JP5999190B2 - インライン式コーティング装置、インライン式コーティング方法、およびセパレータ - Google Patents

インライン式コーティング装置、インライン式コーティング方法、およびセパレータ Download PDF

Info

Publication number
JP5999190B2
JP5999190B2 JP2014539732A JP2014539732A JP5999190B2 JP 5999190 B2 JP5999190 B2 JP 5999190B2 JP 2014539732 A JP2014539732 A JP 2014539732A JP 2014539732 A JP2014539732 A JP 2014539732A JP 5999190 B2 JP5999190 B2 JP 5999190B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
coating
bias voltage
unit
coating material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2014539732A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2014054587A1 (ja
Inventor
山本 啓介
啓介 山本
守屋 悟
悟 守屋
俊英 浅野
俊英 浅野
剛 杉本
剛 杉本
基 柳沼
基 柳沼
沼尾 康弘
康弘 沼尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Motor Co Ltd
Original Assignee
Nissan Motor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Motor Co Ltd filed Critical Nissan Motor Co Ltd
Publication of JPWO2014054587A1 publication Critical patent/JPWO2014054587A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5999190B2 publication Critical patent/JP5999190B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3435Applying energy to the substrate during sputtering
    • C23C14/345Applying energy to the substrate during sputtering using substrate bias
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3464Sputtering using more than one target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568Transferring the substrates through a series of coating stations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M8/00Fuel cells; Manufacture thereof
    • H01M8/02Details
    • H01M8/0202Collectors; Separators, e.g. bipolar separators; Interconnectors
    • H01M8/0204Non-porous and characterised by the material
    • H01M8/0223Composites
    • H01M8/0228Composites in the form of layered or coated products
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M8/00Fuel cells; Manufacture thereof
    • H01M8/02Details
    • H01M8/0202Collectors; Separators, e.g. bipolar separators; Interconnectors
    • H01M8/023Porous and characterised by the material
    • H01M8/0241Composites
    • H01M8/0245Composites in the form of layered or coated products
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/50Fuel cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Fuel Cell (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

