JP6381784B2 - パワーモジュール - Google Patents

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Description

この発明は、パワー半導体素子を樹脂で封止したパワーモジュールの封止構造に関するものである。
高電圧や大電流に対応する目的で通電経路を素子の縦方向としたタイプの半導体素子は、一般的にパワー半導体素子(たとえばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)、バイポーラトランジスタ、ダイオードなど)と呼ばれている。パワー半導体素子が回路基板上に実装され、封止樹脂によりパッケージングされたパワーモジュールは、産業機器、自動車、鉄道など、幅広い分野において用いられている。近年、パワーモジュールを搭載した機器の高性能化に伴い、定格電圧および定格電流の増加、使用温度範囲の拡大(高温化、低温化)、といったパワーモジュールの高性能化への要求が高まってきている。
パワーモジュールのパッケージ構造は、ケース構造と呼ばれるものが主流である。ケース型のパワーモジュールは、放熱用ベース板上に絶縁基板を介して、パワー半導体素子が実装され、ベース板に対してケースが接着された構造である。パワーモジュール内部に実装された半導体素子は、主電極と接続されている。このパワー半導体素子と主電極との接続には、ボンディングワイヤが用いられている。高電圧印加時の絶縁不良防止の目的で、一般的に、パワーモジュールの封止樹脂としては、シリコーンゲルに代表される絶縁性のゲル状充填剤が用いられる。
従来のパワーモジュールでは、シリコーンゲルの揺動によるボンディングワイヤの破断を防止するために、シリコーンゲルの上面に密着するように挿入される押さえ蓋を有し、押さえ蓋の側面には、外周ケースの内壁と上下動可能に係合する突起が設けられたパワーモジュールが開示されている(例えば、特許文献1)。
また、シリコーンゲル上面を覆い、かつその端部がケースに固定された蓋部を備え、使用が許容される温度範囲において、シリコーンゲルの上面少なくとも80%以上が蓋部に接するパワーモジュールが開示されている(例えば、特許文献2)。
特開2000−311970号公報(第3頁、第1図) 特開2014−130875号公報(第4頁、第1図)
シリコーンゲル中への気体の溶存可能量は、一般的に高温ほど少ない。したがって、パワーモジュールの使用温度範囲が拡がり、シリコーンゲルがより高温で使用されるようになると、シリコーンゲル中に溶けきれなくなった気体が気泡を形成する。このような気泡が発生した箇所では、シリコーンゲルと絶縁基板(配線パターン)との剥離が発生し、シリコーンゲルによる絶縁封止の効果が得られないため、パワーモジュールの絶縁性能が劣化してしまう。
このシリコーンゲル中の気泡や剥離の発生を抑制するためには、シリコーンゲルの内部応力を圧縮応力になるようにすればよい。これは、引張応力は気泡や剥離を拡大、進展させる駆動力になるからである。
しかしながら、特許文献1に記載のパワーモジュールにおいては、押さえ蓋を封止樹脂の上面に密着するように挿入しても、押さえ蓋が外周ケースの内壁に対して上下動が可能であるため、パワー半導体素子が高温で動作する際には封止樹脂が熱膨張して押さえ蓋を容易に押し上げることができるので、気泡の発生を抑止する圧縮応力は発生せず、パワーモジュールの絶縁性能が劣化してしまう。
一方で、特許文献2に記載のパワーモジュールにおいては、蓋部の端部がケースに固定されているために、高温時にはシリコーンゲルが熱膨張して押さえ板を押し上げることができないので、シリコーンゲルの内部応力は圧縮応力となり、気泡の発生は抑止される。しかしながら、低温時には、蓋部の端部がケースに固定されているために、熱収縮しようとするシリコーンゲルが蓋部に引っ張られることで、シリコーンゲルの内部応力が引張応力となる。シリコーンゲルの内部応力が引張応力の状態では、シリコーンゲルに微小な気泡があると、引張応力により気泡が拡大する。また、シリコーンゲルと絶縁基板の界面や、シリコーンゲルとパワー半導体素子との界面や、ゲルとワイヤとの界面に密着力の弱い部分があった場合に、引張応力により、界面の剥離が生じたり、剥離を進展させたりする。このような気泡や剥離が発生した箇所では、シリコーンゲルによる絶縁封止の効果が得られないため、パワーモジュールの絶縁性能が劣化してしまう。
さらに、パワーモジュールの使用電圧がより高電圧になると、気泡や剥離のサイズがより小さくても、絶縁破壊を生じやすくなるため、モジュールの絶縁性能が劣化してしまう。
このように、従来のパワーモジュールにおいては、パワーモジュールの使用温度範囲が拡がり、より高温や低温で使用される場合や、パワーモジュールの使用電圧が高電圧になった場合に、パワーモジュールの絶縁性能が劣化してしまうという問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解決するためになされたもので、高温時、低温時や使用電圧が高電圧時の気泡の発生やシリコーンゲルと絶縁基板との剥離を抑制することで、絶縁性能の確保が可能なパワーモジュールを得るものである。
この発明に係るパワーモジュールは、一方の面に半導体素子が搭載された絶縁基板と、前記絶得基板の他方の面に接合されたベース板と、前記絶縁基板を取り囲み、前記ベース板の前記絶縁基板が接合された面と接するケース部材と、前記ベース板と前記ケース部材とで囲まれた領域に充填された前記絶縁基板を封止する封止樹脂と、前記絶縁基板の一方の面側の前記封止樹脂の表面と密着した押さえ板と、前記押さえ板の前記封止樹脂と密着した面の反対面と対向し、前記押さえ板の上方への移動を抑制する位置で前記ケース部材と固着された蓋材とを有するものである。
