JPWO2015046374A1 - 液晶配向処理剤およびそれを用いた液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

下記の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有する液晶配向処理剤。（Ａ）成分：窒素原子を有する構造を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体。（Ｂ）成分：ウレア構造若しくはチオウレア構造を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体。但し（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の重合体の少なくとも一方には、特定の側鎖構造を含有する。

Description

本発明は、液晶表示素子の製造において用いられる液晶配向処理剤、この液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜およびこの液晶配向膜を使用した液晶表示素子に関するものである。

液晶表示素子は、薄型・軽量を実現する表示デバイスとして、現在、広く使用されている。通常、この液晶表示素子には、液晶の配向状態を決定づけるために液晶配向膜が使用されている。

液晶配向膜に求められる特性の一つとして、基板面に対する液晶分子の配向傾斜角を任意の値に保つ、いわゆる液晶のプレチルト角の制御がある。このプレチルト角の大きさは、液晶配向膜を構成しているポリイミドの構造を選択することで変更できることが知られている。ポリイミドの構造によってプレチルト角を制御する技術の中でも、側鎖を有するジアミンをポリイミド原料の一部として用いる方法は、このジアミンの使用割合に応じてプレチルト角が制御できるので、目的のプレチルト角を得ることが比較的容易であり、プレチルト角を大きくする手段として有用である（例えば特許文献１参照）。また、このように液晶のプレチルト角を大きくするためのジアミン成分は、プレチルト角の安定性やプロセス依存性を改善するための構造検討もされており、ここで用いられる側鎖構造としては、フェニル基やシクロヘキシル基などの環構造を含むものが提案されている（例えば特許文献２参照）。

また、液晶表示素子の高精細化に伴い、液晶表示素子のコントラスト低下の抑制や残像現象の低減といった観点から、そこに使用される液晶配向膜においても電圧保持率が高いことや、直流電圧を印加した際の蓄積電荷が少ないまたは直流電圧により蓄積した電荷の緩和が早いといった特性が次第に重要となっていた。

ポリイミド系の液晶配向膜において、直流電圧によって発生した残像が消えるまでの時間が短いものとして、ポリアミド酸やイミド基含有ポリアミド酸に加えて特定構造の３級アミンを含有する液晶配向処理剤を使用したもの（例えば特許文献３参照）や、ピリジン骨格などを有する特定ジアミンを原料に使用した可溶性ポリイミドを含有する液晶配向処理剤を使用したもの（例えば特許文献４参照）などが知られている。また、電圧保持率が高く、かつ直流電圧によって発生した残像が消えるまでの時間が短いものとして、ポリアミド酸やそのイミド化重合体などに加えて分子内に１個のカルボン酸基を含有する化合物、分子内に１個のカルボン酸無水物基を含有する化合物および分子内に１個の３級アミノ基を含有する化合物から選ばれる化合物を極少量含有する液晶配向処理剤を使用したもの（例えば特許文献５参照）が知られている。

特開平２−２８２７２６号公報 特開平９−２７８７２４号公報 特開平９−３１６２００号公報 特開平１０−１０４６３３号公報 特開平８−７６１２８号公報

液晶配向膜は、基板に対する液晶の角度、すなわち液晶のプレチルト角の制御を行うためにも用いられている。特に、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードやＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードなどでは、液晶を垂直に配向させる必要があるため、液晶配向膜には、液晶を垂直に配向させる能力（垂直配向性や高いプレチルト角ともいう）が求められる。さらに、液晶配向膜には、高い垂直配向性だけではなく、その安定性に対しても重要となってきている。特に、高輝度を得るために発熱量が大きく、光の照射量が多いバックライトを使用している液晶表示素子、例えば、カーナビゲーションシステムや大型テレビでは、長時間高温および光の照射に曝された環境下で使用あるいは放置される場合がある。そのような過酷条件において、垂直配向性が低下した場合、初期の表示特性が得られない、あるいは、表示にムラが発生するなどの問題が起こる。

さらに、液晶表示素子の電気特性の１つである電圧保持率に関しても、上記のような過酷条件下での高い安定性も求められている。すなわち、電圧保持率が、バックライトからの光照射によって低下してしまうと、液晶表示素子の表示不良の１つである焼き付き不良（線焼き付きともいわれる）が発生しやすくなってしまい、信頼性の高い液晶表示素子を得ることができない。したがって、液晶配向膜においては、初期特性が良好なことに加え、例えば、長時間、光の照射に曝された後であっても、電圧保持率が低下しにくいことが求められている。さらに、もう１つの焼き付き不良である面焼付きに対しても、バックライトからの光照射によって、直流電圧により蓄積する残留電荷の緩和が早い液晶配向膜が求められている。

そこで本発明は、上記特性を兼ね備えた液晶配向処理剤を提供することを目的とする。すなわち、本発明の目的は、長時間高温および光の照射に曝された後でも、安定なプレチルト角が発現できる液晶配向膜を提供することを目的とする。加えて、長時間光の照射に曝された後でも、電圧保持率の低下を抑制し、かつ直流電圧により蓄積する残留電荷の緩和が早い液晶配向膜を提供することを目的とする。

加えて、上記の液晶配向膜を有する液晶表示素子、上記の液晶配向膜を提供することのできる液晶配向処理剤を提供することにある。

さらに本発明は、上述の要求に対応した液晶配向膜を備えた液晶表示素子を提供することを目的とする。

本発明者は、鋭意研究を行った結果、特定構造を有する２つの重合体を有する液晶配向処理剤が、上記の目的を達成するために極めて有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は以下の要旨を有するものである。
（１）下記の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有する液晶配向処理剤。
（Ａ）成分：窒素原子を含む構造を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体。
（Ｂ）成分：下記の式［２］で示される構造を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体。
なお、（Ａ）成分および（Ｂ）成分の重合体の少なくともいずれか一方には、下記の式［３］で示される構造を含有する。

（式［２］中、Ｙ^１およびＹ^７はそれぞれ独立して、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１）−（Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＯＮ（Ｒ^２）−（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−Ｎ（Ｒ^３）ＣＯ−（Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−および−ＯＣＯ−から選ばれる少なくとも１種の有機基を示し、Ｙ^２およびＹ^６はそれぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^３およびＹ^５はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^４は酸素原子または硫黄原子を示す）。

（式［３］中、Ｂ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｂ^２は単結合または−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示し、Ｂ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｂ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基、またはステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、Ｂ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、ｎは０〜４の整数を示し、Ｂ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基または炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示す）。

（２）前記（Ｂ）成分における窒素原子を有する構造が、下記の式［１ａ］〜式［１ｃ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造である上記（１）に記載の液晶配向処理剤。

（式［１ａ］中、Ｘ^１はベンゼン環または窒素含有芳香族複素環を示し、Ｘ^２は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族基で置換されたジ置換アミノ基を示し、式［１ｂ］中、Ｘ^３およびＸ^７はそれぞれ独立して、炭素原子を６〜１５個有し、かつベンゼン環を１〜２個有する芳香族基を示し、Ｘ^４およびＸ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示し、Ｘ^５は炭素数２〜５のアルキレン基またはビフェニル基を示し、ｍは０または１の整数を示し、式［１ｃ］中、Ｘ^８およびＸ^１０はそれぞれ独立して、下記の式［１ｃ−ａ］および式［１ｃ−ｂ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を示し、Ｘ^９は炭素数１〜５のアルキレン基またはベンゼン環を示す）。

（３）前記（Ａ）成分の重合体が、下記の式［１−１］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いて得られる重合体である上記（１）または上記（２）に記載の液晶配向処理剤。

（式［１−１］中、Ｘ^Ａは前記式［１ａ］〜式［１ｃ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を有する有機基を示し、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。

（４）前記ジアミン化合物が、下記の式［１ａ−１］〜式［１ｃ−１］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いて得られる重合体である上記（３）に記載の液晶配向処理剤。

（式［１ａ−１］中、Ｘ^１はベンゼン環または窒素含有芳香族複素環を示し、Ｘ^２は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族基で置換されたジ置換アミノ基を示し、式［１ｂ−１］中、Ｘ^３およびＸ^７はそれぞれ独立して、炭素原子を６〜１５個有し、かつベンゼン環を１〜２個有する芳香族基を示し、Ｘ^４およびＸ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示し、Ｘ^５は炭素数２〜５のアルキレン基またはビフェニル基を示し、ｍは０または１の整数を示し、式［１ｃ−１］中、Ｘ^８およびＸ^１０はそれぞれ独立して、前記式［１ｃ−ａ］および式［１ｃ−ｂ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を示し、Ｘ^９は炭素数１〜５のアルキレン基またはベンゼン環を示し、式［１ａ−１］〜式［１ｃ−１］中、Ａ^１〜Ａ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。

（５）前記ジアミン化合物が、下記の式［１−１ａ］〜式［１−４ａ］で示されるジアミン化合物から選ばれる少なくとも１種のジアミン化合物である上記（４）に記載の液晶配向処理剤。

（式［１−３ａ］中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示し、式［１−４ａ］中、ｎは１〜１０の整数を示し、式［１−１ａ］〜式［１−４ａ］中、Ａ^１〜Ａ^８はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。

（６）前記（Ｂ）成分の重合体が、下記の式［２−１］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いて得られる重合体である上記（１）〜上記（５）のいずれかに記載の液晶配向処理剤。

（式［２−１］中、Ｙ^Ａは前記式［２］で示される構造を有する有機基を示し、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。

（７）前記ジアミン化合物が、下記の式［２ａ］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いて得られる重合体である上記（６）に記載の液晶配向処理剤。

（式［２ａ］中、Ｙ^１およびＹ^７はそれぞれ独立して、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１）−（Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＯＮ（Ｒ^２）−（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−Ｎ（Ｒ^３）ＣＯ−（Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−および−ＯＣＯ−から選ばれる少なくとも１種の有機基を示し、Ｙ^２およびＹ^６はそれぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^３およびＹ^５はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^４は酸素原子または硫黄原子を示し、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。

（８）前記ジアミン化合物が、下記の式［２−１ａ］〜式［２−３ａ］で示されるジアミン化合物から選ばれる少なくとも１種のジアミン化合物である上記（７）に記載の液晶配向処理剤。

（式［２−１ａ］〜式［２−３ａ］中、Ａ^１〜Ａ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。

（９）前記（Ａ）成分および（Ｂ）成分の少なくともいずれか一方の重合体に、下記の式［３ａ］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いた上記（１）〜上記（８）のいずれかに記載の液晶配向処理剤。

（式［３ａ］中、Ｂは前記式［３］を示し、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示し、ｍは１〜４の整数を示す）。

（１０）前記（Ａ）成分の重合体および（Ｂ）成分の重合体が、下記の式［４］で示されるテトラカルボン酸成分を用いて得られるポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体である上記（１）〜上記（９）のいずれかに記載の液晶配向処理剤。

（式［４］中、Ｚは下記の式［４ａ］〜式［４ｋ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を示す）。

（式［４ａ］中、Ｚ^１〜Ｚ^４は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、塩素原子またはベンゼン環を示し、それぞれ同じであっても異なってもよく、式［４ｇ］中、Ｚ^５およびＺ^６は水素原子またはメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい）。

（１１）前記テトラカルボン酸成分が、前記式［４］中のＺが前記式［４ａ］および式［４ｅ］〜式［４ｇ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造のテトラカルボン酸成分である上記（１０）に記載の液晶配向処理剤。

（１２）前記（Ａ）成分の重合体において、前記式［１ａ−１］〜式［１ｃ−１］で示されるジアミン化合物が、すべてのジアミン成分１００モル％中、５モル％〜９５モル％である上記（４）〜上記（１１）のいずれかに記載の液晶配向処理剤。

（１３）前記（Ｂ）成分の重合体において、前記式［２ａ］で示されるジアミン化合物が、すべてのジアミン成分１００モル％中、５モル％〜９５モル％である上記（７）〜上記（１２）のいずれかに記載の液晶配向処理剤。

（１４）前記（Ｂ）成分の重合体が、前記（Ａ）成分の重合体１００質量部に対して、０．５質量部〜９５０質量部である上記（１）〜上記（１３）のいずれかに記載の液晶配向処理剤。

（１５）液晶配向処理剤の溶媒として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドンおよびγ−ブチロラクトンから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する上記（１）〜上記（１４）のいずれかに記載の液晶配向処理剤。

（１６）液晶配向処理剤の溶媒として、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルおよびジプロピレングリコールジメチルエーテルから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する上記（１）〜上記（１５）のいずれかに記載の液晶配向処理剤。

（１７）液晶配向処理剤中に、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基またはシクロカーボネート基を有する架橋性化合物、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基または低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する架橋性化合物、および重合性不飽和結合を有する架橋性化合物から選ばれる少なくとも１種の架橋性化合物を含む上記（１）〜上記（１６）のいずれかに記載の液晶配向処理剤。

（１８）上記（１）〜上記（１７）のいずれかに記載の液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜。

（１９）上記（１）〜上記（１７）のいずれかに記載の液晶配向処理剤を用いて、インクジェット法にて得られる液晶配向膜。

（２０）上記（１８）または上記（１９）に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。

（２１）電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられることを特徴とする上記（１８）または上記（１９）に記載の液晶配向膜。

（２２）上記（２１）に記載の液晶配向膜を有することを特徴とする液晶表示素子。

（２３）電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性基を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられることを特徴とする上記（１８）または上記（１９）に記載の液晶配向膜。

（２４）上記（２３）に記載の液晶配向膜を有することを特徴とする液晶表示素子。

本発明の特定構造を有するポリイミド前駆体またはポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体を２種類含む液晶配向処理剤は、長時間高温および光の照射に曝された後でも、安定なプレチルト角が発現できる液晶配向膜を得ることができる。加えて、長時間光の照射に曝された後でも、電圧保持率の低下を抑制し、かつ直流電圧により蓄積する残留電荷の緩和が早い液晶配向膜となる。よって、本発明の液晶配向処理剤から得られた液晶配向膜を有する液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビなどに好適に利用できる。

以下に、本発明について詳細に説明する。

本発明は、下記の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有する液晶配向処理剤、該液晶配向処理剤を用いて得られる液晶配向膜、さらには、該液晶配向膜を有する液晶表示素子である。

下記の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有する液晶配向処理剤。
（Ａ）成分：窒素原子を含む構造を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体（特定重合体（Ａ）ともいう）。
（Ｂ）成分：下記の式［２］で示される構造（特定構造（２）ともいう）を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体（特定重合体（Ｂ）ともいう）。

なお、（Ａ）成分および（Ｂ）成分の重合体の少なくともいずれか一方には、下記の式［３］で示される構造（特定側鎖構造ともいう）を含有する。

（式［２］中、Ｙ^１およびＹ^７はそれぞれ独立して、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１）−（Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＯＮ（Ｒ^２）−（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−Ｎ（Ｒ^３）ＣＯ−（Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−および−ＯＣＯ−から選ばれる少なくとも１種の有機基を示し、Ｙ^２およびＹ^６はそれぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^３およびＹ^５はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^４は酸素原子または硫黄原子を示す）。