本発明は、インライン式コーティング装置、インライン式コーティング方法、およびセパレータに関する。
スパッタリング法およびイオンプレーティング法等のコーティング方法においては、ワークに印加するバイアス電圧を調整することによって、ワーク表面に形成されるコーティング層の特性を制御できることが知られている。
例えば特許文献1に記載の発明において、本発明者らはバイアス電圧を適切に調整することによって導電性および耐食性に優れたコーティング層を燃料電池用セパレータの表面に形成している。
特開2010−272490号公報
バイアス電圧を調整したワークのコーティングをバッチ式で行ってもよいが、本発明者らは量産性向上を目指しインライン式について鋭意検討した。
本発明は、このような検討の結果なされたものであり、量産性に優れ、かつ適切なバイアス電圧をワークに印加可能なインライン式コーティング装置およびインライン式コーティング方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するためのインライン式コーティング装置は、ワークがコーティングされるコーティング部と、コーティング部においてワークを搬送する搬送部と、を有する。整列した複数のコーティング材料がコーティング部に備えられる。搬送部は、複数のコーティング材料に対向するように複数のワークを搬送する。インライン式コーティング装置は、ワークが搬送されてコーティング材料と対向するとき、コーティング材料から放出される粒子をワークに引き寄せるバイアス電圧をワークに印加する電圧印加部を有する。電圧印加部は、ワークが一のコーティング材料に対向しているときと、ワークが他のコーティング材料に対向しているときとで、異なるバイアス電圧をワークに印加可能である。
上記目的を達成するためのインライン式コーティング方法は、整列した複数のコーティング材料に対向するように複数のワークを搬送するとともに、コーティング材料にワークが対向しているとき、コーティング材料から放出される粒子を、ワークに印加されるバイアス電圧によってワークに引き寄せてコーティングするコーティング工程を有する。コーティング工程では、ワークが一のコーティング材料に対向しているときと、ワークが一のコーティング材料と異なる他のコーティング材料に対向しているときとで、異なるバイアス電圧がワークに印加される。
上記目的を達成するためのセパレータは、矩形形状を有する薄板状の基材にコーティング層が形成された構成を有する。矩形形状の外周の一辺を構成する端面は、他の残りの辺を構成する端面と異なる性状を有する。
上記構成を有するインライン式コーティング装置およびインライン式コーティング方法は、複数のワークを複数のコーティング材料に対向するように搬送することによって、複数のワークのコーティングを連続的に行うため、量産性に優れる。また、上記構成を有するインライン式コーティング装置およびインライン式コーティング方法は、ワークが異なるコーティング材料に対向するときの各々で異なるバイアス電圧を印加可能であるため、コーティング材料ごとに適切なバイアス電圧を印加できる。
上記構成を有するセパレータは、ワークとしての複数の薄板状の基材が線状部材の長手方向に並べて吊り下げられるように各基材の端部を線状部材に引っ掛けて基材を搬送しつつコーティングした後、線状部材に引っ掛けられる基材の端部を除去して形成される。このセパレータによれば、搬送手段を構成する線状部材がワークである基材の端部によって覆われるため、線状部材へのコーティング材料の付着が防止されてメンテナンスの手間が減る。従って、量産性が優れる。また、基材の端部が線状部材に引っ掛けられるため、基材の端部を通じ、搬送される基材に対しコーティング材料に応じた適切なバイアス電圧を印加できる。
第1実施形態のインライン式コーティング装置の概略構成を示す側面図である。 第2実施形態のインライン式コーティング装置の概略構成を示す平面図である。 第2実施形態のインライン式コーティング装置の概略構成を示す図2の3−3線に沿う側面図である。 第3実施形態のインライン式コーティング装置の概略構成を示す側面図である。 第4実施形態のインライン式コーティング装置の概略構成を示す側面図である。 第5実施形態のインライン式コーティング装置の概略構成を示す図である。 図6の7−7線に沿う断面図である。 セパレータを形成する際の基材端部の切断を模式的に示す図である。 形成されたセパレータを模式的に示す平面図である。 第6実施形態のインライン式コーティング装置の概略構成を示す図である。 図10の符号9から見た矢視図である。
以下、添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。なお、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる。
<第1実施形態>
図1に示すように、第1実施形態のインライン式コーティング装置10は、複数のワークWを搬送可能なベルトコンベア13(搬送部)を有する。インライン式コーティング装置10は、ボンバードメント処理によってワークW表面の酸化膜が除去される酸化膜除去部11、およびワークWがコーティングされるコーティング部12を有する。インライン式コーティング装置10は、ボンバードメント処理およびコーティングの際にワークWにバイアス電圧を印加する電圧印加部14を有する。
ワークWは、薄板形状を有する金属製の基材である。ワークWにコーティング等が施されることによって、燃料電池に用いられるセパレータが形成される。
ベルトコンベア13は、ワークWの搬送方向に沿って離隔して設けられた複数の導電部130および導電部130の間に設けられた絶縁部131を有する。導電部130および絶縁部131はベルトコンベア13のベルトを構成する。
導電部130は例えば金属によって形成される。絶縁部131は例えば樹脂によって形成される。ベルトコンベア13はワークWを導電部130の上に載せて搬送する。ワークWは導電部130に接して電気的に接続している。
酸化膜除去部11は、内部にベルトコンベア13が配置されるチャンバ110、およびワークWに対向するように配置された電極111を有する。チャンバ110内を排気する真空ポンプおよびチャンバ110内に希ガスを導入する希ガス導入部がチャンバ110に連通する。酸化膜除去部11は、コーティング部12に対しワークWの搬送方向上流側に設けられる。
コーティング部12は、内部にベルトコンベア13が配置されるチャンバ120を有する。チャンバ120内を排気する真空ポンプおよびチャンバ120内に希ガスを導入する希ガス導入部がチャンバ120に連通する。チャンバ110およびチャンバ120は、ベルトコンベア13の全体が収まるチャンバを仕切ることによって構成される。酸化膜除去部11およびコーティング部12に導入される希ガスは、例えばアルゴン等の重い不活性ガスである。
コーティング部12は、ワークWの搬送方向に沿ってワークWに対向するように配置された4つのターゲット121、122、123、124(コーティング材料)を有する。ターゲットの数はこれに限定されない。ターゲット121、122を形成する材料は、例えばクロムである。ターゲット123、124を形成する材料は、例えば炭素である。ターゲットを形成する材料はこれらに限定されない。
ワークWが収められたロードロックチャンバ15が、チャンバ110に対しワークWの搬送方向上流側に隣接して設けられている。複数のワークWが、ロードロックチャンバ15内に配置された箱150に収納されている。例えば産業用ロボットがロードロックチャンバ15内で箱150からワークWを取り出してベルトコンベア13の導電部130の上に載せる。ロードロックチャンバ15内を排気する真空ポンプがロードロックチャンバ15に連通する。
ワークWが収められるロードロックチャンバ16が、チャンバ120に対しワークWの搬送方向下流側に隣接して設けられている。コーティングされたワークWは、ベルトコンベア13によって搬送されてロードロックチャンバ16内に配置された箱160に収納される。ロードロックチャンバ16内を排気する真空ポンプがロードロックチャンバ16に連通する。