この発明によれば、モジュール内部の封止樹脂と蓋との間に封止樹脂と密着させた押さえ板を設けたことで、ヒートサイクル時におけるケース内に充填された封止樹脂と絶縁基板との熱応力の発生を緩和することができる。その結果として、ヒートサイクルによるモジュールの信頼性を向上することが可能となる。
この発明の実施の形態1によるパワーモジュールを示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態1におけるパワーモジュールの低温時を示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態1におけるパワーモジュールの高温時を示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態2によるパワーモジュールを示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの低温時を示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの高温時を示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの蓋を示す平面構造模式図である。 この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。 この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。 この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。 この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。 この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。 この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。 この発明の実施の形態3におけるパワーモジュールを示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態3におけるパワーモジュールの押さえ板を示す平面構造模式図である。 この発明の実施の形態3におけるパワーモジュールの他の押さえ板を示す平面構造模式図である。 この発明の実施の形態4におけるパワーモジュールを示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態4におけるパワーモジュールの他の蓋と押さえ板とを示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態4におけるパワーモジュールの他の蓋と押さえ板とを示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態4におけるパワーモジュールの他の蓋と押さえ板とを示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態5におけるパワーモジュールを示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態5におけるパワーモジュールの他の蓋と押さえ板とを示す断面構造模式図である。 この発明の実施の形態6におけるパワーモジュールを示す断面構造模式図である。
以下に本発明の半導体装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は以下の既述に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1によるパワーモジュールを示す断面構造模式図である。図1において、パワーモジュール100は、ベース板1、絶縁基板2、半導体素子であるパワー半導体素子3、ボンディングワイヤ4、端子5、ケース部材であるケース6、蓋材である蓋7、封止樹脂であるシリコーンゲル8、押さえ板9、ハンダ11,12を備える。
絶縁基板2は、絶縁基板2の下面(他方の面)側をベース板1上にハンダ11を用いて接合されている。絶縁基板2は、絶縁層21と金属板22、23とを備えている。絶縁基板2は、酸化アルミニウムや窒化アルミニウムや窒化珪素等のセラミックスやエポキシ樹脂等による絶縁層21の両面に銅やアルミニウムなどの金属板22、23を張り合わせた構造となっている。絶縁基板2の上面(一方の面)側となる金属板23には配線パターンが形成されている。この上面側の金属板23に、パワー半導体素子3がハンダ12で接合されている。ここでは、接合材料として、はんだを用いているが、これに限定されるものではなく、焼結銀、導電性接着剤、液相拡散接合技術を用いて接合しても良い。
パワー半導体素子3は、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)やIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)などの電力制御用半導体素子や還流ダイオードなどが用いられる。パワー半導体素子3と端子5とは、線径0.1〜0.5mmのアルミニウム合金製もしくは銅合金製の線材である、ボンディングワイヤ4を介して電気的に接続されている。本実施の形態1では、ボンディングワイヤ4を用いているが、ボンディングリボンでも良い。端子5は、銅製の板状電極である。端子5は、ケース6にインサート成型もしくはアウトサート成型されており、パワーモジュール100の外部との電流および電圧の入出力に用いられる。ケース6は、ベース板1に対して接着剤(図示せず)で接着されている。ケース6の材料としては、一般的にPPS(Poly Phenylene Sulfide)樹脂やPBT(Poly Butylene Terephtalate)樹脂が用いられる。
