他ジアミン化合物として、ジアミン側鎖にアルキル基、フッ素含有アルキル基、芳香環、脂肪族環または複素環を有するもの、さらに、これらからなる大環状置換体を有するものなどを挙げることもできる。具体的には、下記の式［ＤＡ１］〜［ＤＡ１３］で示されるジアミン化合物を例示することができる。

（式［ＤＡ１］〜式［ＤＡ６］中、Ａ^１は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−または−ＮＨ−を示し、Ａ^２は炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のフッ素含有アルキル基を示す）。

（式［ＤＡ７］中、ｐは１〜１０の整数を示す）。

本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他ジアミン化合物として、下記の式［ＤＡ８］〜式［ＤＡ１３］で示されるジアミン化合物を用いることもできる。

（式［ＤＡ１０］中、ｍは０〜３の整数を示し、式［ＤＡ１３］中、ｎは１〜５の整数を示す）。

さらに、本発明の効果を損なわない限りにおいて、下記の式［ＤＡ１４］で示されるジアミン化合物を用いることもできる。

（式［ＤＡ１４］中、Ａ^１は−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−または−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−より選ばれる２価の有機基であり、Ａ^２は単結合、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、非芳香族環式炭化水素基または芳香族炭化水素基であり、Ａ^３は単結合、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−または−Ｏ（ＣＨ_２）_ｍ−（ｍは１〜５の整数である）より選ばれ、Ａ^４は窒素含有芳香族複素環であり、ｎは１〜４の整数である）。
加えて、その他ジアミン化合物として、下記の式［ＤＡ１５］および式［ＤＡ１６］で示されるジアミン化合物を用いることもできる。

上記のその他ジアミン化合物は、本発明の特定ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性や組成物の塗布性、液晶配向膜とした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することもできる。

＜テトラカルボン酸成分＞
本発明の（Ｂ）成分である特定ポリイミド系重合体を作製するためのテトラカルボン酸成分としては、下記の式［３］で示されるテトラカルボン酸二無水物やそのテトラカルボン酸誘導体であるテトラカルボン酸、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物またはテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物（すべてを総称して特定テトラカルボン酸成分ともいう）を用いることが好ましい。

式［３］中、Ｚ^１は下記の式［３ａ］〜式［３ｊ］から選ばれる構造の基である。

式［３ａ］中、Ｚ^２〜Ｚ^５は水素原子、メチル基、塩素原子またはベンゼン環を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。

式［３ｇ］中、Ｚ^６およびＺ^７は水素原子またはメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。

本発明の特定テトラカルボン酸成分である式［３］に示される構造中、Ｚ^１は、合成の容易さやポリマーを製造する際の重合反応性のし易さの点から、式［３ａ］、式［３ｃ］、式［３ｄ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］または式［３ｇ］で示される構造が好ましい。より好ましいのは、式［３ａ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］または式［３ｇ］で示される構造であり、特に好ましいのは、式［３ｅ］、式［３ｆ］または式［３ｇ］である。

本発明の特定テトラカルボン酸成分は、全テトラカルボン酸成分中の１モル％以上であることが好ましい。より好ましいのは、５モル％以上であり、特に好ましいのは、１０モル％以上である。

また、式［３ｅ］、式［３ｆ］または式［３ｇ］の構造の特定テトラカルボン酸成分を用いる場合、その使用量は、テトラカルボン酸成分全体の２０モル％以上とすることで、所望の効果が得られる。好ましくは、３０モル％以上である。さらに、テトラカルボン酸成分のすべてを式［３ｅ］、式［３ｆ］または式［３ｇ］の構造のテトラカルボン酸成分であってもよい。

本発明の特定ポリイミド系重合体には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、特定テトラカルボン酸成分以外のその他のテトラカルボン酸成分を用いることができる。その他のテトラカルボン酸成分としては、以下に示すテトラカルボン酸化合物、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物またはテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物が挙げられる。

すなわち、その他のテトラカルボン酸成分としては、ピロメリット酸、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，６，７−アントラセンテトラカルボン酸、１，２，５，６−アントラセンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジフェニルシラン、２，３，４，５−ピリジンテトラカルボン酸、２，６−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ピリジン、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸または１，３−ジフェニル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸が挙げられる。

特定テトラカルボン酸成分およびその他のテトラカルボン酸成分は、本発明の特定ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性や組成物の塗布性、液晶配向膜とした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することもできる。

＜特定ポリイミド系重合体の製造方法＞
本発明において、特定ポリイミド系重合体を合成する方法は特に限定されない。通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られる。一般的には、テトラカルボン酸およびその誘導体からなる群から選ばれる少なくとも１種のテトラカルボン酸成分と、１種または複数種のジアミン化合物からなるジアミン成分とを反応させて、ポリアミド酸を得る。具体的には、テトラカルボン酸二無水物と１級または２級のジアミン化合物とを重縮合させてポリアミド酸を得る方法、テトラカルボン酸と１級または２級のジアミン化合物とを脱水重縮合反応させてポリアミド酸を得る方法またはテトラカルボン酸ジハライドと１級または２級のジアミン化合物とを重縮合させてポリアミド酸を得る方法が用いられる。

ポリアミド酸アルキルエステルを得るには、カルボン酸基をジアルキルエステル化したテトラカルボン酸と１級または２級のジアミン化合物とを重縮合させる方法、カルボン酸基をジアルキルエステル化したテトラカルボン酸ジハライドと１級または２級のジアミン化合物とを重縮合させる方法またはポリアミド酸のカルボキシル基をエステルに変換する方法が用いられる。

ポリイミドを得るには、前記のポリアミド酸またはポリアミド酸アルキルエステルを閉環させてポリイミドとする方法が用いられる。

ジアミン成分とテトラカルボン酸成分との反応は、通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを有機溶媒中で行う。その際に用いる有機溶媒としては、生成したポリイミド前駆体が溶解するものであれば特に限定されない。下記に、反応に用いる有機溶媒の具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンまたは下記の式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒などが挙げられる。

（式［Ｄ−１］中、Ｄ^１は炭素数１〜３のアルキル基を示し、式［Ｄ−２］中、Ｄ^２は炭素数１〜３のアルキル基を示し、式［Ｄ−３］中、Ｄ^３は炭素数１〜４のアルキル基を示す）。

これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、ポリイミド前駆体を溶解させない溶媒であっても、生成したポリイミド前駆体が析出しない範囲で、上記溶媒に混合して使用してもよい。また、有機溶媒中の水分は重合反応を阻害し、さらには生成したポリイミド前駆体を加水分解させる原因となるので、有機溶媒は脱水乾燥させたものを用いることが好ましい。

ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを有機溶媒中で反応させる際には、ジアミン成分を有機溶媒に分散あるいは溶解させた溶液を攪拌させ、テトラカルボン酸成分をそのまま、または有機溶媒に分散あるいは溶解させて添加する方法、逆にテトラカルボン酸成分を有機溶媒に分散、あるいは溶解させた溶液にジアミン成分を添加する方法、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを交互に添加する方法などが挙げられ、これらのいずれの方法を用いてもよい。また、ジアミン成分またはテトラカルボン酸成分を、それぞれ複数種用いて反応させる場合は、あらかじめ混合した状態で反応させてもよく、個別に順次反応させてもよく、さらに個別に反応させた低分子量体を混合反応させ重合体としてもよい。その際の重合温度は−２０℃〜１５０℃の任意の温度を選択することができるが、好ましくは−５℃〜１００℃の範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると高分子量の重合体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌が困難となる。そのため、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％である。反応初期は高濃度で行い、その後、有機溶媒を追加することができる。

ポリイミド前駆体の重合反応においては、ジアミン成分の合計モル数とテトラカルボン酸成分の合計モル数の比は０．８〜１．２であることが好ましい。通常の重縮合反応同様、このモル比が１．０に近いほど生成するポリイミド前駆体の分子量は大きくなる。

本発明のポリイミドは前記のポリイミド前駆体を閉環させて得られるポリイミドであり、このポリイミドにおいては、アミド酸基の閉環率（イミド化率ともいう）は必ずしも１００％である必要はなく、用途や目的に応じて任意に調整することができる。