電圧印加部14は、バイアス電圧を生成する電源140、電源141、電源142、電源143、および電源144を有する。電源140、電源141、電源142、電源143、および電源144が生成するバイアス電圧は、それぞれ異なる。
電圧印加部14は、電極111に対向する位置でベルトコンベア13のベルトに摺接するブラシ145を有する。電源140とブラシ145とは電気的に接続している。電源140と電極111とは電気的に接続している。
電圧印加部14は、ターゲット121に対向する位置でベルトコンベア13のベルトに摺接するブラシ146を有する。電源141とブラシ146とは電気的に接続している。電源141とターゲット121とは電気的に接続している。
電圧印加部14は、ターゲット122に対向する位置でベルトコンベア13のベルトに摺接するブラシ147を有する。電源142とブラシ147とは電気的に接続している。電源142とターゲット122とは電気的に接続している。
電圧印加部14は、ターゲット123に対向する位置でベルトコンベア13のベルトに摺接するブラシ148を有する。電源143とブラシ148とは電気的に接続している。電源143とターゲット123とは電気的に接続している。
電圧印加部14は、ターゲット124に対向する位置でベルトコンベア13のベルトに摺接するブラシ149を有する。電源144とブラシ149とは電気的に接続している。電源144とターゲット124とは電気的に接続している。
ブラシ145、146、147、148、149の各々は、ベルトコンベア13によるワークWの搬送にともなって導電部130との接触および絶縁部131との接触を繰り返す。
本実施形態のインライン式コーティング方法について述べる。本実施形態のインライン式コーティング方法は、ボンバードメント処理によってワークW表面の酸化膜を除去する酸化膜除去工程と、酸化膜除去工程後、スパッタリングによってワークWをコーティングするコーティング工程と、を有する。
導電部130がワークWとともに移動してブラシ145に接し、またワークWが電極111と対向すると、ワークWはボンバードメント処理される。
導電部130を介してワークWと電源140とが電気的に接続することによって、電源140によって生成されたバイアス電圧がワークWに印加される。電源140によって生成されるバイアス電圧は、電源141、142、143、144の各々によって生成されるバイアス電圧よりも大きい。
電源140によって生成されたバイアス電圧がワークWに印加されると、ワークWと電極111との間の電位差によってこれらの間の気体がイオン化するとともにワークW表面に引き寄せられて衝突する。その結果、ワークW表面の酸化膜が除去される。
ワークWが電極111に対向しているとき、ワークWを一時的に停止させてボンバードメント処理してもよいが、ワークWを停止させることなく搬送しつつボンバードメント処理することによって、量産性を向上できる。
導電部130が移動してブラシ145から離れ、絶縁部131がブラシ145に接すると、ワークWと電源140との電気的な接続が遮断されるため、ボンバードメント処理が停止する。
導電部130がワークWとともに移動してブラシ146に接し、またワークWがターゲット121と対向すると、ワークWはコーティングされる。
導電部130を介してワークWと電源141とが電気的に接続することによって、電源141によって生成されたバイアス電圧がワークWに印加される。電源141によって生成されたバイアス電圧がワークWに印加されると、ワークWとターゲット121との間の電位差によってこれら間の気体がイオン化するとともにターゲット121に引き寄せられて衝突する。その結果、ターゲット121を構成する材料が原子または分子の状態で叩き出される。叩き出される原子または分子状態のターゲット121の構成材料(コーティング材料から放出される粒子)が、バイアス電圧が印加されたワークWに引き寄せられることによって、ワークWはコーティングされる。
導電部130が移動してブラシ146から離れ、絶縁部131がブラシ146に接すると、ワークWと電源141との電気的な接続が遮断されるため、ワークWのコーティングが停止する。
導電部130がワークWとともに移動してブラシ147に接し、またワークWがターゲット122と対向すると、ワークWがコーティングされる。導電部130が移動してブラシ147から離れるとコーティングが停止する。
導電部130がワークWとともに移動してブラシ148に接し、またワークWがターゲット123と対向すると、ワークWがコーティングされる。導電部130が移動してブラシ148から離れるとコーティングが停止する。
導電部130がワークWとともに移動してブラシ149に接し、またワークWがターゲット124と対向すると、ワークWがコーティングされる。導電部130が移動してブラシ149から離れるとコーティングが停止する。
ワークWがターゲット121、122、123、124に対向するときの各々で、ワークWを一時的に停止させてコーティングしてもよいが、ワークWを停止させることなく搬送しつつコーティングすることによって、量産性を向上できる。
ワークWに形成されるコーティング層の特性は、電源141、142、143、144の各々のバイアス電圧に応じて異なる。ターゲット121、122が同じ材料である例えばクロムによって形成されている場合でも、印加されるバイアス電圧の相違によって、異なる特性を有するコーティング層が形成される。印加されるバイアス電圧に応じて形成されるコーティング層の結晶構造が変化するため、コーティング層の特性が変わる。
電源141、142、143、144の各々のバイアス電圧は、コーティング層に付与する所望の特性に基づき設定される。例えば、電源141によって生成されるバイアス電圧は、コーティング層のうちワークWの表面に接する部分を形成する際に印加されるものであるため、コーティング層とワークWとの間の電気抵抗を低減したい場合、高い導電性を有するコーティング層が形成されるように設定される。
本実施形態の作用効果を述べる。
本実施形態のインライン式コーティング装置10およびインライン式コーティング方法は、複数のワークWを複数のターゲット121、122、123、124に対向するように搬送することによって、複数のワークWのコーティングを連続的に行うため、量産性に優れる。
本実施形態のインライン式コーティング装置10およびインライン式コーティング方法は、ワークWがターゲット121、122、123、124に対向するときの各々で異なるバイアス電圧を印加可能であるため、ターゲット121、122、123、124ごとに適切なバイアス電圧を印加できる。ターゲット121、122、123、124ごとに適切なバイアス電圧が印加されることによって、異なる特性を有するコーティング層の各々が良好に形成される。
本実施形態のインライン式コーティング装置10およびインライン式コーティング方法は、ワークWにボンバードメント処理が施されるとき、ワークWがターゲット121、122、123、124と対向するときと異なるバイアス電圧を印加可能であるため、ボンバードメント処理に適したバイアス電圧を印加できる。ボンバードメント処理に適したバイアス電圧が印加されることによって、ワークW表面の酸化膜が確実に除去される。
本実施形態のインライン式コーティング装置10およびインライン式コーティング方法は、バイアス電圧の印加およびその停止を、ワークWの搬送にともなう、導電部130を介したワークWと電圧印加部14との電気的接続、および導電部130の間でのワークWと電圧印加部14との電気的接続の遮断によって切り替える。このため、本実施形態のインライン式コーティング装置10およびインライン式コーティング方法は、ワークWを停止することなく搬送しつつバイアス電圧の印加およびその停止を行えるので、量産性に優れる。
<第2実施形態>
図2および図3に示すように、第2実施形態のインライン式コーティング装置20は、第1実施形態と異なる配置の電極211およびターゲット221、222、223、224を有する。また、第2実施形態では、ワークWのベルトコンベア13に載せられた状態が第1実施形態と異なる。これら以外については、本実施形態は第1実施形態と略同様である。図2および図3では第1実施形態と共通する構成については同一の符号を付し、また重複する説明を省略する。
