JP6317242B2 - 試料保持具 - Google Patents

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本発明は、試料保持具に関するものである。
半導体集積回路の製造工程または液晶表示装置の製造工程等において、半導体ウエハ等の各試料を保持するための部品として試料保持具が知られている。試料保持具としては、例えば、特許文献1に開示された静電チャックが知られている。特許文献1に開示された静電チャックは、ベース部材と静電チャック基板との間にヒータが挟み込まれており、このヒータが接着層を介してベース部材に接着されている。静電チャックは、静電チャック基板の表面に被加工物が搭載されて用いられる。
特開2011−91297号公報
しかしながら、特許文献1に開示された静電チャックにおいては、ヒータが接着層を介してベース部材に接着されていることによって、ヒータによって発せられた熱がベース部材から外部に逃げてしまうおそれがあった。そのため、静電チャック基板の表面の温度調整に時間がかかってしまうという問題点があった。
本発明は、このような問題点を解決すべくなされたものであり、その目的はヒータによって発せられた熱がベース部材から外部に逃げてしまうことを低減して、静電チャック基板の表面の温度調整を速やかに行なうことができるようにすることにある。
本発明の一態様の試料保持具は、セラミックスから成り上面に試料保持面を有する基体と、該基体の下面に設けられた発熱抵抗体と、金属から成り上面で前記基体の下面を覆う支持体と、前記基体の下面および前記支持体の上面を前記発熱抵抗体ごと接合する接合層とを備えており、該接合層は、内部に複数のボイドを有するとともに、前記発熱抵抗体の下面と接する前記ボイドが、前記基体の下面のうち前記発熱抵抗体が設けられていない部位と接するボイドよりも多い割合で存在していることを特徴とする。
本発明の一態様の試料保持具によれば、試料保持面の温度調整を速やかに行なうことができる。
本発明の一実施形態の試料保持具を示す断面図である。 図1に示した試料保持具の領域Aを拡大した部分拡大断面図である。 図1に示した試料保持具の領域Bを拡大した部分拡大断面図である。
以下、本発明の一実施形態に係る試料保持具について、図面を参照して説明する。
図1は本発明の一実施形態の試料保持具を示す断面図である。図1に示すように、本発
明の一実施形態の試料保持具は、セラミックスから成り上面に試料保持面11を有する基体1と、基体1の下面に設けられた発熱抵抗体2と、金属から成り上面で基体1の下面を覆う支持体3と、基体1の下面および支持体3の上面を発熱抵抗体2ごと接合する接合層4とを備えている。
基体1は、上面に試料保持面11を有する板状の部材である。基体1は、上面の試料保持面11において、例えば、シリコンウエハ等の試料を保持する。基体1は、平面視したときの形状が円形状の部材である。基体1は、例えば、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素またはイットリア等のセラミック材料から成る。基体1の内部には静電吸着用電極5が埋設されている。また、基体1の下面には発熱抵抗体2が設けられている。基体1の寸法は、例えば、径を200〜500mmに、厚みを2〜15mmに設定できる。試料を保持する方法としては、様々な方法を用いることができるが、本実施形態の試料保持具10は静電気力によって試料を保持する。
静電吸着用電極5は、2つの電極から構成される。2つの電極は、一方が電源の正極に接続されて、他方が負極に接続される。2つの電極は、試料保持面11に面するように、それぞれ略半円形状に形成されて、半円の弦同士が対向するように、基体1の内部に配置される。2つの電極が合わさって、静電吸着用電極5の全体の外形が円形状になっている。この静電吸着用電極5の全体による円形状の中心は、同じく円形状の基体1の中心と同一に設定される。静電吸着用電極5は、例えばタングステンまたはモリブデン等の金属材料から成る。
発熱抵抗体2は、試料を加熱するための部材である。発熱抵抗体2は基体1の下面に設けられている。発熱抵抗体2は、帯状に形成されている。発熱抵抗体2に電圧を印加することによって発熱抵抗体2を発熱させることができる。発熱抵抗体2で発せられた熱は、基体1の内部を伝わって試料保持面11に到達する。これにより、試料保持面11に搭載された試料を加熱できる。発熱抵抗体2は、複数の折り返し部を有することによって基体1の下面の広範囲に形成されている。これにより、試料保持面11の均熱性を向上させることができる。発熱抵抗体2は、例えば、白金、銀パラジウム、アルミニウムまたは金等の金属材料から成る。また、発熱抵抗体2は金属材料に加えてガラス成分を含んでいることが好ましい。発熱抵抗体2の寸法は、例えば、幅を1〜5mmに、厚みを0.01〜0.1mmに、全長を10〜100mに設定できる。
支持体3は、基体1を支持するための部材である。支持体3は、アルミニウムまたはチタン等の金属から成る。支持体3は、上面で基体1の下面を覆っている。支持体3は、例えば、基体1を冷却するための機能を有していてもよい。具体的には、支持体3の内部に冷却媒体用の流路(図示せず)を有していてもよい。また、支持体3の内部に試料保持面11にヘリウムやアルゴン等の伝熱ガスを流すための流路を有していてもよい。支持体3の寸法は、例えば、径を200〜550mmに、厚みを20〜50mmに設定できる。
接合層4は基体1と支持体3とを接合するための部材である。図2に示すように、接合層4は基体1の下面および支持体3の上面を発熱抵抗体2ごと接合している。接合層4は、例えば、シリコーン樹脂等の樹脂材料から成る。接合層4の寸法は、例えば、厚みを0.05〜0.5mmに設定できる。
さらに、接合層4は、内部に複数のボイド6を有するとともに、発熱抵抗体2の下面と接するボイド6が、基体1の下面のうち発熱抵抗体2が設けられていない部位と接するボイド6よりも多い割合で存在している。
このように、発熱抵抗体2の下面に接するボイド6を多くすることによって、発熱抵抗
