CN108746010A - 一种清洗系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种清洗系统，包括清洗装置和检测装置，该清洗装置包括输送平台和机架，其中该清洗装置形成水幕，且该水幕与该输送平台的承载面相交于交线；该检测装置包括运动组件和传感器，该运动组件设置于该清洗装置的机架，该传感器包括第一检测组件和第二检测组件，其中该第一检测组件设置于该运动组件，该第二检测组件设置于该机架，该传感器用于检测该水幕是否出现分叉。

Description

一种清洗系统

技术领域

本发明涉及显示面板生产领域，特别是涉及一种采用水幕分叉检测装置的清洗系统。

背景技术

在液晶显示面板的生产过程中，基板生产所使用的铝蚀刻液主要由硝酸(HNO3)、磷酸(H3PO4)及醋酸(CH3COOH)三种成份混合而成。

在蚀刻制程结束后，在第一初洗的水洗槽入口会加装垂直行进方向的水幕冲洗装置，通过水刀(AquaKnife，AQK或DeionizedWater，DIW)喷出清洗液形成水幕以清洗基板表面的药剂，目的在于迅速的中止蚀刻反应。若水幕因异常原因形成分叉，分叉处残留的药剂会继续蚀刻基板，造成膜面蚀刻不均匀，即产生模色异常(MURA)。且因水幕分叉的现象无法被流量计与压力计监控，只能以人为查验，或是在产品的质量控制(manufacturingquality control，MQC)时检测异常，在发生分叉到发现异常这段期间通过的产品皆为不良品，造成质量与产能上的损害。

发明内容

本发明之实施例提出了一种采用水幕分叉检测装置的清洗系统，包括：

清洗装置，包括输送平台和机架，其中该清洗装置形成水幕，且该水幕与该输送平台的承载面相交于交线；

检测装置，包括运动组件，设置于该清洗装置的机架；以及传感器，该传感器包括第一检测组件和第二检测组件，其中该第一检测组件设置于该运动组件，该第二检测组件设置于该机架，该传感器用于检测该水幕是否出现分叉。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统，其中该运动组件包括导轨与滑块，其中该导轨平行于该交线，该滑块设置于该导轨且沿该交线方向往复移动。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统，其中该运动组件还包括动力模块，该动力模块具体包括电机、动力输出齿轮、皮带和皮带轮，其中该皮带以该皮带轮支撑，且该皮带与该滑块连接，而该电机通过该动力输出齿轮带动该皮带运动，以使该滑块在该滑轨上运动。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统，其中该第一检测组件和该第二检测组件分别位于该水幕的两侧。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统，其中该传感器为光传感器。

本发明之实施例所述的所述的清洗系统，其中该第一检测组件为光信号发射/接收器，该第二检测组件为反射板。

本发明实施例所述的所述的清洗系统，其中该检测装置还包括报警组件，与该传感器电性连接，用于当该水幕分叉时发出报警信号。

本发明之另一实施例还提出一种清洗系统的水幕分叉检测方法，应用于上述清洗系统，包括：

设定状态阈值；启动该清洗装置，清洗液通过该清洗装置的水刀喷出以形成水幕；启动该检测装置，使该检测装置的传感器移动并持续发送检测信号，该检测信号穿过该水幕后被该传感器接收形成状态信号；如该状态信号小于该状态阈值，则该水幕正常；如该状态信号大于或等于该状态阈值，该检测装置的报警组件发出报警信号，该输送平台停止输送基板。