図2に示すように、本実施形態の酸化膜除去部21においては、電極211はワークWに対しワークWの搬送方向と交差する方向の両側に配置される。本実施形態のコーティング部22においては、ターゲット221、222、223、224の各々は、ワークWに対しワークWの搬送方向と交差する方向の両側に配置される。ターゲット221、222、223、224の各々を構成する材料は、第1実施形態のターゲット121、122、123、124の各々を構成する材料と同様である。
ワークWは、厚み方向の両面が電極211およびターゲット221、222、223、224と対向するように立てられた状態で搬送される。ワークWの縁に嵌合するフレーム形状を有する治具23が、ワークWをベルトコンベア13上で立てた状態で支持する。治具23は導電性を有する。治具23は、ベルトコンベア13の導電部130とワークWとを電気的に接続する。
導電部130がワークWおよび治具23とともに移動してブラシ145に接し、またワークWが電極211に対向すると、ワークWにバイアス電圧が印加されてワークWがボンバードメント処理される。バイアス電圧は導電部130および治具23を介してワークWに印加される。
電極211がワークWの両面に対向するため、ワークWの両面がボンバードメント処理される。その結果、ワークWの両面の酸化膜が除去される。導電部130が移動してブラシ145から離れ、絶縁部131がブラシ145に接すると、ワークWと電源140との電気的な接続が遮断されるため、ボンバードメント処理が停止する。
導電部130がワークWおよび治具23とともに移動してブラシ146に接し、またワークWがターゲット221に対向すると、ワークWはコーティングされる。ターゲット221がワークWの両面に対向するため、ワークWの両面がコーティングされる。導電部130が移動してブラシ146から離れ、絶縁部131がブラシ146に接すると、ワークWと電源141との電気的な接続が遮断されるため、ワークWのコーティングが停止する。
導電部130が移動してブラシ147に接し、またワークWがターゲット222に対向すると、ワークWの両面がコーティングされる。導電部130がブラシ147から離れるとコーティングが停止する。
導電部130が移動してブラシ148に接し、またワークWがターゲット223に対向すると、ワークWの両面がコーティングされる。導電部130がブラシ148から離れるとコーティングが停止する。
導電部130が移動してブラシ149に接し、またワークWがターゲット224に対向すると、ワークWの両面がコーティングされる。導電部130がブラシ149から離れるとコーティングが停止する。
第1実施形態では、ベルトコンベア13の一端から他端までの一度の搬送でワークWの一方の面がコーティングされる。これに対し、本実施形態では、ターゲット221、222、223、224がワークWに対しワークWの搬送方向と交差する方向の両側に配置されており、この構成によって、一度の搬送でワークWの両面がコーティングされる。このため、本実施形態のインライン式コーティング装置20およびインライン式コーティング方法は、第1実施形態の効果に加え、量産性をさらに向上できるという効果を奏する。
また、第1実施形態では、一度の搬送でワークWの一方の面がボンバードメント処理されるのに対し、本実施形態では、一度の搬送でワークWの両面がボンバードメント処理される。このため、本実施形態のインライン式コーティング装置20およびインライン式コーティング方法は、第1実施形態の効果に加え、量産性をさらに向上できるという効果を奏する。
<第3実施形態>
図4に示すように、第3実施形態のインライン式コーティング装置30は、第1実施形態のベルトコンベア13の代わりに、搬送部として、回転するローラによってワークWを搬送するローラコンベア33を有する。他の構成については、本実施形態は第1実施形態と略同様である。図4では第1実施形態と共通する構成については同一の符号を付し、また重複する説明を省略する。
ローラコンベア33は、導電性を有するローラ330、331、332、333、334(導電部)を有する。ローラ330、331、332、333、334は例えば金属によって形成される。ローラ330は、電極111に対向する。ローラ331は、ターゲット121に対向する。ローラ332は、ターゲット122に対向する。ローラ333は、ターゲット123に対向する。ローラ334は、ターゲット124に対向する。
ローラコンベア33は、絶縁性を有するローラ335を有する。ローラ335は例えば樹脂によって形成される。ローラ335は、ローラ330よりもワークWの搬送方向上流側に配置される。ローラ335は、ローラ330とローラ331との間、ローラ331とローラ332との間、ローラ332とローラ333との間、およびローラ333とローラ334との間に配置される。ローラ335は、ローラ334よりもワークWの搬送方向下流側に配置される。ローラ330、331、332、333、334、335はモータによって回転する。
本実施形態の電圧印加部34は、ローラ330に摺接するブラシ345、ローラ331に摺接するブラシ346、ローラ332に摺接するブラシ347、ローラ333に摺接するブラシ348、およびローラ334に摺接するブラシ349を有する。
ワークWが搬送されてローラ330に達し、また電極111に対向すると、ワークWがボンバードメント処理される。ワークWはローラ330に接してローラ330と電気的に接続する。バイアス電圧はローラ330を介してワークWに印加される。ワークWがローラ330を離れてローラ335に移動すると、ワークWと電源140との電気的な接続が遮断されるため、ボンバードメント処理が停止する。
ワークWが搬送されてローラ331に達し、またターゲット121に対向すると、ワークWがコーティングされる。ワークWはローラ331に接してローラ331と電気的に接続する。バイアス電圧はローラ331を介してワークWに印加される。ワークWがローラ331を離れてローラ335に移動すると、ワークWと電源141との電気的な接続が遮断されるため、ワークWのコーティングが停止する。
ワークWが搬送されてローラ332に達し、またターゲット122に対向すると、ワークWがコーティングされる。ワークWはローラ332に接してローラ332と電気的に接続する。バイアス電圧はローラ332を介してワークWに印加される。ワークWがローラ332を離れてローラ335に移動すると、ワークWと電源142との電気的な接続が遮断されるため、コーティングが停止する。
ワークWが搬送されてローラ333に達し、またワークWがターゲット123に対向すると、ワークWがコーティングされる。ワークWはローラ333に接してローラ333と電気的に接続する。バイアス電圧はローラ333を介してワークWに印加される。ワークWがローラ333を離れてローラ335に移動すると、ワークWと電源143との電気的な接続が遮断されるため、コーティングが停止する。
ワークWが搬送されてローラ334に達し、またワークWがターゲット124に対向すると、ワークWがコーティングされる。ワークWはローラ334に接してローラ334と電気的に接続する。バイアス電圧はローラ334を介してワークWに印加される。ワークWがローラ334を離れてローラ335に移動すると、ワークWと電源144との電気的な接続が遮断されるため、コーティングが停止する。
本実施形態はローラコンベア33がワークWを搬送する点で第1実施形態と異なるが、ローラコンベア33は第1実施形態のベルトコンベア13と同様に機能する。このため、本実施形態のインライン式コーティング装置30およびインライン式コーティング方法は、第1実施形態と同様の効果を奏する。
<第4実施形態>
図5に示すように、第4実施形態のインライン式コーティング装置40は、第2実施形態のベルトコンベア13の代わりに、搬送部として、ワークWを吊り下げた状態で搬送するチェーンコンベア43を有する。他の構成については、本実施形態は第2実施形態と略同様である。図5では第2実施形態と共通する構成については同一の符号を付し、また重複する説明を省略する。