ポリイミド前駆体をイミド化させる方法としては、ポリイミド前駆体の溶液をそのまま加熱する熱イミド化またはポリイミド前駆体の溶液に触媒を添加する触媒イミド化が挙げられる。

ポリイミド前駆体を溶液中で熱イミド化させる場合の温度は、１００℃〜４００℃、好ましくは１２０℃〜２５０℃であり、イミド化反応により生成する水を系外に除きながら行う方が好ましい。

ポリイミド前駆体の触媒イミド化は、ポリイミド前駆体の溶液に、塩基性触媒と酸無水物とを添加し、−２０〜２５０℃、好ましくは０〜１８０℃で攪拌することにより行うことができる。塩基性触媒の量はアミド酸基の０．５〜３０モル倍、好ましくは２〜２０モル倍であり、酸無水物の量はアミド酸基の１〜５０モル倍、好ましくは３〜３０モル倍である。塩基性触媒としてはピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチルアミンまたはトリオクチルアミンなどを挙げることができ、中でもピリジンは反応を進行させるのに適度な塩基性を持つので好ましい。酸無水物としては、無水酢酸、無水トリメリット酸または無水ピロメリット酸などを挙げることができ、中でも無水酢酸を用いると反応終了後の精製が容易となるので好ましい。触媒イミド化によるイミド化率は、触媒量と反応温度、反応時間を調節することにより制御することができる。

ポリイミド前駆体またはポリイミドの反応溶液から、生成したポリイミド前駆体またはポリイミドを回収する場合には、反応溶液を溶媒に投入して沈殿させればよい。沈殿に用いる溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、ヘキサン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、ベンゼン、水などを挙げることができる。溶媒に投入して沈殿させたポリマーは濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を２〜１０回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類または炭化水素などが挙げられ、これらの内から選ばれる３種類以上の溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。

本発明の特定ポリイミド系重合体の分子量は、そこから得られる樹脂被膜または液晶配向膜の強度、膜形成時の作業性および塗膜性を考慮した場合、ＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）法で測定した重量平均分子量で５，０００〜１，０００，０００とするのが好ましく、より好ましくは、１０，０００〜１５０，０００である。

＜組成物・液晶配向処理剤＞
本発明の組成物または液晶配向処理剤は、樹脂被膜または液晶配向膜（総称して樹脂被膜ともいう）を形成するための塗布溶液であり、特定セルロース系重合体、特定ポリイミド系重合体および溶媒を含有する樹脂被膜を形成するための塗布溶液である。

本発明の組成物または液晶配向処理剤における特定セルロース系重合体と特定ポリイミド系重合体の割合は、特定ポリイミド系重合体の割合を１とした場合、特定セルロース系重合体の割合は、０．１〜９である。特に好ましいのは、０．２〜４である。

本発明の組成物または液晶配向処理剤における、すべての重合体成分は、すべてが本発明の特定セルロース系重合体および特定ポリイミド系重合体であってもよく、それ以外の他の重合体が混合されていても良い。その際、それ以外の他の重合体の含有量は、本発明の特定重合体の０．５質量％〜１５質量％、好ましくは１質量％〜１０質量％である。それ以外の他の重合体としては、前記式［２ａ−１］〜式［２ａ−５］で示されるジアミン化合物、式［２ｂ］で示されるジアミン化合物および特定テトラカルボン酸成分を用いていないポリイミド系重合体が挙げられる。さらには、セルロース系重合体およびポリイミド系重合体以外の重合体、具体的には、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ポリスチレン、ポリアミドまたはポリシロキサンなどが挙げられる。

本発明の組成物または液晶配向処理剤中の有機溶媒は、塗布により均一な樹脂被膜を形成するという観点から、有機溶媒の含有量が７０〜９９．９質量％であることが好ましい。この含有量は、目的とする樹脂被膜または液晶配向膜の膜厚によって適宜変更することができる。

本発明の組成物または液晶配向処理剤に用いる有機溶媒は、特定セルロース系重合体および特定ポリイミド系重合体を溶解させる有機溶媒（良溶媒ともいう）であれば特に限定されない。下記に、良溶媒の具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。

例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンまたは４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどである。なかでも、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトンまたは上述した前記式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒などを挙げることができる。これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。

なかでも、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン（以上（Ｃ）成分ともいう）を用いることが好ましい。さらには、特定セルロース系重合体および特定ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性が高い場合は、前記式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒（以上（Ｄ）成分ともいう）を用いることが好ましい。

本発明の組成物または液晶配向処理剤における良溶媒は、組成物または液晶配向処理剤に含まれる溶媒全体の１０〜１００質量％であることが好ましい。なかでも、２０〜９０質量％が好ましい。より好ましいのは、３０〜８０質量％である。

本発明の組成物または液晶配向処理剤は、本発明の効果を損なわない限り、組成物または液晶配向処理剤を塗布した際の樹脂被膜または液晶配向膜の塗膜性や表面平滑性を向上させる有機溶媒（貧溶媒ともいう）を用いることができる。下記に、貧溶媒の具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。

例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、１，２−ブトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、３−エトキシブチルアセタート、１−メチルペンチルアセタート、２−エチルブチルアセタート、２−エチルヘキシルアセタート、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールジアセタート、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、２−（メトキシメトキシ）エタノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、フルフリルアルコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、１−（ブトキシエトキシ）プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアセタート、ジエチレングリコールアセタート、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸ｎ−プロピルエステル、乳酸ｎ−ブチルエステル、乳酸イソアミルエステルまたは上述した前記式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒などを挙げることができる。

なかでも、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテルまたはエチレングリコールモノブチルエーテル（以上（Ｅ）成分ともいう）、または上述した前記式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒を用いることが好ましい。

これら貧溶媒は、組成物または液晶配向処理剤に含まれる有機溶媒全体の１〜７０質量％であることが好ましい。なかでも、１〜６０質量％が好ましい。より好ましいのは５〜６０質量％である。

本発明の組成物または液晶配向処理剤には、本発明の効果を損なわない限り、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基またはシクロカーボネート基を有する架橋性化合物、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基および低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する架橋性化合物、または重合性不飽和結合を有する架橋性化合物を導入することもできる。これら置換基や重合性不飽和結合は、架橋性化合物中に２個以上有する必要がある。

エポキシ基またはイソシアネート基を有する架橋性化合物としては、例えば、ビスフェノールアセトングリシジルエーテル、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルアミノジフェニレン、テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビス（アミノエチル）シクロヘキサン、テトラフェニルグリシジルエーテルエタン、トリフェニルグリシジルエーテルエタン、ビスフェノールヘキサフルオロアセトジグリシジルエーテル、１，３−ビス（１−（２，３−エポキシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロメチル）ベンゼン、４，４−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフェニル、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、２−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−２−（４−（１，１−ビス（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）エチル）フェニル）プロパンまたは１，３−ビス（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−メチルエチル）フェニル）エチル）フェノキシ）−２−プロパノールなどが挙げられる。

オキセタン基を有する架橋性化合物は、下記の式［４］で示すオキセタン基を少なくとも２個有する架橋性化合物である。

具体的には、下記の式［４−１］〜式［４−１１］で示される架橋性化合物である。

（式［４−１］中、ｎは１〜３の整数を示す）。

（式［４−７］中、ｎは１〜３の整数を示し、式［４−８］中、ｎは１〜３の整数を示し、式［４−９］中、ｎは１〜１００の整数を示す）。

（式［４−１１］中、ｎは１〜１０の整数を示す）。

シクロカーボネート基を有する架橋性化合物としては、下記の式［５］で示されるシクロカーボネート基を少なくとも２個有する架橋性化合物である。

具体的には、下記の式［５−１］〜式［５−３７］で示される架橋性化合物である。

（式［５−２４］中、ｎは１〜１０の整数を示し、式［５−２５］中、ｎは１〜１０の整数を示す）。

（式［５−３６］中、ｎは１〜１００の整数を示し、式［５−３７］中、ｎは１〜１０の整数を示す）。

さらに、下記の式［５−３８］〜式［５−４０］に示される少なくとも１種の構造を有するポリシロキサンを挙げることもできる。

（式［５−３８］〜式［５−４０］中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４およびＲ_５は、それぞれ独立して、式［５］で示される構造、水素原子、水酸基、炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシル基、脂肪族環または芳香族環を示し、少なくとも１つは式［５］で示される構造を示す）。

