JP6121456B2 - 窒素及びホウ素でドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル - Google Patents
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Description
I)グラフェンオキシドを、窒素を含む少なくとも一種の成分(A)及びホウ素を含む少なくとも一種の成分(B)で処理をし、及び/又は
II)グラフェンオキシドを、窒素及びホウ素の両方を含む少なくとも一種の成分(C)で処理をすることで、
窒素及びホウ素でドープされたグラフェンを生成するという方法である。
(グラファイトオキシドの製造)
グラファイトオキシド(GO)は、改良ハマーズ法を使用して天然のグラファイトフレークから製造され、その詳細は出版物:William S.Hummers Jr、Richard E.Offemanの「グラファイトオキシドの製造」“J.Am.Chem.Soc”(1958年、80(6)、1339ページ)に記載されている。
(窒素及びホウ素によってドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル(BNGA)の製造)
窒素及びホウ素によってドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル(BNGA)を、複合水熱装置及び凍結乾燥方法によって製造する。100mgのNH3BF3を含む15mlのGO水性分散液(分散液1ml当り1.0のGOを含む)を、初めに5分間、超音波によって処理をし、その後、テフロン(登録商標)加工されたオートクレーブ内に封入した安定した懸濁液を、12時間180℃で水熱処理をする。その後、上記のように調製された試料を、数時間60℃で真空乾燥をした後、製造された試料を一晩中凍結乾燥をする。上記の様に生成したグラフェンエアロゲルの収率は、使用したGOの量に関連して10質量%〜20質量%である。
(いかなるドーパントを含まないグラフェンを原料としたエアロゲル(GA)の製造)
グラフェンエアロゲル(GA)を、複合水熱装置及び凍結乾燥方法によって製造する。10mlのGO水性分散液(分散液1ml当り0.5mg〜2.0mgのGOを含む)を初めに5分間、超音波によって処理をし、その後、テフロン(登録商標)加工されたオートクレーブ内に封入した安定した懸濁液を24時間150℃で水熱処理をする。その後、上記のように調製された試料を数時間60℃で真空乾燥をした後、一晩中凍結乾燥をする。上記のように生成したエアロゲルの収率は、使用したGOの量と関連して60質量%〜70質量%である。
(窒素のみによってドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル(NGA))
窒素によってドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル(NGA)を、複合水熱装置及び凍結乾燥方法によって生成する。50mgのジシアンジアミド(C2H4N4)を含む10mlのGO水性分散液(分散液1ml当りGO1ml含む)を、初めに5分間超音波によって処理をし、その後、テフロン(登録商標)加工されたオートクレーブ内に封入した安定した懸濁液を20時間180℃で水熱処理をする。その後、上記のように調製した試料を数時間70℃で真空乾燥をした後、一晩中凍結乾燥をする。上記のように生成したエアロゲルの収率は、使用したGOの量と関連して15質量%〜30質量%である。
ホウ素によってドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル(BGA)を、複合水熱装置及び凍結乾燥方法によって生成する。50mgのホウ酸(H3BO3)を含む10mlのGO水性分散液(分散液1ml当り1.0mgのGOを含む)を初めに、5分間超音波によって処理をし、その後、テフロン(登録商標)加工されたオートクレーブ内に封入した安定した懸濁液を20時間180℃で水熱処理をする。その後、上記のように調製した試料を数時間70℃で真空乾燥をした後、一晩中凍結乾燥をする。上記のように生成したエアロゲルの収率は、使用したGOの量と関連して15質量%〜30質量%である。
(層構造を有するグラフェンペーパー(GP))
GPは、0.05mg/m〜0.20mg/mの濃度のN−メチルピロリドン中の、安定した黒い熱的に還元した(450℃でのH2フロー)グラフェン浮遊物を真空ろ過をし、その後、ろ過をし、水とエタノールで洗浄をすることによって容易に製造することができる。最後に、紙のようになったグラフェン膜を、空気乾燥をし、慎重にフィルターから剥離する。
(特徴)
実施例2〜6の全ては、走査電子顕微鏡(SEM、Gemini 1530 LEO)、高分解能透過型電子顕微鏡(HRTEM、Philips Tecnai F20)、原子間力顕微鏡(AFM、Veeco Dimension 3100)、X線光電子顕微鏡(XPS、 VG ESCA 2000)によって特徴づけられる。窒素吸着及び脱着等温線をMicromeritcs Tristar 3000 analyzer(USA)によって、77Kで測定する。
Claims (35)
- 窒素及びホウ素でドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル。
- 前記エアロゲルは、0.1質量%〜6質量%の窒素及び/又は0.1質量%〜2質量%のホウ素を含むことを特徴とする請求項1に記載のエアロゲル。