パワーモジュール100の内部における絶縁性を確保する目的で、シリコーンゲル8がケース6とベース板1とで囲まれる領域内に充填されている。シリコーンゲル8は、パワー半導体素子3およびボンディングワイヤ4がシリコーンゲル8内に封入される高さまで、充填されている。
充填されたシリコーンゲル8の表面(上面)に、押さえ板9が密着して設置されている。さらに、ケース6の上部に蓋7が設置されている。蓋7によって、パワーモジュール100の内部と外部とを分離し、粉じん等がパワーモジュール100の内部に侵入することを防いでいる。蓋7は接着剤(図示せず)もしくはネジ(図示せず)でケース6に固定されている。ここで、シリコーンゲル8の表面とは、シリコーンゲル8の絶縁基板2の一方の面と接する反対面である。
図2は、この発明の実施の形態1におけるパワーモジュールの低温時を示す断面構造模式図である。図3は、この発明の実施の形態1におけるパワーモジュールの高温時を示す断面構造模式図である。図2は、モジュール100の温度が常温以下に低下した場合のモジュール100の内部を示す断面構造模式図である。図3は、モジュール100の温度がシリコーンゲル8の硬化温度以上に上昇した場合のモジュール100の内部を示す断面構造模式図である。
パワーモジュールの絶縁封止に用いられるシリコーンゲル8の硬化温度は、通常、60〜80℃である。また、パワーモジュールの絶縁封止に用いられるシリコーンゲル8の線膨脹係数は、通常、300〜400ppm/Kである。一方、パワーモジュール100に使用される他の構成部材の線膨脹係数は、3〜25ppm/Kであり、シリコーンゲル8の線膨脹係数は、パワーモジュール100に使用される他の構成部材と比較して、数十〜百数十倍、大きい値である。
したがって、ケース6内部に充填したシリコーンゲル8を硬化し封止工程を完了させた後、パワーモジュール100の温度が常温まで下がると、シリコーンゲル8は他の構成部材よりも大きく熱収縮する。このとき、シリコーンゲル8の表面高さは硬化時よりも低くなる(図1参照)。
パワーモジュール100の温度が常温よりも低くなると、図2に示すように、シリコーンゲル8の表面高さは、さらに低くなる。
一方、パワーモジュール100の温度が硬化温度より高くなると、シリコーンゲル8は他の構成部材よりも大きく熱膨張するため、図3に示すように、シリコーンゲル8の表面高さは、硬化時の位置よりも高くなる。
ここで、温度変化によるシリコーンゲル8の高さ変化量ΔL、シリコーンゲル8の表面積をS、シリコーンゲル8の体積をV、シリコーンゲル8の体積膨張率β、温度変化量ΔTとすると、ΔL=V×β×ΔT×1/Sの関係が成り立つ。シリコーンゲル8の蓋7側の表面と蓋7との間隔をΔLよりも小さくすることで、パワーモジュール100が硬化温度よりも高い高温動作時に押さえ板9が蓋7に当たることでシリコーンゲル8の内部応力が圧縮応力となる。そのため、蓋7と押さえ板9との間隔(距離)は、ΔLよりも小さく設定する必要ある。例えば、パワーモジュール100の動作温度が150℃以上において、押さえ板9が蓋7に当たるようにΔLを設定すれば良い。
具体的には、硬化温度60℃、線膨脹係数400ppm/Kのシリコーンゲル8を使用し、シリコーンゲル8の高さが10mmのパワーモジュール100において、V/S=10mm、β=3×400ppm/Kであることより、パワーモジュールの温度が150℃以上でシリコーンゲル8の内部応力が圧縮応力となるためには、シリコーンゲル8の蓋7側の表面と蓋7との間隔はΔL≦(10mm)×(400×10−6−1)×((150−60)℃)=1.08mm、であれば良い。
このようなパワーモジュール100において、パワーモジュール100の温度が低温になった場合には、シリコーンゲル8の熱収縮によって、押さえ板9がベース板1に向かって引き下げられる。このとき、押さえ板9は、ケース6や蓋7に固定されてはいないので、シリコーンゲル8の熱収縮に応じて押さえ板9は下側(ベース板1側)に凸状に湾曲することもできる。その結果、シリコーンゲル8には熱応力はほとんど発生せず、シリコーンゲル8の内部応力が引張応力となることを緩和できる。したがって、パワーモジュール100の温度が低温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
また、パワーモジュール100の温度が高温になった場合には、シリコーンゲル8の熱膨張によって、押さえ板9が蓋7に向かって押し上げられる。このとき、蓋7はケース6に固定されているため、押さえ板9は蓋7に当たるまで押し上げられると、押さえ板9はこれ以上蓋7の方向には移動できず、押さえ板9の位置が固定される。この状態では、シリコーンゲル8はこれ以上熱膨張できなくなり、シリコーンゲル8の内部応力は、圧縮応力となる。シリコーンゲル8の内部応力が圧縮応力となることで、パワーモジュール100の温度が高温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
さらに、押さえ板9は、ケース6内において蓋7よりも大きさが小さく、温度変化によるシリコーンゲル8の変形に伴い、ケース6内で断面における上下方向に対して変形(湾曲)可能で、上下方向に対して可動可能な大きさであることが望ましい。
以上のように構成されたパワーモジュール100では、封止樹脂と蓋との間に、封止樹脂に密着させて押さえ板を配置したことで、パワーモジュール100の温度変化における封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することが可能となる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
実施の形態2.