附图说明

图1是本发明实施例的一种采用检测装置的清洗系统的前视示意图。

图2是本发明实施例的一种采用检测装置的清洗系统的侧视示意图。

图3是本发明实施例的检测装置的运动组件的示意图。

图4是本发明实施例的检测清洗系统水幕分叉的工作流程图。

其中，附图标记为：

100：清洗系统 220：水刀 221：喷口

222：水幕 231：滚轮 311：导轨

312：滑块 321：第一检测组件 322：第二检测组件

313：电机 314：动力输出齿轮 315：皮带

316：皮带轮 400：基板 D1：第一方向

D2：第二方向 S：承载面 P：交线

分叉：R

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

图1是本发明实施例的一种采用检测装置的清洗系统的前视示意图，图2是本发明实施例的一种采用检测装置的清洗系统的侧视示意图。请参照图1、2，如图1、2所示，本发明的实施例涉及一种采用水幕分叉检测装置的清洗系统100，包括清洗装置和检测装置，清洗装置包括机架、水刀220和输送平台，其中输送平台安装于机架，输送平台包括驱动装置和多个滚轮231，滚轮231沿第一方向D1排列，所有滚轮231的轴线处于同一平面内且与第一方向D1垂直，以使所有滚轮231的上缘与输送平台的承载面S相切，驱动装置驱动滚轮231转动，使承载面S上的基板400沿第一方向D1运动并从水刀220下方通过；驱动装置安装于机架，但为图示能够清楚表达，将驱动装置和机架而予以省略。水刀220位于承载面S上方，清洗液通过水刀220的喷口221喷出并形成水幕222，水幕222与承载面S相交于交线P。同时，图2绘示出3个滚轮231，仅为方便说明，并不为本发明所限制。

请再次参阅图1、2，如图1、2所示，检测装置包括运动组件和传感器，运动组件包括导轨311和滑块312，导轨311安装于机架且平行于交线P，滑块312设置于导轨311并沿导轨311滑动。具体而言，导轨311沿第二方向D2安装于机架，其中第一方向D1与第二方向D2不相同。于本实施例中，滑块312的滑动范围大于水幕222的宽度，助于清洗制程的良率，但本发明不以此为限。在图2之实施例中，传感器包括第一检测组件321和第二检测组件322，其中第一检测组件321安装于滑块312，随滑块312滑动，第一检测组件321和第二检测组件322分别安装于水幕222的两侧。于本实施例中，传感器为光传感器，举例而言，第一检测组件321为光信号发射/接收器，第二检测组件322为反射板，使光信号发射/接收器321发送检测信号穿过水幕222后由反射板322反射回光信号发射/接收器以接收到水幕222的状态信号。如此一来，透过光信号接收器321接收到的信号可以观察水幕222是否有分叉的情况。于本实施例中，反射板322在平行于交线P或在第二方向D2上的宽度大于水幕222的宽度，以确保水幕222能够完全被检测，且避免光信号的消散或不完整而产生虚警。具体而言，于图2之实施例中，反射板322较佳地垂直于第一检测组件321发送的光线，以减少光信号反射的消散。但本发明不以此为限，传感器亦可为其他种类的感测组件。

如图2所示，为避免清洗液的溅射导致反射板的反射效能降低，使光信号发射/接收器接收到的状态信号出现较大误差，同时为方便检测装置的维修，于本发明的实施例中，第二检测组件322安装于承载面S的下方，但本发明不以此为限。在又一实施例中，第一检测组件321和第二检测组件322也可以其它位置，例如是第一检测组件321和第二检测组件322都安装于承载面S的下方，且分别安装于水幕222的上下两侧。又或者，第一检测组件321安装于承载面S的下方及第二检测组件322安装于承载面S的上方，且第一检测组件321和第二检测组件322分别安装于水幕222的上下两侧。上述架构需注意的是，检测水幕222的机制应该先于清洗基板400前进行检测，再利用水幕222清洗基板400，如清洗基板400与检测水幕222为同时进行时，水幕222势必被基板400遮挡而影响光信号的反射，使得水幕分叉检测中出现虚警。又或者，第一检测组件321和第二检测组件322都安装于承载面S的上方且分别安装于水幕222的上下两侧，本发明并不以此为限。

图3是本发明实施例的检测装置的运动组件的示意图。请参阅图3，如图3所示，于本发明的实施例中，运动组件还包括动力模块，动力模块具体包括电机313、动力输出齿轮314、皮带315和皮带轮316。具体而言，皮带315以皮带轮316支撑，滑块312与皮带315固定连接，而电机313通过动力输出齿轮314带动皮带轮316转动，以带动皮带315运动，使滑块312在滑轨311上运动。于再又一实施例中，运动组件310的动力模块还可采用其它传动设备，例如是线性电机，或滚珠丝杠，或齿轮齿条等，本发明并不以此为限。

于本发明的实施例中，检测装置还包括报警组件，报警组件与传感器的第一检测组件321电性连接，用于当传感器320检测到水幕222出现分叉R时向清洗系统100发出报警信号。

图4是本发明实施例的检测清洗系统水幕分叉的工作流程图。在基板清洗制程，为避免水幕222分叉导致基板出现膜面蚀刻不均匀，通常在基板由制程段进入水端前检测清洗系统的水幕是否出现分叉R。请参阅图4，如图4所示，检测方法包括如下步骤：

