CN103885299B - 一种曝光系统 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种曝光系统。该曝光系统包括光源和载台，光源和载台相对设置，载台用于放置待曝光膜，光源发出的光线能对待曝光膜进行曝光，还包括厚度测量单元和光强调节单元，厚度测量单元和光强调节单元电连接；厚度测量单元用于测量不同区域的待曝光膜的厚度；光强调节单元用于根据不同区域的待曝光膜的厚度，对相应区域的待曝光膜的曝光光强进行调节。该曝光系统通过设置厚度测量单元和光强调节单元，能够改善由于不同区域的待曝光膜的厚度不均从而导致的经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸均一性差的问题，从而使得显示产品显示面板中各功能层的图形尺寸更加均一，进而使得显示产品的性能更加稳定。

Description

一种曝光系统
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种曝光系统。
背景技术
随着人们生活水平的提高，人们对液晶显示装置的稳定性要求越来越高。这就要求液晶面板的各功能层（如有源层、源极、漏极、数据线、栅线、像素电极和各个绝缘层等）的图形尺寸有较好的均一性。
我们知道，液晶面板的各功能层的形成基本都需要经过光刻工艺，光刻工艺通常包括光刻胶的涂覆、曝光、显影和刻蚀四道工序，其中，每一道工序的工艺能力及稳定性都会对最终形成的各功能层的图形尺寸有直接影响。如：光刻胶涂覆不均匀会直接导致曝光后形成的各功能层的图形尺寸不均一；曝光工序又会直接导致各功能层经显影之后的图形尺寸不均一；显影工序继而直接导致各功能层在刻蚀之后的图形尺寸不均一，严重影响液晶面板的性能。
在实际的光刻工艺中，我们发现，在光刻胶的涂覆工序中，正常涂覆在玻璃基板上的光刻胶膜层的厚度基本上都有中间薄四周厚的趋势，并且在不同区域不同位置有无规律的膜厚情况；而且我们还发现即使是同一批次中的不同玻璃基板，光刻胶膜层的涂覆厚度也不完全一致。可以说在光刻胶的涂覆工序中就出现了不同玻璃基板、同一玻璃基板的不同位置的光刻胶膜层的厚度不同。
传统的曝光设备的结构如图1所示（以镜面投影式曝光设备为例），光源1发出的光线通过掩模板6和透镜组7后直接对光刻胶膜层8进行曝光，由于照射到光刻胶膜层8任意位置或区域的曝光光强相同，所以采用该曝光设备会直接导致曝光后形成的各功能层的图形尺寸不一致，进而很容易进一步导致各功能层出现不良，甚至会影响到液晶面板的稳定性。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种曝光系统。该曝光系统通过设置厚度测量单元和光强调节单元，能够改善由于不同区域的待曝光膜的厚度不均从而导致的经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸均一性差的问题，从而使得显示产品显示面板中各功能层的图形尺寸更加均一，进而使得显示产品的性能更加稳定。
本发明提供一种曝光系统，包括光源和载台，所述光源和所述载台相对设置，所述载台用于放置待曝光膜，所述光源发出的光线能对所述待曝光膜进行曝光，还包括厚度测量单元和光强调节单元，所述厚度测量单元和所述光强调节单元电连接；所述厚度测量单元用于测量不同区域的所述待曝光膜的厚度；所述光强调节单元用于根据不同区域的所述待曝光膜的厚度，对相应区域的所述待曝光膜的曝光光强进行调节。
优选地，所述厚度测量单元包括测量光源、分光元件、光采集模块和处理模块；所述分光元件与所述载台相对，所述测量光源发出的光线通过所述分光元件照射到所述待曝光膜上；所述分光元件用于将从所述待曝光膜反射回来的光线进行分光并获得反射光谱；所述光采集模块用于采集所述反射光谱，并将所述反射光谱转换为模拟电信号；所述处理模块用于对所述模拟电信号进行处理以获得所述待曝光膜的厚度，并将所述待曝光膜的厚度发送给所述光强调节单元。
优选地，所述光强调节单元包括调节模块和转换模块；所述调节模块包括两块对合设置的透明基板以及加注在所述透明基板之间的液晶，还包括用于控制所述液晶发生偏转的控制电路，所述控制电路与所述转换模块电连接；所述转换模块用于接收所述待曝光膜的厚度并将其换算为控制所述液晶偏转的电信号，且将所述电信号发送给所述控制电路；所述控制电路用于通过所述电信号控制所述液晶的偏转；所述透明基板能与所述待曝光膜相对设置，所述调节模块用于通过所述液晶的偏转对所述待曝光膜的曝光光强进行调节。
优选地，所述处理模块包括模/数转换子模块和计算子模块，所述模/数转换子模块分别与所述光采集模块和所述计算子模块电连接，所述模/数转换子模块用于将所述模拟电信号转换为数字电信号；所述计算子模块用于根据所述数字电信号计算获得所述待曝光膜的厚度。
优选地，所述待曝光膜划分为多个待曝光区，所述厚度测量单元能对对应着不同的所述待曝光区的所述待曝光膜的厚度进行测量，所述光强调节单元能根据不同的所述待曝光区的所述待曝光膜的厚度分别对不同的所述待曝光区的曝光光强进行调节。
优选地，所述厚度测量单元还包括坐标识别模块，所述光强调节单元还包括坐标匹配模块，所述坐标匹配模块分别与所述坐标识别模块和所述控制电路电连接；所述坐标识别模块用于识别所述待曝光膜的厚度的测量区域的坐标，并将所述坐标发送给所述坐标匹配模块；所述坐标匹配模块用于接收所述坐标，并将所述坐标与所述待曝光膜的对应区域进行匹配；所述控制电路用于根据坐标匹配结果控制所述待曝光膜相应区域的所述液晶的偏转。
优选地，所述曝光系统还包括移动机构，所述移动机构与所述厚度测量单元连接，用于将所述厚度测量单元移动至所述待曝光膜的不同区域，还用于在测量结束后，将所述厚度测量单元移动至所述待曝光膜以外。
优选地，所述待曝光膜的不同区域的所述曝光光强与相应区域的所述待曝光膜的厚度成正比。
优选地，所述光源和所述载台之间还能设置掩模板，所述掩模板用于在所述待曝光膜上形成不同的图形，所述掩模板设置在所述调节模块的入光侧或出光侧。
优选地，所述掩模板贴附于两块所述透明基板中的任意一块上。
优选地，还包括透镜组，所述透镜组设置在所述光源和所述载台之间，用于使形成在所述待曝光膜上的图形等倍成像，以使经曝光后的所述待曝光膜上形成与所述掩模板的图案形状和大小相同的图形。
优选地，还包括位置控制机构，所述位置控制机构与所述光强调节单元相连，或者，所述位置控制机构与所述载台相连，所述位置控制机构用于控制所述光强调节单元移动，或者，所述位置控制机构用于控制所述载台移动，以使所述光强调节单元相对所述待曝光膜移动以便对所述待曝光膜进行扫描式曝光。
本发明的有益效果：本发明所提供的曝光系统，通过设置厚度测量单元和光强调节单元，使得该曝光系统能够根据不同区域的待曝光膜的不同厚度，相应地调节针对不同区域的待曝光膜的曝光光强，这能够改善由于不同区域的待曝光膜的厚度不均从而导致的经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸均一性差的问题，即使得经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸更加均一，从而使得显示产品显示面板中各功能层的图形尺寸更加均一，避免了各功能层出现不良，进而使得显示产品的性能更加稳定。
附图说明
图1为现有技术中曝光设备的结构示意图；
图2为本发明实施例1中曝光系统的结构示意图；
图3为本发明实施例2中曝光系统的结构示意图。
其中的附图标记说明：
1.光源；2.载台；3.待曝光膜；4.厚度测量单元；41.测量光源；42.分光元件；43.光采集模块；44.处理模块；441.模/数转换子模块；442.计算子模块；45.坐标识别模块；5.光强调节单元；51.调节模块；511.透明基板；512.液晶；513.控制电路；52.转换模块；53.坐标匹配模块；6.掩模板；7.透镜组；71.台形镜；
72.凸面镜；73.凹面镜；8.光刻胶膜层。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明所提供的一种曝光系统作进一步详细描述。
实施例1：
本实施例提供一种曝光系统，如图2所示，包括光源1和载台2，光源1和载台2相对设置，载台2用于放置待曝光膜3，光源1发出的光线能对待曝光膜3进行曝光，还包括厚度测量单元4和光强调节单元5，厚度测量单元4和光强调节单元5电连接；厚度测量单元4用于测量不同区域的待曝光膜3的厚度；光强调节单元5用于根据不同区域的待曝光膜3的厚度，对相应区域的待曝光膜3的曝光光强进行调节。
通常，待曝光膜3可以直接用作显示产品显示面板中的某个功能层（如液晶显示面板中的栅绝缘层、钝化层、平坦层、隔垫物等），也可以是涂覆在形成某功能层（如有源层、源极、漏极、数据线、栅线、像素电极等）的膜层上的光刻胶，光刻胶用于在曝光后形成显示产品显示面板中的该功能层的图形。
厚度测量单元4和光强调节单元5的设置使得该曝光系统能够根据不同区域的待曝光膜3的不同厚度，相应地调节针对不同区域的待曝光膜3的曝光光强，这能够改善由于不同区域的待曝光膜3的厚度不均从而导致的经曝光后待曝光膜3上形成的图形尺寸均一性差的问题，即使得经曝光后待曝光膜3上形成的图形尺寸更加均一，从而使得显示产品显示面板中各功能层的图形尺寸更加均一，避免了各功能层出现不良，进而使得显示产品的性能更加稳定。
本实施例中，厚度测量单元4包括测量光源41、分光元件42、光采集模块43和处理模块44；分光元件42与载台2相对，测量光源41发出的光线通过分光元件42照射到待曝光膜3上；分光元件42用于将从待曝光膜3反射回来的光线进行分光并获得反射光谱；光采集模块43用于采集反射光谱，并将反射光谱转换为模拟电信号；处理模块44用于对模拟电信号进行处理以获得待曝光膜3的厚度，并将待曝光膜3的厚度发送给光强调节单元5。
其中，处理模块44包括模/数转换子模块441和计算子模块442，模/数转换子模块441分别与光采集模块43和计算子模块442电连接，模/数转换子模块441用于将模拟电信号转换为数字电信号；计算子模块442用于根据数字电信号计算获得待曝光膜3的厚度。
厚度测量单元4的设置能使不同区域的待曝光膜3的厚度测量更加准确，测量过程也更加简捷方便，能够提高整个曝光系统的工作效率和工作质量。
光强调节单元5包括调节模块51和转换模块52；调节模块51包括两块对合设置的透明基板511以及加注在透明基板511之间的液晶512，还包括用于控制液晶512发生偏转的控制电路513，控制电路513与转换模块52电连接；转换模块52用于接收待曝光膜3的厚度并将其换算为控制液晶512偏转的电信号，且将电信号发送给控制电路513；控制电路513用于通过电信号控制液晶512的偏转；透明基板511能与待曝光膜3相对设置，调节模块51用于通过液晶512的偏转对待曝光膜3的曝光光强进行调节。
光强调节单元5的设置能使不同区域的待曝光膜3根据其各自不同的厚度接收不同的曝光光强，从而使待曝光膜3整体在曝光后形成的图形尺寸比较均一。
本实施例中，待曝光膜3划分为多个待曝光区，厚度测量单元4能对对应着不同的待曝光区的待曝光膜3的厚度进行测量，光强调节单元5能根据不同的待曝光区的待曝光膜3的厚度分别对不同的待曝光区的曝光光强进行调节。其中，待曝光膜3的不同区域的曝光光强与相应区域的待曝光膜3的厚度成正比，如此能够确保待曝光膜3经曝光后形成的图形尺寸的均一性。
需要说明的是，如果待曝光区足够小，则可以看做是一个测量点，测量某个测量点的待曝光膜3的厚度，也可以作为该测量点所在的一个小测量区域的代表值。当然，在待曝光区内测量的测量点越多，该待曝光区的厚度越精确，对该待曝光区提供的曝光光强则越适当。
本实施例中，厚度测量单元4还包括坐标识别模块45，光强调节单元5还包括坐标匹配模块53，坐标匹配模块53分别与坐标识别模块45和控制电路513电连接；坐标识别模块45用于识别待曝光膜3的厚度的测量区域的坐标，并将坐标发送给坐标匹配模块53；坐标匹配模块53用于接收坐标，并将坐标与待曝光膜3的对应区域进行匹配；控制电路513用于根据坐标匹配结果控制待曝光膜3相应区域的液晶512的偏转。
坐标识别模块45和坐标匹配模块53的设置能使待曝光膜3的被测量区域的厚度与提供给该被测量区域的曝光光强准确对应，从而能够实现对应不同区域的待曝光膜3的厚度相应提供不同的曝光光强。
本实施例中，曝光系统还包括移动机构（图2中未示出），移动机构与厚度测量单元4连接，用于将厚度测量单元4移动至待曝光膜3的不同区域，还用于在测量结束后，将厚度测量单元4移动至待曝光膜3以外。
移动机构的设置能使厚度测量单元4实时灵活地移动至待曝光膜3的不同区域，便于厚度测量单元4对待曝光膜3的不同区域或位置进行厚度测量。另外，在待曝光膜3厚度测量结束后，并在开始曝光之前，为了不使厚度测量单元4将待曝光膜3的待曝光区域遮挡住，需要将厚度测量单元4移动至待曝光膜3以外，所以移动机构的设置还大大方便了厚度测量单元4在工作区域和非工作区域之间的移动。
本实施例中，光源1和载台2之间还能设置掩模板6，掩模板6用于在待曝光膜3上形成不同的图形，掩模板6设置在调节模块51的入光侧或出光侧，本实施例中，掩模板6可设置在调节模块51的出光侧，且位于远离光源1的一块透明基板511的出光侧。
这里需要说明的是，掩模板6也可以设置在靠近光源1的一块透明基板511的入光侧或出光侧，或者，设置在远离光源1的一块透明基板511的入光侧。掩模板6无论设置在哪一块透明基板511的入光侧还是出光侧都不影响厚度测量单元4和光强调节单元5的正常工作。
本实施例中，曝光系统还包括透镜组7，透镜组7设置在光源1和载台2之间，用于使形成在待曝光膜3上的图形等倍成像，以使经曝光后的待曝光膜3上形成与掩模板6的图案形状和大小相同的图形。其中，透镜组7可以包括台形镜71、凸面镜72和凹面镜73，掩模板6与载台2将台形镜71夹在中间，凸面镜72和凹面镜73垂直于载台2放置，且台形镜71、凸面镜72和凹面镜73的中轴线重合。本实施例中的曝光系统采用镜面投影的方式对待曝光膜3进行曝光。透镜组7的具体工作原理及过程：经过掩模板6出射的光束经由台形镜71其中一个斜面反射至凹面镜73，再经过凹面镜73反射至凸面镜72，然后经凸面镜72反射后再反射至凹面镜73进行汇聚后，经由台形镜71另外一个斜面反射后透射至待曝光膜3上，以使经曝光后的待曝光膜3上形成与掩模板6的图案形状和大小相同的图形。
此处台形镜71和凸面镜72起改变光路的作用，凹面镜73起汇聚光束的作用，此凹面镜73的作用相当于凸透镜成像，当物距等于两倍焦距时等大小成像，等大小的像经过台形镜71和凸面镜72反射之后，等大小地投影到待曝光膜3上，以使经曝光后的待曝光膜3上形成与掩模板6的图案形状和大小相同的图形。
由于厚度测量单元4和光强调节单元5的设置，加大了光源1至待曝光膜3之间的距离，透镜组7通过对曝光光线的反射和汇聚处理，能够使待曝光膜3上形成的图形更加清晰。
当然此处的透镜组也可以采用其他结构的透镜，只要能实现上述透镜组的功能的透镜结构均可以，本实施例不做限定。
本实施例中，曝光系统还包括位置控制机构（图2中未示出），位置控制机构与光强调节单元5相连，或者，位置控制机构与载台2相连，位置控制机构用于控制光强调节单元5移动，或者，位置控制机构用于控制载台2移动，以使光强调节单元5相对待曝光膜3移动以便对待曝光膜3进行扫描式曝光。
上述曝光系统的具体工作过程为：如整个待曝光膜3被划分为16个待曝光区，每次对两个待曝光区进行曝光。先通过移动机构将厚度测量单元4移动到待曝光膜3的将要曝光的两个待曝光区的不同位置上，对两个待曝光区不同位置进行膜厚数据采集，并记录两个待曝光区不同位置的待曝光膜3的厚度信息，经过一定的方法（该方法的可以是：待曝光膜3厚度较厚的区域或位置，在相应区域或位置进行曝光时，通过控制电路513调整相应区域或位置的透明基板511的电压值，使得液晶分子发生相应的扭曲，导致此区域或位置具有较大的光透过率），在两个待曝光区进行曝光时，读取处理过的与该两个待曝光区待曝光膜3厚度对应的数据信息，通过控制电路513调整位于掩模板6上方的透明基板511各区域的透光量，即可对两个待曝光区进行曝光。
两个待曝光区曝光完毕后，通过位置控制机构控制光强调节单元5移动至对应另两个待曝光区的位置，并通过移动机构将厚度测量单元4移动至这两个待曝光区的不同位置，然后进行同样的测量和曝光过程，直至整个待曝光膜3被曝光完毕。当然，也可以使光强调节单元5不动，通过位置控制机构控制载台2移动，载台2移动从而使置于载台2上的待曝光膜3移动，最终使待曝光区的位置与光强调节单元5相对应。需要说明的是，为了保证待曝光膜3上曝光形成的图形尺寸的均一性，每次需要采集两个待曝光区的待曝光膜3厚度信息，综合分析计算出每个待曝光区的透光率分布方案，然后再对这两个待曝光区进行曝光。
通过设置位置控制机构可自动完成扫描式曝光的过程，从而进一步提高曝光效率。
另外需要说明的是，本实施例中的厚度测量单元4和光强调节单元5同样适用于接近式曝光系统。
实施例1的有益效果：实施例1中的曝光系统通过设置厚度测量单元和光强调节单元，使得该曝光系统能够根据不同区域的待曝光膜的不同厚度，相应地调节针对不同区域的待曝光膜的曝光光强，这能够改善由于不同区域的待曝光膜的厚度不均从而导致的经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸均一性差的问题，即使得经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸更加均一，从而使得显示产品显示面板中各功能层的图形尺寸更加均一，避免了各功能层出现不良，进而使得显示产品的性能更加稳定。
实施例2：
本实施例提供一种曝光系统，与实施例1不同的是，掩模板贴附于两块透明基板511中的任意一块上。本实施例中，如图3所示，掩模板6贴附于远离光源1的一块透明基板511的出光侧。
需要说明的是，掩模板6也可以贴附于靠近光源1的一块透明基板511的入光侧或出光侧，或者，贴附于远离光源1的一块透明基板511的入光侧。另外，如果不考虑成本的话，也可以将掩模板6直接作为其中一个透明基板511。
本实施例中曝光系统的其他结构与实施例1中相同，此处不再赘述。
实施例2的有益效果：实施例2中的曝光系统通过将掩模板贴附于两块透明基板中的任意一块上，从而能够节约该曝光系统占用的空间。同样地，该曝光系统通过设置厚度测量单元和光强调节单元，使得该曝光系统能够根据不同区域的待曝光膜的不同厚度，相应地调节针对不同区域的待曝光膜的曝光光强，这能够改善由于不同区域的待曝光膜的厚度不均从而导致的经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸均一性差的问题，即使得经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸更加均一，从而使得显示产品显示面板中各功能层的图形尺寸更加均一，避免了各功能层出现不良，进而使得显示产品的性能更加稳定。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种曝光系统，包括光源和载台，所述光源和所述载台相对设置，所述载台用于放置待曝光膜，所述光源发出的光线能对所述待曝光膜进行曝光，其特征在于，还包括厚度测量单元和光强调节单元，所述厚度测量单元和所述光强调节单元电连接；所述厚度测量单元用于测量不同区域的所述待曝光膜的厚度；所述光强调节单元用于根据不同区域的所述待曝光膜的厚度，对相应区域的所述待曝光膜的曝光光强进行调节；
所述光强调节单元包括调节模块；所述调节模块包括两块对合设置的透明基板以及加注在所述透明基板之间的液晶，还包括用于控制所述液晶发生偏转的控制电路；
所述厚度测量单元包括坐标识别模块，所述光强调节单元还包括坐标匹配模块，所述坐标匹配模块分别与所述坐标识别模块和所述控制电路电连接；所述坐标识别模块用于识别所述待曝光膜的厚度的测量区域的坐标，并将所述坐标发送给所述坐标匹配模块；所述坐标匹配模块用于接收所述坐标，并将所述坐标与所述待曝光膜的对应区域进行匹配；所述控制电路用于根据坐标匹配结果控制所述待曝光膜相应区域的所述液晶的偏转。
2.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述厚度测量单元包括测量光源、分光元件、光采集模块和处理模块；所述分光元件与所述载台相对，所述测量光源发出的光线通过所述分光元件照射到所述待曝光膜上；所述分光元件用于将从所述待曝光膜反射回来的光线进行分光并获得反射光谱；所述光采集模块用于采集所述反射光谱，并将所述反射光谱转换为模拟电信号；所述处理模块用于对所述模拟电信号进行处理以获得所述待曝光膜的厚度，并将所述待曝光膜的厚度发送给所述光强调节单元。
3.根据权利要求2所述的曝光系统，其特征在于，所述光强调节单元还包括转换模块；所述控制电路与所述转换模块电连接；所述转换模块用于接收所述待曝光膜的厚度并将其换算为控制所述液晶偏转的电信号，且将所述电信号发送给所述控制电路；所述控制电路用于通过所述电信号控制所述液晶的偏转；所述透明基板能与所述待曝光膜相对设置，所述调节模块用于通过所述液晶的偏转对所述待曝光膜的曝光光强进行调节。
4.根据权利要求3所述的曝光系统，其特征在于，所述处理模块包括模/数转换子模块和计算子模块，所述模/数转换子模块分别与所述光采集模块和所述计算子模块电连接，所述模/数转换子模块用于将所述模拟电信号转换为数字电信号；所述计算子模块用于根据所述数字电信号计算获得所述待曝光膜的厚度。
5.根据权利要求4所述的曝光系统，其特征在于，所述待曝光膜划分为多个待曝光区，所述厚度测量单元能对对应着不同的所述待曝光区的所述待曝光膜的厚度进行测量，所述光强调节单元能根据不同的所述待曝光区的所述待曝光膜的厚度分别对不同的所述待曝光区的曝光光强进行调节。
6.根据权利要求5所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括移动机构，所述移动机构与所述厚度测量单元连接，用于将所述厚度测量单元移动至所述待曝光膜的不同区域，还用于在测量结束后，将所述厚度测量单元移动至所述待曝光膜以外。
7.根据权利要求6所述的曝光系统，其特征在于，所述待曝光膜的不同区域的所述曝光光强与相应区域的所述待曝光膜的厚度成正比。
8.根据权利要求3所述的曝光系统，其特征在于，所述光源和所述载台之间还能设置掩模板，所述掩模板用于在所述待曝光膜上形成不同的图形，所述掩模板设置在所述调节模块的入光侧或出光侧。
9.根据权利要求8所述的曝光系统，其特征在于，所述掩模板贴附于两块所述透明基板中的任意一块上。
10.根据权利要求8-9任意一项所述的曝光系统，其特征在于，还包括透镜组，所述透镜组设置在所述光源和所述载台之间，用于使形成在所述待曝光膜上的图形等倍成像，以使经曝光后的所述待曝光膜上形成与所述掩模板的图案形状和大小相同的图形。
11.根据权利要求10所述的曝光系统，其特征在于，还包括位置控制机构，所述位置控制机构与所述光强调节单元相连，或者，所述位置控制机构与所述载台相连，所述位置控制机构用于控制所述光强调节单元移动，或者，所述位置控制机构用于控制所述载台移动，以使所述光强调节单元相对所述待曝光膜移动以便对所述待曝光膜进行扫描式曝光。
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