DE102015116738A1 - Substratträger, Transportsystemanordnung und Substratbehandlungsanlage - Google Patents

Substratträger, Transportsystemanordnung und Substratbehandlungsanlage Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft einen Substratträger mit einer beweglichen Tragstruktur zum kraftübertragenden Kontakt mit einer Transporteinrichtung oder/und mit einer Verbindungsstruktur zum kraftübertragenden Kontakt mit einem anderen Substratträger oder/und mit einer das Schwingungsverhalten des Substratträgers beeinflussenden Struktur, eine Transportsystemanordnung mit einem Substratträger und eine Substratbehandlungsanlage mit einer Transportsystemanordnung.

Description

  • Die Erfindung betrifft einen Substratträger, eine Transportsystemanordnung mit einem Substratträger und eine Substratbehandlungsanlage mit einer Transportsystemanordnung.
  • Substratbehandlungsanlagen, beispielsweise zur einseitigen oder mehrseitigen Beschichtung von Substraten mit Systemen und Einrichtungen zum Halten und Transportieren zu behandelnder Substrate sind bekannt. Die Substrate können dabei mit oder ohne einen Substratträger in oder durch eine Substratbehandlungsanlage bewegt werden.
  • Wichtig ist dabei in vielen Fällen ein möglichst schwingungsarmer Transport der Substratträger bzw. der Substrate durch die Substratbehandlungsanlage, insbesondere bei hohen Transportgeschwindigkeiten. Üblicherweise werden die Substratträger in vertikal arbeitenden Substratbehandlungsanlagen am unteren Ende vertikal gestützt und angetrieben, während am oberen Ende durch eine entsprechende Vorrichtung das seitliche Abkippen verhindert wird. Bei sehr dünnem Substratträger besteht bei dem erwähnten Transportkonzept zusätzlich die Gefahr des Knickens und/oder Beulens infolge des Eigengewichts des Substratträgers. Des Weiteren ist die Länge eines Substratträgers oft größer als die Ausdehnung eines Prozessbereichs oder einer Behandlungskammer in der Transportrichtung, so dass im Fall einer Störung des Transports und eventuell notwendiger Entnahme eines Substratträgers aus dem Prozessbereich der Substratbehandlungsanlage dies nur mit deutlichem Aufwand möglich ist.
  • Ein Ziel ist die Gestaltung eines Substratträgers zur Aufnahme eines oder mehrerer zu behandelnder Substrate, der auch bei extrem dünner Ausführung nicht knickt und/oder ausbeult. Ein Ziel ist die Gestaltung eines Substratträgers zur Aufnahme eines oder mehrerer zu behandelnder Substrate, der, falls notwendig, mit nur wenigen Handgriffen aus dem Prozessbereich der Substratbehandlungsanlage zu entnehmen ist. Ein Ziel ist die Gestaltung eines Substratträgers zur Aufnahme eines oder mehrerer zu behandelnder Substrate, der das oder die Substrate schwingungsarm durch eine Substratbehandlungsanlage bewegen kann.
  • Substrate in diesem Sinne können beispielsweise Glasscheiben, Halbleiterscheiben oder andere zu behandelnde Objekte sein. Die beabsichtigte Behandlung der Substrate kann beispielsweise die Plasmabehandlung, die Erhitzung oder Abkühlung, die Reinigung, die Oberflächenaktivierung, die Oberflächenbeschichtung und dergleichen mehr sowie Kombinationen der obigen Behandlungsarten umfassen.
  • Derartige Substratbehandlungen können beispielsweise in einer natürlichen Atmosphärenumgebung, im Vakuum, in einer Arbeitsgasatmosphäre, in einer Inertgasatmosphäre usw. erfolgen. Die Druckbedingungen, Temperaturbedingungen und die Zusammensetzung anwesender Gase können dabei abhängig von der konkreten Substratbehandlung in weiten Bereichen schwanken.
  • Derartige Substratbehandlungen können beispielsweise in speziell dafür vorgesehenen Substratbehandlungsanlagen durchgeführt werden.