（式［３］中、Ｂ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｂ^２は単結合または−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示し、Ｂ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｂ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基、またはステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、Ｂ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、ｎは０〜４の整数を示し、Ｂ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基または炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示す）。

本発明の液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜において、何故に本発明の課題が解決されるかについては、必ずしも明らかではないが、ほぼ次のように考えられる。

すなわち、本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）の少なくともいずれか一方に含有される前記式［３］で示される特定側鎖構造は、側鎖部位にベンゼン環、シクロヘキシル環または複素環、またはステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を有する。これら環および有機基の側鎖構造は、液晶を垂直に配向させる従来技術である長鎖アルキル基の側鎖構造に比べて剛直な構造を示す。これにより、本発明の特定側鎖構造を有する液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜は、従来の長鎖アルキル基の側鎖構造のものに比べて、高くて安定な液晶の垂直配向性を得ることができる。

また、本発明の特定側鎖構造は、従来の長鎖アルキル基の側鎖構造に比べて、紫外線などの光に対して安定である。そのため、本発明の特定側鎖構造は、長時間光の照射に曝されても、電圧保持率を低下させ、かつ直流電圧による残留電荷を蓄積させる側鎖成分の分解物を抑制することができる。

さらには、本発明の特定重合体（Ａ）中に含まれる窒素原子を含む構造中の窒素原子と特定重合体（Ｂ）中のカルボキシル基（ＣＯＯＨ基）との相互作用と、特定重合体（Ｂ）における前記式［２］中の窒素原子と特定重合体（Ａ）中のカルボキシル基との相互作用により、これらの間で電荷の移動が起こると考えられる。それに伴い、蓄積された残留電荷が、効率的に重合体の分子内または分子間を移動することができる。すなわち、直流電圧による残留電荷の抜けを促進させることができると考えられる。

加えて、本発明の特定重合体（Ａ）中の窒素原子を有する構造は、電圧保持率を低下させる要因であるイオン性不純物成分をトラップすることができると考えられる。すなわち、液晶表示素子が、長時間光の照射に曝されることで発生するイオン性不純物をトラップすることができ、それに伴い電圧保持率の低下を抑制することができる。

以上の点から、本発明の特定構造を有するポリイミド前駆体またはポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体を２種類含む液晶配向処理剤は、長時間高温および光の照射に曝された後でも、安定なプレチルト角が発現できる液晶配向膜を得ることができる。加えて、長時間光の照射に曝された後でも、電圧保持率の低下を抑制し、かつ直流電圧により蓄積する残留電荷の緩和が早い液晶配向膜となる。

＜窒素原子を有する構造＞
本発明の特定重合体（Ａ）は、窒素原子を含む構造を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体である。

窒素原子を含む構造の具体的な構造としては、下記の式［１ａ］〜式［１ｃ］で示される構造が挙げられる。

式［１ａ］中、Ｘ^１はベンゼン環または窒素含有芳香族複素環を示す。

式［１ａ］中、Ｘ^２は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族基で置換されたジ置換アミノ基を示す。

なお、式［１ａ］中、Ｘ^２が水素原子の場合、Ｘ^１は窒素含有芳香族複素環を示し、Ｘ^２が炭素数１〜１２の脂肪族基で置換されたジ置換アミノ基の場合、Ｘ^１はベンゼン環を示す。

式［１ｂ］中、Ｘ^３およびＸ^７はそれぞれ独立して、炭素原子を６〜１５個有し、かつベンゼン環を１〜２個有する芳香族基を示す。

式［１ｂ］中、Ｘ^４およびＸ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。

式［１ｂ］中、Ｘ^５は炭素数２〜５のアルキレン基またはビフェニル基を示す。

式［１ｂ］中、ｍは０または１の整数を示す。

式［１ｃ］中、Ｘ^８およびＸ^１０はそれぞれ独立して、下記の式［１ｃ−ａ］および式［１ｃ−ｂ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を示す。

式［１ｃ］中、Ｘ^９は炭素数１〜５のアルキレン基またはベンゼン環を示す。

＜特定構造（２）＞
本発明の特定重合体（Ｂ）は、下記の式［２］で示される特定構造を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体である。

式［２］中、Ｙ^１およびＹ^７はそれぞれ独立して、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^１）−（Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＯＮ（Ｒ^２）−（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−Ｎ（Ｒ^３）ＣＯ−（Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−および−ＯＣＯ−から選ばれる少なくとも１種の有機基を示す。なかでも、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、液晶配向性と液晶配向膜の膜硬度の点から、単結合、−Ｏ−または−Ｓ−である。

式［２］中、Ｙ^２およびＹ^６はそれぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を示す。なかでも、炭素数１〜３のアルキレン基が好ましく、その構造は直鎖または分岐鎖のいずれでもよい。具体的には、液晶配向性と液晶配向膜の膜硬度の点から、自由回転部位を持ち、かつ立体障害の小さい構造であるメチレン基（−ＣＨ_２−）、エチレン基（−ＣＨ_２ＣＨ_２−）、プロピレン基（−（ＣＨ_２）_３−）またはイソプロピル基（−Ｃ（ＣＨ_２）_２−）が好ましい。

式［２］中、Ｙ^３およびＹ^５はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を示す。なかでも、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。特に好ましいのは、水素原子である。

式［２］中、Ｙ^４は酸素原子または硫黄原子を示す。なかでも、液晶配向膜の膜硬度の点から、酸素原子が好ましい。

＜特定側鎖構造＞
本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）の少なくともいずれか一方に含有される前記式［３］で示される特定側鎖構造は、下記の式［３］で示される構造である。

式［３］中、Ｂ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＯＯ−である。

式［３］中、Ｂ^２は単結合または−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。なかでも、単結合または−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１０の整数である）が好ましい。

式［３］中、Ｂ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示す。なかでも、合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＯＯ−である。

式［３］中、Ｂ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基であり、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよい。さらに、Ｂ^４は、ステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基から選ばれる２価の有機基であってもよい。なかでも、合成の容易さの点から、ベンゼン環、シクロへキサン環またはステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基が好ましい。

式［３］中、Ｂ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよい。なかでも、ベンゼン環またはシクロへキサン環が好ましい。

式［３］中、ｎは０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０〜３が好ましい。より好ましいのは、０〜２である。

式［３］中、Ｂ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基または炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示す。なかでも、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１０のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基または炭素数１〜１０のフッ素含有アルコキシル基が好ましい。より好ましくは、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアルコキシル基である。特に好ましくは、炭素数１〜９のアルキル基または炭素数１〜９のアルコキシル基である。

式［３］におけるＢ^１〜Ｂ^６およびｎの好ましい組み合わせとしては、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の１３頁〜３４頁の表６〜表４７に掲載される（２−１）〜（２−６２９）と同じ組み合わせが挙げられる。なお、国際公開公報の各表では、本発明におけるＢ^１〜Ｂ^６が、Ｙ１〜Ｙ６として示されているが、Ｙ１〜Ｙ６は、Ｂ^１〜Ｂ^６と読み替えるものとする。また、国際公開公報の各表に掲載される（２−６０５）〜（２−６２９）では、本発明におけるステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基が、ステロイド骨格を有する炭素数１２〜２５の有機基と示されているが、ステロイド骨格を有する炭素数１２〜２５の有機基は、ステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基と読み替えるものとする。

＜特定重合体（Ａ）・特定重合体（Ｂ）＞
本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）は、ポリイミド前駆体およびポリイミド（総称してポリイミド系重合体ともいう）から選ばれる少なくとも１種の重合体である。なかでも、本発明のポリイミド系重合体は、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体またはポリイミドであることが好ましい。

ポリイミド前駆体とは、下記の式［Ａ］で示される構造である。

（式［Ａ］中、Ｒ^１は４価の有機基であり、Ｒ^２は２価の有機基であり、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示し、Ａ^３およびＡ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキレン基またはアセチル基を示し、ｎは正の整数を示す）。

前記ジアミン成分としては、分子内に１級または２級のアミノ基を２個有するジアミン化合物が挙げられる。

また、前記テトラカルボン酸成分としては、テトラカルボン酸化合物、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物またはテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物が挙げられる。

式［Ａ］中のＡ^１およびＡ^２が水素原子であるポリアミド酸を得るためには、前記分子内に１級または２級のアミノ基を２個有するジアミン化合物と、テトラカルボン酸化合物またはテトラカルボン酸無水物とを反応させることで得ることができる。

式［Ａ］中のＡ^１およびＡ^２が炭素数１〜５のアルキレン基であるポリアミド酸アルキルエステルを得るためには、前記ジアミン化合物と、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物またはテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物とを反応させることで得ることができる。また、前記方法で得られたポリアミド酸に、式［Ａ］で示されるＡ^１およびＡ^２の炭素数１〜５のアルキレン基を導入することもできる。

本発明の特定重合体（Ａ）は、窒素原子を含む構造を有する重合体である。なかでも、前記式［１ａ］〜式［１ｃ］で示される構造であることが好ましい。

窒素原子を含む構造を特定重合体（Ａ）中に導入する方法に、特に制限は無いが、前記式［１ａ］〜式［１ｃ］で示される構造を有するジアミン化合物を原料の一部に用いることが好ましい。

具体的には、下記の式［１−１］で示されるジアミン化合物（特定ジアミン化合物（１）ともいう）を用いることが好ましい。

式［１−１］中、Ｘ^Ａは前記式［１ａ］〜式［１ｃ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を有する炭素数５〜５０の有機基を示す。

式［１−１］中、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。

より具体的には、下記の式［１ａ−１］〜式［１ｃ−１］で示されるジアミン化合物を用いることが好ましい。

式［１ａ−１］中、Ｘ^１はベンゼン環または窒素含有芳香族複素環を示す。

式［１ａ−１］中、Ｘ^２は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族基で置換されたジ置換アミノ基を示す。

なお、式［１ａ−１］中、Ｘ^２が水素原子の場合、Ｘ^１は窒素含有芳香族複素環を示し、Ｘ^２が炭素数１〜１２の脂肪族基で置換されたジ置換アミノ基の場合、Ｘ^１はベンゼン環を示す。

式［１ｂ−１］中、Ｘ^３およびＸ^７はそれぞれ独立して、炭素原子を６〜１５個有し、かつベンゼン環を１〜２個有する芳香族基を示す。

式［１ｂ−１］中、Ｘ^４およびＸ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。

式［１ｂ−１］中、Ｘ^５は炭素数２〜５のアルキレン基またはビフェニル基を示す。

式［１ｂ−１］中、ｍは０または１の整数を示す。

式［１ｃ−１］中、Ｘ^８およびＸ^１０はそれぞれ独立して、下記の式［１ｃ−ａ］および式［１ｃ−ｂ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を示す。

式［１ｃ−１］中、Ｘ^９は炭素数１〜５のアルキレン基またはベンゼン環を示す。

本発明の特定ジアミン化合物（１）の具体的なジアミン化合物としては、下記の式［１−１ａ］〜式［１−４ａ］で示されるジアミン化合物が挙げられる。

式［１−３ａ］中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。

式［１−４ａ］中、ｎは１〜１０の整数を示す。

式［１−１ａ］〜式［１−４ａ］中、Ａ^１〜Ａ^８はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。

なかでも、前記式［１−３ａ］または式［１−４ａ］で示されるジアミン化合物を用いることが好ましい。

本発明の特定重合体（Ａ）における特定ジアミン化合物（１）は、すべてのジアミン成分１００モル％中、１モル％〜９５モル％であることが好ましい。なかでも、５モル％〜９５モル％が好ましい。より好ましいのは、２０モル％〜８０モル％である。

本発明の特定ジアミン化合物（１）は、本発明の特定重合体（Ａ）の溶媒への溶解性や液晶配向処理剤の塗布性、液晶配向膜とした場合における液晶配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することもできる。

本発明の特定重合体（Ｂ）は、特定構造（２）を有する重合体である。

本発明の特定構造（２）を特定重合体（Ｂ）中に導入する方法に、特に制限は無いが、特定構造（２）を有するジアミン化合物をジアミン成分に用いることが好ましい。特に好ましいのは、前記式［２］で示される構造を有するジアミン化合物を用いることである。

具体的には、下記の式［２−１］で示されるジアミン化合物（特定ジアミン化合物（２）ともいう）を用いることが好ましい。

式［２−１］中、Ｙ^Ａは前記式［２］で示される構造を有する有機基を示す。

式［２−１］中、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。

より具体的には、下記の式［２ａ］で示されるジアミン化合物を用いることが好ましい。

式［２ａ］中、Ｙ^１およびＹ^７はそれぞれ独立して、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^１）−（Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＯＮ（Ｒ^２）−（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−Ｎ（Ｒ^３）ＣＯ−（Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−および−ＯＣＯ−から選ばれる少なくとも１種の有機基を示す。なかでも、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましくは、液晶配向性と膜硬度の点から、できるだけ柔軟、かつ立体障害の小さい構造である単結合、−Ｏ−または−Ｓ−である。

式［２ａ］中、Ｙ^２およびＹ^６はそれぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を示す。なかでも、炭素数１〜３のアルキレン基が好ましく、その構造は直鎖または分岐鎖のいずれでもよい。具体的には、液晶配向性と液晶配向膜の膜硬度の点から、自由回転部位を持ち、かつ立体障害の小さい構造であるメチレン基（−ＣＨ_２−）、エチレン基（−ＣＨ_２ＣＨ_２−）、プロピレン基（−（ＣＨ_２）_３−）またはイソプロピル基（−Ｃ（ＣＨ_２）_２−）が好ましい。

式［２ａ］中、Ｙ^３およびＹ^５はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を示す。なかでも、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。特に好ましいのは、水素原子である。

式［２ａ］中、Ｙ^４は酸素原子または硫黄原子を示す。なかでも、液晶配向膜の膜硬度の点から、酸素原子が好ましい。

式［２ａ］における好ましいＹ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６およびＹ^７の組み合わせは、下記の表１に示す通りである。

なかでも、式［２−１ａ］、式［２−２ａ］、式[２−４ａ]、式［２−５ａ］、式[２−７ａ]および式［２−８ａ］で示される組み合わせが好ましい。

式［２ａ］中、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。

本発明の特定ジアミン化合物（２）の具体的なジアミン化合物としては、下記の式［２−１ａ］〜式［２−３ａ］で示されるジアミン化合物が挙げられる。

（式［２−１ａ］〜式［２−３ａ］中、Ａ^１〜Ａ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。

本発明の特定重合体（Ｂ）における特定ジアミン化合物（２）は、すべてのジアミン成分１００モル％中、１モル％〜９５モル％であることが好ましい。なかでも、５モル％〜９５モル％が好ましい。より好ましいのは、２０モル％〜８０モル％である。

本発明の特定ジアミン化合物（２）は、本発明の特定重合体（Ｂ）の溶媒への溶解性や液晶配向処理剤の塗布性、液晶配向膜とした場合における液晶配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することもできる。