より具体的には、下記の式［５−４１］および式［５−４２］の化合物が挙げられる。

（式［５−４２］中、ｎは１〜１０の整数を示す）。

ヒドロキシル基およびアルコキシル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する架橋性化合物としては、例えば、ヒドロキシル基またはアルコキシル基を有するアミノ樹脂、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド−ホルムアルデヒド樹脂またはエチレン尿素−ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。具体的には、アミノ基の水素原子がメチロール基またはアルコキシメチル基またはその両方で置換されたメラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体、またはグリコールウリルを用いることができる。このメラミン誘導体またはベンゾグアナミン誘導体は、２量体または３量体として存在することも可能である。これらはトリアジン環１個当たり、メチロール基またはアルコキシメチル基を平均３個以上６個以下有するものが好ましい。

このようなメラミン誘導体またはベンゾグアナミン誘導体の例としては、市販品のトリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均３．７個置換されているＭＸ−７５０、トリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均５．８個置換されているＭＷ−３０（以上、三和ケミカル社製）やサイメル３００、３０１、３０３、３５０、３７０、７７１、３２５、３２７、７０３、７１２などのメトキシメチル化メラミン、サイメル２３５、２３６、２３８、２１２、２５３、２５４などのメトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン、サイメル５０６、５０８などのブトキシメチル化メラミン、サイメル１１４１のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン、サイメル１１２３のようなメトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２３−１０のようなメトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２８のようなブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２５−８０のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン（以上、三井サイアナミド社製）が挙げられる。また、グリコールウリルの例として、サイメル１１７０のようなブトキシメチル化グリコールウリル、サイメル１１７２のようなメチロール化グリコールウリル等、パウダーリンク１１７４のようなメトキシメチロール化グリコールウリル等が挙げられる。

ヒドロキシル基またはアルコキシル基を有するベンゼンまたはフェノール性化合物としては、例えば、１，３，５−トリス（メトキシメチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（イソプロポキシメチル）ベンゼン、１，４−ビス（ｓｅｃ−ブトキシメチル）ベンゼンまたは２，６−ジヒドロキシメチル−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等が挙げられる。

より具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６２頁〜６６頁に掲載される、式［６−１］〜式［６−４８］で示される架橋性化合物が挙げられる。

重合性不飽和結合を有する架橋性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパンまたはグリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート等の重合性不飽和基を分子内に３個有する架橋性化合物、さらに、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイドビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイドビスフェノール型ジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレートまたはヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を分子内に２個有する架橋性化合物、加えて、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸エステルまたはＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド等の重合性不飽和基を分子内に１個有する架橋性化合物が挙げられる。

加えて、下記の式［７］で示される化合物を用いることもできる。

（式［７］中、Ｅ_１はシクロヘキサン環、ビシクロヘキサン環、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環またはフェナントレン環からからなる群から選ばれる基を示し、Ｅ_２は下記の式［７ａ］または式［７ｂ］から選ばれる基を示し、ｎは１〜４の整数を示す）。

上記化合物は架橋性化合物の一例であり、これらに限定されるものではない。また、本発明の組成物または液晶配向処理剤に用いる架橋性化合物は、１種類であってもよく、２種類以上組み合わせてもよい。

本発明の組成物または液晶配向処理剤における、架橋性化合物の含有量は、すべての重合体成分１００質量部に対して、０．１〜１５０質量部であることが好ましい。架橋反応が進行し目的の効果を発現させるためには、すべての重合体成分１００質量部に対して０．１〜１００質量部がより好ましく、特に、１〜５０質量部が最も好ましい。

本発明の組成物を用いた液晶配向処理剤を用いて液晶配向膜とした際、液晶配向膜中の電荷移動を促進し、該液晶配向膜を用いた液晶セルの電荷抜けを促進させる化合物として、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６９頁〜７３頁に掲載される、式［Ｍ１］〜式［Ｍ１５６］で示される窒素含有複素環アミン化合物を添加することが好ましい。このアミン化合物は、組成物に直接添加しても構わないが、適当な溶媒で濃度０．１質量％〜１０質量％、好ましくは１質量％〜７質量％の溶液にしてから添加することが好ましい。この溶媒としては、上述した特定ポリイミド系重合体を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。

本発明の組成物または液晶配向処理剤は、本発明の効果を損なわない限り、組成物または液晶配向処理剤を塗布した際の樹脂被膜または液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物を用いることができる。さらに、樹脂被膜または液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物などを用いることもできる。

樹脂被膜または液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤などが挙げられる。

より具体的には、例えば、エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（以上、トーケムプロダクツ社製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０（以上、大日本インキ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム社製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ1０５、ＳＣ１０６（以上、旭硝子社製）などが挙げられる。これらの界面活性剤の使用割合は、組成物または液晶配向処理剤に含有されるすべての重合体成分１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２質量部、より好ましくは０．０１〜１質量部である。

樹脂被膜または液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、以下に示す官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有化合物が挙げられる。

例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’,−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ,Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサンまたはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’,−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタンなどが挙げられる。

これら基板との密着させる化合物を使用する場合は、組成物または液晶配向処理剤に含有されるすべての重合体成分１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、より好ましくは１〜２０質量部である。０．１質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、３０質量部よりも多くなると組成物または液晶配向処理剤の保存安定性が悪くなる場合がある。

本発明の組成物または液晶配向処理剤には、上記の貧溶媒、架橋性化合物、樹脂被膜または液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物および基板との密着させる化合物の他に、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、樹脂被膜または液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的の誘電体や導電物質を添加してもよい。

＜樹脂被膜＞
本発明の組成物は、基板上に塗布、焼成した後、樹脂被膜として用いることができる。この際に用いる基板としては、目的とするデバイスに応じて、ガラス基板、シリコンウェハ、アクリル基板やポリカーボネート基板などのプラスチック基板なども用いることができる。組成物の塗布方法は、特に限定されないが、工業的には、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナー法、スプレー法、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷またはインクジェット法などで行う方法が一般的である。これらは、目的に応じて適宜選択することができる。

組成物を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブンまたはＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、組成物に用いる溶媒に応じて、３０〜３００℃、好ましくは３０〜２５０℃の温度で溶媒を蒸発させて樹脂被膜とすることができる。焼成後の樹脂被膜の厚みは、目的に応じて、０．０１〜１００μｍに調整することができる。

＜液晶配向膜・液晶表示素子＞
本発明の組成物を用いた液晶配向処理剤は、基板上に塗布、焼成した後、ラビング処理や光照射などで配向処理をして、液晶配向膜として用いることができる。また、垂直配向用途などの場合では配向処理なしでも液晶配向膜として用いることができる。この際に用いる基板としては、透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス基板の他、アクリル基板やポリカーボネート基板などのプラスチック基板なども用いることができる。プロセスの簡素化の観点からは、液晶駆動のためのＩＴＯ電極などが形成された基板を用いることが好ましい。また、反射型の液晶表示素子では、片側の基板のみにならばシリコンウェハなどの不透明な基板も使用でき、この場合の電極としてはアルミなどの光を反射する材料も使用できる。

液晶配向処理剤の塗布方法は、特に限定されないが、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷またはインクジェット法などで行う方法が一般的である。その他の塗布方法としては、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナー法またはスプレー法などがあり、目的に応じてこれらを用いてもよい。

液晶配向処理剤を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブンまたはＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、液晶配向処理剤に用いる溶媒に応じて、３０〜３００℃、好ましくは３０〜２５０℃の温度で溶媒を蒸発させて液晶配向膜とすることができる。焼成後の液晶配向膜の厚みは、厚すぎると液晶表示素子の消費電力の面で不利となり、薄すぎると液晶表示素子の信頼性が低下する場合があるので、好ましくは５〜３００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍである。液晶を水平配向や傾斜配向させる場合は、焼成後の液晶配向膜をラビングまたは偏光紫外線照射などで処理する。

本発明の液晶表示素子は、上記した手法により、本発明の液晶配向処理剤から液晶配向膜付き基板を得た後、公知の方法で液晶セルを作製して液晶表示素子としたものである。

液晶セルの作製方法としては、液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、または、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に基板を貼り合わせて封止を行う方法などが例示できる。