本実施の形態2においては、実施の形態1において、蓋7に押さえ板9の蓋7と対向する面に突起10を形成したことが異なる。このように蓋7の押さえ板9と対向する面に突起10を形成した場合においても、封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することができる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
図4は、この発明の実施の形態4によるパワーモジュールを示す断面構造模式図である。図4において、パワーモジュール200は、ベース板1、絶縁基板2、半導体素子であるパワー半導体素子3、ボンディングワイヤ4、端子5、ケース部材であるケース6、蓋材である蓋7、封止樹脂であるシリコーンゲル8、押さえ板9、第一の突起部である突起10、ハンダ11,12を備える。
シリコーンゲル8の表面(上面)に、押さえ板9が密着して設置されている。さらに、ケース6の上部に蓋7が設置されている。蓋7は接着剤(図示せず)もしくはネジ(図示せず)でケース6に固定されている。
蓋7の押さえ板9と対向する面には、押さえ板9に対向する方向に、複数の突起10が形成されている。
その他の部分の構成については、実施の形態1と同様の構成である。
図5は、この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの低温時を示す断面構造模式図である。図6は、この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの高温時を示す断面構造模式図である。図5は、モジュール200の温度が常温以下に低下した場合のモジュール200の内部を示す断面構造模式図である。図6は、モジュール200の温度がシリコーンゲル8の硬化温度以上に上昇した場合のモジュール200の内部を示す断面構造模式図である。
パワーモジュールの絶縁封止封途に用いられるシリコーンゲル8の硬化温度は、通常、60〜80℃である。また、パワーモジュールの絶縁封止封途に用いられるシリコーンゲル8の線膨脹係数は、通常、300〜400ppm/Kである。一方、パワーモジュール100に使用される他の構成部材の線膨脹係数は、3〜25ppm/Kであり、シリコーンゲル8の線膨脹係数は、パワーモジュール200に使用される他の構成部材と比較して、数十〜百数十倍、大きい値である。
したがって、ケース6内部に充填したシリコーンゲル8を硬化し封止工程を完了させた後、パワーモジュール100の温度が常温まで下がると、シリコーンゲル8は他の構成部材よりも大きく熱収縮する。このとき、シリコーンゲル8の表面高さは硬化時よりも低くなる。
パワーモジュール200の温度が常温よりも低くなると、図5に示すように、シリコーンゲル8の表面高さは、さらに低くなる。
一方、パワーモジュール200の温度が硬化温度より高くなると、シリコーンゲル8は他の構成部材よりも大きく熱膨張するため、図6に示すように、シリコーンゲル8の表面高さは、硬化時の位置よりも高くなる。
このようなパワーモジュール200において、パワーモジュール200の温度が低温になった場合には、シリコーンゲル8の熱収縮によって、押さえ板9がベース板1に向かって引き下げられる。このとき、押さえ板9は、ケース6や蓋7に固定されてはいないので、シリコーンゲル8の熱収縮に応じて押さえ板9は下側(ベース板1側)に凸状に湾曲することもできる。その結果、シリコーンゲル8には熱応力はほとんど発生せず、シリコーンゲル8の内部応力が引張応力となることを緩和できるしたがって、パワーモジュール200の温度が低温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
また、パワーモジュール200の温度が高温になった場合には、シリコーンゲル8の熱膨張によって、押さえ板9が蓋7に向かって押し上げられる。このとき、蓋7はケース6に固定されているため、蓋7に形成した突起10に押さえ板9が当たるまで押さえ板9が押し上げられると、押さえ板9はこれ以上蓋7の方向には移動できず、押さえ板9の位置が固定される。この状態では、シリコーンゲル8はこれ以上熱膨張できなくなり、シリコーンゲル8の内部応力は、圧縮応力となる。シリコーンゲル8の内部応力が圧縮応力となることで、パワーモジュール100の温度が高温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
図7は、この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの蓋を示す平面構造模式図である。図7において、蓋7はモジュール200の内部の押さえ板9に対向する面に突起10を設けている。図8は、この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。図9は、この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。図10は、この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。図11は、この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。図12は、この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。図13は、この発明の実施の形態2におけるパワーモジュールの他の蓋を示す平面構造模式図である。図7から図13において、蓋7はモジュール200の内部の押さえ板9に対向する面に突起10を設けている。図7から図13において、蓋7に設けた突起10の形状が異なっている。図7、図10および図11は、突起10を格子状に設けている。図7は、突起10が複数のストライプ状の組み合わせである。図10は、突起10が十字状である。図11は、突起10が蓋7の中央部から放射状に広がる形状である。図8、図12および図13は、突起10を点状に設けている。図8は、突起10が四角形状である。図12、図13は、突起10が円状である。図9は、突起10を六角形によるハニカム構造としている。
図4のパワーモジュール200の断面構造においては、突起10を複数としたが、突起10によって押さえ板9の上昇を防げることができれば、突起10の数は1つであっても良い。押さえ板9の面内方向サイズが大きく、板厚が薄い場合には、押さえ板9の剛性が低くなるため、押さえ板9が突起10に押し当てられたときに、押さえ板9が反りやすくなる。押さえ板9が反ると、押さえ板9による押さえ効果が軽減するため、シリコーンゲル8の圧縮応力が減少してしまう。この場合には、図7から図13に示したように、複数の突起10を形成すること、また、複数の突起10の設置間隔を狭くすることによって、押さえ板9が突起10に押し当てられたときに、押さえ板9の反りを抑制することができる。突起10の数および設置間隔は、押さえ板9の反りが問題無い程度に、適切に設定すれば良い。
また、蓋7に突起10を設けることで、シリコーンゲル8の充填高さがばらついたときにおいても、突起10と押さえ板9とが当たることで均一にシリコーンゲル8を押すことが可能となる。さらに、蓋7に突起10を設けることで、蓋7自体の剛性も向上し、蓋7が撓みにくくなるという効果も得られる。
また、突起10の形状としては、押さえ板9が突起10に押し当てられたときに、押さえ板9の移動と反りが発生しない形状であれば良い。
さらに、突起10は、蓋7と一体的に形成しても良く、別体として突起10を形成し、押さえ板9の反りが問題にならない蓋7の位置に配置しても良い。
以上のように構成されたパワーモジュール200では、封止樹脂と蓋との間に、封止樹脂に密着させて押さえ板を配置したことで、パワーモジュール200の温度変化における封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することが可能となる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
また、蓋7に突起10を設けたことで、シリコーンゲル8のケース6内における充填高さがばらついたときにおいても、押さえ板9の片当たりを抑制でき、シリコーンゲル8に対して均一に圧縮応力を発生させることが可能となる。
さらに、蓋7に筋状に突起10を設けることで、蓋7のたわみが抑制され、蓋7の剛性を向上させることが可能となる。
実施の形態3.