  • Substratbehandlungsanlagen können in verschiedenen Ausgestaltungen beispielsweise eine Anlagenkammer aufweisen, in der die Substratbehandlung erfolgt. Dabei kann eine Anlagenkammer in verschiedenen Ausgestaltungen durch einen einzelnen von Kammerwänden begrenzten Behälter (physische Kammer) gebildet sein. In verschiedenen Ausführungsformen weist eine Substratbehandlungsanlage eine Anlagenkammer auf, die aus zwei oder mehr miteinander verbundenen Behältern zusammengefügt sind, welche jeweils von Kammerwänden begrenzt sind. Innerhalb einer Anlagenkammer kann es in verschiedenen Ausgestaltungen zwei oder mehr funktionelle Bereiche (funktionelle Kammer) geben. Solche funktionellen Bereiche können beispielsweise Schleusenbereiche, Transferbereiche, Pumpbereiche, Behandlungsbereiche usw. sein, je nachdem, welche Funktion sie in der Substratbehandlungsanlage haben. Eine funktionelle Kammer kann sich in verschiedenen Ausgestaltungen in einer physischen Kammer befinden oder über zwei oder mehr physische Kammern erstrecken. In gleicher Weise können in verschiedenen Ausgestaltungen in einer physischen Kammer auch zwei oder mehr funktionelle Kammern angeordnet sein.
  • In der Anlagenkammer kann in verschiedenen Ausgestaltungen mindestens eine Substratbehandlungseinrichtung, beispielsweise eine Beschichtungseinrichtung, eine Ätzeinrichtung, eine Heizeinrichtung oder dergleichen angeordnet. Soll die beabsichtigte Substratbehandlung unter einem gegenüber dem Atmosphärendruck geringeren Druck stattfinden, so weist die Substratbehandlungsanlage in verschiedenen Ausgestaltungen mindestens eine Vakuumpumpe zum Evakuieren der Anlagenkammer auf. Werden für die beabsichtigte Substratbehandlung spezielle Gase, beispielsweise Reaktivgase oder Inertgase benötigt, so weist die Substratbehandlungsanlage in verschiedenen Ausgestaltungen mindestens eine Gaszufuhr auf.
  • Je nach der Betriebsart der Substratbehandlungsanlage werden diskontinuierlich arbeitende und kontinuierlich arbeitende Substratbehandlungsanlagen unterschieden. Bei kontinuierlichen Substratbehandlungsanlagen können in verschiedenen Ausgestaltungen beispielsweise eine Eingangsschleuse zum Einbringen von Substraten in die Anlagenkammer und eine Ausgangsschleuse zum Ausbringen von Substraten aus der Anlagenkammer vorhanden sein. Diese können in verschiedenen Ausgestaltungen beispielsweise an entgegengesetzten Enden der Anlagenkammer oder beispielsweise an einem Ende der Anlagenkammer nebeneinander angeordnet sein, so dass die Substratbehandlung im sogenannten Durchlaufverfahren erfolgen kann.
  • Je nach der Lage des oder der Substrate bzw. des oder der Substrathalter in der Substratbehandlungsanlage werden horizontale und vertikale Substratbehandlungsanlagen unterschieden.
  • Um das oder die Substrate bzw. den oder die Substratträger in die Anlagenkammer hinein und aus der Anlagenkammer heraus bewegen zu können, ist in der Anlagenkammer in verschiedenen Ausgestaltungen eine Transporteinrichtung angeordnet. Mit einer solchen Transporteinrichtung werden das oder die Substrate bzw. der oder die Substratträger entweder in den Wirkungsbereich einer oder mehrerer Substratbehandlungseinrichtungen bewegt oder durch den Wirkungsbereich einer oder mehrerer Substratbehandlungseinrichtungen hindurch bewegt. Dabei kann die Transporteinrichtung in verschiedenen Ausgestaltungen entweder zum direkten Transport eines oder mehrerer Substrate oder zum Transport eines oder mehrerer Substratträger, die jeweils eines oder mehrere Substrate halten, ausgebildet sein. Eine Transporteinrichtung bildet in verschiedenen Ausgestaltungen gemeinsam mit einem zu transportierenden Substrat oder einem zu transportierenden Substratträger eine Transportsystemanordnung.
