JP6319193B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
前記基板に供給される流体の複数の供給路の各々の一部であって、流体中の異物の測定領域を構成し、互いに列を形成して設けられる測定用の流路部と、
前記複数の流路部に共用され、前記流路部に光路を形成するための光照射部と、
前記複数の流路部のうち選択された流路部内に、光路を形成するために、前記光照射部を前記流路部の配列方向に沿って相対的に移動させる移動機構と、
前記流路部を透過する光を受光する受光素子を含む受光部と、
前記受光素子から出力される信号に基づいて、前記流体中の異物を検出するための検出部と、
を備えたことを特徴とする。
前記基板に供給される流体の複数の供給路の各々の一部であって、流体中の異物の測定領域を構成し、互いに列を形成して設けられる測定用の流路部に共用される光照射部を用いて前記流路部に光路を形成する工程と、
移動機構により、前記複数の流路部のうち選択された流路部内に、光路を形成するために、前記光照射部を前記流路部の配列方向に沿って相対的に移動させる工程と、
前記流路部を透過する光を、受光部に含まれる受光素子により受光する工程と、
検出部により、前記受光素子から出力される信号に基づいて、前記流体中の異物を検出する工程と、
を備えたことを特徴とする。
代表してモジュール1Aの動作について説明したが、他のモジュールについてもモジュール1Aと同様に、薬液の供給及び異物の検出と、基準データの校正とが行われる。
なお、各キュベット15は直線上に配置されることに限られず、曲線上に配置されるようにしてもよい。さらに、既述した各例は互いに組み合わせてもよい。
1A、1B レジスト塗布モジュール
11A〜11J ノズル
12A〜12K 薬液供給管
13A〜13K 薬液供給源
15 キュベット
16 流路アレイ
2 光供給部
21 光源
22 スプリッタ
23 ファイバー
4 異物検出ユニット
43 シャッタ
5 制御部
51 光照射部
52 受光部
53 対物レンズ
57 受光用レンズ
Claims (10)
- 基板に流体を供給して処理を行う基板処理装置において、
前記基板に供給される流体の複数の供給路の各々の一部であって、流体中の異物の測定領域を構成し、互いに列を形成して設けられる測定用の流路部と、
前記複数の流路部に共用され、前記流路部に光路を形成するための光照射部と、
前記複数の流路部のうち選択された流路部内に、光路を形成するために、前記光照射部を前記流路部の配列方向に沿って相対的に移動させる移動機構と、
前記流路部を透過する光を受光する受光素子を含む受光部と、
前記受光素子から出力される信号に基づいて、前記流体中の異物を検出するための検出部と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記光照射部及び受光部は、夫々光照射用の光学系及び受光用の光学系を備え、
前記光照射用の光学系及び受光用の光学系は、前記複数の流路部に共用され、
前記移動機構は、前記光照射用の光学系及び受光用の光学系を前記流路部の配列方向に沿って相対的に移動させるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記複数の流路部のうちの一の流路部、他の流路部には互いに屈折率が異なる流体が通流し、
前記光照射用の光学系に含まれる集光レンズ及び前記受光用の光学系に含まれる受光用レンズを流体の屈折率に応じて、前記光路の方向に変位させるレンズ変位機構が設けられることを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。 - 前記複数の流路部のうちの一の流路部、他の流路部には互いに屈折率が異なる流体が通流し、
前記光照射部は、流体の屈折率に応じて互いに焦点距離が異なる複数の集光レンズを備え、
前記受光部は、流体の屈折率に応じて互いに焦点距離が異なる複数の受光用レンズを備えていることを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。 - 予め設定された割合で試験用粒子が含まれる試験用流体の流路の一部であって、前記試験用流体中の前記試験用粒子の測定領域を構成する試験用の流路部が、前記測定用の流路部の配列方向に沿った位置に設けられ、
前記光照射部は、前記測定用の流路部及び前記試験用の流路部のいずれかに選択して前記光路を形成し、
前記光照射部により前記試験用の流路部に光路を形成したときに前記受光素子から出力された信号に基づいて、前記検出部は前記測定用の流路部の流体中の異物を検出することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 前記複数の流路部、前記光照射部、前記移動機構及び前記受光部からなる組が複数設けられ、
各組に共通の光源と、
前記光源の光を各組に分光するために下流側が分岐した光路を形成する分光路形成部と、
が設けられることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 基板に流体を供給して処理を行う基板処理方法において、
前記基板に供給される流体の複数の供給路の各々の一部であって、流体中の異物の測定領域を構成し、互いに列を形成して設けられる測定用の流路部に共用される光照射部を用いて前記流路部に光路を形成する工程と、
移動機構により、前記複数の流路部のうち選択された流路部内に、光路を形成するために、前記光照射部を前記流路部の配列方向に沿って相対的に移動させる工程と、
前記流路部を透過する光を、受光部に含まれる受光素子により受光する工程と、
検出部により、前記受光素子から出力される信号に基づいて、前記流体中の異物を検出する工程と、
を備えたことを特徴とする基板処理方法。 - 前記光照射部及び受光部は、夫々光照射用の光学系及び受光用の光学系を備え、
前記光照射用の光学系及び受光用の光学系は、前記複数の流路部に共用され、
前記移動機構により、前記光照射用の光学系及び受光用の光学系を前記流路部の配列方向に沿って相対的に移動させる工程を含むことを特徴とする請求項7に記載の基板処理方法。 - 前記複数の流路部のうちの一の流路部、他の流路部に互いに屈折率が異なる流体を通流させる工程と、
レンズ変位機構により、前記光照射用の光学系に含まれる集光レンズ及び前記受光用の光学系に含まれる受光用レンズを流体の屈折率に応じて、前記光路の方向に変位させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項7または8記載の基板処理方法。 - 予め設定された割合で試験用粒子が含まれる試験用流体の流路の一部であって、前記試験用流体中の前記試験用粒子の測定領域を構成する試験用の流路部が、前記測定用の流路部の配列方向に沿った位置に設けられ、
前記光照射部により、前記測定用の流路部及び前記試験用の流路部のいずれかを選択して前記光路を形成する工程を含み、
前記検出部により前記測定用の流路部の流体中の異物を検出する工程は、前記試験用の流路部に光路を形成したときに前記受光素子から出力された信号に基づいて、前記測定用の流路部の流体中の異物を検出する工程を含むことを特徴とする請求項7ないし9のいずれか一つに記載の基板処理方法。
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