チェーンコンベア43は、レール433、ワークWをレール433に対して移動可能に支持する支持部材430(導電部)、および支持部材430に接続したチェーン434を有する。支持部材430とチェーン434とは絶縁されている。チェーン434は支持部材430同士を連結している。チェーン434が引っ張られることによって、支持部材430がレール433に沿って移動し、またワークWが搬送される。チェーン434を引っ張る駆動源は例えばモータである。
支持部材430は、レール433に移動可能に取り付けられたレール取付部431と、レール取付部431に接続した、ワークWを吊り下げる吊り下げ部432と、を有する。レール取付部431は、例えば、レール433に引掛けられるように構成されるとともに、レール433に沿って転動する車輪を含む。吊り下げ部432は、ワークWの周縁に嵌合するフレーム形状を有する。支持部材430は導電性を有する。支持部材430はワークWと電気的に接続している。
本実施形態の電圧印加部44は、支持部材430に摺接するブラシ445、446、447、448、449を有する。電源140とブラシ445とは電気的に接続している。電源140と電極211とは電気的に接続している。電源141とブラシ446とは電気的に接続している。電源141とターゲット221とは電気的に接続している。電源142とブラシ447とは電気的に接続している。電源142とターゲット222とは電気的に接続している。電源143とブラシ448とは電気的に接続している。電源143とターゲット223とは電気的に接続している。電源144とブラシ449とは電気的に接続している。電源144とターゲット224とは電気的に接続している。
支持部材430がレール433に沿って移動してブラシ445に接し、またワークWが電極211に対向するとワークWがボンバードメント処理される。電極211はワークWの両面に対向するように配置されているため、ワークWの両面がボンバードメント処理される。支持部材430はブラシ445に接してブラシ445と電気的に接続する。バイアス電圧は支持部材430を介してワークWに印加される。支持部材430が移動してブラシ445から離れると、支持部材430と支持部材430との間ではワークWと電源140との電気的な接続が遮断されるため、ボンバードメント処理が停止する。
支持部材430がレール433に沿って移動してブラシ446に接し、またワークWがターゲット221に対向すると、ワークWがコーティングされる。ターゲット221はワークWの両面に対向するように配置されているため、ワークWの両面がコーティングされる。支持部材430はブラシ446に接してブラシ446と電気的に接続する。支持部材430が移動してブラシ446から離れると、支持部材430と支持部材430との間では、ワークWと電源141との電気的な接続が遮断されるため、コーティングが停止する。
支持部材430が移動してブラシ447に接し、またワークWがターゲット222に対向すると、ワークWの両面がコーティングされる。支持部材430が移動してブラシ447から離れるとコーティングが停止する。
支持部材430が移動してブラシ448に接し、またワークWがターゲット223に対向すると、ワークWの両面がコーティングされる。支持部材430が移動してブラシ448から離れるとコーティングが停止する。
支持部材430が移動してブラシ449に接し、またワークWがターゲット224に対向すると、ワークWの両面がコーティングされる。支持部材430が移動してブラシ449から離れるとコーティングが停止する。
本実施形態は、チェーンコンベア43がワークWを吊り下げた状態で搬送する点で第2実施形態と異なるが、チェーンコンベア43は第2実施形態のベルトコンベア13および治具23と同様に機能する。このため、本実施形態のインライン式コーティング装置40およびインライン式コーティング方法は、第2実施形態と同様の効果を奏する。
<第5実施形態>
図6において概説すると、第5実施形態のインライン式コーティング装置50は、第4実施形態と同様、吊り下げられたワークW2を搬送しつつコーティングするが、ワークW2の形状およびワークW2を搬送する搬送部の構成が第4実施形態と異なる。図6では第4実施形態と共通する構成については同一の符号を付す。
搬送部は、ワークW2の搬送方向に伸びる線状部材53を有する。線状部材53は、例えばモータ等を備える駆動装置によって牽引されて長手方向に移動する。ワークW2は、線状部材53とともに移動する。線状部材53は、ワークW2が吊り下げられるケーブル530と、ケーブル530の間に設けられた絶縁体531と、を有する。隣接するワークW2同士は、絶縁体531によって絶縁される。
図7に示すように、ワークW2は、端部が曲げられて形成された曲部W21(引掛部)を有する点で、他の実施形態のワークWと異なる。ワークW2は、曲部W21によってケーブル530に引っ掛けられて吊り下げられる。曲部W21は、ターゲット221、222、223、224に対して露出しないようにケーブル530を覆い隠す。
図6に示すように、本実施形態の電圧印加部54は、ワークW2の搬送にともなって絶縁体531および曲部W21に交互に摺接するブラシ545、546、547、548、549を有する。電極211およびターゲット221、222、223、224、ならびに電源140、141、142、143、144は、第4実施形態と同様である。
ブラシ545は電源140と電気的に接続する。ブラシ546は電源141と電気的に接続する。ブラシ547は電源142と電気的に接続する。ブラシ548は電源143と電気的に接続する。ブラシ549は電源144と電気的に接続する。
ワークW2が搬送されブラシ545が曲部W21に接するとき、電極211がワークW2と対向するとともに、ブラシ545とワークW2とが電気的に接続してバイアス電圧がワークW2に印加される。
ワークW2が搬送されブラシ546が曲部W21に接するとき、ターゲット221がワークW2と対向するとともに、ブラシ546とワークW2とが電気的に接続してバイアス電圧がワークW2に印加される。
ワークW2が搬送されブラシ547が曲部W21に接するとき、ターゲット222がワークW2と対向するとともに、ブラシ547とワークW2とが電気的に接続してバイアス電圧がワークW2に印加される。
ワークW2が搬送されブラシ548が曲部W21に接するとき、ターゲット223がワークW2と対向するとともに、ブラシ548とワークW2とが電気的に接続してバイアス電圧がワークW2に印加される。
ワークW2が搬送されブラシ549が曲部W21に接するとき、ターゲット224がワークW2と対向するとともに、ブラシ549とワークW2とが電気的に接続してバイアス電圧がワークW2に印加される。
ワークW2が電極211およびターゲット221、222、223、224に対向するときのそれぞれで、異なるバイアス電圧がワークW2に印加される。ワークW2は電極211に対向するとき両面同時にボンバードメント処理される。ワークW2はターゲット221、222、223、224に対向するときのそれぞれで両面同時にコーティングされる。
図8に示すように、曲部W21は、コーティング後、不要となるため取り除かれ、固体高分子形燃料電池で用いられるセパレータSが形成される。曲部W21は、例えば刃Bまたはレーザを用いた切断によって取り除かれる。
セパレータSは、ワークW2である基材S1、ならびに基材S1の表面に形成されたコーティング層S2およびコーティング層S3を有する。
基材S1を形成する材料は、例えば、鉄、チタン、およびアルミニウム、並びにこれらの合金である。鉄合金にはステンレスが含まれる。
コーティング層S2は、ワークW2がターゲット221およびターゲット222を通過する際に形成される。コーティング層S2は、ターゲット221を通過する際に形成される層と、ターゲット222を通過する際に形成される層と、が重なり合った2層構造を有する。バイアス電圧を変えることによって、これら2層の各々の特性を変えられる。