  • Bei vertikalen Substratbehandlungsanlagen kann die Transporteinrichtung in verschiedenen Ausgestaltungen zum hängenden oder stehenden Transport eines oder mehrerer Substrate oder eines oder mehrerer Substratträger ausgebildet sein. Beispielsweise kann der Substratträger in verschiedenen Ausgestaltungen eine Tragstruktur aufweisen und mit dieser Tragstruktur auf Komponenten einer Transporteinrichtung, beispielsweise mindestens einer Anordnung von Rollen, von denen mindestens eine Rolle antreibbar ist, oder mindestens einem um Umlenkrollen geführten, antreibbaren endlosen Band, oder mindestens einer um Umlenkrollen geführten, antreibbaren endlosen Kette stehen oder hängen. In verschiedenen Ausgestaltungen kann die Transporteinrichtung eine Tragstruktur aufweisen und ein oder mehrere Substratträger mit dieser Tragstruktur verbindbar oder verbunden sein und mittels dieser Tragstruktur in die Substratbehandlungsanlage hinein oder/und aus der Substratbehandlungsanlage heraus oder/und durch die Substratbehandlungsanlage hindurch bewegt werden.
  • In verschiedenen Ausgestaltungen weist ein Substratträger einen Grundkörper auf. Dieser Grundkörper kann beispielsweise rahmen- oder plattenförmig gestaltet sein. Ein plattenförmiger Grundkörper kann beispielsweise aus einer metallischen Platte oder einer keramischen Platte oder einer glaskeramischen Platte gebildet sein. Ein rahmenförmiger Grundkörper kann beispielsweise aus metallischen oder/und keramischen oder/und glaskeramischen Holmen oder Stegen gebildet sein. Ein Merkmal verschiedener Ausgestaltungen kann sein, dass ein Grundkörper im Wesentlichen eben ist. Ein Merkmal verschiedener Ausgestaltungen kann sein, dass ein Grundkörper zwei einander gegenüberliegend angeordnete Hauptflächen aufweist. Ein Merkmal verschiedener Ausgestaltungen kann sein, dass ein Grundkörper mindestens eine Substrataufnahme aufweist, die beispielsweise an einer Hauptfläche eines Grundkörpers angeordnet sein kann. Ein Merkmal verschiedener Ausgestaltungen kann sein, dass eine Substrataufnahme mindestens eine Vertiefung oder/und mindestens einen Durchbruch oder/und mindestens ein Haltemittel aufweist. Ein Haltemittel kann in verschiedenen Ausgestaltungen mindestens eine Spange oder/und mindestens eine Blende oder/und mindestens eine Maske oder/und mindestens eine Leiste oder/und mindestens eine Schraube umfassen. Ein Haltemittel kann zum kraftfreien oder klemmenden Halten eines oder mehrerer Substrate ausgebildet sein.
  • Ein Merkmal verschiedener Ausgestaltungen kann sein, dass mindestens eine zum kraftübertragenden Kontakt mit einer Transporteinrichtung ausgebildete Tragstruktur vorgesehen ist. Eine Tragstruktur kann in verschiedenen Ausgestaltungen beispielsweise an einem Randbereich eines Grundkörpers angeordnet sein. Eine Tragstruktur kann in verschiedenen Ausgestaltungen relativ zu einem Grundkörper beweglich sein.
  • In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine Tragstruktur in einer Richtung senkrecht zu einer Hauptfläche eines Grundkörpers in einer ersten Position eine erste Ausdehnung und in einer zweiten Position eine zweite Ausdehnung aufweisen. In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine der beiden Ausdehnungen geringer sein als die andere Ausdehnung.
  • Eine Tragstruktur kann in verschiedenen Ausgestaltungen beispielsweise mindestens einen schwenkbaren Stab oder/und mindestens einen verschiebbaren Stab oder/und mindestens eine schwenkbare Platte oder/und mindestens eine verschiebbare Platte umfassen.
  • Eine Tragstruktur kann in verschiedenen Ausgestaltungen beispielsweise so gestaltet sein, dass sie in der Lage ist, sich selbsttätig von einer ersten Position in eine zweite Position zu bewegen oder/und sich selbsttätig von einer zweiten Position in eine erste Position zu bewegen.