体2から発せられた熱が接合層4を介して支持体3に逃げてしまうことを低減できる。これにより、試料保持面11の温度調整を速やかに行なうことができる。また、基体1の下面のうち発熱抵抗体2が設けられていない部位と接するボイド6を少なくすることによって、接合層4による基体1と支持体3との接合をより強固に行なうことができる。また、支持体3の内部に冷却用媒体が流れる流路を設けている場合には、発熱抵抗体2が設けられていない部位と接するボイド6を少なくすることによって、接合層4と支持体3との間の熱の伝達を良好に行なうことができるので、冷却用媒体による試料保持面11の冷却を速やかに行なうことができる。
接合層4の断面を見たときのボイド6の形状は、例えば円形状または楕円形状等である。また、ボイド6が円形状の場合には、寸法は、例えば、直径を0.02〜0.3mmに設定できる。より好ましくは、直径を0.1〜0.2mmに設定するとよい。直径を0.1〜0.2mmに設定することで、発熱抵抗体2から発せられた熱が接合層4を介して支持体3に逃げてしまうことを良好に低減しつつ、基体1と支持体3との接着も良好に行なうことができる。
さらに、発熱抵抗体2の下面と接するボイド6の割合が、基体1の中心側よりも外周側において高いことが好ましい。言い換えれば、基体1の外周側に位置する発熱抵抗体2の下面と接するボイドの割合が、基体1の中心側に位置する発熱抵抗体2の下面と接するボイドの割合よりも高いことが好ましい。一般に、発熱抵抗体2から発せられた熱は接合層4や基体1の外周側から外部に逃げてしまうおそれがあるが、外周側にボイド6を多く設けておくことによって、外部に熱が逃げてしまうことを低減できる。平面視したときの基体1の形状が円形状の場合には、基体1の中心から見て基体1の半径の1/2の長さまでの領域を中心側、中心側よりも外側の領域を外周側と見なすことができる。
また、ここでいう「ボイド6の割合」とは、発熱抵抗体2の下面に対して垂直な断面を見たときに、単位長さ当たりにおいて、発熱抵抗体2の下面に接触するボイド6が占める長さの合計を意味している。すなわち、発熱抵抗体2の下面のある領域(1mm)を見たときに、この領域に0.1mmの長さで発熱抵抗体2に接触するボイド6が3個存在する場合には、ボイド6の占める長さの合計は0.3mmであり、この領域に存在しているボイド6の割合は30%ということになる。ボイド6の割合は、例えば、中心側で30%、外周側で50%に設定することができる。なお、発熱抵抗体2の下面が設けられていない領域においては、ボイド6の割合は5%以下であることが好ましい。
外周側でボイド6の割合を高くするためには、例えば、中心側のボイド6を小さくして、外周側のボイド6を大きくすることができる。また、ボイド6の大きさが同じであっても、中心側よりも外周側においてボイド6の数を多くすることによってボイド6の割合を高くしてもよい。特に、中心側においてボイド6を小さく形成しておくことが好ましい。これにより、ボイド6を設けることによって生じる熱の分布の偏りを低減することができる。
ボイド6の割合、大きさおよび数は、以下の方法で確認できる。具体的には、日立建機製の超音波顕微鏡HSMAを用いて接合層4の写真を撮影、または、金属顕微鏡を用いて接合層4の断面の写真を撮影する。そして、写真を画像解析ソフト(三谷商事製WinROOF)にて解析することによって確認できる。
さらに、図3に示すように、接合層4の外周面から内部に向かって針状の空隙7が存在していることが好ましい。これにより、外周側から外部に熱が逃げてしまうことをさらに低減できる。これは、空隙7が存在していることによって、接合層4の外周側の密度を低くすることができるためである。また、空隙7が針状であることによって、空隙7を外周
面に設けることによる表面積の増大を抑制できる。そのため、接合層4の外周面において熱が外部に逃げやすくなることを低減できる。針状の大きさは、例えば、外周面から中心側に向かう長手方向の長さを3〜10mm、幅を0.1〜1mmに設定できる。基体1の寸法が200〜500mmの場合には、針状の空隙7は、例えば、20〜100個程度設けることができる。
発熱抵抗体2の下面と接するボイド6を多く形成するための方法としては、下記の方法が挙げられる。具体的には、まず、発熱抵抗体2の表面に複数の凹凸を形成する。複数の凹凸を形成するための方法としては、例えば、マシニング加工機を用いてダイヤモンド砥石を回転させながら発熱抵抗体2に接触させる機械的加工法、硬質の砥粒を噴射することで発熱抵抗体2の表面を荒らすブラスト加工法、または、レーザー光を用いたレーザー加工法等が挙げられる。いずれの加工法を用いる際も、マスキング等を行なうことによって、発熱抵抗体2の表面のみを選択的に加工することができる。発熱抵抗体2の算術平均粗さは、例えば、Ra2μm以上にしておくことがボイド6を形成するためには好ましい。
また、基体1の下面のうち発熱抵抗体2が設けられていない部分に対しては、ラップ加工を施すことによって、表面を平坦にしておく。具体的には、算術平均粗さをRa0.2μm以下にしておくとよい。
このような加工を施しておくことによって、一定の粘性を有する接着材を接合層4として塗布した際に発熱抵抗体2の表面の凹凸に接するボイド6を多く生じさせることができる。
接合層4となる接着材については、接着前に真空雰囲気下で混ぜ合わせることによって内部の気泡を除去しておくことが好ましい。これにより、基体1の下面のうち発熱抵抗体2が設けられていない部位に接するボイド6を少なくすることができる。
さらに、発熱抵抗体2の下面と接するボイド6の割合が、基体1の中心側よりも外周側において高くなるようにするためには、外周側の表面を中心側の表面よりも粗くしておけばよい。外周側の表面を中心側の表面より粗くしておくことによって、外周側のボイド6を大きくして、中心側のボイド6を小さくできる。
また、接合層4の外周面から内部に向かって針状の空隙7を生じさせる場合には、基体1と支持体3との接合を真空下で行なうとともに、急激に大気中に戻せばよい。これにより、外周面から大気が侵入することによって、接合層4に針状の空隙7を生じさせることができる。
1:基体
11:試料保持面
2:発熱抵抗体
3:支持体
4:接合層
5:静電吸着用電極
6:ボイド
7:空隙
10:試料保持具

