JP6773188B2 - 塗布膜形成装置及び塗布膜形成システム - Google Patents
塗布膜形成装置及び塗布膜形成システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6773188B2 JP6773188B2 JP2019161505A JP2019161505A JP6773188B2 JP 6773188 B2 JP6773188 B2 JP 6773188B2 JP 2019161505 A JP2019161505 A JP 2019161505A JP 2019161505 A JP2019161505 A JP 2019161505A JP 6773188 B2 JP6773188 B2 JP 6773188B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- foreign matter
- light receiving
- unit
- coating
- flow path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 95
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 95
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 85
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 57
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 55
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 41
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 125
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 88
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 83
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 31
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 26
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 20
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 19
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 18
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 12
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 9
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 8
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 101150075071 TRS1 gene Proteins 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 5
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVDRFTUORIAXFP-RGURZIINSA-N C=C1C#C[C@H](CCC2)C2C1 Chemical compound C=C1C#C[C@H](CCC2)C2C1 UVDRFTUORIAXFP-RGURZIINSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/49—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid
- G01N21/53—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid within a flowing fluid, e.g. smoke
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
- G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/06—Investigating concentration of particle suspensions
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N15/1434—Optical arrangements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N15/1456—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry without spatial resolution of the texture or inner structure of the particle, e.g. processing of pulse signals
- G01N15/1459—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry without spatial resolution of the texture or inner structure of the particle, e.g. processing of pulse signals the analysis being performed on a sample stream
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/49—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/49—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid
- G01N21/51—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid inside a container, e.g. in an ampoule
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/06—Investigating concentration of particle suspensions
- G01N15/075—Investigating concentration of particle suspensions by optical means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N2015/0007—Investigating dispersion of gas
- G01N2015/0011—Investigating dispersion of gas in liquids, e.g. bubbles
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N2015/0042—Investigating dispersion of solids