  • In verschiedenen Ausgestaltungen kann mindestens eine Verbindungsstruktur zum kraftübertragenden Kontakt mit einem anderen Substratträger angeordnet sein. In verschiedenen Ausgestaltungen kann mindestens eine Verbindungsstruktur zum kraftübertragenden Kontakt mit einem anderen Grundkörper angeordnet sein. In verschiedenen Ausgestaltungen kann mindestens eine Verbindungsstruktur zum kraftübertragenden Kontakt mit einer Verbindungsstruktur eines anderen Substratträgers angeordnet sein. In verschiedenen Ausgestaltungen kann mindestens eine Verbindungsstruktur zum kraftübertragenden Kontakt mit einer Verbindungsstruktur eines anderen Grundkörpers angeordnet sein. In verschiedenen Ausgestaltungen kann mindestens eine Verbindungsstruktur an mindestens einem Randbereich eines Grundkörpers angeordnet sein. In verschiedenen Ausgestaltungen kann ein kraftübertragender Kontakt zwischen zwei Substratträgern so gestaltet sein, dass zwei miteinander verbundene Substratträger einander zumindest teilweise überlappen, so dass eine gasdichte Trennung von links- und rechtsseitigem Prozessraum ermöglicht ist. In verschiedenen Ausgestaltungen kann ein kraftübertragender Kontakt momentenfrei sein. In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine Verbindungsstruktur nach Art eines Gelenks oder Scharniers gestaltet sein. In verschiedenen Ausgestaltungen können zusammenwirkende Verbindungsstrukturen nach Art eines Gelenks oder Scharniers gestaltet sein.
  • In verschiedenen Ausgestaltungen kann an mindestens einem Randbereich eines Grundkörpers eine das Schwingungsverhalten des Substratträgers beeinflussende, insbesondere schwingungsdämpfende Struktur angeordnet sein. In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine das Schwingungsverhalten eines Substratträgers beeinflussende Struktur ein Gewichtselement aufweisen. In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine das Schwingungsverhalten eines Substratträgers beeinflussende Struktur eine Feder aufweisen. In verschiedenen Ausgestaltungen kann eine das Schwingungsverhalten eines Substratträgers beeinflussende Struktur einen Schwingungstilger oder/und eine Hysteresebremse oder/und eine magnetische Führung aufweisen.
  • Als Schwingungstilger werden besondere Arten von Schwingungsdämpfern bezeichnet. Schwingungstilger sind nicht zwischen zwei Objekten befestigt, sondern nur an einem. Die Eigenfrequenz des Tilgers wird auf die zu eliminierende Resonanzfrequenz des Objekts abgestimmt. Bei dieser Frequenz führt das Objekt nur noch geringe Bewegungen aus.
  • Eine Hysteresebremse ist eine Bremse, die auf der Wirkung eines Magneten oder Elektromagneten auf ein sich bewegendes, ferromagnetisches Material basiert. Der Energieverlust entsteht durch die wiederholte Ummagnetisierung des Materials.
  • Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele anhand von Zeichnungsfiguren näher erläutert. Dabei zeigen
  • 1A bis 1C Teilansichten einer Substratbehandlungsanlage,
  • 2A und 2B schematische Darstellungen von Anordnungen einer Transporteinrichtung,
  • 3A und 3B schematische Darstellungen von Transportsystemanordnungen,
  • 4A und 4B schematische Darstellungen von Substratträgern mit Substrataufnahmen, und
  • 5A bis 5D einen Substratträger und eine Transportsystemanordnung.
  • In 1A bis 1C sind verschiedene Ansichten einer Substratbehandlungsanlage dargestellt, wobei die Substratbehandlungsanlage mindestens eine von Kammerwänden 11 begrenzte Anlagenkammer 1 und mindestens eine Transporteinrichtung 2 aufweisen kann.
  • Die Transporteinrichtung 2 ist eingerichtet, den mindestens einen Substratträger 4 entlang einer Transportebene durch die Anlagenkammer 1 hindurch zu transportieren. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können auch mehrere baugleiche Anlagenkammern 1 in einer Reihe zu einer Substratbehandlungsanlage zusammengefügt sein oder werden.
  • Die Transporteinrichtung 2 kann eine Tragstruktur 3 aufweisen oder mit einer Tragstruktur 3 eines Substratträgers 4 gekoppelt sein, so dass der jeweilige Substratträger 4 hängend transportiert werden kann.
  • Die Transporteinrichtung 2 kann eine Antriebseinrichtung 23, beispielsweise einen Motor, aufweisen, mittels dessen Rollen 21 bzw. ein Riemen 22 oder eine Kette angetrieben werden können. Die Transporteinrichtung 2 kann zumindest zum Teil an der Kammerdecke, d.h. an einer oberen Kammerwand 11 der Anlagenkammer 1, bereitgestellt sein oder werden. Ferner kann ein Teil der Transporteinrichtung 2 an dem Kammerboden, d.h. an einer unteren Kammerwand 11 der Anlagenkammer 1, bereitgestellt sein oder werden.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Transportrollen 21 riemengetrieben mit oder ohne Riemen 22 oder Kette bereitgestellt sein oder werden. Wenn beispielsweise Ketten verwendet werden, können diese optional Mitnehmer für einen Substratträger 4 aufweisen. Wie in den Figuren veranschaulicht ist, kann die Transporteinrichtung 2 rechts und links vom Substratträger 4 symmetrisch bereitgestellt sein oder werden. Die Transporteinrichtung 2 kann beispielsweise vakuumtauglich ausgestaltet sein oder werden, so dass die Substratbehandlungsanlage evakuiert werden kann.