本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）の少なくともいずれか一方には、特定側鎖構造を含有する。

本発明の特定側鎖構造を特定重合体（Ａ）または特定重合体（Ｂ）中に導入する方法に、特に制限は無いが、特定側鎖構造を有するジアミン化合物をジアミン成分に用いることが好ましい。

具体的には、下記の式［３ａ］で示されるジアミン化合物（特定側鎖型ジアミン化合物ともいう）を用いることが好ましい。

式［３ａ］中、Ｂは前記式［３］を示す。なお、式［３］中のＢ^１〜Ｂ^６およびｎの好ましい組み合わせは、前記の通りである。

式［３ａ］中、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。なかでも、水素原子または炭素数１または２のアルキレン基が好ましい。

式［３ａ］中、ｍは１〜４の整数を示す。なかでも、１が好ましい。

本発明の特定側鎖型ジアミン化合物の具体的には、例えば下記の式［３ａ−１］〜式［３ａ−３１］で示されるジアミン化合物、さらに、これらのアミノ基が２級のアミノ基であるジアミン化合物が挙げられる。

（式［３ａ−１］〜式［３ａ−３］中、Ｒ^１、Ｒ^３およびＲ^５はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＯＣＯ−を示し、式［３ａ−１］〜式［３ａ−３］中、Ｒ^２、Ｒ^４およびＲ^６はそれぞれ独立して、炭素数１〜２２の直鎖状または分岐状アルキレン基、炭素数１〜２２の直鎖状または分岐状アルコキシル基、炭素数１〜２２の直鎖状または分岐状フッ素含有アルキレン基またはフッ素含有アルコキシル基を示す）。

（式［３ａ−４］〜式［３ａ−６］中、Ｒ^１、Ｒ^３およびＲ^５はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−または−ＣＨ_２−を示し、式［３ａ−４］〜式［３ａ−６］中、Ｒ^２、Ｒ^４およびＲ^６はそれぞれ独立して、炭素数１〜２２の直鎖状または分岐状アルキレン基、炭素数１〜２２の直鎖状または分岐状アルコキシル基、炭素数１〜２２の直鎖状または分岐状フッ素含有アルキレン基またはフッ素含有アルコキシル基を示す）。

（式［３ａ−７］および式［３ａ−８］中、Ｒ^１およびＲ^３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−または−ＮＨ−を示し、Ｒ^２およびＲ^４はそれぞれ独立して、フッ素基、シアノ基、トリフルオロメタン基、ニトロ基、アゾ基、ホルミル基、アセチル基、アセトキシ基または水酸基を示す）。

（式［３ａ−９］および式［３ａ−１０］中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して、炭素数３〜１２の直鎖状または分岐状アルキレン基を示し、１,４-シクロヘキシレンのシス−トランス異性は、それぞれトランス異性体である）。

（式［３ａ−１１］および式［３ａ−１２］中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して、炭素数３〜１２の直鎖状または分岐状アルキレン基を示し、１,４-シクロヘキシレンのシス−トランス異性は、それぞれトランス異性体である）。

（式［１ａ−１３］中、Ａ_４はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数３〜２０の直鎖状または分岐状アルキル基であり、Ａ_３は１，４−シクロへキシレン基または１，４−フェニレン基であり、Ａ_２は酸素原子または−ＣＯＯ−＊（ただし、「＊」を付した結合手がＡ_３と結合する）であり、Ａ_１は酸素原子または−ＣＯＯ−＊（ただし、「＊」を付した結合手が（ＣＨ_２）ａ_２）と結合する）である。また、ａ_１は０または１の整数であり、ａ_２は２〜１０の整数であり、ａ_３は０または１の整数である）。

上記式［３ａ−１］〜［３ａ−３１］中、特に好ましい構造のジアミン化合物は、式［３ａ−１］〜式［３ａ−６］、式［３ａ−９］〜式［３ａ−１３］または式［３ａ−２２］〜式［３ａ−３１］である。

本発明の特定側鎖型ジアミン化合物は、特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）の少なくともいずれか一方に用いても、両方の特定重合体に用いても良い。なかでも、特定重合体（Ａ）に用いることが好ましい。

本発明の特定重合体（Ａ）および／または特定重合体（Ｂ）における特定側鎖型ジアミン化合物は、ジアミン成分全体の１０モル％以上８０モル％以下であることが好ましい。特に好ましいのは、１０モル％以上７０モル％以下である。

本発明の特定側鎖型ジアミン化合物は、本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）の溶媒への溶解性や液晶配向処理剤の塗布性、液晶配向膜とした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することもできる。

本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）のジアミン成分としては、本発明の効果を損なわない限りにおいて、特定ジアミン化合物（１）、特定ジアミン化合物（２）および特定側鎖型ジアミン化合物以外のその他のジアミン化合物（その他ジアミン化合物ともいう）を用いることもできる。

具体的には、２，４−ジメチル−ｍ−フェニレンジアミン、２，６−ジアミノトルエン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジヒドロキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジカルボキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ビフェニル、３，３’−トリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジアミノビフェニル、２，３’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジアミノジフェニルメタン、２，３’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２’−ジアミノジフェニルエーテル、２，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−スルホニルジアニリン、３，３’−スルホニルジアニリン、ビス（４−アミノフェニル）シラン、ビス（３−アミノフェニル）シラン、ジメチル−ビス（４−アミノフェニル）シラン、ジメチル−ビス（３−アミノフェニル）シラン、４，４’−チオジアニリン、３，３’−チオジアニリン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、３，３’−ジアミノジフェニルアミン、３，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，２’−ジアミノジフェニルアミン、２，３’−ジアミノジフェニルアミン、Ｎ−メチル（４，４’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（３，３’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（３，４’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（２，２’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（２，３’−ジアミノジフェニル）アミン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，４−ジアミノナフタレン、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、２，３’−ジアミノベンゾフェノン、１，５−ジアミノナフタレン、１，６−ジアミノナフタレン、１，７−ジアミノナフタレン、１，８−ジアミノナフタレン、２，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジアミノナフタレン、２，７−ジアミノナフタレン、２，８−ジアミノナフタレン、１，２−ビス（４−アミノフェニル）エタン、１，２−ビス（３−アミノフェニル）エタン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、１，３−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ブタン、１，４−ビス（３−アミノフェニル）ブタン、ビス（３，５−ジエチル−４−アミノフェニル）メタン、１，４−ビス（４-アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４-アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４-アミノフェニル）ベンゼン、１，３−ビス（４-アミノフェニル）ベンゼン、１，４−ビス（４-アミノベンジル）ベンゼン、１，３−ビス（４-アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−［１，４−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，４’−［１，４−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，４’−［１，３−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，３’−［１，４−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，３’−［１，３−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、１，４−フェニレンビス［（４−アミノフェニル）メタノン］、１，４−フェニレンビス［（３−アミノフェニル）メタノン］、１，３−フェニレンビス［（４−アミノフェニル）メタノン］、１，３−フェニレンビス［（３−アミノフェニル）メタノン］、１，４−フェニレンビス（４−アミノベンゾエート）、１，４−フェニレンビス（３−アミノベンゾエート）、１，３−フェニレンビス（４−アミノベンゾエート）、１，３−フェニレンビス（３−アミノベンゾエート）、ビス（４−アミノフェニル）テレフタレート、ビス（３−アミノフェニル）テレフタレート、ビス（４−アミノフェニル）イソフタレート、ビス（３−アミノフェニル）イソフタレート、Ｎ，Ｎ’−（１，４−フェニレン）ビス（４−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，３−フェニレン）ビス（４−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，４−フェニレン）ビス（３−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，３−フェニレン）ビス（３−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）テレフタルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノフェニル）テレフタルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）イソフタルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノフェニル）イソフタルアミド、９，１０−ビス（４−アミノフェニル）アントラセン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ジフェニルスルホン、２，２’−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２’−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、２，２’−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）プロパン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ブタン、１，４−ビス（３−アミノフェノキシ）ブタン、１，５−ビス（４−アミノフェノキシ）ペンタン、１，５−ビス（３−アミノフェノキシ）ペンタン、１，６−ビス（４−アミノフェノキシ）へキサン、１，６−ビス（３−アミノフェノキシ）へキサン、１，７−ビス（４−アミノフェノキシ）ヘプタン、１，７−（３−アミノフェノキシ）ヘプタン、１，８−ビス（４−アミノフェノキシ）オクタン、１，８−ビス（３−アミノフェノキシ）オクタン、１，９−ビス（４−アミノフェノキシ）ノナン、１，９−ビス（３−アミノフェノキシ）ノナン、１，１０−（４−アミノフェノキシ）デカン、１，１０−（３−アミノフェノキシ）デカン、１，１１−（４−アミノフェノキシ）ウンデカン、１，１１−（３−アミノフェノキシ）ウンデカン、１，１２−（４−アミノフェノキシ）ドデカン、１，１２−（３−アミノフェノキシ）ドデカン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ビス（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシル）メタン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノへキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノナン、１，１０−ジアミノデカン、１，１１−ジアミノウンデカンまたは１，１２−ジアミノドデカン、さらには、これらのアミノ基が２級のアミノ基であるジアミン化合物が挙げられる。

さらには、ジアミン化合物中に、カルボキシル基（ＣＯＯＨ基）や水酸基（ＯＨ基）を有するジアミン化合物を用いることもできる。

具体的には、２，４−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノベンジルアルコール、２，４−ジアミノベンジルアルコール、４，６−ジアミノレゾルシノール、２，４−ジアミノ安息香酸、２，５−ジアミノ安息香酸または３，５−ジアミノ安息香酸を挙げることができる。なかでも、２，４−ジアミノ安息香酸、２，５−ジアミノ安息香酸または３，５−ジアミノ安息香酸が好ましい。また、下記の式［３ｂ−１］〜式［３ｂ−４］で示されるジアミン化合物およびこれらのアミノ基が２級のアミノ基であるジアミン化合物を用いることもできる。

（式［３ｂ−１］中、Ａ^１は単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＦ_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−または−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−を示し、ｍ^１およびｍ^２はそれぞれ独立して、０〜４の整数を示し、かつｍ^１＋ｍ^２は１〜４の整数を示し、式［３ｂ−２］中、ｍ^３およびｍ^４はそれぞれ独立して、１〜５の整数を示し、式［３ｂ−３］中、Ａ^２は炭素数１〜５の直鎖または分岐アルキレン基を示し、ｍ^５は１〜５の整数を示し、式［３ｂ−４］中、Ａ^３およびＡ^４はそれぞれ独立して、単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＦ_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−または−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−を示し、ｍ^６は１〜４の整数を示す）。

加えて、ジアミン化合物中に、下記の式［３ｃ］で示される窒素含有複素環を有するジアミン化合物およびこれらのアミノ基が２級のアミノ基であるジアミン化合物を用いることもできる。

式［３ｃ］中、Ｄ^１は−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−または−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−を示す。なかでも、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−または−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−は、ジアミン化合物を合成し易いので好ましい。より好ましいのは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−である。特に好ましいのは、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−または−ＣＨ_２Ｏ−である。

式［３ｃ］中、Ｄ^２は単結合、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、非芳香族環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を示す。

炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基は、直鎖状でも良いし、分岐していても良い。また、不飽和結合を有していても良い。なかでも、炭素数１〜１０のアルキレン基が好ましい。

非芳香族炭化水素基の具体例としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環、シクロウンデカン環、シクロドデカン環、シクロトリデカン環、シクロテトラデカン環、シクロペンタデカン環、シクロヘキサデカン環、シクロヘプタデカン環、シクロオクタデカン環、シクロノナデカン環、シクロイコサン環、トリシクロエイコサン環、トリシクロデコサン環、ビシクロヘプタン環、デカヒドロナフタレン環、ノルボルネン環またはアダマンタン環などが挙げられる。なかでも、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、ノルボルネン環またはアダマンタン環が好ましい。

芳香族炭化水素基の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、テトラヒドロナフタレン環、アズレン環、インデン環、フルオレン環、アントラセン環、フェナントレン環またはフェナレン環などが挙げられる。なかでも、ベンゼン環、ナフタレン環、テトラヒドロナフタレン環、フルオレン環またはアントラセン環が好ましい。

式［３ｃ］における好ましいＤ^２としては、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、ノルボルネン環、アダマンタン環、ベンゼン環、ナフタレン環、テトラヒドロナフタレン環、フルオレン環またはアントラセン環である。なかでも、単結合、炭素数１〜５のアルキレン基、シクロヘキサン環またはベンゼン環が好ましい。

式［３ｃ］中、Ｄ^３は単結合、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−または−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−Ｏ（ＣＨ_２）_ｍ−（ｍは１〜５の整数である）を示す。なかでも、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−Ｏ（ＣＨ_２）_ｍ−（ｍは１〜５の整数である）が好ましい。より好ましいのは、単結合、−Ｏ−、−ＯＣＯ−または−Ｏ（ＣＨ_２）_ｍ−（ｍは１〜５の整数である）である。

式［３ｃ］中、Ｄ^４は窒素含有芳香族複素環であり、下記の式[ａ］、式［ｂ］および式［ｃ］から選ばれる少なくとも１個の構造を含有する芳香族複素環である。

（式［ｃ］中、Ｚは炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。

より具体的には、ピロール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ピラゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、プリン環、チアジアゾール環、ピリダジン環、ピラゾリン環、トリアジン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、チノリン環、フェナントロリン環、インドール環、キノキサリン環、ベンゾチアゾール環、フェノチアジン環、オキサジアゾール環またはアクリジン環などを挙げることができる。なかでも、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、トリアゾール環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環またはベンゾイミダゾール環が好ましい。より好ましいのは、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環またはピリミジン環である。

また、式［３ｃ］におけるＤ^３は、Ｄ^４に含まれる式［ａ］、式［ｂ］および式[ｃ]と隣り合わない置換基と結合していることが好ましい。

式［３ｃ］中、ｎは１〜４の整数であり、好ましくはテトラカルボン酸成分との反応性の点から、１または２である。

式［３ｃ］における特に好ましいＤ^１〜Ｄ^４およびｎの組み合わせは、Ｄ^１が−ＣＯＮＨ−を示し、Ｄ^２が炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｄ^３が単結合を示し、Ｄ^４がイミダゾール環またはピリジン環を示し、ｎが１を示すジアミン化合物である。

式［３ｃ］における二つのアミノ基（−ＮＨ_２）の結合位置は限定されない。具体的には、側鎖の結合基（Ｂ^１）に対して、ベンゼン環上の２，３の位置、２，４の位置、２，５の位置、２，６の位置、３，４の位置または３，５の位置が挙げられる。なかでも、ポリアミック酸を合成する際の反応性の観点から、２，４の位置、２，５の位置または３，５の位置が好ましい。ジアミン化合物を合成する際の容易性も加味すると、２，４の位置または２，５の位置がより好ましい。

さらには、その他ジアミン化合物としては、下記の式［３ｄ−１］〜式［３ｄ−１３］で示されるジアミン化合物およびこれらのアミノ基が２級のアミノ基であるジアミン化合物を用いることもできる。