コーティング層S2を形成する材料は、例えば、クロム(Cr)、タングステン(W)、チタン(Ti)、モリブデン(Mo)、ニオブ(Nb)もしくはハフニウム(Hf)、またはこれらの窒化物、炭化物もしくは炭窒化物であるが、これに限定されない。コーティング層S2を形成する材料は、ターゲット221、222を形成する材料を変えることによって変えられる。
コーティング層S3は、ワークW2がターゲット223およびターゲット224を通過する際に形成される。コーティング層S3は、ターゲット223を通過する際に形成される層と、ターゲット224を通過する際に形成される層と、が重なり合った2層構造を有する。バイアス電圧を変えることによって、これら2層の各々の特性、例えば導電性や硬度を変えられる。
コーティング層S3は、例えば、DLC(Diamond−Like−Carbon;ダイヤモンドライクカーボン)によって形成されるが、これに限定されない。コーティング層S3を形成する材料は、ターゲット223、224を形成する材料を変えることによって変えられる。
基材S1およびセパレータSは、図9に示す平面視において矩形形状を有する。矩形形状の外周の一辺を構成する端面S4は、他の残りの辺を構成する端面S5、S6、S7と異なる性状を有する。
図8および図9に示すように、端面S4は、端面S5、S6、S7と異なり、基材S1の端部である曲部W21を切断して形成される切断面である。一方、端面S5、S6、S7では、コーティングの際にコーティング材料が基材S1の端面に付着する。このため、切断面である端面S4では、コーティング材料が付着せず基材S1が露出する割合が、端面S5、S6、S7に比べ大きい。
端面S4が他の残りの辺を構成する端面S5、S6、S7と異なる性状を有するとは、このように基材S1の端面の露出する割合が異なる形態に限定されない。例えば、図9に示す平面視において、端面S4が直線形状ではなく他の端面S5、S6、S7と異なる形状を有する形態を含む。
本実施形態では、ワークW2にバイアス電圧が印加される際にターゲット221、222、223、224と対向するケーブル530をワークW2が覆い隠す。このため、搬送部へのコーティング材料の付着が防止され、搬送部に付着した不要なコーティング材料をブラスト処理等によって除去するメンテナンスの手間が減る。従って、本実施形態は第4実施形態の効果に加え量産性をより向上できるという効果を奏する。なお、ワークW2にバイアス電圧が印加される際、絶縁体531はターゲット221、222、223、224から外れているため、絶縁体531にコーティング材料が堆積しない。
搬送部へのコーティング材料の付着が防止される結果、そのコーティング材料が剥がれて異物としてワークW2に付着することが防止される。従って良品の割合が増す。
曲部W21がケーブル530に引っ掛けられるため、曲部W21を通じ、搬送されるワークW2に対しターゲット221、222、223、224に応じた適切なバイアス電圧を印加できる。
ワークW2をケーブル530に引っ掛けて搬送するため、搬送部がワークW2を吊り下げる治具を備える必要がなく、従って搬送部の構成を簡単にできる。また、ワークW2を吊り下げる治具にワークW2をセットする手間がかからず、作業が容易である。
<第6実施形態>
図10において概説すると、第6実施形態のインライン式コーティング装置60では、搬送部としてのベルトコンベア63の構成およびベルトコンベア63上のワークWの配置が第1実施形態と異なる。他の構成については、本実施形態は第1実施形態と略同様である。図10では第1実施形態と共通する構成については同一の符号を付す。
ベルトコンベア63は、搬送方向に交互に並んで設けられた導電部630および絶縁体631を備える。導電部630および絶縁体631はベルトを構成する。導電部630は例えば金属によって形成される。絶縁部631は例えば樹脂によって形成される。導電部630は平板形状を有する。絶縁体631は導電部630の厚み方向に突出している。隣り合う導電部630同士は、絶縁体631によって絶縁されている。
ワークWは、搬送方向に互いに離間した隣り合う絶縁体631の間で、一端を一方の絶縁体631の側部に突き当て他端を他方の絶縁体631の上に載せるようにして斜めに配置される。隣り合うワークW同士は、絶縁体631によって絶縁されている。ワークWは導電部630に接し、導電部630と電気的に接続している。
導電部630が移動しブラシ145に接すると、導電部630を介して電源140からワークWにバイアス電圧が印加され、ワークWがボンバードメント処理される。導電部630が移動しブラシ146に接すると、導電部630を介して電源141からワークWにバイアス電圧が印加され、ワークWがコーティングされる。導電部630が移動しブラシ147に接すると、導電部630を介して電源142からワークWにバイアス電圧が印加され、ワークWがコーティングされる。導電部630が移動しブラシ148に接すると、導電部630を介して電源143からワークWにバイアス電圧が印加され、ワークWがコーティングされる。導電部630が移動しブラシ149に接すると、導電部630を介して電源144からワークWにバイアス電圧が印加され、ワークWがコーティングされる。
ワークWは、導電部630および絶縁体631を覆い隠す。ベルトの面に直交する方向に投影した搬送方向におけるワークWの大きさは、導電部630および絶縁体631の搬送方向における幅L1と略等しい。また、図11に示すように、搬送方向に直交しかつベルトの面に平行な方向において、ワークWの大きさはベルトの幅L2以上である。
このように、本実施形態では、ワークWがターゲット121、122、123、124に対向するベルトの上面全体を覆い隠すため、コーティングの際、ベルトコンベア63へのコーティング材料の付着が防止される。従って、本実施形態よれば、第5実施形態と同様、装置のメンテナンスが容易で、また良品の割合が増す。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲の範囲内で種々改変できる。
例えば、上記実施形態ではスパッタリング法によってワークがコーティングされたが、これに限定されず、ワークにバイアス電圧を印加してコーティングする例えばイオンプレーティング法等の他の方法によってワークがコーティングされてもよい。イオンプレーティング法の場合、上記実施形態のターゲット121〜124、221〜224の代わりに、電子ビーム等を用いた加熱によってコーティング材料を蒸発させて気体粒子を放出する蒸発源が用いられる。
また、酸化膜除去部ではボンバードメント処理によってワーク表面の酸化膜が除去されればよく、上記実施形態の電極111、211の代わりに、加速したイオンをワークに向かって放出するイオン銃が酸化膜除去部に備えられてもよい。
さらに、本出願は、2012年10月1日に出願された日本特許出願番号2012−219459号、および2013年7月4日に出願された日本特許出願番号2013−140834号に基づいており、それらの開示内容は、参照され、全体として組み入れられている。
10、20、30、40、50、60 インライン式コーティング装置、
11、21、31、41、51、61 酸化膜除去部、
12、22、32、42、52、62 コーティング部、
13 ベルトコンベア(搬送部)、
14、34、44 電圧印加部、
33 ローラコンベア(搬送部)、
43 チェーンコンベア(搬送部)、
53 線状部材、
111 電極、
121、122、123、124 ターゲット(コーティング材料)、
130 導電部、
211 電極、
221、222、223、224 ターゲット(コーティング材料)、
330、331、332、333、334 ローラ、
430 支持部材、
530 ケーブル、
531 絶縁体、
630 導電部、
631 絶縁体、
B 刃、
W、W2 ワーク、
W21 曲部(引掛部)、
S セパレータ、
S1 基材、
S2 コーティング層、
S3 コーティング層、
S4 端面(切断面)、
S5 端面、
S6 端面、
S7 端面。