  • Die Transporteinrichtung 2 kann beispielsweise mittels eines Blechs oder mehrerer Bleche derart abgedeckt sein oder werden, dass ein eventueller Abrieb aufgenommen werden kann und eine Gastrennung realisieren sein kann.
  • Die Transporteinrichtung 2 kann derart eingerichtet sein oder werden, dass der Transport des jeweiligen Substratträgers 4 in Durchlaufrichtung (auch als Transportrichtung bezeichnet) jeweils bis an seitliche Kammerflansche heran erfolgt, so dass geringe Transportspaltlücken in der Substratbehandlungsanlage realisiert sind und damit eine Schwingungserregung des Substratträgers 4 durch die Transporteinrichtung 2 weitestgehend vermieden wird.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger 4 eine Tragstruktur 3 aufweisen oder mit einer Tragstruktur 3 verbindbar oder verbunden sein, wobei die Tragstruktur 3 beispielsweise auf einem Riemen 22, einer Kette oder direkt auf Rollen 21 aufliegt und somit der Substratträger 4 hängend transportiert werden kann.
  • In 2A und 2B sind beispielhaft zwei Varianten der Ausgestaltung der Transporteinrichtung 2 dargestellt, z.B. zwei Varianten für die Anordnung und Befestigung von Transportrollen 21. Dabei kann die Transporteinrichtung 2 in eine obere Kammerwand 11 der Anlagenkammer 1 integriert sein oder an einer oberen Kammerwand 11 der Anlagenkammer 1 befestigt sein. Die Transporteinrichtung 2 kann zumindest teilweise in einem Transportbereich bereitgestellt sein oder werden, so dass die Transporteinrichtung 2 zumindest teilweise abgeschirmt ist.
  • In 3A und 3B ist jeweils eine Transportsystemanordnung in einer schematischen Querschnittsansicht dargestellt, wobei der mindestens eine Substratträger 4 an einem ersten Endabschnitt eine Tragstruktur 3 aufweist oder mit einer Tragstruktur 3 verbindbar oder verbunden ist zum Aufhängen des mindestens einen Substratträgers 4 an der Transporteinrichtung 2.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transporteinrichtung 2 bzw. die Tragstruktur 3 des Substratträgers 4 oder der Transporteinrichtung 2 mehrere Rollen 21 aufweisen zum Aufhängen und Transportieren des mindestens einen Substratträgers 4. Die Rollen 21 können beispielsweise nur einseitig drehbar gelagert sein. Der mindestens eine Substratträger 4 kann während seines Transports mittels der Tragstruktur 3 aufgehängt sein oder werden, wobei die Transporteinrichtung 2 eine Antriebseinrichtung 23 aufweist zum Antreiben mindestens einer der mehreren Transportrollen 21 und somit zum Bewegen des mindestens einen Substratträgers 4 entlang der Transportrichtung.
  • Die Rollen 21 können als Einzel-Reihe (siehe 3A) oder als Doppel-Reihe (siehe 3B) bereitgestellt sein oder werden. Der Substratträger 4 wird mittels einer Tragstruktur 3 an der Einzel-Reihe der Rollen oder an der Doppel-Reihe der Rollen aufgehängt.
  • In analoger Weise kann die Transporteinrichtung 2 bzw. die Tragstruktur 3 des Substratträgers 4 oder der Transporteinrichtung 2 mehrere Umlenkrollen oder Kettenräder aufweisen mittels derer ein Riemen 22, beispielsweise ein Zahnriemen, oder eine Kette endlos umlaufend geführt werden kann. Dabei kann der mindestens eine Substratträger 4 während seines Transports mittels der Tragstruktur 3 auf dem Riemen 22 oder der Kette aufliegend aufgehängt sein oder werden.