Claims (3)

  1. セラミックスから成り上面に試料保持面を有する基体と、該基体の下面に設けられた発熱抵抗体と、金属から成り上面で前記基体の下面を覆う支持体と、前記基体の下面および前記支持体の上面を前記発熱抵抗体ごと接合する接合層とを備えており、
    該接合層は、内部に複数のボイドを有するとともに、前記発熱抵抗体の下面と接する前記ボイドが、前記基体の下面のうち前記発熱抵抗体が設けられていない部位と接するボイドよりも多い割合で存在していることを特徴とする試料保持具。
  2. 前記発熱抵抗体の下面と接するボイドの割合が、前記基体の中心側よりも外周側において高いことを特徴とする請求項1に記載の試料保持具。
  3. 前記接合層は、外周面から内部に向かって針状の空隙が存在していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の試料保持具。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP6959090B2 (ja) * 2017-09-26 2021-11-02 日本特殊陶業株式会社 加熱装置
WO2023286812A1 (ja) * 2021-07-13 2023-01-19 京セラ株式会社 静電チャック

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3344650B2 (ja) * 2000-06-01 2002-11-11 東芝セラミックス株式会社 半導体熱処理用セラミックヒーター
JP4518370B2 (ja) * 2003-07-10 2010-08-04 日本碍子株式会社 セラミックサセプターの支持構造
JP4686996B2 (ja) * 2004-03-30 2011-05-25 住友電気工業株式会社 加熱装置
JP2009152475A (ja) * 2007-12-21 2009-07-09 Shinko Electric Ind Co Ltd 基板温調固定装置
JP2010027652A (ja) * 2008-07-15 2010-02-04 Samco Inc 静電吸着用基板固定部材
JP5482282B2 (ja) * 2009-03-03 2014-05-07 東京エレクトロン株式会社 載置台構造及び成膜装置

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