本実施の形態3においては、実施の形態2において、蓋7に形成した突起10を、押さえ板9の蓋7と対向する面に形成したことが異なる。このように押さえ板9の蓋7と対向する面に突起13を形成した場合においても、封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することができる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
図14は、この発明の実施の形態3におけるパワーモジュールの断面構造模式図である。図14において、パワーモジュール300は、ベース板1、絶縁基板2、半導体素子であるパワー半導体素子3、ボンディングワイヤ4、端子5、ケース部材であるケース6、蓋材である蓋7、封止樹脂であるシリコーンゲル8、押さえ板9、第二の突起部である突起13、ハンダ11,12を備える。
シリコーンゲル8の表面(上面)に、押さえ板9が密着して設置されている。さらに、ケース6の上部に蓋7が設置されている。蓋7は接着剤(図示せず)もしくはネジ(図示せず)でケース6に固定されている。
押さえ板9の上側には、蓋7に対向する方向に、複数の突起13が形成されている。
その他の部分の構成については、実施の形態1と同様の構成である。
このようなパワーモジュール300において、パワーモジュール300の温度が低温になった場合には、シリコーンゲル8の熱収縮によって、押さえ板9がベース板1に向かって引き下げられる。このとき、押さえ板9は、ケース6や蓋7に固定されてはいないので、シリコーンゲル8の熱収縮に応じて押さえ板9は下側(ベース板1側)に凸状に湾曲することもできる。その結果、シリコーンゲル8には熱応力はほとんど発生せず、シリコーンゲル8の内部応力が引張応力となることを緩和できるしたがって、パワーモジュール300の温度が低温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
また、パワーモジュール300の温度が高温になった場合には、シリコーンゲル8の熱膨張によって、押さえ板9が蓋7に向かって押し上げられる。このとき、蓋7はケース6に固定されているため、蓋7に形成した突起10に押さえ板9が当たるまで押さえ板9が押し上げられると、押さえ板9はこれ以上蓋7の方向には移動できず、押さえ板9の位置が固定される。この状態では、シリコーンゲル8はこれ以上熱膨張できなくなり、シリコーンゲル8の内部応力は、圧縮応力となる。シリコーンゲル8の内部応力が圧縮応力となることで、パワーモジュール300の温度が高温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
図15は、この発明の実施の形態3におけるパワーモジュールの蓋の平面構造模式図である。図16は、この発明の実施の形態3におけるパワーモジュールの他の蓋の平面構造模式図である。図15、図16において、押さえ板9に設けた突起13の形状が異なっている。
本実施の形態3では、突起13を複数としたが、突起13によって押さえ板9の上昇を防げることができれば、突起13の数は1つであっても良い。突起13の数および設置間隔は、押さえ板9の反りが問題無い程度に、適切に設定すれば良い。また、突起13の形状としては、突起13が蓋7に押し当てられたときに、押さえ板9の移動と反りが発生しない形状であれば良い。また、実施の形態1で示した蓋7の突起10と同様の形状を用いて、突起13を形成しても、図15、図16に示した突起13と同様の効果が得られる。
また、突起13の数および設置面積を多くすることによって、押さえ板9の剛性が高まるため、押さえ板9の反りを抑制することができる。このため、パワーモジュール300の温度が高温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、パワーモジュールの絶縁劣化を発生させない効果が高まる。
さらに、突起13は、押さえ板9と一体的に形成しても良く、別体として突起13を形成し、押さえ板9の反りが問題にならない位置に配置しても良い。
以上のように構成されたパワーモジュール300では、封止樹脂と蓋との間に、封止樹脂に密着させて押さえ板を配置したことで、パワーモジュール300の温度変化における封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することが可能となる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる
また、押さえ板9に突起13を設けたことで、シリコーンゲル8のケース6内における充填高さがばらついたときにおいても、蓋7に対して押さえ板9の片当たりを抑制でき、シリコーンゲル8に対して均一に圧縮応力を発生させることが可能となる。
さらに、押さえ板9に筋状に突起13を設けることで、押さえ板9のたわみが抑制され、押さえ板9の剛性を向上させることが可能となる。
実施の形態4.