  • 4A veranschaulicht einen Substratträger 4 in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Der Substratträger 4 kann einen plattenförmigen Grundkörper 41 aufweisen und eine Hauptfläche 42 mit mehreren nebeneinander oder/und übereinander angeordneten Substrataufnahmen 43 aufweisen zum Aufnehmen jeweils eines Substrats 5 in jeder Substrataufnahme 43, wobei die Substrataufnahmen als Vertiefungen der Hauptfläche 42 des Grundkörpers 41 ausgeführt sind. Die Substrate 5 können jeweils auf der vom Grundkörper 41 abgewandten Seite behandelt werden.
  • 4B veranschaulicht einen Substratträger 4 in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Der Substratträger 4 kann einen plattenförmigen Grundkörper 41 aufweisen und eine Hauptfläche 42 mit mehreren nebeneinander oder/und übereinander angeordneten Substrataufnahmen 43 aufweisen zum Aufnehmen jeweils eines Substrats 5 in jeder Substrataufnahme 43, wobei die Substrataufnahmen als Aussparungen, d.h. Durchbrüche des Grundkörpers 41 ausgeführt sind. Die Substrate 5 können auf beiden Seiten behandelt werden.
  • Die Substrate 5 können beispielsweise mittels Haltemitteln in der jeweiligen Aussparung gehalten werden, wobei die Haltemittel an dem Substratträger 4 fixiert sein können oder werden können. Der in 4B veranschaulichte Substratträger 4 eignet sich zum beidseitigen Behandeln der Substrate 5. Alternativ können auch auf dem in 4A veranschaulichten Substratträger 4 beidseitig mehrere Substrate 5 angeordnet sein oder werden, wobei diese Substrate 5 dann an dem Substratträger 4 fixiert sein können oder werden können.
  • In den 5A bis 5D ist eine konkrete Ausgestaltung eines Substratträgers 4 in verschiedenen Ansichten gezeigt. Der Substratträger 4 weist einen plattenförmigen Grundkörper 41 auf, der seinerseits zwei einander gegenüberliegend angeordnete Hauptflächen 42 aufweist. An den beiden seitlichen Randbereichen des Grundkörpers 41 sind (nicht dargestellte) Verbindungsstrukturen zum kraftübertragenden Kontakt mit je einem anderen Substratträger 4 angeordnet, d.h der Substratträger 4 kann mit anderen Substratträgern 4 in Transportrichtung (d.h. in horizontaler Richtung) zu einem Substratträgerband verbunden werden.
  • In Transportrichtung können sich die so gekoppelten Substratträger 4 in verschiedenen Ausgestaltungen überlappen und können optional mittels geeigneter lösbarer Verbindungsstrukturen (gesteckt, geschraubt, etc.) fest oder gelenkig miteinander verbunden sein. Die Anzahl der in Transportrichtung fest oder gelenkig miteinander verbundenen Substratträger 4 bestimmt die Länge des Substratträgerbands und damit die Länge der erforderlichen Schleusen zum Ein- und Ausschleusen der Substratträger 4. Ist die Verbindung zwischen aufeinanderfolgenden Substratträgern 4 momentenfrei, so kann die Transportrichtung nichtlinear gestaltet sein.
  • Eine Eingangsschleuse kann es ermöglichen, die einzelnen Substratträger 4 zu einem Substratträgerband zu verbinden, das infolge der Überlappungen praktisch gasdicht den links- und rechtsseitigen Prozessraum voneinander trennt. Eine Ausgangsschleuse kann das Separieren der einzelnen Substratträger 4 aus dem Substratträgerband ermöglichen. Die Länge der Substratträger 4 in Transportrichtung wird durch die Anzahl und Größe der aufzunehmenden Substrate 5 bestimmt. Wird die Länge jedoch kleiner oder maximal gleich der Ausdehnung eines Behandlungsbereichs in der Transportrichtung gewählt, ist infolge der lösbaren Verbindung der Substratträger 4 die Entnahme des Substratträgers 4 aus dem Behandlungsbereich im Fehlerfall sichergestellt.
  • Der Substratträger 4 ist auch in vertikaler Richtung aus mehreren Segmenten aufgebaut. In vertikaler Richtung kann der Substratträger 4 gemäß verschiedenen Ausgestaltungen beispielsweise drei Segmente aufweisen.