步骤S1，设定状态阈值，以确定水幕222未出现分叉R时的状态信号所处范围；

步骤S2，启动清洗装置，使清洗液通过220水刀的喷口221喷出并形成水幕222；

步骤S3，启动检测装置，使第一检测组件321移动并持续发送检测信号，检测信号穿过水幕222并经第二检测组件322反射后，被第一检测组件321接收形成状态信号；

步骤S4，将状态信号与状态阈值进行比较；

步骤S5，如状态信号小于状态阈值，则该水幕正常，可以将基板送入水段开始进行清洗；

步骤S6，如状态信号大于或等于该状态阈值，检测装置的报警组件发出报警信号，输送平台停止输送基板。

虽然本发明已以实施例公开如上，而并非用以限定本发明，任何本技术领域的技术人员，在未脱离本发明的精神与范围内，可对其进行等效修改或变更，均应包含于本发明的权利要求书保护范围中。

Claims (15)

1.一种清洗系统，其特征在于，包括：

清洗装置，包括输送平台和机架，其中该清洗装置形成水幕，且该水幕与该输送平台的承载面相交于交线；

检测装置，包括运动组件，设置于该清洗装置的机架；以及传感器，该传感器包括第一检测组件和第二检测组件，其中该第一检测组件设置于该运动组件，该第二检测组件设置于该机架，该传感器用于检测该水幕是否出现分叉。

2.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，该运动组件包括导轨与滑块，其中该导轨平行于该交线，该滑块设置于该导轨且沿该交线方向往复移动。

3.如权利要求2所述的清洗系统，其特征在于，该运动组件还包括动力模块，该动力模块具体包括电机、动力输出齿轮、皮带和皮带轮，其中该皮带以该皮带轮支撑，且该皮带与该滑块连接，而该电机通过该动力输出齿轮带动该皮带运动，以使该滑块在该滑轨上运动。

4.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，该第一检测组件和该第二检测组件分别位于该水幕的两侧。

5.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，该传感器为光传感器。

6.如权利要求1或5所述的清洗系统，其特征在于，该第一检测组件为光信号发射/接收器，该第二检测组件为反射板。

7.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，该检测装置还包括报警组件，与该传感器电性连接，用于当该水幕分叉时发出报警信号。

8.一种清洗系统的水幕分叉检测方法，应用于如权利要求1～7任一项所述的清洗系统，其特征在于，包括以下步骤：

设定状态阈值；

启动该清洗装置，清洗液通过该清洗装置的水刀喷出以形成水幕；

启动该检测装置，使该检测装置的传感器移动并持续发送检测信号，该检测信号穿过该水幕后被该传感器接收形成状态信号；以及

如该状态信号小于该状态阈值，则该水幕正常。

9.如权利要求8所述的水幕分叉检测方法，还包括：

如该状态信号大于或等于该状态阈值，该检测装置的报警组件发出报警信号，该输送平台停止输送基板。

10.一种清洗系统，其特征在于，包括：

机架；

输送平台，设置于该机架，且该输送平台包括驱动装置和多个滚轮，该驱动装置驱动该滚轮转动以使基板在该输送平台的承载面上沿第一方向移动；

水刀，位于该输送平台上方；

检测装置，包括运动组件和传感器；该运动组件设置于该机架；该传感器包括第一检测组件与第二检测组件，该第一检测组件设置于该运动组件，该第二检测组件设置于该机架，其中该第一检测组件可沿着第二方向移动，且该第一方向与该第二方向不相同。

11.如权利要求10所述的清洗系统，其特征在于，该第一检测组件和该第二检测组件分别位于该水刀形成的水幕两侧。

12.如权利要求10或11所述的清洗系统，其特征在于，该第一检测组件为光信号发射/接收器，该第二检测组件为反射板。

13.如权利要求10所述的清洗系统，其特征在于，该运动组件还包括动力模块，其中该动力模块包括电机，与该电机连接的动力输出齿轮，与该动力输出齿轮连接的皮带，以及支撑该皮带的皮带轮。

14.如权利要求13所述的清洗系统，其特征在于，还包括与该皮带固定连接的滑块，该第一检测组件则固定于该滑块。

15.如权利要求14所述的清洗系统，其特征在于，该运动组件还包括导轨与滑块，其中该导轨沿着该第一方向沿伸，且该滑块设置于该导轨，该支架设置于该滑块。