（式［３ｄ−１］〜式［３ｄ−４］中、Ａ^１〜Ａ^４はそれぞれ独立して、炭素数１〜２２のアルキレン基またはフッ素含有アルキレン基を示す）。

（式［３ｄ−５］中、Ａ^１およびＡ^３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−または−ＮＨ−を示し、Ａ^２は炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基または炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のフッ素含有アルキレン基を示し、式［３ｄ−６］中、Ａ^４およびＡ^６はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−または−ＮＨ−を示し、Ａ^５は炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基または炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のフッ素含有アルキレン基を示す）。

（式［３ｄ−７］中、Ａ^１およびＡ^３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−または−ＮＨ−を示し、Ａ^２は炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基または炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のフッ素含有アルキレン基を示し、式［３ｄ−８］中、Ａ^４およびＡ^６はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−または−ＮＨ−を示し、Ａ^５は炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基または炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のフッ素含有アルキレン基を示す）。

（式［３ｄ−９］中、Ａ^１およびＡ^３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−または−ＮＨ−を示し、Ａ^２は炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基または炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のフッ素含有アルキレン基を示し、式［３ｄ−１０］中、Ａ^４およびＡ^６はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−または−ＮＨ−を示し、Ａ^５は炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基または炭素数１〜２２の直鎖状もしくは分岐状のフッ素含有アルキレン基を示す）。

（式［３ｄ−１１］中、ｐは１〜１０の整数を示す）。

本発明のその他ジアミン化合物は、本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）の溶媒への溶解性や液晶配向処理剤の塗布性、液晶配向膜とした場合における液晶配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することもできる。

本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）、すなわち、これらポリイミド系重合体を作製するためのテトラカルボン酸成分としては、下記の式［４］で示されるテトラカルボン酸二無水物を用いることが好ましい。その際、式［４］で示されるテトラカルボン酸二無水物だけでなく、そのテトラカルボン酸誘導体であるテトラカルボン酸、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物またはテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物を用いることもできる（式［４］で示されるテトラカルボン酸二無水物およびその誘導体を総称して特定テトラカルボン酸成分ともいう）。

（式［４］中、Ｚは下記の式［４ａ］〜式［４ｋ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を示す）。

式［４ａ］中、Ｚ^１〜Ｚ^４は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、塩素原子またはベンゼン環を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。

式［４ｇ］中、Ｚ^５およびＺ^６は水素原子またはメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。

式［４］中のＺのなかで、合成の容易さやポリマーを製造する際の重合反応性のし易さの点から、式［４ａ］、式［４ｃ］〜式［４ｇ］または式［４ｋ］で示される構造のテトラカルボン酸二無水物およびそのテトラカルボン酸誘導体が好ましい。より好ましいのは、式［４ａ］または式［４ｅ］〜式［４ｇ］で示される構造のものである。特に好ましいのは、［４ａ］、式［４ｅ］または式［４ｆ］で示される構造のテトラカルボン酸二無水物およびそのテトラカルボン酸誘導体である。

本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）における特定テトラカルボン酸成分は、すべてのテトラカルボン酸成分１００モル％中、１モル％〜１００モル％であることが好ましい。なかでも、５モル％〜９５モル％が好ましい。より好ましいのは、２０モル％〜８０モル％である。

本発明の特定テトラカルボン酸成分は、本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）の溶媒への溶解性や液晶配向処理剤の塗布性、液晶配向膜とした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することもできる。

本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）のポリイミド系重合体には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、特定テトラカルボン酸成分以外のその他のテトラカルボン酸成分を用いることもできる。

その他のテトラカルボン酸成分としては、以下に示すテトラカルボン酸化合物、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物またはテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物が挙げられる。

すなわち、その他のテトラカルボン酸成分としては、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−アントラセンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジフェニルシラン、２，３，４，５−ピリジンテトラカルボン酸、２，６−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ピリジン、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸または１，３−ジフェニル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸などが挙げられる。

本発明のその他のテトラカルボン酸成分は、本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）の溶媒への溶解性や液晶配向処理剤の塗布性、液晶配向膜とした場合における液晶配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類または２種類以上を混合して使用することもできる。

＜特定重合体（Ａ）・特定重合体（Ｂ）の作製方法＞
本発明において、特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）、すなわち、これらのポリイミド系重合体を作製するための方法は特に限定されない。通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られる。一般的には、テトラカルボン酸二無水物およびそのテトラカルボン酸の誘導体からなる群から選ばれる少なくとも１種のテトラカルボン酸成分と、１種または複数種のジアミン化合物からなるジアミン成分とを反応させて、ポリアミド酸を得る方法が挙げられる。具体的には、テトラカルボン酸二無水物と１級または２級のジアミン化合物とを重縮合させてポリアミド酸を得る方法、テトラカルボン酸と１級または２級のジアミン化合物とを脱水重縮合反応させてポリアミド酸を得る方法またはテトラカルボン酸ジハライドと１級または２級のジアミン化合物とを重縮合させてポリアミド酸を得る方法が用いられる。

ポリアミド酸アルキルエステルを得るためには、カルボン酸基をジアルキルエステル化したテトラカルボン酸と１級または２級のジアミン化合物とを重縮合させる方法、カルボン酸基をジアルキルエステル化したテトラカルボン酸ジハライドと１級または２級のジアミン化合物とを重縮合させる方法またはポリアミド酸のカルボキシル基をエステルに変換する方法が用いられる。

ポリイミドを得るには、前記のポリアミド酸またはポリアミド酸アルキルエステルを閉環させてポリイミドとする方法が用いられる。

ジアミン成分とテトラカルボン酸成分との反応は、通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを溶媒中で行う。その際に用いる溶媒としては、生成したポリイミド前駆体が溶解するものであれば特に限定されない。下記に、反応に用いる溶媒の具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。

例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドンまたはγ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドまたは１，３−ジメチル−イミダゾリジノンが挙げられる。また、ポリイミド前駆体の溶媒溶解性が高い場合は、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンまたは下記の式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒を用いることができる。

（式［Ｄ−１］中、Ｄ^１は炭素数１〜３のアルキレン基を示し、式［Ｄ−２］中、Ｄ^２は炭素数１〜３のアルキレン基を示し、式［Ｄ−３］中、Ｄ^３は炭素数１〜４のアルキレン基を示す）。

これら溶媒は単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、ポリイミド前駆体を溶解させない溶媒であっても、生成したポリイミド前駆体が析出しない範囲で、前記溶媒に混合して使用してもよい。また、溶媒中の水分は重合反応を阻害し、さらには生成したポリイミド前駆体を加水分解させる原因となるので、溶媒は脱水乾燥させたものを用いることが好ましい。

ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを溶媒中で反応させる際には、ジアミン成分を溶媒に分散あるいは溶解させた溶液を攪拌させ、テトラカルボン酸成分をそのまま、または溶媒に分散あるいは溶解させて添加する方法、逆にテトラカルボン酸成分を溶媒に分散、あるいは溶解させた溶液にジアミン成分を添加する方法、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを交互に添加する方法などが挙げられ、これらのいずれの方法を用いてもよい。また、ジアミン成分またはテトラカルボン酸成分を、それぞれ複数種用いて反応させる場合は、あらかじめ混合した状態で反応させてもよく、個別に順次反応させてもよく、さらに個別に反応させた低分子量体を混合反応させ重合体としてもよい。その際の重合温度は−２０℃〜１５０℃の任意の温度を選択することができるが、好ましくは−５℃〜１００℃の範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると高分子量の重合体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌が困難となる。そのため、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％である。反応初期は高濃度で行い、その後、溶媒を追加することができる。

ポリイミド前駆体の重合反応においては、ジアミン成分の合計モル数とテトラカルボン酸成分の合計モル数の比は０．８〜１．２であることが好ましい。通常の重縮合反応同様、このモル比が１．０に近いほど生成するポリイミド前駆体の分子量は大きくなる。

本発明のポリイミドは前記のポリイミド前駆体を閉環させて得られるポリイミドであり、このポリイミドにおいては、アミド酸基の閉環率（イミド化率ともいう）は必ずしも１００％である必要はなく、用途や目的に応じて任意に調整することができる。

ポリイミド前駆体をイミド化させる方法としては、ポリイミド前駆体の溶液をそのまま加熱する熱イミド化またはポリイミド前駆体の溶液に触媒を添加する触媒イミド化が挙げられる。

ポリイミド前駆体を溶液中で熱イミド化させる場合の温度は、１００℃〜４００℃、好ましくは１２０℃〜２５０℃であり、イミド化反応により生成する水を系外に除きながら行う方が好ましい。

ポリイミド前駆体の触媒イミド化は、ポリイミド前駆体の溶液に、塩基性触媒と酸無水物とを添加し、−２０℃〜２５０℃、好ましくは０℃〜１８０℃で攪拌することにより行うことができる。塩基性触媒の量はアミド酸基の０．５モル倍〜３０モル倍、好ましくは２モル倍〜２０モル倍であり、酸無水物の量はアミド酸基の１モル倍〜５０モル倍、好ましくは３モル倍〜３０モル倍である。塩基性触媒としてはピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチルアミンまたはトリオクチルアミンなどを挙げることができ、なかでも、ピリジンは反応を進行させるのに適度な塩基性を持つので好ましい。酸無水物としては、無水酢酸、無水トリメリット酸または無水ピロメリット酸などを挙げることができ、中でも無水酢酸を用いると反応終了後の精製が容易となるので好ましい。触媒イミド化によるイミド化率は、触媒量と反応温度、反応時間を調節することにより制御することができる。

ポリイミド前駆体またはポリイミドの反応溶液から、生成したポリイミド前駆体またはポリイミドを回収する場合には、反応溶液を溶媒に投入して沈殿させればよい。沈殿に用いる溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、ヘキサン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、ベンゼン、水などを挙げることができる。溶媒に投入して沈殿させたポリマーは濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を２回〜１０回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類または炭化水素などが挙げられ、これらの内から選ばれる３種類以上の溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。

＜液晶配向処理剤＞
本発明の液晶配向処理剤は、液晶配向膜（樹脂被膜ともいう）を形成するための塗布溶液であり、特定重合体（Ａ）、特定重合体（Ｂ）および溶媒を含有する液晶配向膜を形成するための塗布溶液である。

本発明の特定重合体（Ａ）は、ポリアミド酸、ポリアミド酸アルキルエステルおよびポリイミドのいずれのポリイミド系重合体を用いても良い。なかでも、ポリアミド酸アルキルエステルまたはポリイミドが好ましい。より好ましくは、ポリイミドである。

本発明の特定重合体（Ｂ）は、ポリアミド酸、ポリアミド酸アルキルエステルおよびポリイミドのいずれのポリイミド系重合体を用いても良い。なかでも、ポリアミド酸またはポリアミド酸アルキルエステルが好ましい。より好ましくは、ポリアミド酸である。

本発明の液晶配向処理剤における特定重合体（Ａ）と特定重合体（Ｂ）の割合は、特定重合体（Ａ）１００質量部に対して、特定重合体（Ｂ）は、０．５質量部〜９５０質量部が好ましい。なかでも、１０質量部〜９００質量部が好ましく、より好ましいのは、１０質量部〜４００質量部である。

本発明の液晶配向処理剤におけるすべての重合体成分は、すべてが本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）であってもよく、それ以外の他の重合体が混合されていても良い。それ以外の重合体としては、本発明の３級窒素原子を有する構造を持たないポリイミド系重合体および特定構造（２）を持たないポリイミド系重合体が挙げられる。さらには、セルロース系重合体、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ポリスチレン、ポリアミドまたはポリシロキサンなども挙げられる。その際、それ以外の他の重合体の含有量は、本発明の特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）とを合わせた特定重合体１００質量部に対して、０．５質量部〜３０質量部である。なかでも、１質量部〜２０質量部が好ましい。

また、本発明の液晶配向処理剤中の溶媒の含有量は、７０質量％〜９９．９質量％であることが好ましい。この含有量は、液晶配向処理剤の塗布方法や目的とする液晶配向膜の膜厚によって、適宜変更することができる。

本発明の液晶配向処理剤に用いる溶媒は、特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）を溶解させる溶媒（良溶媒ともいう）であれば特に限定されない。下記に、良溶媒の具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。

例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンまたは４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどを挙げることができる。

なかでも、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトンを用いることが好ましい。

さらに、特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）の溶媒への溶解性が高い場合は、前記式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒を用いることが好ましい。

本発明の液晶配向処理剤における良溶媒は、液晶配向処理剤に含まれる溶媒全体の２０質量％〜９９質量％であることが好ましい。なかでも、２０質量％〜９０質量％が好ましい。より好ましいのは、３０質量％〜８０質量％である。

本発明の液晶配向処理剤は、本発明の効果を損なわない限り、液晶配向処理剤を塗布した際の液晶配向膜の塗膜性や表面平滑性を向上させる溶媒（貧溶媒ともいう）を用いることができる。下記に、貧溶媒の具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。

例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、１，２−ブトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、３−エトキシブチルアセタート、１−メチルペンチルアセタート、２−エチルブチルアセタート、２−エチルヘキシルアセタート、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールジアセタート、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、２−（メトキシメトキシ）エタノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、フルフリルアルコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、１−（ブトキシエトキシ）プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアセタート、ジエチレングリコールアセタート、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸ｎ−プロピルエステル、乳酸ｎ−ブチルエステル、乳酸イソアミルエステルまたは前記式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒などを挙げることができる。

なかでも、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルまたはジプロピレングリコールジメチルエーテルを用いることが好ましい。

これら貧溶媒は、液晶配向処理剤に含まれる溶媒全体の１質量％〜８０質量％であることが好ましい。なかでも、１０質量％〜８０質量％が好ましい。より好ましいのは２０質量％〜７０質量％である。

本発明の液晶配向処理剤には、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基またはシクロカーボネート基を有する架橋性化合物、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基および低級アルコキシアルキル基から選ばれる少なくとも１種の置換基を有する架橋性化合物、または重合性不飽和結合を有する架橋性化合物を導入することが好ましい。これら置換基や重合性不飽和結合は、架橋性化合物中に２個以上有する必要がある。

エポキシ基またはイソシアネート基を有する架橋性化合物としては、例えば、ビスフェノールアセトングリシジルエーテル、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルアミノジフェニレン、テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビス（アミノエチル）シクロヘキサン、テトラフェニルグリシジルエーテルエタン、トリフェニルグリシジルエーテルエタン、ビスフェノールヘキサフルオロアセトジグリシジルエーテル、１，３−ビス（１−（２，３−エポキシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロメチル）ベンゼン、４，４−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフェニル、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、２−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−２−（４−（１，１−ビス（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）エチル）フェニル）プロパンまたは１，３−ビス（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−メチルエチル）フェニル）エチル）フェノキシ）−２−プロパノールなどが挙げられる。