  • Das obere Segment wirkt als Tragstruktur 3. Die Tragstruktur 3 ist im Ausführungsbeispiel T-förmig ausgeführt aus einem ersten, vertikalen Blechstreifen 31 und zwei mit dem ersten Blechstreifen 31 über je ein Scharnier 32 verbundenen zweiten Blechstreifen 33. Dadurch sind die beiden zweiten Blechstreifen 33 relativ zu dem ersten Blechstreifen 31 schwenkbar, so dass die gesamte Tragstruktur 3 zusammenklappbare Auflageflächen aufweist, die jeweils auf einer Transporteinrichtung 2 aufliegen können. Ein hängender Substratträgertransport verhindert das Knicken und/oder Ausbeulen des Substratträgers 4 infolge seines Eigengewichts. Die schwenkbaren Auflageflächen erlauben die einfache Entnahme des Substratträgers 4 aus der Transportsystemanordnung.
  • Sind die beiden zweiten Blechstreifen 33 ausgeschwenkt, so dass sie horizontal ausgerichtet sind, weist die Tragstruktur 3 insgesamt in der horizontalen Richtung, d.h. rechtwinklig zu den Hauptflächen 42 des Grundkörpers 41 des Substratträgers 4, eine erste Ausdehnung auf. Dies ist die Arbeitsposition, in der die Tragstruktur 3 auf einer Transporteinrichtung 2 aufliegen kann, um transportiert zu werden. Sind die beiden zweiten Blechstreifen 33 hingegen eingeschwenkt, so dass sie vertikal ausgerichtet sind, weist die Tragstruktur 3 insgesamt in der horizontalen Richtung, d.h. senkrecht zu den Hauptflächen 42 des Grundkörpers 41 des Substratträgers 4, eine zweite Ausdehnung auf, die geringer ist als die erste Ausdehnung. Dies ist die Wartungsposition, in der die Tragstruktur 3, gegebenenfalls zusammen mit dem Substratträger 4, von einer Transporteinrichtung 2 entnommen werden kann.
  • Das mittlere Segment des Substratträgers 4 ist ein flächiger Grundkörper 41. Sein oberer Randbereich kann mit dem oberen Segment, d.h. der Tragstruktur 3, verbunden sein oder werden. Der Grundkörper 41 ist variabel gestaltbar. Beispielsweise kann dieser wieder aus einzelnen Segmenten bestehen und dient der Substrataufnahme.
  • Das untere Segment wiederum kann am mittleren Segment, dem Grundkörper 41, angebracht sein oder werden. Es handelt sich dabei um eine das Schwingungsverhalten des Substratträgers beeinflussende Struktur 44, die hier als Gewichtselement ausgeführt ist, welches das mittlere Segment strafft und eine Abstimmung der Eigenfrequenz des Substratträgers 4 erlaubt (physikalisches Pendel). Am unteren Teil kann alternativ oder zusätzlich zum Zweck der Schwingungsdämpfung ein Schwingungstilger angebracht sein. Alternativ oder zusätzlich kann eine Schwingungsdämpfung durch Hysteresebremsen erfolgen. Alternativ oder zusätzlich kann am unteren Ende eine magnetische Führung angeordnet sein.
  • Bezugszeichenliste
  • 1
    Anlagenkammer
    11
    Kammerwand
    2
    Transporteinrichtung
    21
    Rolle
    22
    Riemen
    23
    Antriebseinrichtung, Motor
    3
    Tragstruktur
    31
    erster Blechstreifen
    32
    Gelenk, Scharnier
    33
    zweiter Blechstreifen
    4
    Substratträger
    41
    Grundkörper
    42
    Hauptfläche
    43
    Substrataufnahme
    44
    das Schwingungsverhalten des Substratträgers beeinflussende Struktur
    5
    Substrat

Claims (11)

  1. Substratträger (4) mit einem rahmen- oder plattenförmigen Grundkörper (41), der zwei einander gegenüberliegend angeordnete Hauptflächen (42) aufweist, mindestens einer an einer Hauptfläche (42) des Grundkörpers (41) angeordneten Substrataufnahme (43) sowie mindestens einer an einem Randbereich des Grundkörpers (41) angeordneten, zum kraftübertragenden Kontakt mit einer Transporteinrichtung (2) ausgebildeten Tragstruktur (3), wobei wenigstens ein Teil der Tragstruktur (3) relativ zum Grundkörper (41) beweglich ist.