本実施の形態4においては、実施の形態2,3において、蓋7あるいは押さえ板9のいずれかに形成した突起を、蓋7と押さえ板9との両方に対向する位置に形成したことが異なる。このように押さえ板9の蓋7と対向する面に突起13を形成した場合においても、封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡、剥離の発生を抑制することができる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
図17は、この発明の実施の形態4のパワーモジュールの断面構造模式図である。図17において、パワーモジュール400は、ベース板1、絶縁基板2、半導体素子であるパワー半導体素子3、ボンディングワイヤ4、端子5、ケース部材であるケース6、蓋材である蓋7、封止樹脂であるシリコーンゲル8、押さえ板9、第一の突起部である突起10、ハンダ11,12、第二の突起部である突起13を備える。
図18は、この発明の実施の形態4におけるパワーモジュールの他の蓋と押さえ板とを示す断面構造模式図である。図18において、蓋7はモジュール400の内部の押さえ板9に対向する面に突起10を設けている。また、押さえ板9は蓋7に対向する面に突起13を設けている。図19は、この発明の実施の形態4におけるパワーモジュールの他の蓋と押さえ板とを示す断面構造模式図である。図20は、この発明の実施の形態4におけるパワーモジュールの他の蓋と押さえ板とを示す断面構造模式図である。図18から図20において、蓋7と押さえ板9とに設けた突起10,13の形状が異なっている。蓋7と押さえ板9との組み合わせは、突起10と突起13とが対向する位置に配置されれば良く、図18、図19、図20における蓋7と押さえ板9とのいずれの組み合わせでも良い。
シリコーンゲル8の表面(上面)に、押さえ板9が密着して設置されている。さらに、ケース6の上部に蓋7が設置されている。蓋7は接着剤(図示せず)もしくはネジ(図示せず)でケースに固定されている。
押さえ板9の上側には、蓋7に対向する方向に、複数の突起10が形成されている。さらに、蓋7の下側には、押さえ板9に形成した複数の突起10に対向する位置に、複数の突起13が形成されている。
その他の部分の構成については、実施の形態1と同様の構成である。
このようなパワーモジュール400において、パワーモジュール400の温度が低温になった場合には、シリコーンゲル8の熱収縮によって、押さえ板9がベース板1に向かって引き下げられる。このとき、押さえ板9は、ケース6や蓋7に固定されてはいないので、シリコーンゲル8の熱収縮に応じて押さえ板9は下側(ベース板1側)に凸状に湾曲することもできる。その結果、シリコーンゲル8には熱応力はほとんど発生せず、シリコーンゲル8の内部応力が引張応力となることを緩和できる。したがって、パワーモジュール400の温度が低温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
また、パワーモジュール400の温度が高温になった場合には、シリコーンゲル8の熱膨張によって、押さえ板9が蓋7に向かって押し上げられる。このとき、蓋7はケース6に固定されているため、蓋7に形成した突起10に押さえ板9が当たるまで押さえ板9が押し上げられると、押さえ板9はこれ以上蓋7の方向には移動できず、押さえ板9の位置が固定される。この状態では、シリコーンゲル8はこれ以上熱膨張できなくなり、シリコーンゲル8の内部応力は、圧縮応力となる。シリコーンゲル8の内部応力が圧縮応力となることで、パワーモジュール400の温度が高温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
本実施の形態4では、突起10および突起13を複数としたが、突起10および突起13によって押さえ板9の上昇を防げることができれば、突起10および突起13の数は1つであっても良い。突起10および突起13の数および設置間隔は、押さえ板9の反りが問題無い程度に、適切に設定すれば良い。また、突起10および突起13の形状としては、突起10が突起13に押し当てられたときに、押さえ板9の移動と反りが発生しない形状であれば良い。
また、突起10と突起13とを異なる大きさにしておけば、シリコーンゲル8が熱膨張により押さえ板9を蓋7側へ持ち上げた場合の突起10に対して突起13が位置ずれを起こした場合にも対応ができる。
さらに、突起10の数および設置面積を多くすることによって、押さえ板9の剛性が高まるため、押さえ板9の反りを抑制することができる。このため、パワーモジュール400の温度が高温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、パワーモジュールの絶縁劣化を発生させない効果が高まる。
また、突起10は、蓋7と一体的に形成しても良く、別体として突起10を形成し、押さえ板9の反りが問題にならない蓋7の位置に形成しても良い。
さらに、突起13は、押さえ板9と一体的に形成しても良く、別体として突起13を形成し、押さえ板9の反りが問題にならない位置に配置しても良い。
以上のように構成されたパワーモジュール400では、封止樹脂と蓋との間に、封止樹脂に密着させて押さえ板を配置したことで、パワーモジュール400の温度変化における封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することが可能となる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
また、蓋7に突起10、押さえ板9に突起13を設けたことで、シリコーンゲル8のケース6内における充填高さがばらついたときにおいても、蓋7に対して押さえ板9の片当たりを抑制でき、シリコーンゲル8に対して均一に圧縮応力を発生させることが可能となる。
さらに、蓋7に筋状に突起10を設けたことで、蓋7のたわみが抑制され、蓋7の剛性を向上させることができる。また、押さえ板9に筋状に突起13を設けることで、押さえ板9のたわみが抑制され、押さえ板9の剛性を向上させることが可能となる。
実施の形態5.