さらに、本発明の液晶配向処理剤は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、電極間に電圧を印加しつつ、活性エネルギー線の照射および加熱の少なくとも一方により重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子にも好ましく用いられる。ここで、活性エネルギー線としては、紫外線が好適である。紫外線としては、波長が３００〜４００ｎｍ、好ましくは３１０〜３６０ｎｍである。加熱による重合の場合、加熱温度は４０〜１２０℃、好ましくは６０〜８０℃である。また、紫外線の照射と加熱を同時に行ってもよい。

上記の液晶表示素子は、ＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式により、液晶分子のプレチルトを制御するものである。ＰＳＡ方式では、液晶材料中に少量の光重合性化合物、例えば光重合性モノマーを混入しておき、液晶セルを組み立てた後、液晶層に所定の電圧を印加した状態で光重合性化合物に紫外線などを照射し、生成した重合体によって液晶分子のプレチルトを制御する。重合体が生成するときの液晶分子の配向状態が電圧を取り去った後においても記憶されるので、液晶層に形成される電界などを制御することにより、液晶分子のプレチルトを調整することができる。また、ＰＳＡ方式では、ラビング処理を必要としないので、ラビング処理によってプレチルトを制御することが難しい垂直配向型の液晶層の形成に適している。

すなわち、本発明の液晶表示素子は、上記した手法により本発明の液晶配向処理剤から液晶配向膜付き基板を得た後、液晶セルを作製し、紫外線の照射および加熱の少なくとも一方により重合性化合物を重合することで液晶分子の配向を制御するものとすることができる。

ＰＳＡ方式の液晶セル作製の一例を挙げるならば、液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、または、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に基板を貼り合わせて封止を行う方法などが挙げられる。

液晶には、熱や紫外線照射により重合する重合性化合物が混合される。重合性化合物としては、アクリレート基やメタクリレート基等の重合性不飽和基を分子内に１個以上有する化合物が挙げられる。その際、重合性化合物は、液晶成分の１００質量部に対して０．０１〜１０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．１〜５質量部である。重合性化合物が０．０１質量部未満であると、重合性化合物が重合せずに液晶を配向制御できなくなり、１０質量部よりも多くなると、未反応の重合性化合物が多くなって液晶表示素子の焼き付き特性が低下する。

液晶セルを作製した後は、液晶セルに交流または直流の電圧を印加しながら、加熱や紫外線を照射して重合性化合物を重合する。これにより、液晶分子の配向を制御することができる。

加えて、本発明の液晶配向処理剤は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、電極間に電圧を印加する工程を経て製造される液晶表示素子にも好ましく用いられる。ここで、活性エネルギー線としては、紫外線が好適である。紫外線としては、波長が３００〜４００ｎｍ、好ましくは３１０〜３６０ｎｍである。加熱による重合の場合、加熱温度は４０〜１２０℃、好ましくは６０〜８０℃である。また、紫外線の照射と加熱を同時に行ってもよい。

活性エネルギー線および熱の少なくとも一方より重合する重合性基を含む液晶配向膜を得るためには、この重合性基を含む化合物を液晶配向処理剤中に添加する方法や、重合性基を含む重合体成分を用いる方法が挙げられる。本発明の液晶配向処理剤は、熱や紫外線の照射により、反応する２重結合部位を持つ特定化合物を含んでいるため、紫外線の照射および加熱の少なくとも一方により液晶分子の配向を制御することができる。

液晶セル作製の一例を挙げるならば、液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、または、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に基板を貼り合わせて封止を行う方法などが挙げられる。

液晶セルを作製した後は、液晶セルに交流または直流の電圧を印加しながら、加熱や紫外線を照射することで、液晶分子の配向を制御することができる。

以上のようにして、本発明の液晶配向処理剤を用いて作製された液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビなどに好適に利用できる。

以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明するが、これらに限定されるものではない。

合成例、実施例および比較例で用いる略語は、以下の通りである。
（本発明の（Ａ）成分である特定セルロース系重合体）
ＣＥ−１：ヒドロキシエチルセルロース（ＷＡＫＯ社製）
ＣＥ−２：ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート（ＡＣＲＯＳ社製）

（本発明の式［２ａ］で示されるジアミン化合物）
Ａ１：３，５−ジアミノ安息香酸（下記の式［Ａ１］で示されるジアミン化合物）
Ａ２：２，５−ジアミノ安息香酸（下記の式［Ａ２］で示されるジアミン化合物）

（本発明の式［２ｂ］で示されるジアミン化合物）
Ｂ１：１，３−ジアミノ−４−〔４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロへキシル）フェノキシ〕ベンゼン（下記の式［Ｂ１］で示されるジアミン化合物）
Ｂ２：１，３−ジアミノ−４−〔４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロへキシル）フェノキシメチル〕ベンゼン（下記の式［Ｂ２］で示されるジアミン化合物）
Ｂ３：１，３−ジアミノ−４−{４−〔トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロへキシル）シクロへキシル〕フェノキシ}ベンゼン（下記の式［Ｂ３］で示されるジアミン化合物）
Ｂ４：下記の式［Ｂ４］で示されるジアミン化合物
Ｂ５：１，３−ジアミノ−４−オクタデシルオキシベンゼン（下記の式［Ｂ５］で示されるジアミン化合物）
Ｂ６：下記の式［Ｂ６］で示されるジアミン化合物

（その他ジアミン化合物）
Ｃ１：ｐ−フェニレンジアミン（下記の式［Ｃ１］で示されるジアミン化合物）
Ｃ２：ｍ−フェニレンジアミン（下記の式［Ｃ２］で示されるジアミン化合物）

（テトラカルボン酸成分）
Ｄ１：１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物（下記の式［Ｄ１］で示されるテトラカルボン酸二無水物）
Ｄ２：ビシクロ［３，３，０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸二無水物（下記の式［Ｄ２］で示されるテトラカルボン酸二無水物）
Ｄ３：下記の式［Ｄ３］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ｄ４：下記の式［Ｄ４］で示されるテトラカルボン酸二無水物

（本発明の（Ｃ）成分である溶媒）
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＮＥＰ：Ｎ−エチル−２−ピロリドン
γ−ＢＬ：γ−ブチロラクトン

（本発明の（Ｄ）成分である溶媒）
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル（本発明の式［Ｄ−１］で示される溶媒）
ＰＣＳ：エチレングリコールモノプロピルエーテル（本発明の式［Ｄ−２］で示される溶媒）
ＤＥＥＥ：ジエチレングリコールモノエチルエーテル（本発明の式［Ｄ−３］で示される溶媒）

（本発明の（Ｅ）成分である溶媒）
ＢＣＳ：エチレングリコールモノブチルエーテル
ＰＢ：プロピレングリコールモノブチルエーテル

（ポリイミド前駆体およびポリイミドの分子量測定）
合成例におけるポリイミド前駆体およびポリイミドの分子量は、常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＧＰＣ−１０１）（昭和電工社製）、カラム（ＫＤ−８０３，ＫＤ−８０５）（Ｓｈｏｄｅｘ社製）を用いて、以下のようにして測定した。

カラム温度：５０℃
溶離液：Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（添加剤として、臭化リチウム−水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ_２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ（リットル）、リン酸・無水結晶（ｏ−リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が１０ｍｌ／Ｌ）
流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：ＴＳＫ 標準ポリエチレンオキサイド（分子量；約９００,０００、１５０,０００、１００,０００、および３０,０００）（東ソー社製）およびポリエチレングリコール（分子量；約１２,０００、４,０００、および１,０００）（ポリマーラボラトリー社製）。

（ポリイミドのイミド化率の測定）
合成例におけるポリイミドのイミド化率は次のようにして測定した。ポリイミド粉末２０ｍｇをＮＭＲ（核磁気共鳴）サンプル管（ＮＭＲサンプリングチューブスタンダード，φ５（草野科学社製））に入れ、重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６，０．０５質量％ＴＭＳ（テトラメチルシラン）混合品）（０.５３ｍｌ）を添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液をＮＭＲ測定機（ＪＮＷ−ＥＣＡ５００）（日本電子データム社製）にて５００ＭＨｚのプロトンＮＭＲを測定した。イミド化率は、イミド化前後で変化しない構造に由来するプロトンを基準プロトンとして決め、このプロトンのピーク積算値と、９．５ｐｐｍ〜１０．０ｐｐｍ付近に現れるアミド酸のＮＨ基に由来するプロトンピーク積算値とを用い以下の式によって求めた。