オキセタン基を有する架橋性化合物は、下記の式［４Ａ］で示すオキセタン基を少なくとも２個有する架橋性化合物である。

具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の５８頁〜５９頁に掲載される式［４ａ］〜式［４ｋ］で示される架橋性化合物が挙げられる。

シクロカーボネート基を有する架橋性化合物としては、下記の式［５Ａ］で示されるシクロカーボネート基を少なくとも２個有する架橋性化合物である。

具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１２／０１４８９８（２０１２．２．２公開）の７６頁〜８２頁に掲載される式［５−１］〜式［５−４２］で示される架橋性化合物が挙げられる。

ヒドロキシル基およびアルコキシル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する架橋性化合物としては、例えば、ヒドロキシル基またはアルコキシル基を有するアミノ樹脂、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド−ホルムアルデヒド樹脂またはエチレン尿素−ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。具体的には、アミノ基の水素原子がメチロール基またはアルコキシメチル基またはその両方で置換されたメラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体、またはグリコールウリルを用いることができる。このメラミン誘導体またはベンゾグアナミン誘導体は、２量体または３量体として存在することも可能である。これらはトリアジン環１個当たり、メチロール基またはアルコキシメチル基を平均３個以上６個以下有するものが好ましい。

このようなメラミン誘導体またはベンゾグアナミン誘導体の例としては、市販品のトリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均３．７個置換されているＭＸ−７５０、トリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均５．８個置換されているＭＷ−３０（以上、三和ケミカル社製）やサイメル３００、３０１、３０３、３５０、３７０、７７１、３２５、３２７、７０３、７１２などのメトキシメチル化メラミン、サイメル２３５、２３６、２３８、２１２、２５３、２５４などのメトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン、サイメル５０６、５０８などのブトキシメチル化メラミン、サイメル１１４１のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン、サイメル１１２３のようなメトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２３−１０のようなメトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２８のようなブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２５−８０のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン（以上、三井サイアナミド社製）が挙げられる。また、グリコールウリルの例として、サイメル１１７０のようなブトキシメチル化グリコールウリル、サイメル１１７２のようなメチロール化グリコールウリルなど、パウダーリンク１１７４のようなメトキシメチロール化グリコールウリル等が挙げられる。

ヒドロキシル基またはアルコキシル基を有するベンゼンまたはフェノール性化合物としては、例えば、１，３，５−トリス（メトキシメチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（イソプロポキシメチル）ベンゼン、１，４−ビス（ｓｅｃ−ブトキシメチル）ベンゼンまたは２，６−ジヒドロキシメチル−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールなどが挙げられる。

より具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６２頁〜６６頁に掲載される、式［６−１］〜式［６−４８］で示される架橋性化合物が挙げられる。

重合性不飽和結合を有する架橋性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパンまたはグリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を分子内に３個有する架橋性化合物、さらに、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイドビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイドビスフェノール型ジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレートまたはヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を分子内に２個有する架橋性化合物、加えて、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸エステルまたはＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド等の重合性不飽和基を分子内に１個有する架橋性化合物などが挙げられる。

加えて、下記の式［７Ａ］で示される化合物を用いることもできる。

（式［７Ａ］中、Ｅ^１はシクロヘキサン環、ビシクロヘキサン環、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環およびフェナントレン環から選ばれる少なくとも１種を示し、Ｅ^２は下記の式［７ａ］または式［７ｂ］から選ばれる基を示し、ｎは１〜４の整数を示す）。

上記化合物は架橋性化合物の一例であり、これらに限定されるものではない。また、本発明の液晶配向処理剤に用いる架橋性化合物は、１種類であってもよく、２種類以上組み合わせてもよい。

本発明の液晶配向処理剤における、架橋性化合物の含有量は、すべての重合体成分１００質量部に対して、０．１質量部〜１５０質量部であることが好ましい。なかでも、架橋反応が進行し目的の効果を発現させるためには、すべての重合体成分１００質量部に対して０．１質量部〜１００質量部が好ましい。より好ましいのは、１質量部〜５０質量部である。

本発明の液晶配向処理剤は、本発明の効果を損なわない限り、液晶配向処理剤を塗布した際の液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物を用いることができる。

液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤などが挙げられる。

より具体的には、例えば、エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（以上、トーケムプロダクツ社製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０（以上、大日本インキ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム社製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ1０５、ＳＣ１０６（以上、旭硝子社製）などが挙げられる。

これらの界面活性剤の使用割合は、液晶配向処理剤に含有されるすべての重合体成分１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部〜２質量部、より好ましくは０．０１質量部〜１質量部である。

さらに、本発明の液晶配向処理剤には、液晶配向膜中の電荷移動を促進して素子の電荷抜けを促進させる化合物として、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６９頁〜７３頁に掲載される、式［Ｍ１］〜式［Ｍ１５６］で示される窒素含有複素環アミン化合物を添加することもできる。このアミン化合物は、液晶配向処理剤に直接添加しても構わないが、適当な溶媒で濃度０．１質量％〜１０質量％、好ましくは１質量％〜７質量％の溶液にしてから添加することが好ましい。この溶媒としては、上述した特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）を溶解させる溶媒であれば特に限定されない。

本発明の液晶配向処理剤には、上記の貧溶媒、架橋性化合物、樹脂被膜または液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物および電荷抜けを促進させる化合物の他に、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的の誘電体や導電物質を添加してもよい。

＜液晶配向膜・液晶表示素子＞
本発明の液晶配向処理剤は、基板上に塗布、焼成した後、ラビング処理や光照射などで配向処理をして、液晶配向膜として用いることができる。また、垂直配向用途などの場合では配向処理なしでも液晶配向膜として用いることができる。この際に用いる基板としては、透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス基板の他、アクリル基板やポリカーボネート基板などのプラスチック基板なども用いることができる。プロセスの簡素化の観点からは、液晶駆動のためのＩＴＯ電極などが形成された基板を用いることが好ましい。また、反射型の液晶表示素子では、片側の基板のみにならばシリコンウェハなどの不透明な基板も使用でき、この場合の電極としてはアルミなどの光を反射する材料も使用できる。

液晶配向処理剤の塗布方法は、特に限定されないが、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷またはインクジェット法などで行う方法が一般的である。その他の塗布方法としては、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナー法またはスプレー法などがあり、目的に応じてこれらを用いてもよい。

液晶配向処理剤を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブンまたはＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、液晶配向処理剤に用いる溶媒に応じて、３０〜３００℃、好ましくは３０〜２５０℃の温度で溶媒を蒸発させて液晶配向膜とすることができる。焼成後の液晶配向膜の厚みは、厚すぎると液晶表示素子の消費電力の面で不利となり、薄すぎると液晶表示素子の信頼性が低下する場合があるので、好ましくは５〜３００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍである。液晶を水平配向や傾斜配向させる場合は、焼成後の液晶配向膜をラビングまたは偏光紫外線照射などで処理する。

本発明の液晶表示素子は、上記した手法により、本発明の液晶配向処理剤から液晶配向膜付き基板を得た後、公知の方法で液晶セルを作製して液晶表示素子としたものである。

液晶セルの作製方法としては、液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、または、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に基板を貼り合わせて封止を行う方法などが例示できる。

さらに、本発明の液晶配向処理剤は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、電極間に電圧を印加しつつ、活性エネルギー線の照射および加熱の少なくとも一方により重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子にも好ましく用いられる。ここで、活性エネルギー線としては、紫外線が好適である。紫外線としては、波長が３００〜４００ｎｍ、好ましくは３１０〜３６０ｎｍである。加熱による重合の場合、加熱温度は４０〜１２０℃、好ましくは６０〜８０℃である。また、紫外線と加熱を同時に行ってもよい。

上記の液晶表示素子は、ＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式により、液晶分子のプレチルトを制御するものである。ＰＳＡ方式では、液晶材料中に少量の光重合性化合物、例えば光重合性モノマーを混入しておき、液晶セルを組み立てた後、液晶層に所定の電圧を印加した状態で光重合性化合物に紫外線などを照射し、生成した重合体によって液晶分子のプレチルトを制御する。重合体が生成するときの液晶分子の配向状態が電圧を取り去った後においても記憶されるので、液晶層に形成される電界などを制御することにより、液晶分子のプレチルトを調整することができる。また、ＰＳＡ方式では、ラビング処理を必要としないので、ラビング処理によってプレチルトを制御することが難しい垂直配向型の液晶層の形成に適している。

すなわち、本発明の液晶表示素子は、上記した手法により本発明の液晶配向処理剤から液晶配向膜付き基板を得た後、液晶セルを作製し、紫外線の照射および加熱の少なくとも一方により重合性化合物を重合することで液晶分子の配向を制御するものとすることができる。

ＰＳＡ方式の液晶セル作製の一例を挙げるならば、液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、または、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に基板を貼り合わせて封止を行う方法などが挙げられる。

液晶には、熱や紫外線照射により重合する重合性化合物が混合される。重合性化合物としては、アクリレート基やメタクリレート基等の重合性不飽和基を分子内に１個以上有する化合物が挙げられる。その際、重合性化合物は、液晶成分の１００質量部に対して０．０１〜１０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．１〜５質量部である。重合性化合物が０．０１質量部未満であると、重合性化合物が重合せずに液晶の配向制御できなくなり、１０質量部よりも多くなると、未反応の重合性化合物が多くなって液晶表示素子の焼き付き特性が低下する。

液晶セルを作製した後は、液晶セルに交流または直流の電圧を印加しながら、熱や紫外線を照射して重合性化合物を重合する。これにより、液晶分子の配向を制御することができる。

加えて、本発明の液晶配向処理剤は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、電極間に電圧を印加する工程を経て製造される液晶表示素子、すなわち、ＳＣ−ＰＶＡモードにも用いることが好ましい。ここで、活性エネルギー線としては、紫外線が好適である。紫外線としては、波長が３００〜４００ｎｍ、好ましくは３１０〜３６０ｎｍである。加熱による重合の場合、加熱温度は４０〜１２０℃、好ましくは６０〜８０℃である。また、紫外線と加熱を同時に行ってもよい。

活性エネルギー線および熱の少なくとも一方より重合する重合性基を含む液晶配向膜を得るためには、この重合性基を含む化合物を液晶配向処理剤中に添加する方法や、重合性基を含む重合体成分を用いる方法が挙げられる。

ＳＣ−ＰＶＡモードの液晶セル作製の一例を挙げるならば、本発明の液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、または、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に基板を貼り合わせて封止を行う方法などが挙げられる。

液晶セルを作製した後は、液晶セルに交流または直流の電圧を印加しながら、熱や紫外線を照射することで、液晶分子の配向を制御することができる。

以上のようにして、本発明の液晶配向処理剤は、長時間高温および光の照射に曝された後でも、安定なプレチルト角が発現できる液晶配向膜を得ることができる。加えて、長時間光の照射に曝された後でも、電圧保持率の低下を抑制し、かつ直流電圧により蓄積する残留電荷の緩和が早い液晶配向膜となる。よって、本発明の液晶配向処理剤から得られた液晶配向膜を有する液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビや中小型のカーナビゲーションシステムやスマートフォンなどに好適に利用することができる。

以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明するが、これらに限定されるものではない。

「本発明の合成例、実施例および比較例で用いる略語」
合成例、実施例および比較例で用いる略語は、以下の通りである。

＜本発明のポリイミド系重合体を作製するためのモノマー＞
（本発明の特定ジアミン化合物（１））
Ａ１：下記の式［Ａ１］で示されるジアミン化合物
Ａ２：下記の式［Ａ２］で示されるジアミン化合物
Ａ３：下記の式［Ａ３］で示されるジアミン化合物

（本発明の特定ジアミン化合物（２））
Ｂ１：下記の式［Ｂ１］で示されるジアミン化合物

（本発明の特定側鎖型ジアミン化合物）
Ｃ１：１，３−ジアミノ−４−〔４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロへキシル）フェノキシ〕ベンゼン
Ｃ２：１，３−ジアミノ−４−〔４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロへキシル）フェノキシメチル〕ベンゼン
Ｃ３：１，３−ジアミノ−４−{４−〔トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロへキシル）シクロへキシル〕フェノキシ}ベンゼン
Ｃ４：下記の式［Ｃ４］で示されるジアミン化合物

（その他ジアミン化合物）
Ｄ１：ｐ−フェニレンジアミン
Ｄ２：３，５−ジアミノ安息香酸
Ｄ３：１，３−ジアミノ−４−オクタデシルオキシベンゼン

（本発明の特定テトラカルボン酸成分）
Ｅ１：１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物
Ｅ２：ビシクロ［３，３，０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸二無水物
Ｅ３：下記の式［Ｅ３］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ｅ４：下記の式［Ｅ４］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ｅ５：下記の式［Ｅ５］で示されるテトラカルボン酸二無水物

「本発明に用いる架橋性化合物」
Ｋ１：下記の式［Ｋ１］で示される架橋性化合物

＜本発明に用いる溶媒＞
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＮＥＰ：Ｎ−エチル−２−ピロリドン
γ−ＢＬ：γ−ブチロラクトン
ＢＣＳ：エチレングリコールモノブチルエーテル
ＰＢ：プロピレングリコールモノブチルエーテル
ＥＣ：ジエチレングリコールモノエチルエーテル
ＤＭＥ：ジプロピレングリコールジメチルエーテル

「本発明のポリイミド系重合体の分子量の測定」
合成例におけるポリイミド前駆体およびポリイミドの分子量は、常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＧＰＣ−１０１）（昭和電工社製）、カラム（ＫＤ−８０３，ＫＤ−８０５）（Ｓｈｏｄｅｘ社製）を用いて、以下のようにして測定した。

カラム温度：５０℃
溶離液：Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（添加剤として、臭化リチウム−水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ_２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ（リットル）、リン酸・無水結晶（ｏ−リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が１０ｍｌ／Ｌ）
流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：ＴＳＫ 標準ポリエチレンオキサイド（分子量；約９００,０００、１５０,０００、１００,０００および３０,０００）（東ソー社製）およびポリエチレングリコール（分子量；約１２,０００、４,０００および１,０００）（ポリマーラボラトリー社製）。

「本発明のポリイミドのイミド化率の測定」
合成例におけるポリイミドのイミド化率は次のようにして測定した。ポリイミド粉末２０ｍｇをＮＭＲ（核磁気共鳴）サンプル管（ＮＭＲサンプリングチューブスタンダード，φ５（草野科学社製））に入れ、重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６，０．０５質量％ＴＭＳ（テトラメチルシラン）混合品）（０.５３ｍｌ）を添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液をＮＭＲ測定機（ＪＮＷ−ＥＣＡ５００）（日本電子データム社製）にて５００ＭＨｚのプロトンＮＭＲを測定した。イミド化率は、イミド化前後で変化しない構造に由来するプロトンを基準プロトンとして決め、このプロトンのピーク積算値と、９.５ｐｐｍ〜１０.０ｐｐｍ付近に現れるアミド酸のＮＨ基に由来するプロトンピーク積算値とを用い以下の式によって求めた。