本実施の形態5においては、実施の形態2において、シリコーンゲル8上に配置した押さえ板9を、複数個の押さえ板9に変更したことが異なる。このように複数個の押さえ板9とし、蓋7の押さえ板9と対向する面に突起10を形成した場合においても、封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡、剥離の発生を抑制することができる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
図21は、この発明の実施の形態5のパワーモジュールの断面構造模式図である。図21において、パワーモジュール500は、ベース板1、絶縁基板2、半導体素子であるパワー半導体素子3、ボンディングワイヤ4、端子5、ケース部材であるケース6、蓋材である蓋7、封止樹脂であるシリコーンゲル8、押さえ板9、第一の突起部である突起10、ハンダ11,12を備える。
シリコーンゲル8の表面(上面)に、複数個の押さえ板9が密着して設置されている。これらの複数個に分割された押さえ板9は、シリコーンゲル8を介して絶縁基板2上の金属板23に形成された配線パターンに対応するように配置されている。ケース6の上部に蓋7が設置されている。蓋7は接着剤(図示せず)もしくはネジ(図示せず)でケースに固定されている。蓋7に形成された突起10は、複数個の押さえ板9に対応する位置に配置される。
その他の部分の構成については、実施の形態1と同様の構成である。
このようなパワーモジュール500において、パワーモジュール500の温度が低温になった場合には、シリコーンゲル8の熱収縮によって、押さえ板9がベース板1に向かって引き下げられる。このとき、押さえ板9は、ケース6や蓋7に固定されてはいないので、シリコーンゲル8の熱収縮に応じて押さえ板9は下側(ベース板1側)に凸状に湾曲することもできる。その結果、シリコーンゲル8には熱応力はほとんど発生せず、シリコーンゲル8の内部応力が引張応力となることを緩和できるしたがって、パワーモジュール500の温度が低温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
また、パワーモジュール500の温度が高温になった場合には、シリコーンゲル8の熱膨張によって、押さえ板9が蓋7に向かって押し上げられる。このとき、蓋7はケース6に固定されているため、蓋7に形成した突起10に押さえ板9が当たるまで押さえ板9が押し上げられると、押さえ板9はこれ以上蓋7の方向には移動できず、押さえ板9の位置が固定される。この状態では、シリコーンゲル8はこれ以上熱膨張できなくなり、シリコーンゲル8の内部応力は、圧縮応力となる。シリコーンゲル8の内部応力が圧縮応力となることで、パワーモジュール500の温度が高温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
図22は、この発明の実施の形態5におけるパワーモジュールの他の蓋と押さえ板とを示す断面構造模式図である。図22において、蓋7はモジュール400の内部の複数個配置された押さえ板9に対向する面に押さえ板9に対応する位置に突起10を設けている。
以上のように構成されたパワーモジュール500では、封止樹脂と蓋との間に、封止樹脂に密着させて押さえ板を配置したことで、パワーモジュール500の温度変化における封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することが可能となる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
また、蓋7に突起10を設けたことで、シリコーンゲル8のケース6内における充填高さがばらついたときにおいても、押さえ板9の片当たりを抑制でき、シリコーンゲル8に対して均一に圧縮応力を発生させることが可能となる。
さらに、蓋7に筋状に突起10を設けることで、蓋7のたわみが抑制され、蓋7の剛性を向上させることが可能となる。
また、押さえ板9を分割して複数個として気泡、剥離の抑制が必要な箇所に配置することで、シリコーンゲル8に発生する圧縮応力を制御することが可能となる。
実施の形態6.
本実施の形態6においては、実施の形態2において、蓋7に形成した突起10に変えて、ばね14を備えたことが異なる。このように突起10に変えて、ばね14を形成した場合においても、封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することができる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
図23は、この発明の実施の形態6のパワーモジュールの断面構造模式図である。図23において、パワーモジュール600は、ベース板1、絶縁基板2、半導体素子であるパワー半導体素子3、ボンディングワイヤ4、端子5、ケース部材であるケース6、蓋材である蓋7、封止樹脂であるシリコーンゲル8、押さえ板9、弾性部であるばね14、ハンダ11,12を備える。
シリコーンゲル8の表面(上面)に、押さえ板9が密着して設置されている。さらに、ケース6の上部に蓋7が設置されている。蓋7は接着剤(図示せず)もしくはネジ(図示せず)でケースに固定されている。
蓋7の下側には、押さえ板9に対向する方向に、複数のばね14が固定されている。ここでばね14としては、S字ばねを用いる。
その他の部分の構成については、実施の形態1と同様の構成である。
このようなパワーモジュール600において、パワーモジュール600の温度が低温になった場合には、シリコーンゲル8の熱収縮によって、押さえ板9がベース板1に向かって引き下げられる。このとき、押さえ板9は、ケース6や蓋7に固定されてはいないので、シリコーンゲル8の熱収縮に応じて押さえ板9は下側(ベース板1側)に凸状に湾曲することもできる。その結果、シリコーンゲル8には熱応力はほとんど発生せず、シリコーンゲル8の内部応力が引張応力となることを緩和できる。したがって、パワーモジュール600の温度が低温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