Claims (15)

  1. 燃料電池用セパレータである複数のワークを搬送する搬送部と、
    前記ワークの搬送方向に沿って前記ワークに対向するように配置された複数のコーティング材料を有するコーティング部と、
    当該コーティング部に対し前記ワークの搬送方向上流側に設けられ、ボンバードメント処理によって前記ワークの表面の酸化膜を除去する酸化膜除去部と、
    前記ワークが搬送されて前記コーティング材料と対向するとき、前記コーティング材料から放出される粒子を前記ワークに引き寄せるバイアス電圧を前記ワークに印加する電圧印加部と、を有し、
    前記コーティング部において、複数の前記ワークに複数の前記コーティング材料が連続的にコーティングされ、前記電圧印加部は、前記ワークが一の前記コーティング材料に対向しているときと、当該ワークが他のコーティング材料に対向しているときとで、異なる前記バイアス電圧を前記ワークに印加可能である、インライン式コーティング装置。
  2. 前記電圧印加部は、前記酸化膜除去部において前記ワークにボンバードメント処理が施されるとき、前記コーティング部において前記ワークが前記コーティング材料と対向するときと異なるバイアス電圧を前記ワークに印加可能である、請求項1に記載のインライン式コーティング装置。
  3. 前記ワークへの前記バイアス電圧の印加およびその停止は、前記ワークの搬送にともなう、前記ワークと前記電圧印加部との電気的な接続、および前記ワークと前記電圧印加部との電気的な接続の遮断によって切り替えられる、請求項1または請求項2に記載のインライン式コーティング装置。
  4. 前記ワークは、前記搬送部における、前記バイアス電圧が印加される際に前記コーティング材料と対向する箇所を覆い隠す、請求項1〜請求項3のうちのいずれか1つに記載のインライン式コーティング装置。
  5. 前記搬送部は、前記ワークの搬送方向に伸びる線状部材を有し、前記ワークは、当該ワークの一部が前記線状部材に引っ掛けられて搬送されるとともに、前記線状部材に引っ掛る引掛部によって、前記線状部材のうち、前記バイアス電圧が印加される際に前記コーティング材料と対向する箇所を覆い隠す、請求項4に記載のインライン式コーティング装置。
  6. 前記コーティング材料は、前記ワークに対し前記ワークの搬送方向と交差する方向の両側に配置される、請求項1〜請求項5のうちのいずれか1つに記載のインライン式コーティング装置。
  7. 燃料電池用セパレータである複数のワークを搬送するとともに、前記ワークにバイアス電圧を印加してボンバードメント処理を施すことによって前記ワーク表面の酸化膜を除去する酸化膜除去工程と、
    当該酸化膜除去工程後、前記ワークの搬送方向下流側で前記ワークの搬送方向に沿って整列した複数のコーティング材料に対向するように複数の前記ワークを搬送するとともに、前記コーティング材料に前記ワークが対向しているとき、前記コーティング材料から放出される粒子を、前記ワークに印加されるバイアス電圧によって前記ワークに引き寄せてコーティングするコーティング工程と、を有し、
    当該コーティング工程において、複数の前記ワークに複数の前記コーティング材料が連続的にコーティングされ、前記ワークが一の前記コーティング材料に対向しているときと、当該ワークが前記一のコーティング材料と異なる他のコーティング材料に対向しているときとで、異なる前記バイアス電圧が前記ワークに印加される、インライン式コーティング方法。
  8. 前記酸化膜除去工程において、前記コーティング工程で前記ワークに印加される前記バイアス電圧と異なるバイアス電圧が前記ワークに印加される、請求項7に記載のインライン式コーティング方法。
  9. 前記ワークへの前記バイアス電圧の印加およびその停止は、前記ワークの搬送にともなう、前記ワークと前記バイアス電圧を印加する電圧印加部との電気的な接続、および前記ワークと前記電圧印加部との電気的な接続の遮断によって切り替えられる、請求項7または請求項8に記載のインライン式コーティング方法。
  10. 前記ワークによって、当該ワークを搬送する搬送部における、前記バイアス電圧が印加される際に前記コーティング材料と対向する箇所を覆い隠す、請求項7〜請求項9のうちのいずれか1つに記載のインライン式コーティング方法。
  11. 前記搬送部に備えられた前記ワークの搬送方向に伸びる線状部材に引っ掛けて前記ワークを搬送するとともに、前記ワークに設けられた前記線状部材に引っ掛る引掛部によって、前記線状部材のうち、前記バイアス電圧が印加される際に前記コーティング材料と対向する箇所を覆い隠す、請求項10に記載のインライン式コーティング方法。
  12. 前記コーティング工程において、前記ワークは、前記ワークに対し前記ワークの搬送方向と交差する方向の両側に配置された前記コーティング材料の間を搬送される、請求項7〜請求項11のうちのいずれか1つに記載のインライン式コーティング方法。
  13. 燃料電池用セパレータである複数のワークを搬送する搬送部と、
    前記ワークの搬送方向に沿って前記ワークに対向するように配置された複数のコーティング材料を有するコーティング部と、
    前記搬送部により搬送された前記ワークが前記コーティング部のコーティング材料と対向すると、該コーティング材料から放出される粒子を前記ワークに引き寄せるバイアス電圧を前記ワークに印加する電圧印加部と、
    を備えるインライン式コーティング装置において、
    前記コーティング部は、前記ワークに複数のコーティング材料を連続的にコーティングし、
    前記電圧印加部は、前記ワークが一の前記コーティング材料に対向している時と、当該ワークが他のコーティング材料に対向している時とで、異なるバイアス電圧をワークに印加する
    事を特徴とするインライン式コーティング装置
  14. 前記コーティング部よりワーク搬送方向上流側に酸化膜除去部を設けたことを特徴とする請求項13に記載のインライン式コーティング装置
  15. 前記酸化膜除去部はボンバード処理によって前記ワークの表面の酸化膜を除去することを特徴とする請求項14に記載のインライン式コーティング装置
JP2014539732A 2012-10-01 2013-09-30 インライン式コーティング装置、インライン式コーティング方法、およびセパレータ Expired - Fee Related JP5999190B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012219459 2012-10-01
JP2012219459 2012-10-01
JP2013140834 2013-07-04
JP2013140834 2013-07-04
PCT/JP2013/076570 WO2014054587A1 (ja) 2012-10-01 2013-09-30 インライン式コーティング装置、インライン式コーティング方法、およびセパレータ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2014054587A1 JPWO2014054587A1 (ja) 2016-08-25
JP5999190B2 true JP5999190B2 (ja) 2016-09-28