- G01N2015/0053—Investigating dispersion of solids in liquids, e.g. trouble
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/06—Investigating concentration of particle suspensions
- G01N2015/0687—Investigating concentration of particle suspensions in solutions, e.g. non volatile residue
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N15/1434—Optical arrangements
- G01N2015/1454—Optical arrangements using phase shift or interference, e.g. for improving contrast
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N2015/1486—Counting the particles
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N2015/1493—Particle size
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
複数の前記塗布液用のノズルに各々前記塗布液を供給する塗布液用の流路を形成すると共に、光を透過する流路形成部と、
前記複数の塗布液用のノズルのうち選択されたノズルから前記塗布液が供給されるように、前記流路形成部に当該塗布液を供給する塗布液供給部と、
前記流路形成部の複数の塗布液用の流路に共用され、当該各流路にレーザー光を照射するためのレーザー光照射部と、
前記複数の塗布液用の流路に共用され、前記レーザー光照射部と共に前記流路形成部を挟んで配置される受光素子と、
前記受光素子から出力される信号に基づいて前記流路を流通する塗布液中の異物を検出する異物検出部と、
前記選択された塗布液用のノズルに供給される塗布液中の異物を検出するために、当該選択された塗布液用のノズルに対応する位置に前記レーザー光照射部及び前記受光素子を移動させる移動機構と、
を備える。
上記の塗布膜形成装置と、
前記キャリアと前記塗布膜形成装置との間で前記基板を搬送する搬送機構と、
を含む。
続いて、本発明に関連して行われた評価試験について説明する。
評価試験1
評価試験1−1として上記の異物検出ユニット4の1つのキュベット15に、異物が含まれている割合及び当該異物の粒径が既知の試験液を供給し、キュベット15を流れる全ての粒子に対して検出される粒子の割合(計数効率)を調べた。ただし、この異物検出ユニット4におけるレーザー光照射部51の光学系53は、キュベット15内の集光領域における光路の横断面が1.2μmの概ね真円のスポットとなるように構成されている。上記の試験液としては、含まれている異物の粒径が、各々60nm、46nm、29nmである3種類の試験液を用い、上記の計数効率は試験液ごとに測定した。
評価試験2として異物検出ユニット4において、含まれるポリマーの濃度が互いに異なる薬液をキュベット15に供給し、各チャンネルの回路部46から出力される信号強度を測定した。この異物検出ユニット4では、発明の実施の形態で説明したように、キュベット15内の集光領域における光路の横断面が、左右方向に沿った長径を持つ楕円形のスポットとなるようにレーザー光照射部51の光学系53が構成されている。ただし、このスポット内の各部ではエネルギー分布に比較的大きな差が有り、スポットの中心部に向かうほどエネルギーが高いという点で既述の構成例と異なっている。つまり、図13で説明した検出領域50中の各分割集光領域間で、エネルギーの分布が異なる。薬液としては、所定の濃度のポリマーを含有するレジストと、ポリマーであるポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)を夫々5%、1.25%、0.5%、0%含有する第1の薬液、第2の薬液、第3の薬液、第4の薬液と、を用いた。上記の信号強度の測定は、使用する薬液毎に行った。
評価試験3として、発明の実施の形態で説明した異物検出ユニット4のキュベット15に、29nmを中心粒径として所定のばらつきを有する異物を多数含む試験液を供給し、当該異物についての検出を行った。図18のグラフは、この検出の際に1つのチャンネルの回路部46から出力された信号の波形を示しており、グラフの横軸は時間(単位:μ秒)、グラフの縦軸は信号電圧(単位:V)である。グラフ中13μ秒〜14μ秒にて出現している比較的大きなピークを持つ波形は、異物によって発生した干渉縞に起因する波形である。図19のグラフは、各チャンネルの回路部46から得られる波形について、ノイズフロアよりも大きなピークの値をプロットしたものである。図19のグラフの横軸、縦軸は、図18のグラフと同様に時間、信号電圧を夫々示している。グラフに示すように付されたプロットは多数であった。なおグラフ中の鎖線は上記のノイズフロアを示している。
1A レジスト塗布モジュール
12A〜12K 薬液供給管
15 キュベット
16 流路アレイ
17 流路
21 光源
4 異物検出ユニット
45 受光素子
46 回路部
50 検出領域
51 光照射部
52 受光部
6 制御部
Claims (7)
- 基板に塗布膜を形成するための塗布液を各々供給する複数の塗布液用のノズルと、
複数の前記塗布液用のノズルに各々前記塗布液を供給する塗布液用の流路を形成すると共に、光を透過する流路形成部と、
前記複数の塗布液用のノズルのうち選択されたノズルから前記塗布液が供給されるように、前記流路形成部に当該塗布液を供給する塗布液供給部と、
前記流路形成部の複数の塗布液用の流路に共用され、当該各流路にレーザー光を照射するためのレーザー光照射部と、
前記複数の塗布液用の流路に共用され、前記レーザー光照射部と共に前記流路形成部を挟んで配置される受光素子と、
前記受光素子から出力される信号に基づいて前記流路を流通する塗布液中の異物を検出する異物検出部と、
前記選択された塗布液用のノズルに供給される塗布液中の異物を検出するために、当該選択された塗布液用のノズルに対応する位置に前記レーザー光照射部及び前記受光素子を移動させる移動機構と、
を備える塗布膜形成装置。 - 前記塗布液が供給される前に前記基板を濡らす前処理を行うための前処理液を当該基板に供給する前処理液用のノズルが設けられ、
前記流路形成部は、前記前処理液用のノズルに前処理液を供給する前処理液用の流路を形成し、
前記レーザー光照射部及び前記受光素子は前記塗布液用の流路及び前記前処理液用の流路に共用され、
前記移動機構は、前処理液用のノズルに供給される前処理液中の異物を検出するために、当該前処理液用のノズルに対応する位置に前記レーザー光照射部及び前記受光素子を移動させる請求項1記載の塗布膜形成装置。 - 前記塗布液はレジストであり、前記前処理液はシンナーである請求項2記載の塗布膜形成装置。
- 前記異物検出部は、前記異物の粒径について設定された範囲毎に、検出された前記異物を計数する請求項1ないし3のいずれか一つに記載の塗布膜形成装置。
- 前記異物検出部は、前記基板への前記塗布液あるいは前処理液の供給中に取得される前記受光素子から出力される信号に基づいて、後続の基板に対する当該塗布液の供給を中止するか否かを決定する請求項1ないし4のいずれか一つに記載の塗布膜形成装置。
- 前記レーザー光照射部に光を供給する光源と当該レーザー光照射部との間の光路を開閉するシャッタが設けられ、