また、パワーモジュール600の温度が高温になった場合には、シリコーンゲル8の熱膨張によって、押さえ板9が蓋7に向かって押し上げられる。このとき、蓋7はケース6に固定されているため、押さえ板9が、蓋7に形成したばね14に当たり、ばねの反発力がゲルの膨張力を上回るまで押さえ板9が押し上げられると、押さえ板9はこれ以上蓋7の方向には移動できず、押さえ板9の位置が固定される。すると、シリコーンゲル8はこれ以上熱膨張できなくなり、シリコーンゲル8の内部応力は、圧縮応力となる。シリコーンゲル8の内部応力が圧縮応力となることで、パワーモジュール600の温度が高温になっても、気泡や剥離の成長を抑制でき、パワーモジュールの絶縁劣化を発生させない効果がある。
本実施の形態6では、ばね14を複数としたが、ばね14によって押さえ板9の上昇を防げることができれば、ばね14の数は1つであっても良い。ばね14の数および設置間隔は、押さえ板9の反りが問題無い程度に、適切に設定すれば良い。
また、本実施の形態6では、ばね14はS字ばねとしたが、S字ばねに制限されることはなく、コイルばね、板ばね、等の反発力のあるばねを用いても良い。
さらに、本実施の形態6では、ばね14は蓋7に固定した構成としたが、ばね14は、押さえ板の上側に、蓋7に対向する向きに固定した構成としても良い。蓋7と押さえ板9との間にばね14が挿入されていれば同様の効果を得ることができる。
以上のように構成されたパワーモジュール600では、封止樹脂と蓋との間に、封止樹脂に密着させて押さえ板を配置したことで、パワーモジュール600の温度変化における封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することが可能となる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
また、蓋7にばね14を配置したことで、ばね14の弾性により、シリコーンゲル8に対して均一に圧縮応力を発生させることが可能となる。
実施の形態7.
本実施の形態7においては、実施の形態1から6において、押さえ板9を重量物としたことが異なる。このように押さえ板9を重量物とした場合においても、封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することができる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
重量物である押さえ板9は、CuもしくはCu合金製とした。その他の部分の構成については、実施の形態1と同様の構成である。
このような構成としたことで、重量物である押さえ板9の重量による押し下げ力がシリコーンゲル8の上面に常時印加されるため、シリコーンゲル8内部の圧縮応力がより増加する。これによって、パワーモジュール100の温度が高温になっても、シリコーンゲル8内部には圧縮応力が発生し続けるので、気泡や剥離の成長を抑制でき、絶縁基板2とシリコーンゲル8との剥離が抑制され、パワーモジュールの絶縁劣化を抑制する効果がある。
なお、重量物とは、シリコーンゲル8の上面に配置することで、シリコーンゲル8内部に対して絶縁基板2に向かってその重量により圧縮応力を発生させることができる材料、材質で形成された物(押さえ板9)のことである。
ここでは、押さえ板9は、CuもしくはCu合金製としたが、必ずしもこれらの材質に限定されることはなく、シリコーンゲル8と比較して、密度が相対的に高い材質を使っても良い。Al、Al合金、Fe、Fe合金等の金属が適している。また、これら金属同士や樹脂との複合部材であってもよい。
以上のように構成されたパワーモジュール100では、封止樹脂と蓋との間に、封止樹脂に密着させて重量物である押さえ板を配置したことで、パワーモジュール100の温度変化における封止樹脂の膨張、収縮に伴う応力変化による気泡や剥離の成長を抑制することが可能となる。その結果、封止樹脂と絶縁基板との剥離が抑制でき、パワーモジュールの絶縁信頼性の向上が可能となる。
また、パワーモジュール200,300,400,500,600のいずれの構造に適用した場合においても、同様の効果を奏するものである。
1 ベース板、2 絶縁基板、3 パワー半導体素子、4 ボンディングワイヤ、5 端子、6 ケース、7 蓋、8 シリコーンゲル、9 押さえ板、10,13 突起、11,12 はんだ、14 ばね、21 絶縁層、22 金属板、23 金属板、100,200,300,400,500,600 パワーモジュール。

Claims (6)

  1. 一方の面に半導体素子が搭載された絶縁基板と、
    前記絶基板の他方の面に接合されたベース板と、
    前記絶縁基板を取り囲み、前記ベース板の前記絶縁基板の他方の面と接合された面と接するケース部材と、
    前記ベース板と前記ケース部材とで囲まれた領域に充填され、前記絶縁基板を封止する封止樹脂と、
    前記封止樹脂の前記絶縁基板の一方の面の反対面に密着した押さえ板と、
    前記押さえ板の前記封止樹脂と密着した面の反対面と対向し、前記押さえ板の上方への移動を抑制する位置で前記ケース部材と固着された蓋材と、を備えたことを特徴とするパワーモジュール。
  2. 前記蓋材は、前記押さえ板と対向する面側に第一の突起部を有することを特徴とする請求項1に記載のパワーモジュール。
  3. 前記押さえ板は、前記蓋材と対向する面側に第二の突起部を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のパワーモジュール。
  4. 前記押さえ板は、前記蓋材と対向する面側に第二の突起部を有し、前記第二の突起部と前記第一の突起部とは、それぞれが対向して配置されたことを特徴とする請求項2に記載のパワーモジュール。
  5. 前記第一の突起部は、ばねであることを特徴とする請求項2に記載のパワーモジュール。
  6. 前記押さえ板は、重量物であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のパワーモジュール。
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