イミド化率（％）＝（１−α・ｘ／ｙ）×１００
上記式において、ｘはアミド酸のＮＨ基由来のプロトンピーク積算値、ｙは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミド酸（イミド化率が０％）の場合におけるアミド酸のＮＨ基プロトン１個に対する基準プロトンの個数割合である。

「本発明の（Ｂ）成分である特定ポリイミド系重合体の合成」
＜合成例１＞
Ｄ１（９．００ｇ，４５．９ｍｍｏｌ）およびＡ１（６．９８ｇ，４５．９ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（４８．０ｇ）中で混合し、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２６，９００、重量平均分子量は、７８，１００であった。

＜合成例２＞
Ｄ２（８．１７ｇ，３２．７ｍｍｏｌ）およびＡ２（６．２１ｇ，４０．８ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２６．４ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（１．６０ｇ，８．１６ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（２１．６ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（４０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．８５ｇ）およびピリジン（３．７０ｇ）を加え、８０℃で４時間反応させた。この反応溶液をメタノール（８００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（２）を得た。このポリイミドのイミド化率は５４％であり、数平均分子量は１９，８００、重量平均分子量は４４，３００であった。

＜合成例３＞
Ｄ２（６．２５ｇ，２５．０ｍｍｏｌ）、Ｂ１（６．７９ｇ，１７．８ｍｍｏｌ）およびＡ１（２．７２ｇ，１７．９ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２９．５ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（２．１０ｇ，１０．７ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（２４．１ｇ）を加え、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（３）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２３，５００、重量平均分子量は、６５，６００であった。

＜合成例４＞
合成例３で得られたポリアミド酸溶液（３）（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（６．７５ｇ）およびピリジン（４．９０ｇ）を加え、９０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（７００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（４）を得た。このポリイミドのイミド化率は８２％であり、数平均分子量は１７，５００、重量平均分子量は４０，１００であった。

＜合成例５＞
Ｄ２（６．６３ｇ，２６．５ｍｍｏｌ）、Ｂ１（５．０５ｇ，１３．３ｍｍｏｌ）、Ａ１（２．５２ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）およびＣ１（０．３６ｇ，３．３３ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２６．２ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（１．３０ｇ，６．６３ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（２１．４ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（４０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．７８ｇ）およびピリジン（３．７３ｇ）を加え、８０℃で４時間反応させた。この反応溶液をメタノール（８００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（５）を得た。このポリイミドのイミド化率は５５％であり、数平均分子量は１７，２００、重量平均分子量は４１，６００であった。

＜合成例６＞
Ｄ２（５．１７ｇ，２０．７ｍｍｏｌ）、Ｂ２（４．０７ｇ，１０．３ｍｍｏｌ）、Ａ１（２．０９ｇ，１３．７ｍｍｏｌ）およびＢ６（２．１０ｇ，１０．３ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２６．６ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（２．７０ｇ，１３．８ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（２１．８ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（４０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．８０ｇ）およびピリジン（３．７５ｇ）を加え、８０℃で４時間反応させた。この反応溶液をメタノール（８００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（６）を得た。このポリイミドのイミド化率は５２％であり、数平均分子量は１７，６００、重量平均分子量は４１，３００であった。

＜合成例７＞
Ｄ２（４．３４ｇ，１７．３ｍｍｏｌ）、Ｂ３（４．５０ｇ，１０．４ｍｍｏｌ）、Ａ２（３．１７ｇ，２０．８ｍｍｏｌ）およびＣ２（０．３７ｇ，３．４２ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２６．０ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（３．４０ｇ，１７．３ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（２１．３ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（６．７４ｇ）およびピリジン（４．９０ｇ）を加え、９０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（７００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（７）を得た。このポリイミドのイミド化率は７８％であり、数平均分子量は１８，５００、重量平均分子量は４２，１００であった。

＜合成例８＞
Ｄ２（６．１２ｇ，２４．５ｍｍｏｌ）、Ｂ４（２．２６ｇ，４．５９ｍｍｏｌ）およびＡ２（３．９６ｇ，２６．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２２．３ｇ）中で混合し、８０℃で６時間反応させた後、Ｄ１（１．２０ｇ，６．１２ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１８．３ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（４０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．８２ｇ）およびピリジン（３．７５ｇ）を加え、８０℃で３．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（８００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（８）を得た。このポリイミドのイミド化率は５０％であり、数平均分子量は１６，２００、重量平均分子量は３８，１００であった。

＜合成例９＞
Ｄ３（７．７０ｇ，３４．３ｍｍｏｌ）、Ｂ１（３．９２ｇ，１０．３ｍｍｏｌ）およびＡ１（３．６６ｇ，２４．１ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（４５．８ｇ）中で混合し、４０℃で５時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（４０．０ｇ）にＮＭＰを加え、６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．７０ｇ）およびピリジン（３．６０ｇ）を加え、８０℃で４時間反応させた。この反応溶液をメタノール（８００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（９）を得た。このポリイミドのイミド化率は５４％であり、数平均分子量は１７，３００、重量平均分子量は４１，０００であった。

＜合成例１０＞
Ｄ３（７．５０ｇ，３３．５ｍｍｏｌ）、Ｂ５（３．７８ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、Ｂ６（１．３６ｇ，６．６９ｍｍｏｌ）およびＡ１（２．５５ｇ，１６．８ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（４５．６ｇ）中で混合し、４０℃で５時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（４０．０ｇ）にＮＭＰを加え、６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．８０ｇ）およびピリジン（３．７５ｇ）を加え、８０℃で４時間反応させた。この反応溶液をメタノール（８００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１０）を得た。このポリイミドのイミド化率は５５％であり、数平均分子量は１８，１００、重量平均分子量は３９，９００であった。

＜合成例１１＞
Ｄ４（５．５１ｇ，１８．４ｍｍｏｌ）、Ｂ２（３．６２ｇ，９．１７ｍｍｏｌ）、Ｃ２（０．６６ｇ，６．１０ｍｍｏｌ）およびＡ１（２．３３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２４．０ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（２．４０ｇ，１２．２ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１９．６ｇ）を加え、４０℃で５時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（４０．０ｇ）にＮＭＰを加え、６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．８０ｇ）およびピリジン（３．７０ｇ）を加え、８０℃で４．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（８００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１１）を得た。このポリイミドのイミド化率は６０％であり、数平均分子量は１６，８００、重量平均分子量は３７，５００であった。

＜合成例１２＞
Ｄ４（５．６６ｇ，１８．９ｍｍｏｌ）、Ｂ１（４．３１ｇ，１１．３ｍｍｏｌ）、Ｂ６（２．３０ｇ，１１．３ｍｍｏｌ）およびＡ１（２．３０ｇ，１５．１ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３０．２ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（３．７０ｇ，１８．９ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（２４．７ｇ）を加え、４０℃で５時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１２）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２３，５００、重量平均分子量は、６６，９００であった。

＜合成例１３＞
合成例１２で得られたポリアミド酸溶液（１２）（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（６．７０ｇ）およびピリジン（４．８０ｇ）を加え、９０℃で３．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（７００ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１３）を得た。このポリイミドのイミド化率は８１％であり、数平均分子量は１５，８００、重量平均分子量は３７，５００であった。

本発明の特定ポリイミド系重合体を表１に示す。

＊１：ポリアミド酸。

「本発明の組成物および液晶配向処理剤の製造」
下記する実施例１〜実施例１９、比較例１〜比較例５では、組成物の製造例を記載する。また、これら組成物は液晶配向処理剤の評価のためにも使用される。

本発明の組成物および液晶配向処理剤を表２〜表４に示す。

本発明の実施例および比較例で得られた組成物または液晶配向処理剤を用い、「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。その条件は、下記のとおりである。

「樹脂被膜の透明性の評価」
本発明の実施例および比較例で得られた組成物を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、樹脂被膜の透明性の評価を行った。この溶液を４０×５０ｍｍ石英基板にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間加熱処理をして膜厚が１００ｎｍのポリイミド樹脂被膜付きの石英基板を得た。