選択された一の前記塗布液用のノズルに対応する位置と、選択された他の前記塗布液用のノズルに対応する位置または前記前処理液用のノズルに対応する位置との間を、前記移動機構により前記レーザー光照射部及び前記受光素子が移動する間、当該シャッタにより前記光路が閉鎖される請求項2記載の塗布膜形成装置。 - 前記基板が格納されるキャリアが載置される載置部と、
請求項1ないし6のいずれか一つに記載の塗布膜形成装置と、
前記キャリアと前記塗布膜形成装置との間で前記基板を搬送する搬送機構と、
を含む塗布膜形成システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020162566A JP6919756B2 (ja) | 2016-01-21 | 2020-09-28 | 異物検査装置、基板処理装置及び基板処理システム |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016009923 | 2016-01-21 | ||
JP2016009923 | 2016-01-21 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017562516A Division JP6617775B2 (ja) | 2016-01-21 | 2017-01-10 | 異物検出装置及び異物検出方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020162566A Division JP6919756B2 (ja) | 2016-01-21 | 2020-09-28 | 異物検査装置、基板処理装置及び基板処理システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019220712A JP2019220712A (ja) | 2019-12-26 |
JP6773188B2 true JP6773188B2 (ja) | 2020-10-21 |
Family
ID=59361724
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017562516A Active JP6617775B2 (ja) | 2016-01-21 | 2017-01-10 | 異物検出装置及び異物検出方法 |
JP2019161505A Active JP6773188B2 (ja) | 2016-01-21 | 2019-09-04 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成システム |
JP2020162566A Active JP6919756B2 (ja) | 2016-01-21 | 2020-09-28 | 異物検査装置、基板処理装置及び基板処理システム |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017562516A Active JP6617775B2 (ja) | 2016-01-21 | 2017-01-10 | 異物検出装置及び異物検出方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020162566A Active JP6919756B2 (ja) | 2016-01-21 | 2020-09-28 | 異物検査装置、基板処理装置及び基板処理システム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11402313B2 (ja) |
JP (3) | JP6617775B2 (ja) |
KR (2) | KR102619157B1 (ja) |
CN (2) | CN113702269B (ja) |
TW (1) | TWI676795B (ja) |
WO (1) | WO2017126360A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113702269B (zh) * | 2016-01-21 | 2024-04-09 | 东京毅力科创株式会社 | 药液供给装置和涂敷显影系统 |
CN112041968B (zh) * | 2018-04-18 | 2024-01-26 | 东京毅力科创株式会社 | 药液的异常检测装置、液处理装置、基片处理装置、药液的异常检测方法、液处理方法和基片处理方法 |
CN108746010A (zh) * | 2018-05-24 | 2018-11-06 | 友达光电(昆山)有限公司 | 一种清洗系统 |
JP7260308B2 (ja) * | 2019-01-24 | 2023-04-18 | リオン株式会社 | 流体中浮遊物質測定用フローセル及び粒子計数装置 |
JP7221451B2 (ja) * | 2020-06-17 | 2023-02-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 異物検査基板、基板処理装置、及び基板処理方法 |
JP7491126B2 (ja) | 2020-07-29 | 2024-05-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、及び基板処理方法。 |
Family Cites Families (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ZA714990B (en) * | 1970-07-30 | 1973-03-28 | Celanese Corp | Smoking compositions |
JPS5215664A (en) * | 1975-07-25 | 1977-02-05 | Atsushi Kitamura | Device for inserting weft |
JPS5260692A (en) * | 1975-11-14 | 1977-05-19 | Hitachi Ltd | Automatic multi-item analyzer |
JPS5378125A (en) | 1976-12-22 | 1978-07-11 | Fujitsu Ltd | Pick up unit for pattern precognized information |
US4577964A (en) | 1978-09-06 | 1986-03-25 | Ortho Diagnostics, Inc. | Apparatus and method for detecting platelets in whole blood |
FI63296C (fi) * | 1980-07-11 | 1983-05-10 | Eflab Oy | Fotometer |
JPS61126448A (ja) | 1984-11-26 | 1986-06-13 | Teijin Ltd | ポリマ−中の異物検出方法 |
US5317380A (en) * | 1991-02-19 | 1994-05-31 | Inspex, Inc. | Particle detection method and apparatus |
JP3151036B2 (ja) * | 1992-02-06 | 2001-04-03 | ミクニキカイ株式会社 | サブミクロン粒子の検出方法および装置 |
JP3145487B2 (ja) * | 1992-06-12 | 2001-03-12 | シスメックス株式会社 | 粒子分析装置 |
JPH06186156A (ja) * | 1992-10-21 | 1994-07-08 | Toa Medical Electronics Co Ltd | 粒子分析装置 |