イミド化率（％）＝（１−α・ｘ／ｙ）×１００

上記式において、ｘはアミド酸のＮＨ基由来のプロトンピーク積算値、ｙは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミド酸（イミド化率が０％）の場合におけるアミド酸のＮＨ基プロトン１個に対する基準プロトンの個数割合である。

「本発明のポリイミド系重合体の合成」
＜合成例１＞
Ｅ１（４．５０ｇ，２３．０ｍｍｏｌ）、Ａ１（１．８５ｇ，９．３０ｍｍｏｌ）、Ｃ１（０．８８ｇ，２．３２ｍｍｏｌ）およびＤ１（１．２６ｇ，１１．６ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２５．５ｇ）中で混合し、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２４，２００、重量平均分子量は、８６，５００であった。

＜合成例２＞
Ｅ１（４．１０ｇ，２０．９ｍｍｏｌ）、Ｂ１（３．１６ｇ，１０．６ｍｍｏｌ）、Ｄ１（０．４６ｇ，４．２４ｍｍｏｌ）およびＤ２（０．９７ｇ，６．３５ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２６．１ｇ）中で混合し、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２５，２００、重量平均分子量は、８９，１００であった。

＜合成例３＞
Ｅ２（３．９６ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）、Ａ１（１．９１ｇ，９．６１ｍｍｏｌ）、Ｃ１（６．０９ｇ，１６．０ｍｍｏｌ）およびＤ２（０．９７ｇ，６．４１ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（３２．１ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｅ１（３．１０ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）とＮＥＰ（１６．０ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（３）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２０，１００、重量平均分子量は、６４，１００であった。

＜合成例４＞
合成例３の合成手法で得られたポリアミド酸溶液（３）（３０．０ｇ）に、ＮＥＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．４５ｇ）およびピリジン（２．５０ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（４）を得た。このポリイミドのイミド化率は５５％であり、数平均分子量は１８，５００、重量平均分子量は４９，３００であった。

＜合成例５＞
Ｅ２（４．４７ｇ，１７．９ｍｍｏｌ）、Ｂ１（３．２４ｇ，１０．９ｍｍｏｌ）、Ｃ１（２．７５ｇ，７．２３ｍｍｏｌ）およびＤ２（２．７５ｇ，１８．１ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（３３．４ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｅ１（３．５０ｇ，１７．９ｍｍｏｌ）とＮＥＰ（１６．７ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（５）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２２，１００、重量平均分子量は、６８，５００であった。

＜合成例６＞
合成例５の合成手法で得られたポリアミド酸溶液（５）（３０．０ｇ）に、ＮＥＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．４０ｇ）およびピリジン（２．６５ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（６）を得た。このポリイミドのイミド化率は５８％であり、数平均分子量は１９，８００、重量平均分子量は５２，９００であった。

＜合成例７＞
Ｅ２（１．３７ｇ，５．４６ｍｍｏｌ）、Ａ２（１．１８ｇ，５．５３ｍｍｏｌ）、Ｃ２（２．９１ｇ，７．３８ｍｍｏｌ）、Ｄ１（０．２０ｇ，１．８４ｍｍｏｌ）およびＤ２（０．５６ｇ，３．６９ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１７．４ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｅ１（２．５０ｇ，１２．８ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（８．７２ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．４５ｇ）およびピリジン（３．３０ｇ）を加え、８０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（７）を得た。このポリイミドのイミド化率は８０％であり、数平均分子量は１７，１００、重量平均分子量は４７，８００であった。

＜合成例８＞
Ｅ２（１．３７ｇ，５．４６ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．３８ｇ，４．６１ｍｍｏｌ）、Ｃ２（１．０９ｇ，２．７７ｍｍｏｌ）およびＤ２（１．６８ｇ，１１．１ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１６．０ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｅ１（２．５０ｇ，１２．８ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（８．０２ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．５０ｇ）およびピリジン（３．３５ｇ）を加え、８０℃で３．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（８）を得た。このポリイミドのイミド化率は８１％であり、数平均分子量は１８，８００、重量平均分子量は４９，８００であった。

＜合成例９＞
Ｅ３（７．２０ｇ，３２．１ｍｍｏｌ）、Ａ２（２．７８ｇ，１３．０ｍｍｏｌ）、Ｃ２（５．１４ｇ，１３．０ｍｍｏｌ）およびＤ２（０．９９ｇ，６．５１ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（４８．３ｇ）中で混合し、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（９）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２１，２００、重量平均分子量は、６５，４００であった。

＜合成例１０＞
合成例９の合成手法で得られたポリアミド酸溶液（９）（３０．０ｇ）に、ＮＥＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．４０ｇ）およびピリジン（２．６３ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１０）を得た。このポリイミドのイミド化率は５７％であり、数平均分子量は１８，２００、重量平均分子量は４８，３００であった。

＜合成例１１＞
Ｅ３（３．８５ｇ，１７．２ｍｍｏｌ）、Ａ３（０．５３ｇ，２．６１ｍｍｏｌ）、Ｃ４（２．１４ｇ，４．３５ｍｍｏｌ）およびＤ２（１．５９ｇ，１０．４ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２４．３ｇ）中で混合し、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）にＮＭＰを加え、６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．９０ｇ）およびピリジン（２．６５ｇ）を加え、６０℃で３．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１１）を得た。このポリイミドのイミド化率は６８％であり、数平均分子量は１７，５００、重量平均分子量は４７，９００であった。

＜合成例１２＞
Ｅ４（１．６４ｇ，５．４６ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．６５ｇ，５．５３ｍｍｏｌ）、Ｃ１（１．４０ｇ，３．６９ｍｍｏｌ）、Ｄ１（０．２０ｇ，１．８４ｍｍｏｌ）およびＤ２（１．１２ｇ，７．３８ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１７．０ｇ）中で混合し、８０℃で６時間反応させた後、Ｅ１（２．５０ｇ，１２．８ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（８．５２ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．１５ｇ）およびピリジン（２．９５ｇ）を加え、７０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１２）を得た。このポリイミドのイミド化率は６４％であり、数平均分子量は１８，１００、重量平均分子量は４９，６００であった。

＜合成例１３＞
Ｅ４（２．８７ｇ，９．５６ｍｍｏｌ）、Ａ３（０．９８ｇ，４．８４ｍｍｏｌ）、Ｃ３（２．４４ｇ，５．６５ｍｍｏｌ）、Ｄ１（０．２６ｇ，２．４２ｍｍｏｌ）およびＤ２（０．４９ｇ，３．２３ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（１６．６ｇ）中で混合し、８０℃で６時間反応させた後、Ｅ１（１．２５ｇ，６．３７ｍｍｏｌ）とＮＥＰ（８．３０ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＥＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．５５ｇ）およびピリジン（３．３５ｇ）を加え、８０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１３）を得た。このポリイミドのイミド化率は８１％であり、数平均分子量は１６，３００、重量平均分子量は４５，１００であった。

＜合成例１４＞
Ｅ４（３．５７ｇ，１１．９ｍｍｏｌ）、Ａ１（１．３７ｇ，６．８９ｍｍｏｌ）、Ｃ４（１．７０ｇ，３．４４ｍｍｏｌ）およびＤ２（１．０５ｇ，６．８９ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１７．４ｇ）中で混合し、８０℃で６時間反応させた後、Ｅ１（１．００ｇ，５．１０ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（８．６９ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＥＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．７５ｇ）およびピリジン（２．３５ｇ）を加え、８０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１４）を得た。このポリイミドのイミド化率は５３％であり、数平均分子量は１７，８００、重量平均分子量は４８，９００であった。

＜合成例１５＞
Ｅ２（１．７３ｇ，６．９１ｍｍｏｌ）、Ａ１（０．７０ｇ，３．５０ｍｍｏｌ）、Ａ２（０．７５ｇ，３．５０ｍｍｏｌ）、Ｃ２（２．７６ｇ，７．００ｍｍｏｌ）およびＤ２（０．５３ｇ，３．５０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１７．３ｇ）中で混合し、８０℃で６時間反応させた後、Ｅ５（２．２０ｇ，１０．４ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（８．６７ｇ）を加え、８０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１５）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２０，１００、重量平均分子量は、６２，６００であった。

＜合成例１６＞
Ｅ２（０．８８ｇ，３．５４ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．６０ｇ，５．３７ｍｍｏｌ）、Ｃ１（１．３６ｇ，３．５８ｍｍｏｌ）およびＤ２（１．３６ｇ，８．９５ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１６．４ｇ）中で混合し、８０℃で６時間反応させた後、Ｅ５（３．００ｇ，１４．１ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（８．２１ｇ）を加え、８０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１６）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２１，６００、重量平均分子量は、６５，１００であった。

＜合成例１７＞
合成例１６の合成手法で得られたポリアミド酸溶液（１６）（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．５０ｇ）およびピリジン（３．３０ｇ）を加え、８０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１７）を得た。このポリイミドのイミド化率は８１％であり、数平均分子量は１８，８００、重量平均分子量は５２，２００であった。

＜合成例１８＞
Ｅ２（１．７３ｇ，６．９１ｍｍｏｌ）、Ａ３（０．８９ｇ，４．３８ｍｍｏｌ）、Ｃ３（２．６５ｇ，６．１３ｍｍｏｌ）およびＤ２（１．０７ｇ，７．００ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（１７．１ｇ）中で混合し、８０℃で６時間反応させた後、Ｅ５（２．２０ｇ，１０．４ｍｍｏｌ）とＮＥＰ（８．５４ｇ）を加え、８０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．１０ｇ）およびピリジン（３．０５ｇ）を加え、７０℃で２．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１８）を得た。このポリイミドのイミド化率は７４％であり、数平均分子量は１７，９００、重量平均分子量は４８，３００であった。

＜合成例１９＞
Ｅ２（０．８０ｇ，３．１８ｍｍｏｌ）、Ａ１（０．９６ｇ，４．８３ｍｍｏｌ）、Ｃ１（３．３７ｇ，８．８６ｍｍｏｌ）およびＤ２（０．３７ｇ，２．４２ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１６．４ｇ）中で混合し、８０℃で６時間反応させた後、Ｅ５（２．７０ｇ，１２．７ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（８．２０ｇ）を加え、８０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．７５ｇ）およびピリジン（２．５５ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１９）を得た。このポリイミドのイミド化率は５５％であり、数平均分子量は１６，８００、重量平均分子量は４６，２００であった。

＜合成例２０＞
Ｅ１（５．００ｇ，２５．５ｍｍｏｌ）、Ｃ１（０．９８ｇ，２．５８ｍｍｏｌ）およびＤ１（２．５１ｇ，２３．２ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２５．５ｇ）中で混合し、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２０）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２５，８００、重量平均分子量は、８８，９００であった。

＜合成例２１＞
Ｅ１（５．００ｇ，２５．５ｍｍｏｌ）、Ｄ１（１．９６ｇ，１８．１ｍｍｏｌ）およびＤ２（１．１８ｇ，７．７５ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２４．４ｇ）中で混合し、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２１）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２７，１００、重量平均分子量は、９０，１００であった。

＜合成例２２＞
Ｅ２（４．０８ｇ，１６．３ｍｍｏｌ）、Ｃ１（６．２９ｇ，１６．５ｍｍｏｌ）、Ｄ１（１．０７ｇ，９．９２ｍｍｏｌ）およびＤ２（１．０１ｇ，６．６１ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（３１．３ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｅ１（３．２０ｇ，１６．３ｍｍｏｌ）とＮＥＰ（１５．７ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（２２）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２２，５００、重量平均分子量は、６６，９００であった。

＜合成例２３＞
合成例２２の合成手法で得られたポリアミド酸溶液（２２）（３０．０ｇ）に、ＮＥＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．４０ｇ）およびピリジン（２．５０ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（２３）を得た。このポリイミドのイミド化率は５５％であり、数平均分子量は１９，２００、重量平均分子量は５０，６００であった。

＜合成例２４＞
Ｅ２（４．７２ｇ，１８．９ｍｍｏｌ）、Ｃ１（２．９１ｇ，７．６４ｍｍｏｌ）、Ｄ１（１．２４ｇ，１１．５ｍｍｏｌ）およびＤ２（２．９１ｇ，１９．１ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（３１．０ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｅ１（３．７０ｇ，１８．９ｍｍｏｌ）とＮＥＰ（１５．５ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（２４）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２３，０００、重量平均分子量は、６８，８００であった。

＜合成例２５＞
合成例２４の合成手法で得られたポリアミド酸溶液（２４）（３０．０ｇ）に、ＮＥＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．４０ｇ）およびピリジン（２．６５ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（２５）を得た。このポリイミドのイミド化率は５７％であり、数平均分子量は２０，１００、重量平均分子量は５４，１００であった。

＜合成例２６＞
Ｅ２（２．０４ｇ，８．１６ｍｍｏｌ）、Ａ１（０．９９ｇ，４．９６ｍｍｏｌ）、Ｄ２（０．５０ｇ，３．３１ｍｍｏｌ）およびＤ３（３．１１ｇ，８．２６ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（１６．５ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｅ１（１．６０ｇ，８．１６ｍｍｏｌ）とＮＥＰ（８．２５ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＥＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．４５ｇ）およびピリジン（２．６５ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（２６）を得た。このポリイミドのイミド化率は５４％であり、数平均分子量は１７，６００、重量平均分子量は４９，２００であった。

＜合成例２７＞
Ｅ２（２．２３ｇ，８．９２ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．６２ｇ，５．４２ｍｍｏｌ）、Ｄ２（１．３８ｇ，９．０４ｍｍｏｌ）およびＤ３（１．３６ｇ，３．６２ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（１６．７ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｅ１（１．７５ｇ，８．９２ｍｍｏｌ）とＮＥＰ（８．３４ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。

得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＥＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．４５ｇ）およびピリジン（２．６５ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（２７）を得た。このポリイミドのイミド化率は５７％であり、数平均分子量は１８，６００、重量平均分子量は５１，５００であった。

本発明のポリイミド系重合体を表２〜表４に示す。

＊１：ポリアミド酸。

＊１：ポリアミド酸。

＊１：ポリアミド酸。

「本発明の液晶配向処理剤の製造」
下記する実施例１〜実施例１９および比較例１〜比較例８では、液晶配向処理剤の製造例を記載する。また、この液晶配向処理剤は、評価のためにも使用される。

本発明の液晶配向処理剤を表５〜表７に示す。

本発明の実施例および比較例で得られた液晶配向処理剤を用い、「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」、「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」および「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」を行った。

「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」
本発明の実施例４で得られた液晶配向処理剤（４）、実施例９で得られた液晶配向処理剤（９）および実施例１５で得られた液晶配向処理剤（１５）を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、インクジェット塗布性の評価を行った。インクジェット塗布機には、ＨＩＳ−２００（日立プラントテクノロジー社製）を用いた。塗布は、純水およびＩＰＡにて洗浄を行ったＩＴＯ（酸化インジウムスズ）蒸着基板上に、ノズルピッチが０．４２３ｍｍ、スキャンピッチが０．５ｍｍ、塗布速度が４０ｍｍ／秒、塗布から仮乾燥までの時間が６０秒、仮乾燥がホットプレート上にて７０℃で５分間の条件で行った。