得られた樹脂被膜付き石英基板を用いて、紫外可視分光光度計（ＵＶ−２５５０）（島津製作所社製）にて、３００〜７５０ｎｍの波長の紫外可視吸収スペクトルを測定した。このなかで、３１０ｎｍおよび３４０ｎｍの波長の透過率が高いものほど、樹脂被膜の透明性が優れるとした。

表５〜表７に実施例および比較例で得られた樹脂被膜の透明性の結果を示す。

「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」
本発明の実施例７で得られた液晶配向処理剤（７）および実施例１３で得られた液晶配向処理剤（１３）を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、インクジェット塗布性の評価を行った。インクジェット塗布機には、ＨＩＳ−２００（日立プラントテクノロジー社製）を用いた。塗布は、純水およびＩＰＡ（イソプロピルアルコール）にて洗浄を行ったＩＴＯ（酸化インジウムスズ）蒸着基板上に、塗布面積が７０×７０ｍｍ、ノズルピッチが０．４２３ｍｍ、スキャンピッチが０．５ｍｍ、塗布速度が４０ｍｍ／秒、塗布から仮乾燥までの時間が６０秒、仮乾燥がホットプレート上にて７０℃で５分間の条件で行った。

「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」
本発明の実施例および比較例で得られた液晶配向処理剤を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、液晶セルの作製を行った。この溶液を純水およびＩＰＡにて洗浄を行った３０×４０ｍｍＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）のＩＴＯ面にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間加熱処理をして膜厚が１００ｎｍのポリイミド液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。このＩＴＯ基板の塗膜面をロール径が１２０ｍｍのラビング装置でレーヨン布を用いて、ロール回転数が１０００ｒｐｍ、ロール進行速度が５０ｍｍ／ｓｅｃ、押し込み量が０．１ｍｍの条件でラビング処理した。

得られた液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、液晶配向膜面を内側にして６μｍのスペーサー挟んで組み合わせ、シール剤（ＸＮ−１５００Ｔ）（三井化学社製）を印刷した。次いで、他方の基板と液晶配向膜面が向き合うようにして貼り合わせた後、シール剤を熱循環型クリーンオーブン中にて１２０℃で９０分間加熱処理をすることにより硬化して空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、液晶を注入し、注入口を封止して液晶セル（通常セル）を得た。

なお、実施例１および実施例２で得られた液晶配向処理剤（１）および液晶配向処理剤（２）、比較例１および比較例２で得られた液晶配向処理剤（２０）および液晶配向処理剤（２１）および比較例５で得られた液晶配向処理剤（２４）を用いた液晶セルには、液晶にネマティック液晶（ＭＬＣ−２００３）（メルク・ジャパン社製）を用いた。

また、実施例３〜実施例６で得られた液晶配向処理剤（３）〜液晶配向処理剤（６）、実施例８〜実施例１２で得られた液晶配向処理剤（８）〜液晶配向処理剤（１２）、実施例１４〜実施例１９で得られた液晶配向処理剤（１４）〜液晶配向処理剤（１９）および比較例３および比較例４で得られた液晶配向処理剤（２２）および液晶配向処理剤（２３）を用いた液晶セルには、液晶にネマティック液晶（ＭＬＣ−６６０８）（メルク・ジャパン社製）を用いた。

上記で得られた液晶セルを用いて、液晶配向性の評価を行った。液晶配向性は、液晶セルを偏光顕微鏡（ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ＷＰＯＬ）（ニコン社製）で観察し、配向欠陥の有無を確認した。具体的には、配向欠陥が見られなかったものを、本評価に優れるとした（表８〜表１０中に、良好と示した）。

表８〜表１０に実施例および比較例で得られた液晶配向性の結果を示す。

「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」
実施例６で得られた液晶配向処理剤（６）、実施例９で得られた液晶配向処理剤（９）および実施例１６で得られた液晶配向処理剤（１６）を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、−１５℃にて４８時間保管した溶液を用いて、液晶セルの作製および液晶配向性の評価を行った。この溶液を、純水およびＩＰＡにて洗浄した中心に１０×１０ｍｍのパターン間隔２０μｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）と中心に１０×４０ｍｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）のＩＴＯ面にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間加熱処理をして膜厚が１００ｎｍのポリイミド塗膜を得た。塗膜面を純水にて洗浄した後、熱循環型クリーンオーブン中にて１００℃で１５分間加熱処理をして、液晶配向膜付き基板を得た。

この液晶配向膜付き基板を、液晶配向膜面を内側にして、６μｍのスペーサーを挟んで組み合わせ、シール剤で周囲を接着して空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、ネマティック液晶（ＭＬＣ−６６０８）（メルク・ジャパン社製）に、下記の式で示される重合性化合物（１）を、ネマティック液晶（ＭＬＣ−６６０８）の１００質量％に対して重合性化合物（１）を０．３質量％混合した液晶を注入し、注入口を封止して、液晶セルを得た。

得られた液晶セルに、交流５Ｖの電圧を印加しながら、照度６０ｍＷのメタルハライドランプを用いて、３５０ｎｍ以下の波長をカットし、３６５ｎｍ換算で２０Ｊ／ｃｍ^２の紫外線照射を行い、液晶の配向方向が制御された液晶セル（ＰＳＡセル）を得た。液晶セルに紫外線を照射している際の照射装置内の温度は、５０℃であった。

この液晶セルの紫外線照射前と紫外線照射後の液晶の応答速度を測定した。応答速度は、透過率９０％から透過率１０％までのＴ９０→Ｔ１０を測定した。

実施例で得られたＰＳＡセルは、紫外線照射前の液晶セルに比べて、紫外線照射後の液晶セルの応答速度が速くなったことから、液晶の配向方向が制御されたことを確認した。また、いずれの液晶セルとも、偏光顕微鏡（ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ＷＰＯＬ）（ニコン社製）での観察により、液晶は均一に配向していることを確認した。

「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」
（絶縁膜用組成物の調整）
１００ｍｌナス型フラスコに、アクリル系樹脂（（メタ）アクリル酸／ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート＝９／２５．５／６５．５のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液、固形分濃度：２２．０重量％、重量平均分子量６０００（ポリスチレン換算））（７．０７ｇ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（２５．１ｇ）、ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬社製）（３．３０ｇ）、Ｉ−３６９（チバスペシャリティーケミカルズ社製）（０．３０ｇ）、ＩＴＸ（ファーストケミカルコーポレーション社製）、メガファックＲ−３０（０．０１５ｇ）を加え、２５℃で３時間攪拌し、絶縁膜用組成物を得た。この絶縁膜用組成物には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。

（絶縁膜塗布基板の作製）
上記で得られた絶縁膜用組成物を０．２μｍのフィルターを用いてろ過を行った。その後、この組成物を、純水およびＩＰＡにて洗浄した中心に１０×１０ｍｍのパターン間隔２０μｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）と中心に１０×４０ｍｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）のＩＴＯ面にスピンコートし、ホットプレート上にて１１０℃で５分間加熱処理をした。この塗膜に、紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）（キャノン社製）により、３６５ｎｍにおける照射量が、５００ｍＪ/ｃｍ^２の紫外線を照射し、ホットプレート上にて１２０℃で１分間加熱処理をした。その後、さらにホットプレート上にて２００℃で６０分間加熱処理を行い、膜厚１．１２μｍの絶縁膜が塗布された基板を得た。

（液晶セルの作製）
本発明の実施例および比較例で得られた液晶配向処理剤を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、−１５℃にて４８時間保管した溶液を用いて、液晶セルを作製した。この溶液を上記で得られた絶縁膜塗布基板の絶縁膜塗布面にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間加熱処理をして膜厚が１００ｎｍのポリイミド液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。このＩＴＯ基板の塗膜面をロール径が１２０ｍｍのラビング装置でレーヨン布を用いて、ロール回転数が１０００ｒｐｍ、ロール進行速度が５０ｍｍ／ｓｅｃ、押し込み量が０．１ｍｍの条件でラビング処理した。

得られた液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、液晶配向膜面を内側にして６μｍのスペーサー挟んで組み合わせ、シール剤（ＸＮ−１５００Ｔ）（三井化学社製）を印刷した。次いで、他方の基板と液晶配向膜面が向き合うようにして貼り合わせた後、シール剤を熱循環型クリーンオーブン中にて１２０℃で９０分間加熱処理をすることにより硬化して空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、液晶を注入し、注入口を封止して液晶セルを得た。