US5534999A (en) | 1993-03-05 | 1996-07-09 | Shinmikuni Kikai Ltd. | Monitoring sub-micron particles |
JP3301658B2 (ja) * | 1993-08-04 | 2002-07-15 | ミクニキカイ株式会社 | 流体中の微粒子の粒径計測方法および装置 |
JP3066519B2 (ja) | 1993-11-12 | 2000-07-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム及び処理方法 |
JPH0815146A (ja) * | 1994-06-27 | 1996-01-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 流体濃度制御装置 |
EP0716299A4 (en) * | 1994-06-27 | 1998-03-04 | Furukawa Electric Co Ltd | DEVICE FOR DETECTING FOREIGN BODIES IN A LIQUID |
JPH09196842A (ja) | 1996-01-23 | 1997-07-31 | Mikuni Kikai Kk | Fi値の計測方法と計測装置 |
JP3280878B2 (ja) * | 1997-01-16 | 2002-05-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置およびそれに用いるパーティクル測定装置 |
JPH10125575A (ja) * | 1996-10-18 | 1998-05-15 | Sony Corp | 薬液処理装置およびその薬液供給方法 |
JPH10177940A (ja) * | 1996-12-17 | 1998-06-30 | Sony Corp | 薬液供給装置 |
DE69830598T2 (de) * | 1997-01-31 | 2006-05-18 | The Horticulture And Food Research Institute Of New Zealand Limited | Optische vorrichtung und methode |
JPH10335222A (ja) * | 1997-06-02 | 1998-12-18 | Matsushita Electron Corp | 半導体製造方法および半導体製造装置 |
JPH11147068A (ja) * | 1997-06-03 | 1999-06-02 | Sony Corp | 処理装置及び処理方法 |
KR19990041379U (ko) * | 1998-05-18 | 1999-12-15 | 김영환 | 포토레지스트 공급장치 |
JP3745947B2 (ja) | 2000-08-23 | 2006-02-15 | ミクニキカイ株式会社 | 流体中の微粒子粒径測定方法および装置 |
JP2003130784A (ja) * | 2001-10-24 | 2003-05-08 | Mikuni Kikai Kk | 流体中の微粒子検出装置 |
US6794671B2 (en) * | 2002-07-17 | 2004-09-21 | Particle Sizing Systems, Inc. | Sensors and methods for high-sensitivity optical particle counting and sizing |
US6859277B2 (en) | 2002-08-27 | 2005-02-22 | Particle Measuring Systems, Inc. | Particle counter with strip laser diode |
JP2004327638A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜塗布装置 |
US7692773B2 (en) * | 2003-08-05 | 2010-04-06 | Luminex Corporation | Light emitting diode based measurement systems |
JP3917601B2 (ja) * | 2004-04-14 | 2007-05-23 | 株式会社東芝 | 薬液の認定方法および半導体装置の製造方法 |
JP5502275B2 (ja) | 2004-05-02 | 2014-05-28 | フルイディグム コーポレイション | 熱反応デバイスおよびその熱反応デバイスの使用方法 |
KR100868624B1 (ko) * | 2004-12-23 | 2008-11-13 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 파티클 검출 장치 |
US7355696B2 (en) * | 2005-02-01 | 2008-04-08 | Arryx, Inc | Method and apparatus for sorting cells |
US20070296937A1 (en) * | 2006-06-26 | 2007-12-27 | International Business Machines Corporation | Illumination light in immersion lithography stepper for particle or bubble detection |
CN100552422C (zh) * | 2006-12-30 | 2009-10-21 | 清华大学 | 一种对单一颗粒物进行多功能检测的微流控芯片装置 |
CN101029863B (zh) * | 2007-03-29 | 2010-05-19 | 上海大学 | 水中微小颗粒在线测量方法及装置 |
JP2008281392A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Olympus Corp | 測光装置及び自動分析装置 |
ES2883849T3 (es) * | 2007-06-28 | 2021-12-09 | Parker Hannifin Corp | Sistemas y métodos para el monitoreo remoto de contaminantes en fluidos |
JP4525725B2 (ja) * | 2007-10-18 | 2010-08-18 | ソニー株式会社 | 光学測定部、光学測定用部材、及びこれらを配設した微小粒子測定装置、並びに微小粒子の光学測定方法 |
JP5285916B2 (ja) * | 2008-01-09 | 2013-09-11 | 東レ株式会社 | 塗布ノズル検査装置および検査方法ならびに塗液の塗布方法 |
JP5298684B2 (ja) * | 2008-07-25 | 2013-09-25 | 住友電気工業株式会社 | 異物の検出装置及び検出方法 |
JP4748740B2 (ja) * | 2008-09-24 | 2011-08-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 光学式異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置 |
JP5152803B2 (ja) | 2008-09-24 | 2013-02-27 | 倉敷紡績株式会社 | 液体濃度計 |
JP5382852B2 (ja) * | 2009-02-06 | 2014-01-08 | 株式会社オンチップ・バイオテクノロジーズ | 使い捨てチップ型フローセルとそれを用いたフローサイトメーター |