得られた液晶配向膜付き基板の塗膜性を確認した。具体的には、塗膜をナトリウムランプの下で目視観察することで行い、ピンホールの有無を確認した。その結果、いずれの実施例で得られた液晶配向膜とも、塗膜上にピンホールは見られず、塗膜性に優れた液晶配向膜が得られた。

「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」
本発明の実施例および比較例で得られた液晶配向処理剤を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、液晶セルの作製（通常セル）を行った。この溶液を純水およびＩＰＡにて洗浄を行った４０×３０ｍｍＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）のＩＴＯ面にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間、熱循環型クリーンオーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍのポリイミド液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。なお、本発明の実施例４で得られた液晶配向処理剤（４）、実施例９で得られた液晶配向処理剤（９）および実施例１５で得られた液晶配向処理剤（１５）は、上記の「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」と同様の条件で、液晶配向膜付き基板を作製し、その後、熱循環型クリーンオーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍのポリイミド液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。

このＩＴＯ基板の塗膜面をロール径が１２０ｍｍのラビング装置でレーヨン布を用いて、ロール回転数が１０００ｒｐｍ、ロール進行速度が５０ｍｍ／ｓｅｃ、押し込み量が０．１ｍｍの条件でラビング処理した。

得られた液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、液晶配向膜面を内側にして６μｍのスペーサー挟んで組み合わせ、シール剤で周囲を接着して空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、ネマチック液晶を注入し、注入口を封止して液晶セル（通常セル）を得た。

なお、実施例１で得られた液晶配向処理剤（１）および比較例（１）で得られた液晶配向処理剤（２１）を用いた液晶セルには、液晶にＭＬＣ−２００３（メルク・ジャパン社製）を用いた。また、それ以外の実施例および比較例で得られた液晶配向処理剤を用いたセルには、液晶にＭＬＣ−６６０８（メルク・ジャパン社製）を用いた。

次に、この液晶セル（通常セル）のプレチルト角の測定を行った。プレチルト角は、液晶のアイソトロピック処理（９５℃で５分間加熱処理）を行った後、それを加熱処理（１２０℃で５時間加熱処理）した後の液晶セルを測定した。

さらに、上記と同様の条件で作製した液晶セルにアイソトロピック処理を行った後に、３６５ｎｍ換算で１０Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後の液晶セルも測定した。なお、プレチルト角は、ＰＡＳ−３０１（ＥＬＳＩＣＯＮ製）を用いて室温で測定した。さらに、紫外線の照射は、卓上型ＵＶ硬化装置（ＨＣＴ３Ｂ２８ＨＥＸ−１）（センライト製）を用いて行った。

評価は、液晶のアイソトロピック処理した後（Ｉｓｏ処理後ともいう）のプレチルト角に対して、加熱処理した後（高温処理後ともいう）および紫外線を照射した後（紫外線照射後ともいう）のプレチルト角の変化が小さいものほど、良好とした（表８〜表１０に、Ｉｓｏ処理後、高温処理後および紫外線照射後のプレチルト角の値を示す）。

表８〜表１０に、実施例および比較例で得られた結果を示す。

「電圧保持率の評価（通常セル）」
上記の「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」と同様の条件で作製した液晶セル（通常セル）を用いて、電圧保持率の評価を行った。具体的には、上記の手法で得られた液晶セル（通常セル）に、８０℃の温度下で１Ｖの電圧を６０μｓ印加し、５０ｍｓ後の電圧を測定し、電圧がどのくらい保持できているかを電圧保持率（ＶＨＲともいう）として計算した。なお、測定は、電圧保持率測定装置（ＶＨＲ−１）（東陽テクニカ社製）を使用し、Ｖｏｌｔａｇｅ：±１Ｖ、Ｐｕｌｓｅ Ｗｉｄｔｈ：６０μｓ、Ｆｌａｍｅ Ｐｅｒｉｏｄ：５０ｍｓの設定で行った。

さらに、上記の液晶セル作製直後の電圧保持率の測定が終わった液晶セルに、卓上型ＵＶ硬化装置（ＨＣＴ３Ｂ２８ＨＥＸ−１）（センライト社製）を用いて、３６５ｎｍ換算で５０Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、上記と同様の条件で電圧保持率の測定を行った。

評価は、液晶セル作製直後の電圧保持率の値が高く、さらに、液晶セル作製直後の電圧保持率の値に対して、紫外線照射後の値の低下が小さいものほど、良好とした（表１１〜表１３に、液晶セル作製直後および紫外線照射後のＶＨＲの値を示す）。

表１１〜表１３に、実施例および比較例で得られた結果を示す。

「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」
上記の「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」と同様の条件で作製した液晶セル（通常セル）を用いて、残留電荷の緩和の評価を行った。具体的には、液晶セルに、直流電圧１０Ｖを３０分印加し、１秒間短絡させた後、液晶セル内に発生している電位を１８００秒間測定した。そのなかで、５０秒後の残留電荷の値を用いて、残留電荷の緩和の評価とした。なお、測定は、６２５４型液晶物性評価装置（東陽テクニカ社製）を用いた。

さらに、上記の液晶セル作製直後の残留電荷の測定が終わった液晶セルに、卓上型ＵＶ硬化装置（ＨＣＴ３Ｂ２８ＨＥＸ−１）（センライト社製）を用いて、３６５ｎｍ換算で３０Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、上記と同様の条件で残留電荷の測定を行った。

評価は、液晶セル作製直後および紫外線照射後の残留電荷の値が小さいものほど、良好とした（表１１〜表１３に、液晶セル作製直後および紫外線照射後の残留電荷の値を示す）。

表１１〜表１３に、実施例および比較例で得られた結果を示す。

「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」
実施例３で得られた液晶配向処理剤（３）、実施例５で得られた液晶配向処理剤（５）、実施例６で得られた液晶配向処理剤（６）、実施例８で得られた液晶配向処理剤（８）および実施例１６で得られた液晶配向処理剤（１６）を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）を行った。この溶液を、純水およびＩＰＡにて洗浄した中心に１０×１０ｍｍのパターン間隔２０μｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）と中心に１０×４０ｍｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）のＩＴＯ面にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間、熱循環型クリーンオーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理をして膜厚が１００ｎｍのポリイミド塗膜を得た。

この液晶配向膜付き基板を、液晶配向膜面を内側にして、６μｍのスペーサー挟んで組み合わせ、シール剤で周囲を接着して空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、ネマティック液晶（ＭＬＣ−６６０８）（メルク・ジャパン社製）に、下記の式で示される重合性化合物（１）を、ネマティック液晶（ＭＬＣ−６６０８）の１００質量％に対して重合性化合物（１）を０．３質量％混合した液晶を注入し、注入口を封止して、液晶セルを得た。

得られた液晶セルに、交流５Ｖの電圧を印加しながら、照度６０ｍＷのメタルハライドランプを用いて、３５０ｎｍ以下の波長をカットし、３６５ｎｍ換算で２０Ｊ／ｃｍ^２の紫外線照射を行い、液晶の配向方向が制御された液晶セル（ＰＳＡセル）を得た。液晶セルに紫外線を照射している際の照射装置内の温度は、５０℃であった。

この液晶セルの紫外線照射前と紫外線照射後の液晶の応答速度を測定した。応答速度は、透過率９０％から透過率１０％までのＴ９０→Ｔ１０を測定した。

いずれの実施例で得られたＰＳＡセルは、紫外線照射前の液晶セルに比べて、紫外線照射後の液晶セルの応答速度が速くなったことから、液晶の配向方向が制御されたことを確認した。また、いずれの液晶セルとも、偏光顕微鏡（ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ＷＰＯＬ）（ニコン社製）での観察により、液晶は均一に配向していることを確認した。

＜実施例１＞
合成例１の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１）（５．００ｇ）および合成例２の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２）（３．３３ｇ）に、ＮＭＰ（１８．２ｇ）およびＢＣＳ（８．１６ｇ）を加え、２５℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（１）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例２＞
合成例３の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（３）（４．５０ｇ）および合成例５の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（５）（４．５０ｇ）に、ＮＥＰ（１４．４ｇ）およびＰＢ（１４．１ｇ）を加え、２５℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（２）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（２）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例３＞
合成例４の合成手法で得られたポリイミド粉末（４）（１．１５ｇ）および合成例６の合成手法で得られたポリイミド粉末（６）（１．１５ｇ）に、ＮＥＰ（２１．６ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（１４．４ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（３）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（３）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」、「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」および「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」を行った。

＜実施例４＞
合成例４の合成手法で得られたポリイミド粉末（４）（０．６５ｇ）および合成例６の合成手法で得られたポリイミド粉末（６）（０．４３ｇ）に、ＮＥＰ（１４．９ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（５．９７ｇ）、ＰＢ（８．９６ｇ）およびＫ１（０．０３２ｇ）を加え、４０℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（４）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（４）を用いて、「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例５＞
合成例７の合成手法で得られたポリイミド粉末（７）（１．６５ｇ）および合成例８の合成手法で得られたポリイミド粉末（８）（０．７１ｇ）に、ＮＭＰ（２０．３ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（１２．９ｇ）およびＤＭＥ（３．６９ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（５）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（５）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」、「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」および「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」を行った。

＜実施例６＞
合成例９の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（９）（３．５０ｇ）および合成例５の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（５）（５．２５ｇ）に、ＮＥＰ（１４．０ｇ）、ＰＢ（１０．３ｇ）およびＥＣ（３．４３ｇ）を加え、２５℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（６）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（６）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」、「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」および「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」を行った。

＜実施例７＞
合成例１０の合成手法で得られたポリイミド粉末（１０）（１．７５ｇ）に、ＮＥＰ（１５．０ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（１１．０ｇ）およびＤＭＥ（１．３７ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、溶液を得た。

一方、合成例６の合成手法で得られたポリイミド粉末（６）（０．４４ｇ）に、ＮＥＰ（３．８０ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（２．７０ｇ）およびＤＭＥ（０．３４ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、溶液を得た。

上記で得られた２つの溶液を混合し、さらにＫ１（０．１５３ｇ）を加え、４０℃で６時間攪拌して、液晶配配向処理剤（７）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（７）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例８＞
合成例１１の合成手法で得られたポリイミド粉末（１１）（０．７５ｇ）および合成例８の合成手法で得られたポリイミド粉末（８）（１．３９ｇ）に、ＮＭＰ（６．７１ｇ）およびＮＥＰ（１３．４ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（１３．４ｇ）およびＫ１（０．１０７ｇ）を加え、４０℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（８）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（８）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」、「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」および「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」を行った。

＜実施例９＞
合成例１１の合成手法で得られたポリイミド粉末（１１）（０．５５ｇ）および合成例８の合成手法で得られたポリイミド粉末（８）（０．８３ｇ）に、ＮＥＰ（１５．２ｇ）およびγ−ＢＬ（３．７９ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（１５．２ｇ）およびＤＭＥ（３．７９ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（９）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（９）を用いて、「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例１０＞
合成例４の合成手法で得られたポリイミド粉末（４）（１．１０ｇ）に、ＮＭＰ（１．７３ｇ）およびＮＥＰ（６．９０ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（１．７３ｇ）およびＰＢ（６．９０ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、溶液を得た。

一方、合成例１２の合成手法で得られたポリイミド粉末（１２）（１．１０ｇ）に、ＮＭＰ（１．７３ｇ）およびＮＥＰ（６．９０ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（１．７３ｇ）およびＰＢ（６．９０ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、溶液を得た。

上記で得られた２つの溶液を混合し、２５℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（１０）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１０）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例１１＞
合成例１３の合成手法で得られたポリイミド粉末（１３）（１．２５ｇ）および合成例８の合成手法で得られたポリイミド粉末（８）（０．８３ｇ）に、ＮＥＰ（１３．１ｇ）およびγ−ＢＬ（３．２６ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（１３．１ｇ）およびＥＣ（３．２６ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１１）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１１）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例１２＞
合成例１０の合成手法で得られたポリイミド粉末（１０）（０．６５ｇ）および合成例８の合成手法で得られたポリイミド粉末（８）（１．５２ｇ）に、ＮＭＰ（１７．０ｇ）およびγ−ＢＬ（１．７０ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（６．７９ｇ）およびＰＢ（８．４９ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１２）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１２）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例１３＞
合成例１５の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１５）（４．５０ｇ）および合成例１６の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１６）（４．５０ｇ）に、ＮＭＰ（１４．４ｇ）、ＢＣＳ（３．５３ｇ）、ＰＢ（１０．６ｇ）およびＫ１（０．２２５ｇ）を加え、４０℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（１３）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１３）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例１４＞
合成例７の合成手法で得られたポリイミド粉末（７）（０．９０ｇ）および合成例１７の合成手法で得られたポリイミド粉末（１７）（１．３５ｇ）に、ＮＥＰ（１５．９ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（５．２９ｇ）およびＰＢ（１４．１ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１４）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１４）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例１５＞
合成例７の合成手法で得られたポリイミド粉末（７）（０．５５ｇ）および合成例１７の合成手法で得られたポリイミド粉末（１７）（０．８３ｇ）に、ＮＭＰ（３．７９ｇ）およびＮＥＰ（１５．２ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（１９．０ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１５）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１５）を用いて、「液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価」、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例１６＞
合成例１８の合成手法で得られたポリイミド粉末（１８）（１．２５ｇ）に、ＮＭＰ（８．８２ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（２．９４ｇ）およびＰＢ（７．８６ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、溶液を得た。

一方、合成例１７の合成手法で得られたポリイミド粉末（１７）（０．８３ｇ）に、ＮＭＰ（５．８８ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（１．９６ｇ）およびＰＢ（５．２４ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、溶液を得た。

上記で得られた２つの溶液を混合し、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１６）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１６）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」、「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」および「液晶セルの作製および液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）」を行った。