（電圧保持率の評価）
上記で得られた液晶セルに、７０℃の温度下で１Ｖの電圧を６０μｓ印加し、１６．６７ｍｓ後および５０ｍｓ後の電圧を測定し、電圧がどのくらい保持できているかを電圧保持率（ＶＨＲともいう）として計算した。なお、測定は、電圧保持率測定装置（ＶＨＲ−１）（東陽テクニカ社製）を使用し、Ｖｏｌｔａｇｅ：±１Ｖ、Ｐｕｌｓｅ Ｗｉｄｔｈ：６０μｓ、Ｆｌａｍｅ Ｐｅｒｉｏｄ：１６．６７ｍｓまたは５０ｍｓの設定で行った。

電圧保持率の測定が終了した液晶セルに、３６５ｎｍ換算で１０Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後、同様条件にて、ＶＨＲの測定を行った。なお、紫外線照射は、卓上型ＵＶ硬化装置（ＨＣＴ３Ｂ２８ＨＥＸ−１）（センライト製（ＳＥＮ ＬＩＧＨＴ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ））を用いて行った。

表８〜表１０に実施例および比較例で得られた絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価の結果を示す。

＜実施例１＞
合成例１の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１）（１１．５ｇ）およびＣＥ−２（０．７２ｇ）に、ＮＭＰ（２７．０ｇ）およびＢＣＳ（２６．２ｇ）を加え、５０℃にて６時間攪拌して組成物（１）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１）は、液晶配向処理剤（１）としても評価に用いた。

得られた組成物（１）および液晶配向処理剤（１）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例２＞
合成例２の合成手法で得られたポリイミド粉末（２）（２．３３ｇ）およびＣＥ−１（１．００ｇ）に、ＮＥＰ（３２．７ｇ）、ＰＣＳ（５．７０ｇ）およびＢＣＳ（２１．２ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（２）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（２）は、液晶配向処理剤（２）としても評価に用いた。

得られた組成物（２）および液晶配向処理剤（２）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例３＞
合成例３の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（３）（１２．６ｇ）およびＣＥ−１に、ＮＭＰ（１５．７ｇ）、ＢＣＳ（１５．９ｇ）およびＰＢ（１９．１ｇ）を加え、５０℃にて６時間攪拌して組成物（３）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（３）は、液晶配向処理剤（３）としても評価に用いた。

得られた組成物（３）および液晶配向処理剤（３）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例４＞
合成例３の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（３）（７．８０ｇ）およびＣＥ−２に、ＮＭＰ（２６．７ｇ）、ＰＣＳ（５．６１ｇ）およびＢＣＳ（１７．７ｇ）を加え、５０℃にて６時間攪拌して組成物（４）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（４）は、液晶配向処理剤（４）としても評価に用いた。

得られた組成物（４）および液晶配向処理剤（４）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例５＞
合成例４の合成手法で得られたポリイミド粉末（４）（２．４５ｇ）およびＣＥ−２（１．０５ｇ）に、ＮＭＰ（９．２７ｇ）、ＮＥＰ（２４．７ｇ）およびＰＢ（２８．６ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（５）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（５）は、液晶配向処理剤（５）としても評価に用いた。

得られた組成物（５）および液晶配向処理剤（５）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例６＞
合成例５の合成手法で得られたポリイミド粉末（５）（２．００ｇ）およびＣＥ−２（１．３３ｇ）に、ＮＭＰ（１１．６ｇ）、ＮＥＰ（１７．３ｇ）およびＰＢ（３０．２ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（６）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（６）は、液晶配向処理剤（６）としても評価に用いた。

得られた組成物（６）および液晶配向処理剤（６）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例７＞
合成例５の合成手法で得られたポリイミド粉末（５）（１．０８ｇ）およびＣＥ−２（０．７２ｇ）に、ＮＭＰ（１１．７ｇ）、ＮＥＰ（１７．６ｇ）およびＰＢ（３０．０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（７）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（７）は、液晶配向処理剤（７）としても評価に用いた。

得られた液晶配向処理剤（７）を用いて、上述した条件にて、「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」を行った。

＜実施例８＞
合成例５の合成手法で得られたポリイミド粉末（５）（２．１５ｇ）およびＣＥ−２（０．９２ｇ）に、γ−ＢＬ（２４．２ｇ）、ＤＥＥＥ（１１．７ｇ）およびＢＣＳ（２４．５ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（８）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（８）は、液晶配向処理剤（８）としても評価に用いた。

得られた組成物（８）および液晶配向処理剤（８）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例９＞
合成例６の合成手法で得られたポリイミド粉末（６）（２．８３ｇ）およびＣＥ−１（０．５０ｇ）に、ＮＥＰ（３５．９ｇ）およびＢＣＳ（２４．２ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（９）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（９）は、液晶配向処理剤（９）としても評価に用いた。

得られた組成物（９）および液晶配向処理剤（９）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例１０＞
合成例７の合成手法で得られたポリイミド粉末（７）（１．８９ｇ）およびＣＥ−２（１．５５ｇ）に、ＮＥＰ（２６．６ｇ）、ＢＣＳ（１２．５ｇ）およびＰＢ（２１．９ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（１０）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１０）は、液晶配向処理剤（１０）としても評価に用いた。

得られた組成物（１０）および液晶配向処理剤（１０）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例１１＞
合成例８の合成手法で得られたポリイミド粉末（８）（１．５３ｇ）およびＣＥ−２（１．８７ｇ）に、ＮＭＰ（１４．５ｇ）、ＮＥＰ（１４．５ｇ）およびＰＢ（３０．９ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（１１）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１１）は、液晶配向処理剤（１１）としても評価に用いた。

得られた組成物（１１）および液晶配向処理剤（１１）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例１２＞
合成例８の合成手法で得られたポリイミド粉末（８）（１．８８ｇ）およびＣＥ−２（１．２５ｇ）に、γ−ＢＬ（２４．７ｇ）、ＰＧＭＥ（１７．８ｇ）およびＰＢ（１８．８ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（１２）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１２）は、液晶配向処理剤（１２）としても評価に用いた。

得られた組成物（１２）および液晶配向処理剤（１２）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例１３＞
合成例８の合成手法で得られたポリイミド粉末（８）（１．０８ｇ）およびＣＥ−２（０．７５ｇ）に、γ−ＢＬ（２２．３ｇ）およびＰＧＭＥ（３９．４ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（１３）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１３）は、液晶配向処理剤（１３）としても評価に用いた。

得られた液晶配向処理剤（１３）を用いて、上述した条件にて、「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」を行った。

＜実施例１４＞
合成例９の合成手法で得られたポリイミド粉末（９）（２．８０ｇ）およびＣＥ−１（０．７０ｇ）に、ＮＭＰ（３５．０ｇ）、ＤＥＥＥ（１２．０ｇ）およびＢＣＳ（１５．９ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（１４）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１４）は、液晶配向処理剤（１４）としても評価に用いた。

得られた組成物（１４）および液晶配向処理剤（１４）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例１５＞
合成例１０の合成手法で得られたポリイミド粉末（１０）（２．３８ｇ）およびＣＥ−２（１．０２ｇ）に、ＮＥＰ（２６．８ｇ）、ＢＣＳ（２４．７ｇ）およびＰＢ（９．２７ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（１５）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１５）は、液晶配向処理剤（１５）としても評価に用いた。

得られた組成物（１５）および液晶配向処理剤（１５）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例１６＞
合成例１１の合成手法で得られたポリイミド粉末（１１）（２．４５ｇ）およびＣＥ−２（１．０５ｇ）に、ＮＥＰ（３７．５ｇ）、ＤＥＥＥ（６．０２ｇ）およびＢＣＳ（１９．１ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（１６）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１６）は、液晶配向処理剤（１６）としても評価に用いた。

得られた組成物（１６）および液晶配向処理剤（１６）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例１７＞
合成例１２の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１２）（１１．２ｇ）およびＣＥ−２に、ＮＭＰ（２６．３ｇ）、ＢＣＳ（１２．８ｇ）およびＰＢ（１２．８ｇ）を加え、５０℃にて６時間攪拌して組成物（１７）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１７）は、液晶配向処理剤（１７）としても評価に用いた。