Family

ID=50434914

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014539732A Expired - Fee Related JP5999190B2 (ja) 2012-10-01 2013-09-30 インライン式コーティング装置、インライン式コーティング方法、およびセパレータ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10941483B2 (ja)
EP (1) EP2905355B1 (ja)
JP (1) JP5999190B2 (ja)
CN (1) CN104704140B (ja)
CA (1) CA2886976C (ja)
WO (1) WO2014054587A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015116738A1 (de) * 2015-10-02 2017-04-06 Von Ardenne Gmbh Substratträger, Transportsystemanordnung und Substratbehandlungsanlage
JP6614482B2 (ja) * 2015-10-06 2019-12-04 日産自動車株式会社 燃料電池の製造方法および燃料電池の製造装置
JP6512579B2 (ja) * 2015-10-06 2019-05-15 日産自動車株式会社 燃料電池の製造方法および燃料電池の製造装置
JP6379318B1 (ja) * 2017-06-14 2018-08-22 株式会社アルバック 成膜装置及び成膜方法並びに太陽電池の製造方法
DE102018115404A1 (de) 2018-06-27 2020-01-02 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Bauteils mittels physikalischer Gasphasenabscheidung

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2844491C2 (de) * 1978-10-12 1983-04-14 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Vakuum-Beschichtungsanlage mit einer Einrichtung zum kontinuierlichen Substrattransport
JPS6389660A (ja) 1986-10-01 1988-04-20 Konica Corp 蛍光体蒸着装置
JPH07334843A (ja) 1994-06-03 1995-12-22 Fuji Electric Co Ltd 磁気記録媒体の製造方法
JP3732250B2 (ja) * 1995-03-30 2006-01-05 キヤノンアネルバ株式会社 インライン式成膜装置
JP3002632B2 (ja) * 1995-06-22 2000-01-24 ホーヤ株式会社 磁気記録媒体の製造方法及び基板ホルダ
US6726993B2 (en) * 1997-12-02 2004-04-27 Teer Coatings Limited Carbon coatings, method and apparatus for applying them, and articles bearing such coatings
JP4227720B2 (ja) 2000-06-21 2009-02-18 キヤノンアネルバ株式会社 情報記録ディスク製造装置及び製造方法並びにプラズマアッシング方法
US6886244B1 (en) 2002-02-25 2005-05-03 Seagate Technology Llc Segmented pallet for disk-shaped substrate electrical biassing and apparatus comprising same
WO2004013373A2 (en) * 2002-08-02 2004-02-12 Seagate Technology Llc Apparatus and method to control bias during sputtering
JP4671579B2 (ja) 2002-12-16 2011-04-20 株式会社アルバック Ag合金反射膜およびその製造方法
JP2005190968A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Daido Steel Co Ltd 燃料電池用金属セパレータ、燃料電池用金属セパレータの製造方法及び燃料電池
WO2006028184A1 (ja) * 2004-09-10 2006-03-16 Neomax Materials Co., Ltd. 燃料電池用セパレータおよびその製造方法
JP4657959B2 (ja) * 2006-03-20 2011-03-23 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 成膜装置及び磁気ディスクの製造方法
US8440301B2 (en) * 2006-07-13 2013-05-14 Teer Coatings Limited Coating apparatus and method
US20080085439A1 (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Hilliard Donald B Solid oxide electrolytic device
JP5262150B2 (ja) 2008-02-05 2013-08-14 日産自動車株式会社 燃料電池用金属セパレータの製造方法および製造装置
DE102009004493B3 (de) 2009-01-09 2010-06-10 Sovello Ag Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zum Betrieb einer Vakuumbeschichtungsanlage
JP2010272490A (ja) 2009-05-25 2010-12-02 Nissan Motor Co Ltd 燃料電池構成部品用表面処理部材ならびにその製造方法
KR101242986B1 (ko) * 2010-03-22 2013-03-12 현대하이스코 주식회사 연료전지용 금속 분리판 제조 방법
JP5712518B2 (ja) 2010-07-16 2015-05-07 日産自動車株式会社 導電部材の製造方法
JP5656019B2 (ja) * 2011-03-08 2015-01-21 日産自動車株式会社 被膜形成装置
GB201203219D0 (en) * 2012-02-24 2012-04-11 Teer Coatings Ltd Coating with conductive and corrosion resistance characteristics

Also Published As

Publication number Publication date
EP2905355A1 (en) 2015-08-12
WO2014054587A1 (ja) 2014-04-10
CN104704140B (zh) 2019-03-12
CA2886976C (en) 2020-01-21
JPWO2014054587A1 (ja) 2016-08-25
US10941483B2 (en) 2021-03-09
CA2886976A1 (en) 2014-04-10
CN104704140A (zh) 2015-06-10
US20150240346A1 (en) 2015-08-27
EP2905355A4 (en) 2015-11-11
EP2905355B1 (en) 2018-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5999190B2 (ja) インライン式コーティング装置、インライン式コーティング方法、およびセパレータ
JP6724967B2 (ja) プラズマを使った前処理装置を有した蒸着装置
EP2383366A1 (en) Method for producing diamond-like carbon membrane
WO2018186038A1 (ja) 成膜装置及び成膜方法
JP2009024205A (ja) プラズマcvd装置
JP5929835B2 (ja) 長尺樹脂フィルムの表面処理装置及び表面処理方法、並びに該表面処理装置を備えたロールツーロール成膜装置
CN1867692A (zh) 用于镀覆表面的模块化装置
CN111699277B (zh) 沉积设备、涂覆柔性基板的方法和具有涂层的柔性基板
JP4601387B2 (ja) 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置
JP4687721B2 (ja) プラスチックフィルム用加熱搬送装置
KR102156989B1 (ko) 진공 아크 성막 장치 및 성막 방법
JP4613045B2 (ja) 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置
JP2008007837A (ja) スパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法
JP5112548B1 (ja) スパッタリング装置およびその成膜方法
US10184171B2 (en) Sputtering apparatus and method thereof
JP4211757B2 (ja) 金属膜形成方法
US20100175988A1 (en) Apparatus and method for making sputtered films with reduced stress asymmetry
JP2021527170A (ja) フレキシブル基板を誘導するためのローラデバイス、フレキシブル基板を搬送するためのローラデバイスの使用、真空処理装置、及びフレキシブル基板を処理する方法
JP5042206B2 (ja) 基板搬送装置及びこれを用いた成膜装置
WO2021112089A1 (ja) マグネトロンスパッタリング成膜装置
JP2009024206A (ja) プラズマcvd装置
KR20170137875A (ko) 기판 제전 기구 및 이것을 사용한 진공 처리 장치
WO2019039070A1 (ja) 成膜方法
KR20070067357A (ko) 스퍼터링 증착 장치
KR20160130666A (ko) 마그네트론 스퍼터링 증착 장치 및 증착 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160531

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160708

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160802

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160815

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5999190

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees