JP5837693B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2011年8月18日に出願された米国特許仮出願第61/525,029号の利益を主張する。この仮出願の全体が本明細書に援用される。
方法が提供される。
Claims (14)
- 基板上にパターン形成放射ビームを投影するよう構成されたリソグラフィ装置であって、
前記基板上のレジスト層の反射率の測定データを提供するよう構成された測定システムと、
前記基板に投影されるパターン形成ビームの放射強度レベルが前記測定データに基づいて制御されるよう、前記リソグラフィ装置の動作を制御するよう構成されたコントローラと、
を備え、
前記測定システムは、前記レジスト層から方向転換して戻るパターン形成放射ビームから得られる放射の強度を測定するよう構成され、
前記コントローラは、前記レジスト層の反射率の尺度を決定するために、前記レジスト層から方向転換して戻る放射の測定強度レベルを、前記強度レベルが測定される位置に対応する基板の位置に投影されることを目的とするパターン形成放射ビームの強度と比較するよう構成される、リソグラフィ装置。 - パターン形成放射ビームを提供するよう構成されたプログラマブルパターニングデバイスをさらに備え、
前記コントローラは、パターン形成放射ビームの放射強度レベルを制御するために前記プログラマブルパターニングデバイスを制御するよう構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、前記リソグラフィ装置が、所望のパターンに従って放射の強度が最小強度レベルと最大強度レベルの間で変化するパターン形成ビームを基板上に投影するよう、前記プログラマブルパターニングデバイスを制御するよう構成され、
前記コントローラは、パターン形成放射ビームの放射強度レベルを調整するために、所望のパターンを提供するのに用いられるべく、最小放射強度レベル、最大放射強度レベル、中間強度レベル、またはそれらの任意の組み合わせを調整するよう構成される、請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記測定システムは、パターン形成放射ビームが基板上の第1領域上に投影される間に取得された測定に基づいて、前記基板の第1領域における前記基板上のレジスト層の反射率の測定データを提供するよう構成され、
前記コントローラは、その後にパターン形成放射ビームが前記基板の第2領域上に投影されるとき、前記第1領域に対する測定データに基づいて前記リソグラフィ装置の動作を制御するよう構成される、請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記測定システムは、パターン形成放射ビームが前記基板のある領域上に投影される前に取得された測定に基づいて、前記基板の前記領域におけるレジスト層の反射率の測定データを提供するよう構成され、
前記コントローラは、パターン形成放射ビームが前記基板の前記領域上に投影されるとき、前記測定に基づいて前記リソグラフィ装置の動作を制御するよう構成される、請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記測定システムは、パターン形成放射ビームが前記基板の任意の領域上に投影される前に取得された複数の測定に基づいて、前記基板にわたる複数の領域における前記基板上のレジスト層の反射率の測定データを提供するよう構成され、
前記コントローラは、その後にパターン形成放射ビームが前記基板の前記領域のそれぞれに投影されるとき、前記基板のそれぞれの領域に対する測定データに基づいて前記リソグラフィ装置の動作を制御するよう構成される、請求項5に記載のリソグラフィ装置。 - 前記測定システムは、前記基板の第1領域に対するレジスト層の反射率の測定データを提供する測定を、パターン形成放射ビームが前記基板の異なる第2領域上に投影される間に行うよう構成される、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- プログラマブルパターニングデバイスをさらに備え、
前記コントローラは、前記レジスト層から方向転換して戻る放射の測定強度レベルを、前記プログラマブルパターニングデバイスに提供される制御信号に対応するデータと比較するよう構成され、該制御信号は、前記基板上の前記測定強度レベルに対応する位置に投影されるパターン形成放射ビームに所望の放射強度レベルを提供するよう前記プログラマブルパターニングデバイスを設定するのに用いられる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 基板上にパターン形成放射ビームを投影するよう構成されたリソグラフィ装置であって、
前記基板上のレジスト層の反射率に関連する測定データを提供するよう構成された測定システムと、
前記基板に投影されるパターン形成ビームの放射強度レベルが前記測定データに基づいて制御されるよう、前記リソグラフィ装置の動作を制御するよう構成されたコントローラと、
を備え、
前記測定システムは、前記レジスト層から方向転換して戻るパターン形成放射ビームから得られる放射の強度を測定するとともに、前記レジスト層上に投影されるパターン形成放射ビームの強度を測定するよう構成され、
前記コントローラは、レジスト層の反射率の尺度を決定するために、前記レジスト層のある位置に投影されるパターン形成放射ビームの測定強度を、前記レジスト層の前記位置から方向転換して戻る放射の測定強度と比較するよう構成される、リソグラフィ装置。 - 前記測定システムは、パターン形成放射ビームよりも低い強度を有する放射ビームを前記レジスト層上に投影して、前記レジスト層から方向転換して戻る該低強度放射の強度を測定するよう構成され、
前記コントローラは、前記レジスト層の反射率の尺度を決定するために、前記測定システムにより前記レジスト層上に投影される低強度放射ビームの強度を、前記レジスト層から方向転換して戻る前記低強度放射の強度と比較するよう構成される、請求項1から9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、前記レジスト層の反射率の尺度を用いて、前記レジスト層により受光される所望のパターンの放射ドーズが提供されるように、前記基板上に投影されるパターン形成放射ビームの強度を制御するよう構成される、請求項1から10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 部分反射鏡を備え、
前記部分反射鏡は、パターン形成放射ビームが前記基板に入射する前に該部分反射鏡を通過するとともに、前記基板上のレジスト層から方向転換して戻る放射が該部分反射鏡によって放射強度センサに反射するよう配置される、請求項1から9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記部分反射鏡は、前記基板に入射する前に、パターン形成放射ビームを第2放射強度センサに反射するよう構成される、請求項9および12の組み合わせに記載のリソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
リソグラフィ装置を用いてパターン形成放射ビームを基板上に投影することと、
前記基板上のレジスト層の反射率の測定データを取得することと、
前記リソグラフィ装置の動作を制御して、前記測定データに基づいて基板上に投影されるパターン形成ビームの放射強度レベルを制御することと、
を備え、
前記レジスト層から方向転換して戻るパターン形成放射ビームから得られる放射の強度を測定することと、
前記レジスト層の反射率の尺度を決定するために、前記レジスト層から方向転換して戻る放射の測定強度レベルを、前記強度レベルが測定される位置に対応する基板の位置に投影されることを目的とするパターン形成放射ビームの強度と比較することと、
をさらに備えるデバイス製造方法。
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