得られた組成物（１７）および液晶配向処理剤（１７）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜実施例１８＞
合成例１３の合成手法で得られたポリイミド粉末（１３）（２．２３ｇ）およびＣＥ−２（１．２０ｇ）に、ＮＭＰ（３０．８ｇ）、ＰＣＳ（１４．７ｇ）およびＢＣＳ（１５．６ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（１８）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１８）は、液晶配向処理剤（１８）としても評価に用いた。

得られた組成物（１８）および液晶配向処理剤（１８）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。
＜実施例１９＞
合成例１３の合成手法で得られたポリイミド粉末（１３）（１．８９ｇ）およびＣＥ−２（１．２６ｇ）に、γ−ＢＬ（２４．９ｇ）、ＰＣＳ（１８．０ｇ）およびＰＢ（１８．９ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（１９）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１９）は、液晶配向処理剤（１９）としても評価に用いた。

得られた組成物（１９）および液晶配向処理剤（１９）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜比較例１＞
合成例１の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１）（１２．５ｇ）に、ＮＭＰ（２１．６ｇ）およびＢＣＳ（２２．７ｇ）を加え、２５℃にて３時間攪拌して組成物（２０）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（２０）は、液晶配向処理剤（２０）としても評価に用いた。

得られた組成物（２０）および液晶配向処理剤（２０）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜比較例２＞
合成例２の合成手法で得られたポリイミド粉末（２）（３．１２ｇ）に、ＮＥＰ（３１．５ｇ）、ＰＣＳ（５．４１ｇ）およびＢＣＳ（１９．９ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（２１）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（２１）は、液晶配向処理剤（２１）としても評価に用いた。

得られた組成物（２１）および液晶配向処理剤（２１）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜比較例３＞
合成例３の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（３）（１２．０ｇ）に、ＮＭＰ（１２．５ｇ）、ＢＣＳ（１３．６ｇ）およびＰＢ（１６．４ｇ）を加え、２５℃にて３時間攪拌して組成物（２２）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（２２）は、液晶配向処理剤（２２）としても評価に用いた。

得られた組成物（２２）および液晶配向処理剤（２２）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜比較例４＞
合成例５の合成手法で得られたポリイミド粉末（５）（３．２０ｇ）に、ＮＭＰ（１１．６ｇ）、ＮＥＰ（１７．５ｇ）およびＰＢ（２９．１ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（２３）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（２３）は、液晶配向処理剤（２３）としても評価に用いた。

得られた組成物（２３）および液晶配向処理剤（２３）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＜比較例５＞
ＣＥ−２（２．０２ｇ）に、ＮＭＰ（９．２８ｇ）、ＮＥＰ（１３．９ｇ）およびＰＢ（２５．３ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して組成物（２４）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（２４）は、液晶配向処理剤（２４）としても評価に用いた。

得られた組成物（２４）および液晶配向処理剤（２４）を用いて、上述した条件にて「樹脂被膜の透明性の評価」、「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（通常セル）」および「絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価」を行った。

＊２：組成物（液晶配向処理剤）中の重合体の占める割合を示す。

＊３：組成物（液晶配向処理剤）中の重合体の占める割合を示す。

＊４：組成物（液晶配向処理剤）中の重合体の占める割合を示す。

＊５：均一な液晶配向は得られず、流動配向が見られた。

上記の結果からわかるように、本発明の実施例の組成物は、比較例の組成物に比べて、透明性が高い樹脂被膜が得られた。具体的には、同一の本発明の（Ｂ）成分である特定ポリイミド系重合体を用いて、本発明の（Ａ）成分である特定セルロース系重合体を用いている組成物と、特定セルロース系重合体を用いていない組成物との比較、すなわち、実施例１と比較例１との比較、実施例２と比較例２との比較、実施例３と比較例３との比較および実施例６と比較例４との比較である。

また、絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価において、本発明の組成物から得られた液晶配向処理剤は、比較例の組成物から得られる液晶配向処理剤に比べて、液晶配向膜の下に有機部材からなる絶縁膜がある状態で光を照射しても、電圧保持率に優れる結果が得られた（実施例および比較例における絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価より）。具体的には、同一の本発明の（Ｂ）成分である特定ポリイミド系重合体を用いて、本発明の（Ａ）成分である特定セルロース系重合体を用いている組成物と、特定セルロース系重合体を用いていない組成物との比較、すなわち、実施例１と比較例１との比較、実施例２と比較例２との比較、実施例３と比較例３との比較および実施例６と比較例４との比較である。さらに、特定ポリイミド系重合体を含まない比較例５に対しても、上記電圧保持率に優れる結果が得られた。

本発明の組成物は、樹脂被膜の透明性が高く、紫外線などの光による樹脂被膜の分解を抑制することができる。

加えて、本発明の液晶配向処理剤は、液晶配向膜の下に有機部材からなる絶縁膜がある状態で光が照射しても、電圧保持率に優れる液晶配向膜となる。

よって、本発明の液晶配向処理剤から得られた液晶配向膜を有する液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビなどに好適に利用でき、ＴＮ素子、ＳＴＮ素子、ＴＦＴ液晶素子、特に垂直配向型の液晶表示素子に有用である。

さらに、本発明の液晶配向処理剤から得られた液晶配向膜は、液晶表示素子を作製する際に、紫外線を照射する必要がある液晶表示素子に対しても有用である。すなわち、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子、さらには、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方で重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性基を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に対しても有用である。

Claims (8)

1. 下記の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有する組成物。
   （Ａ）成分：ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート。
   （Ｂ）成分：下記の式［２ａ］で示される構造を有するジアミン化合物を含むジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体及びポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体。
   

   

   （式［２ａ］中、ａは０〜４の整数を示す）。
2. 前記式［２ａ］で示されるジアミン成分が、下記の式［２ａ−１］で示される構造のジアミン化合物を含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
   

   

   （式［２ａ−１］中、ａは０〜４の整数を示し、ｎは１〜４の整数を示す）。
3. 前記（Ｂ）成分の重合体におけるジアミン成分が、下記の式［２ｂ］で示される構造のジアミン化合物及び下記の式［２ｂ−１６］〜［２ｂ−３３］で示されるジアミン化合物から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の組成物。
   

   

   （式［２ｂ］中、Ｙは下記の式［２ｂ−１］、式［２ｂ−２］、式［２ｂ−３］、式［２ｂ−４］または式［２ｂ−５］から選ばれる構造の置換基を示し、ｍは１〜４の整数を示す）。
   

   

   （式［２ｂ−１］中、ａは０〜４の整数を示し、式［２ｂ−２］中、Ｙ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｙ^２は単結合または−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示し、Ｙ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｙ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基を示し、前記環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、Ｙ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、ｎは０〜４の整数を示し、Ｙ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基または炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示し、式［２ｂ−３］中、Ｙ^７は−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＯ−を示し、Ｙ^８は炭素数８〜２２のアルキル基を示し、式［２ｂ−４］中、Ｙ^９およびＹ^１０はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、式［２ｂ−５］中、Ｙ^１１は炭素数１〜５のアルキル基を示す）。
   

   

   

   

   

   

   

   

   

   
4. 前記（Ｂ）成分の重合体におけるテトラカルボン酸成分が、下記の式［３］で示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の組成物。
   

   

   （式［３］中、Ｚ^１は下記の式［３ａ］〜式［３ｊ］から選ばれる構造の基である）。
   

   

   （式［３ａ］中、Ｚ^２〜Ｚ^５は水素原子、メチル基、塩素原子またはベンゼン環を示し、それぞれ同じであっても異なってもよく、式［３ｇ］中、Ｚ^６およびＺ^７は水素原子またはメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい）。
5. （Ｃ）成分として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン及びγ−ブチロラクトンから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の組成物。
6. （Ｄ）成分として、下記の式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の組成物。
   

   

   （式［Ｄ−１］中、Ｄ^１は炭素数１〜３のアルキル基を示し、式［Ｄ−２］中、Ｄ^２は炭素数１〜３のアルキル基を示し、式［Ｄ−３］中、Ｄ^３は炭素数１〜４のアルキル基を示す）。
7. （Ｅ）成分として、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテルまたはエチレングリコールモノブチルエーテルから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の組成物。
8. 請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の組成物から得られる樹脂被膜。