  2. Substratträger (4) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Tragstruktur (3) in einer Richtung senkrecht zu den Hauptflächen (42) des Grundkörpers (41) in einer ersten Position eine erste Ausdehnung und in einer zweiten Position eine zweite Ausdehnung aufweist, die geringer ist als die erste Ausdehnung.
  3. Substratträger (4) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Tragstruktur (3) mindestens einen schwenkbaren oder/und verschiebbaren Stab umfasst oder/und mindestens eine schwenkbare oder/und verschiebbare Platte (33) umfasst.
  4. Substratträger (4) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Tragstruktur (3) selbsttätig von der ersten Position in die zweite Position bewegt oder/und selbsttätig von der zweiten Position in die erste Position bewegend ist.
  5. Substratträger (4) mit einem rahmen- oder plattenförmigen Grundkörper (41), der zwei einander gegenüberliegend angeordnete Hauptflächen (42) aufweist, mindestens einer an einer Hauptfläche (42) des Grundkörpers (41) angeordneten Substrataufnahme (43), wobei an mindestens einem Randbereich des Grundkörpers (41) eine Verbindungsstruktur zum kraftübertragenden Kontakt mit einem anderen Substratträger (4) oder/und einem anderen Grundkörper (41) oder/und einer Verbindungsstruktur eines anderen Substratträgers (4) oder/und einer Verbindungsstruktur eines anderen Grundkörpers (41) angeordnet ist.
  6. Substratträger (4) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der kraftübertragende Kontakt momentenfrei ist.
  7. Substratträger (4) nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass zwei miteinander verbundene Substratträger (4) einander zumindest teilweise überlappen.
  8. Substratträger (4) mit einem rahmen- oder plattenförmigen Grundkörper (41), der zwei einander gegenüberliegend angeordnete Hauptflächen (42) aufweist, mindestens einer an einer Hauptfläche (42) des Grundkörpers (41) angeordneten Substrataufnahme (43) sowie mindestens einer an einem Randbereich des Grundkörpers (41) angeordneten, zum kraftübertragenden Kontakt mit einer Transporteinrichtung (2) ausgebildeten Tragstruktur (3), wobei an mindestens einem Randbereich des Grundkörpers (41) eine das Schwingungsverhalten des Substratträgers (4) beeinflussende Struktur (44) angeordnet ist.
  9. Substratträger (4) nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die das Schwingungsverhalten des Substratträgers (4) beeinflussende Struktur (44) ein Gewichtselement aufweist.
  10. Substratträger (4) nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass die das Schwingungsverhalten des Substratträgers (4) beeinflussende Struktur (44) eine Feder aufweist.
  11. Substratträger (4) nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die das Schwingungsverhalten des Substratträgers (4) beeinflussende Struktur (44) eine Hysteresebremse oder/und eine magnetische Führung aufweist.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019121289A1 (en) 2017-12-21 2019-06-27 Agc Glass Europe Surface treatment chamber transport system
CN111018361A (zh) * 2018-10-10 2020-04-17 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 托架

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69604148T2 (de) * 1995-05-10 2000-02-03 Seagate Technology, Inc. Transport-vorrichtung für dünnschicht-sputteranlage
EP2159302A1 (de) * 2008-08-25 2010-03-03 Applied Materials, Inc. Beschichtungskammer mit beweglichem Schirm
DE102011083139B4 (de) * 2011-09-21 2013-12-24 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substratbehandlungsverfahren und Substratbehandlungsanlage
US20150240346A1 (en) * 2012-10-01 2015-08-27 Nissan Motor Co., Ltd. In-line coating device, in-line coating method, and separator

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69604148T2 (de) * 1995-05-10 2000-02-03 Seagate Technology, Inc. Transport-vorrichtung für dünnschicht-sputteranlage
EP2159302A1 (de) * 2008-08-25 2010-03-03 Applied Materials, Inc. Beschichtungskammer mit beweglichem Schirm
DE102011083139B4 (de) * 2011-09-21 2013-12-24 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substratbehandlungsverfahren und Substratbehandlungsanlage
US20150240346A1 (en) * 2012-10-01 2015-08-27 Nissan Motor Co., Ltd. In-line coating device, in-line coating method, and separator

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019121289A1 (en) 2017-12-21 2019-06-27 Agc Glass Europe Surface treatment chamber transport system
CN111018361A (zh) * 2018-10-10 2020-04-17 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 托架
CN111018361B (zh) * 2018-10-10 2024-05-31 上海祖强能源有限公司 托架

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