- 前記エアロゲルは、さらにFe及び/又はCoを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のエアロゲル。
- 前記エアロゲルは、さらにPt、Mn、 Ni、 V、Cr、 Ti、Pd、 Ru、Se及びCuから選択される少なくとも一種の金属を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のエアロゲル。
- 前記Feを、Fe、 Fe2O3又はFe3O4として使用し、及び/又は前記Coを、Co、Co(OH)2、Co3O4又はCoOとして使用することを特徴とする請求項3に記載のエアロゲル。
- 前記Fe、前記Co及び/又は前記金属が、小粒子として使用されることを特徴とする請求項3〜5のいずれか1項に記載のエアロゲル。
- I)グラフェンオキシドを、窒素を含む少なくとも一種の成分(A)及びホウ素を含む少なくとも一種の成分(B)によって処理し、及び/又は
II)グラフェンオキシドを、窒素及びホウ素の両方を含む少なくとも一種の成分(C)によって処理することで、
窒素及びホウ素でドープされたグラフェンを得ることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のエアロゲルの製造方法。 - 前記グラフェンオキシドの処理は、さらに水熱工程及び/又は乾燥工程を含むことを特徴とする請求項7に記載の方法。
- グラファイトを酸化してグラファイトオキシドにし、順次に、剥離してグラフェンオキシドとすることを特徴とする請求項7又は8に記載の方法。
- 前記成分(A)は、シアナミド(CH2N2)、ジシアンジアミド(C2H4N4)又はエチレンジアミン(C2H8N2)であり、前記成分(B)は、ホウ酸(H3BO3)であり、及び/又は前記成分(C)は、NH3BF3又はNH3BH3であることを特徴とする請求項7〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載のエアロゲルからなる電極。
- さらに、電解質を含む請求項11に記載の電極。
- 前記エアロゲルを、0.5〜1.5mmの厚さを有し、及び/又は5〜15mmの直径を有する薄片に切ることによって得られる請求項11又は12に記載の電極。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載のエアロゲル又は請求項11〜13のいずれか一項に記載の電極を含む全固体スーパーキャパシタ(ASSS)。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載のエアロゲルを含む触媒。
- Fe及びCoの小粒子を含むことを特徴とする請求項15に記載の触媒。
- 電池中、スーパーキャパシタ中の、電極として、又は触媒として、請求項1〜6のいずれか一項に記載のエアロゲルを使用する方法。
- Fe及び/又はCoを含む、窒素及びホウ素でドープされたグラフェン。
- Pt、Mn、Ni、V、Cr、Ti、Pd、Ru、Se及びCuから選択される少なくとも一種の金属を含む、窒素及びホウ素でドープされたグラフェン。
- Fe及び/又はCo並びにPt、Mn、Ni、V、Cr、Ti、Pd、Ru、Se及びCuから選択される少なくとも一種の金属を含む、窒素及びホウ素でドープされたグラフェン。
- 0.1質量%〜6質量%の窒素及び/又は0.1質量%〜2質量%のホウ素を含むことを特徴とする請求項18〜20のいずれか一項に記載のグラフェン。
- エアロゲル、電極、電池、スーパーキャパシタ、又は触媒を製造するための請求項18〜20のいずれか1項に記載の窒素及びホウ素によってドープされたグラフェンを使用する方法。
- 前記エアロゲルが、2.5〜3.5質量%の窒素及び/又は0.3〜0.9質量%のホウ素を含むことを特徴とする請求項2に記載のエアロゲル。
- 前記小粒子が、ナノ粒子であることを特徴とする請求項6に記載のエアロゲル。
- 前記乾燥工程が、フリーズドライ工程であることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記グラファイトが、グラファイトフレークの状態であることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記電解質が、PVA/H2SO4ゲル、PVA/H3SO4ゲル、PVA/KOHゲル、PVA/NaOHゲル、PVA/Na2SO4ゲル、又はイオン性液体ポリマーゲルであることを特徴とする請求項12に記載の電極。
- 前記小粒子が、Fe3O4及びCo3O4のナノ粒子であることを特徴とする請求項16に記載の触媒。
- 電極が、酸素消費電極であることを特徴とする請求項17に記載のエアロゲルの使用方法。
- 前記スーパーキャパシタが、全固体スーパーキャパシタであることを特徴とする請求項17に記載のエアロゲルの使用方法。
- 前記触媒が、酸素還元反応用の電極触媒であることを特徴とする請求項17に記載のエアロゲルの使用方法。
- 2.5〜3.5質量%の窒素及び/又は0.3〜0.9質量%のホウ素を含むことを特徴とする請求項21に記載のグラフェン。
- 前記電極が、酸素消費電極であることを特徴とする請求項22に記載の窒素及びホウ素でドープされたグラフェンの使用方法。
- 前記スーパーキャパシタが、全固体スーパーキャパシタであることを特徴とする請求項22に記載の窒素及びホウ素でドープされたグラフェンの使用方法。
- 前記触媒が酸素還元反応用の電極触媒であることを特徴とする請求項22に記載の窒素及びホウ素でドープされたグラフェンの使用方法。
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