＜実施例１７＞
実施例１６の調整手法で得られた液晶配向処理剤（１６）（２０．０ｇ）に、Ｋ１（０．０６ｇ）を加え、４０℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（１７）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１７）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例１８＞
合成例１９の合成手法で得られたポリイミド粉末（１９）（０．４５ｇ）および合成例６の合成手法で得られたポリイミド粉末（６）（１．８０ｇ）に、ＮＥＰ（２１．２ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（３．５３ｇ）およびＰＢ（１０．６ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１８）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１８）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜実施例１９＞
合成例１９の合成手法で得られたポリイミド粉末（１９）（１．６３ｇ）および合成例５の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（５）（６．５０ｇ）に、ＮＥＰ（１９．４ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣＳ（６．４７ｇ）およびＰＢ（６．４７ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１９）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（１９）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜比較例１＞
合成例２０の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２０）（４．９５ｇ）および合成例２１の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２１）（３．３０ｇ）に、ＮＭＰ（１８．０ｇ）およびＢＣＳ（８．０８ｇ）を加え、２５℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（２０）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（２０）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜比較例２＞
合成例３の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（３）（４．５０ｇ）および合成例２４の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２４）（４．５０ｇ）に、ＮＥＰ（１４．４ｇ）およびＰＢ（１４．１ｇ）を加え、２５℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（２１）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（２１）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜比較例３＞
合成例２２の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２２）（４．５０ｇ）および合成例５の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（５）（４．５０ｇ）に、ＮＥＰ（１４．４ｇ）およびＰＢ（１４．１ｇ）を加え、２５℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（２２）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（２２）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜比較例４＞
合成例２２の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２２）（４．５０ｇ）および合成例２４の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２４）（４．５０ｇ）に、ＮＥＰ（１４．４ｇ）およびＰＢ（１４．１ｇ）を加え、２５℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（２３）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（２３）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜比較例５＞
合成例４の合成手法で得られたポリイミド粉末（４）（１．１０ｇ）および合成例２５の合成手法で得られたポリイミド粉末（２５）（１．１０ｇ）に、ＮＥＰ（２０．７ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（１３．８ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（２４）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（２４）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜比較例６＞
合成例２３の合成手法で得られたポリイミド粉末（２３）（１．１０ｇ）および合成例６の合成手法で得られたポリイミド粉末（６）（１．１０ｇ）に、ＮＥＰ（２０．７ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（１３．８ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（２５）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（２５）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜比較例７＞
合成例２３の合成手法で得られたポリイミド粉末（２３）（１．１０ｇ）および合成例２５の合成手法で得られたポリイミド粉末（２５）（１．１０ｇ）に、ＮＥＰ（２０．７ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（１３．８ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（２６）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（２６）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＜比較例８＞
合成例２６の合成手法で得られたポリイミド粉末（２６）（１．１０ｇ）および合成例２７の合成手法で得られたポリイミド粉末（２７）（１．１０ｇ）に、ＮＥＰ（２０．７ｇ）を加え、７０℃で２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＰＢ（１３．８ｇ）を加え、４０℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（２７）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

得られた液晶配向処理剤（２７）を用いて、「液晶セルの作製およびプレチルト角の評価（通常セル）」、「電圧保持率の評価（通常セル）」および「残留電荷の緩和の評価（通常セル）」を行った。

＊１：すべての重合体１００質量部に対する特定重合体（Ａ）の導入量（質量部）を示す。
＊２：すべての重合体１００質量部に対する特定重合体（Ｂ）の導入量（質量部）を示す。
＊３：すべての重合体１００質量部に対するその他重合体の導入量（質量部）を示す。
＊４：すべての重合体１００質量部に対する架橋性化合物の導入量（質量部）を示す。
＊５：すべての溶媒１００質量部に対する各溶媒の導入量（質量部）を示す。
＊６：液晶配向処理剤中のすべての重合体の占める割合を示す。

＊１：すべての重合体１００質量部に対する特定重合体（Ａ）の導入量（質量部）を示す。
＊２：すべての重合体１００質量部に対する特定重合体（Ｂ）の導入量（質量部）を示す。
＊３：すべての重合体１００質量部に対するその他重合体の導入量（質量部）を示す。
＊４：すべての重合体１００質量部に対する架橋性化合物の導入量（質量部）を示す。
＊５：すべての溶媒１００質量部に対する各溶媒の導入量（質量部）を示す。
＊６：液晶配向処理剤中のすべての重合体の占める割合を示す。

＊１：すべての重合体１００質量部に対する特定重合体（Ａ）の導入量（質量部）を示す。
＊２：すべての重合体１００質量部に対する特定重合体（Ｂ）の導入量（質量部）を示す。
＊３：すべての重合体１００質量部に対するその他重合体の導入量（質量部）を示す。
＊４：すべての重合体１００質量部に対する架橋性化合物の導入量（質量部）を示す。
＊５：すべての溶媒１００質量部に対する各溶媒の導入量（質量部）を示す。
＊６：液晶配向処理剤中のすべての重合体の占める割合を示す。

上記の結果からわかるように、本発明の実施例の液晶配向処理剤は、比較例の液晶配向処理剤に比べて、液晶セルに、高温処理および紫外線照射を行っても、安定なプレチルト角を示した。さらには、紫外線照射を行っても、電圧保持率の低下を抑制し、かつ直流電圧により蓄積する残留電荷の緩和が早い結果となった。すなわち、本発明の液晶配考処理剤は、長時間高温および光の照射に曝された後でも、安定なプレチルト角が発現できる液晶配向膜となり、加えて、長時間光の照射に曝された後でも、電圧保持率の低下を抑制し、かつ直流電圧により蓄積する残留電荷の緩和が早い液晶配向膜となる。

具体的には、本発明の特定重合体（Ａ）と特定重合体（Ｂ）とを用いた液晶配向処理剤の実施例と、それらのどちらか一方しか用いていない液晶配向処理剤の実施例との比較、すなわち、実施例２と比較例２または比較例３との比較、および実施例３と比較例５または比較例６との比較である。これら特定重合体（Ａ）のみを用いた比較例または特定重合体（Ｂ）のみを用いた比較例は、対応する実施例に比べて、特に、紫外線照射に対して、電圧保持率が大きく低下し、さらに、残留電荷の値も大きくなった。

また、本発明の特定重合体（Ａ）と特定重合体（Ｂ）とを用いた液晶配向処理剤の実施例と、本発明の３級窒素原子を含む構造を持たない重合体と特定構造（２）を持たない重合体とを用いた液晶配向処理剤の比較例、すなわち、実施例１と比較例１との比較、実施例２と比較例４との比較、および実施例３と比較例７との比較である。これら比較例は、対応する実施例に比べて、特に、紫外線照射に対して、電圧保持率が大きく低下し、さらに、残留電荷の値も大きくなった。

加えて、本発明の特定重合体（Ａ）と特定重合体（Ｂ）とを用いた液晶配向処理剤の実施例と、従来型の側鎖構造を有する重合体とを用いた液晶配向処理剤の比較例との比較、すなわち、実施例３と比較例８との比較である。この比較例は、対応する実施例に比べて、高温処理および紫外線照射を行った後のプレチルト角の変化幅が大きく、かつ、紫外線照射に対して、電圧保持率が大きく低下し、さらに、残留電荷の値も大きくなった。なかでも、特に、電圧保持率の低下が大きかった。

本発明の液晶配向処理剤は、長時間高温および光の照射に曝された後でも、安定なプレチルト角が発現できる液晶配向膜を提供することができる。加えて、長時間光の照射に曝された後でも、電圧保持率の低下を抑制し、かつ直流電圧により蓄積する残留電荷の緩和が早い液晶配向膜を提供することができる。加えて、上記の液晶配向膜を有する液晶表示素子、上記の液晶配向膜を提供することのできる液晶配向処理剤を提供することができる。

よって、本発明の液晶配向処理剤から得られた液晶配向膜を有する液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビなどに好適に利用でき、ＴＮ素子、ＳＴＮ素子、ＴＦＴ液晶素子、特に垂直配向型の液晶表示素子に有用である。

さらに、本発明の液晶配向処理剤から得られた液晶配向膜は、液晶表示素子を作製する際に、紫外線を照射する必要がある液晶表示素子に対しても有用である。すなわち、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子、さらには、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方で重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性基を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に対しても有用である。

Claims (24)

1. 下記の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有する液晶配向処理剤。
   （Ａ）成分：窒素原子を有する構造を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体。
   （Ｂ）成分：下記の式［２］で示される構造を有するポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくともいずれか一種を含有する重合体。
   なお、（Ａ）成分および（Ｂ）成分の重合体の少なくともいずれか一方には、下記の式［３］で示される構造を含有する。
   

   

   （式［２］中、Ｙ^１およびＹ^７はそれぞれ独立して、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１）−（Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＯＮ（Ｒ^２）−（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−Ｎ（Ｒ^３）ＣＯ−（Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−および−ＯＣＯ−から選ばれる少なくとも１種の有機基を示し、Ｙ^２およびＹ^６はそれぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^３およびＹ^５はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^４は酸素原子または硫黄原子を示す）。
   

   

   （式［３］中、Ｂ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｂ^２は単結合または−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示し、Ｂ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−を示し、Ｂ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基、またはステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、Ｂ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環または複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基またはフッ素原子で置換されていてもよく、ｎは０〜４の整数を示し、Ｂ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基または炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示す）。
2. 前記（Ａ）成分における窒素原子を有する構造が、下記の式［１ａ］〜式［１ｃ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造である請求項１に記載の液晶配向処理剤。
   

   

   （式［１ａ］中、Ｘ^１はベンゼン環または窒素含有芳香族複素環を示し、Ｘ^２は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族基で置換されたジ置換アミノ基を示し、式［１ｂ］中、Ｘ^３およびＸ^７はそれぞれ独立して、炭素原子を６〜１５個有し、かつベンゼン環を１〜２個有する芳香族基を示し、Ｘ^４およびＸ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示し、Ｘ^５は炭素数２〜５のアルキレン基またはビフェニル基を示し、ｍは０または１の整数を示し、式［１ｃ］中、Ｘ^８およびＸ^１０はそれぞれ独立して、下記の式［１ｃ−ａ］および式［１ｃ−ｂ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を示し、Ｘ^９は炭素数１〜５のアルキレン基またはベンゼン環を示す）。
   

   
3. 前記（Ａ）成分の重合体が、下記の式［１−１］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いて得られる重合体である請求項１または請求項２に記載の液晶配向処理剤。
   

   

   （式［１−１］中、Ｘ^Ａは前記式［１ａ］〜式［１ｃ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を有する有機基を示し、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。
4. 前記ジアミン化合物が、下記の式［１ａ−１］〜式［１ｃ−１］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いて得られる重合体である請求項３に記載の液晶配向処理剤。
   

   

   （式［１ａ−１］中、Ｘ^１はベンゼン環または窒素含有芳香族複素環を示し、Ｘ^２は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族基で置換されたジ置換アミノ基を示し、式［１ｂ−１］中、Ｘ^３およびＸ^７はそれぞれ独立して、炭素原子を６〜１５個有し、かつベンゼン環を１〜２個有する芳香族基を示し、Ｘ^４およびＸ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示し、Ｘ^５は炭素数２〜５のアルキレン基またはビフェニル基を示し、ｍは０または１の整数を示し、式［１ｃ−１］中、Ｘ^８およびＸ^１０はそれぞれ独立して、前記式［１ｃ−ａ］および式［１ｃ−ｂ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を示し、Ｘ^９は炭素数１〜５のアルキレン基またはベンゼン環を示し、式［１ａ−１］〜式［１ｃ−１］中、Ａ^１〜Ａ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。
5. 前記ジアミン化合物が、下記の式［１−１ａ］〜式［１−４ａ］で示されるジアミン化合物から選ばれる少なくとも１種のジアミン化合物である請求項４に記載の液晶配向処理剤。
   

   

   （式［１−３ａ］中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示し、式［１−４ａ］中、ｎは１〜１０の整数を示し、式［１−１ａ］〜式［１−４ａ］中、Ａ^１〜Ａ^８はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。
6. 前記（Ｂ）成分の重合体が、下記の式［２−１］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いて得られる重合体である請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤。
   

   

   （式［２−１］中、Ｙ^Ａは前記式［２］で示される構造を有する有機基を示し、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。
7. 前記ジアミン化合物が、下記の式［２ａ］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いて得られる重合体である請求項６に記載の液晶配向処理剤。
   

   

   （式［２ａ］中、Ｙ^１およびＹ^７はそれぞれ独立して、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１）−（Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＯＮ（Ｒ^２）−（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−Ｎ（Ｒ^３）ＣＯ−（Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜３のアルキレン基を示す）、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−および−ＯＣＯ−から選ばれる少なくとも１種の有機基を示し、Ｙ^２およびＹ^６はそれぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^３およびＹ^５はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０のアルキレン基を示し、Ｙ^４は酸素原子または硫黄原子を示し、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。
8. 前記ジアミン化合物が、下記の式［２−１ａ］〜式［２−３ａ］で示されるジアミン化合物から選ばれる少なくとも１種のジアミン化合物である請求項７に記載の液晶配向処理剤。
   

   

   （式［２−１ａ］〜式［２−３ａ］中、Ａ^１〜Ａ^６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示す）。
9. 前記（Ａ）成分および（Ｂ）成分の少なくともいずれか一方の重合体に、下記の式［３ａ］で示されるジアミン化合物を原料の一部に用いた請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤。
   

   

   （式［３ａ］中、Ｂは前記式［３］を示し、Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５のアルキレン基を示し、ｍは１〜４の整数を示す）。
10. 前記（Ａ）成分の重合体および（Ｂ）成分の重合体が、下記の式［４］で示されるテトラカルボン酸成分を用いて得られるポリイミド前駆体およびポリイミドから選ばれる少なくとも１種の重合体である請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤。
    

    

    （式［４］中、Ｚは下記の式［４ａ］〜式［４ｋ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造を示す）。
    

    

    （式［４ａ］中、Ｚ^１〜Ｚ^４は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、塩素原子またはベンゼン環を示し、それぞれ同じであっても異なってもよく、式［４ｇ］中、Ｚ^５およびＺ^６は水素原子またはメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい）。
11. 前記テトラカルボン酸成分が、前記式［４］中のＺが前記式［４ａ］および式［４ｅ］〜式［４ｇ］で示される構造から選ばれる少なくとも１種の構造のテトラカルボン酸成分である請求項１０に記載の液晶配向処理剤。
12. 前記（Ａ）成分の重合体において、前記式［１ａ−１］〜式［１ｃ−１］で示されるジアミン化合物が、すべてのジアミン成分１００モル％中、５モル％〜９５モル％である請求項４〜請求項１１のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤。
13. 前記（Ｂ）成分の重合体において、前記式［２ａ］で示されるジアミン化合物が、すべてのジアミン成分１００モル％中、５モル％〜９５モル％である請求項７〜請求項１２のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤。
14. 前記（Ｂ）成分の重合体が、前記（Ａ）成分の重合体１００質量部に対して、０．５質量部〜９５０質量部である請求項１〜請求項１３のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤。
15. 液晶配向処理剤の溶媒として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドンおよびγ−ブチロラクトンから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する請求項１〜請求項１４のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤。
16. 液晶配向処理剤の溶媒として、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルおよびジプロピレングリコールジメチルエーテルから選ばれる少なくとも１種の溶媒を含有する請求項１〜請求項１５のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤。
17. 液晶配向処理剤中に、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基またはシクロカーボネート基を有する架橋性化合物、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基または低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する架橋性化合物、および重合性不飽和結合を有する架橋性化合物から選ばれる少なくとも１種の架橋性化合物を含む請求項１〜請求項１６のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤。
18. 請求項１〜請求項１７のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜。
19. 請求項１〜請求項１７のいずれか一項に記載の液晶配向処理剤を用いて、インクジェット法にて得られる液晶配向膜。
20. 請求項１８または請求項１９に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。
21. 電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられることを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の液晶配向膜。
22. 請求項２１に記載の液晶配向膜を有することを特徴とする液晶表示素子。
23. 電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線および熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性基を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられることを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の液晶配向膜。
24. 請求項２３に記載の液晶配向膜を有することを特徴とする液晶表示素子。