US20100220315A1 (en) * | 2009-02-27 | 2010-09-02 | Beckman Coulter, Inc. | Stabilized Optical System for Flow Cytometry |
WO2010104993A2 (en) * | 2009-03-10 | 2010-09-16 | The Regents Of The University Of California | Fluidic flow cytometry devices and particle sensing based on signal-encoding |
JP5304474B2 (ja) * | 2009-06-22 | 2013-10-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
JP5108909B2 (ja) * | 2010-03-12 | 2012-12-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 裏面異物検出方法及び裏面異物検出装置及び塗布装置 |
JP5457384B2 (ja) * | 2010-05-21 | 2014-04-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
JP6323867B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-05-16 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 散乱体分光分析装置 |
GB2530034B (en) * | 2014-09-09 | 2017-08-09 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Forderung Der Wss E V | Particle detection apparatus |
JP5719473B1 (ja) | 2014-09-25 | 2015-05-20 | リオン株式会社 | 薬液用パーティクルカウンタ |
JP6319193B2 (ja) * | 2015-06-03 | 2018-05-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
CN113702269B (zh) * | 2016-01-21 | 2024-04-09 | 东京毅力科创株式会社 | 药液供给装置和涂敷显影系统 |
-
2017
- 2017-01-10 CN CN202110980343.9A patent/CN113702269B/zh active Active
- 2017-01-10 KR KR1020237029849A patent/KR102619157B1/ko active IP Right Grant
- 2017-01-10 WO PCT/JP2017/000436 patent/WO2017126360A1/ja active Application Filing
- 2017-01-10 JP JP2017562516A patent/JP6617775B2/ja active Active
- 2017-01-10 US US16/071,122 patent/US11402313B2/en active Active
- 2017-01-10 CN CN201780007489.7A patent/CN108474731B/zh active Active
- 2017-01-10 KR KR1020187020754A patent/KR102578808B1/ko active IP Right Grant
- 2017-01-17 TW TW106101468A patent/TWI676795B/zh active
-
2019
- 2019-09-04 JP JP2019161505A patent/JP6773188B2/ja active Active
-
2020
- 2020-09-28 JP JP2020162566A patent/JP6919756B2/ja active Active
-
2022
- 2022-06-28 US US17/809,365 patent/US11906414B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20230132611A (ko) | 2023-09-15 |
JP2021022737A (ja) | 2021-02-18 |
JP6919756B2 (ja) | 2021-08-18 |
KR102619157B1 (ko) | 2023-12-28 |
KR20180103913A (ko) | 2018-09-19 |
JPWO2017126360A1 (ja) | 2018-11-08 |
CN113702269A (zh) | 2021-11-26 |
US11402313B2 (en) | 2022-08-02 |
WO2017126360A1 (ja) | 2017-07-27 |
CN108474731B (zh) | 2021-09-21 |
CN108474731A (zh) | 2018-08-31 |
JP6617775B2 (ja) | 2019-12-11 |
US20220326133A1 (en) | 2022-10-13 |
TWI676795B (zh) | 2019-11-11 |
US20210190661A1 (en) | 2021-06-24 |
JP2019220712A (ja) | 2019-12-26 |
KR102578808B1 (ko) | 2023-09-15 |
CN113702269B (zh) | 2024-04-09 |
TW201736828A (zh) | 2017-10-16 |
US11906414B2 (en) | 2024-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6773188B2 (ja) | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成システム | |
KR102513791B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP6763443B2 (ja) | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 | |
JP6547871B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP6947190B2 (ja) | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190906 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191009 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200623 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200807 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200901 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200914 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6773188 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |